JPH03501536A - 連続現像装置 - Google Patents

連続現像装置

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JPH03501536A
JPH03501536A JP1502055A JP50205589A JPH03501536A JP H03501536 A JPH03501536 A JP H03501536A JP 1502055 A JP1502055 A JP 1502055A JP 50205589 A JP50205589 A JP 50205589A JP H03501536 A JPH03501536 A JP H03501536A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 連続現像装置 本発明は請求の範囲第1項の前文に記載の、写真フィルム、特にX線フィルム用 の連続現像装置に係る。
この種の装置はUS−PS 4023190に開示されている。この装置におい ては、被現像フィルムは連続搬送平面からのずれが極めて小さくしかも処理室が それらの入口、出口において動力学的に密封されて移動するが、これは、それら の処理室と組合わさった循環ポンプが、入口や出口における漏洩部に生ずる漏洩 損失より若干多い処理液を、動力学的に密封された処理室へ供給することができ るためである。
しかしながら、この種の現像装置を比較的長い時間、例えば−昼夜とか週末の開 停止したり、また概略的には数日の間隔で装置が必要になるにすぎない時は、循 環ポンプのスイッチを切ると動力学的密封部における漏洩損失のために処理液の 液面は徐々に下降して密封部具下に下降する。このため、その段階では被現像材 料を移動させる搬送手段は少くとも部分的には処理液で覆われなくなり、そして 水分が蒸発した後、現像液または定着液の塩が搬送手段上に残留してしまう。従 って装置を再度作動させ、現像液、定着液を投入しても、これらの塩からなる外 皮は分解してもその速度は遅くあるいは全体的には全く分解しない。それ故被現 像材料の円滑な搬送や均一処理を阻害し、フィルムを傷付けてしまうことがある 。
上記とは別形式の、動力学的密封装置により封止され、処理液が充填された処理 室を有する現像装置が例えばus−ps30 57 282、 DB−OS 2 6 33 145. DB−OS 27 31 045. ロ11!−PS33 45084に開示されている。しかし、これらの現像装置も上記欠点を同じ程度 に有する。
本発明は請求の範囲第1項の前文に記載の現像装置であって、該装置を比較的長 く停止しても被現像材料を処理室の中を移動させる搬送手段上に塩外皮が形成さ れないような現像装置を提供することを目的とする。
上記目的は請求の範囲第1項に記載の現像装置によって達成される。
本発明の現像装置においては、少くとも1つの処理室の下方に溢流タンクが追加 設置されている。操作装置に事前に設置された動作位置においては、関連の処理 室の入口および出口がその操作装置によって開放され、この場合、前記の公知現 像装置におけると同じ動作状態が存在する。本発明の現像装置と上記公知現像装 置との唯一の違いは、処理室から溢流する処理液が直接に外部タンクへ滴下還流 せず、反対に先ず溢流タンクへ流入し、そして溢流タンクから外部タンクの中へ 溢れ出る。しかしながら、被現像材料の液体処理については、上記の違いは無視 し得る。
現像装置のスイッチを切ると溢流タンクがとる高い動作位置においては、溢流タ ンクの溢流堰上級は関連の処理室の全搬送手段の上方に位置する。このように、 搬送手段は処理液の中に完全に浸漬するので現像装置が非常に長い間にわたって 停止されても塩外皮が搬送手段の上に生じることがない。
上昇動作の始めおよび溢流タンクの上昇時に溢流タンクに処理液が満たされるこ とが通常であるので、この処理液の一部が搬送手段や処理室のその他の部分によ って移動させられ、こうして循環ポンプが上昇動作の始めに停止されても処理液 の液面が十分高くなることが常に保証される。
公知の現像装置においては垂直可動の外部タンクがすでにそれ自体公知となって いる。US−PS 3624728には垂直可動のタンク機構を備えた自動現像 装置が開示されている。このため、搬送機構に干渉しなくとも薬液交換を容易に 行える。
また、US−PS 358? 429には変形自在のタンク胴体を有する現像装 置が開示されている。このタンク胴体の変形によって、処理液を被現像材料の搬 送路にまで任意に上昇させることができる。また更には、[1S−PS 309 3051には処理液供給装置が開示されている。この装置においては2種類の処 理液の入ったトレイを被処理材料の搬送路へ任意に移動させることができる。こ のために、クランク駆動装置に平行機構が連動して用いられている。
上記明細書LIS−PS 3093051に開示の装置においては、タンクの移 動は被処理材料の搬送平面へ処理液を任意に運ぶのに用いられる。現像装置が静 止している時に処理液の中へ動力学的に密封された処理室を完全に浸漬すること は行わない。
また上記公知装置においては、タンク自体が移動させられるが、本発明の装置に おいては、外部タンクがUS−PS 4023190に開示した最初の公知現像 装置におけるように静止する。本発明の現像装置においては、追加設置した溢流 タンクを昇降させるが、この昇降作用については前述した著名な公知装置のいず れにも記載がない。
本発明の利点については請求の範囲の第2項以降に記載する。
すなわち、請求の範囲第2項の記載の現像装置においては、溢流タンクの液面上 昇につれてそれらの溢流タンクから移動する処理液の流れは制御されなくてもタ ンクの境界壁の上縁部全体に沿って溢れ出ることなく、反対に、溢流溝によって 予め定められた箇所において、幾何学的に正確に規定されたより大きな処理液の 流れが得られる。このようにして、処理液の滴が隣接の外部タンクに入る(例え ば、定着液が現像液外部タンクに滴下する)危険性は大幅に小さくなる。
また請求の範囲第3項に記載の現像装置においては、溢流タンクから溢流した処 理液がその溢流タンクの下方にそれぞれ設けた外部タンクへ飛散作用を生じるこ となく制御されて還流する。
請求の範囲第4項に記載の現像装置において、溢流タンクから溢れ出た処理液の 流れは、関連の外部タンク内処理液の自由表面を叩くことなく外部タンクへ戻さ れる。
請求の範囲第5項に記載の現像装置においては、溢流タンクから溢れ出た処理液 の流れは、その溢流タンクの下方で他の処理液の隣接外部タンクから離れた箇所 にある外部タンクへ戻される。
請求の範囲第6項に記載の現像装置において、搬送手段と組合わさった駆動装置 が、処理液の中に完全に浸漬されない限り(駆動装置のそれらの部品はそれぞれ 耐食性材料で作られている)、処理液の飛沫から保護される。
請求の範囲第7項に記載の現像装置においては、装置から取り外した溢流タンク は、それらの側面の片方にだけ滴下バーが設けられているにもかかわらず、平坦 な表面上に確実に置くことができる。
請求の範囲第8項に記載の現像装置においては、搬送方向において互いに追従し 合う複数の溢流タンクを共通の昇降装置によって昇降させることができ、これに よって機構部並びに回路の価格を共に低減させることができる。
請求の範囲第9項に記載の現像装置においては、連続した外部タンクを分離させ ている中間壁、特に遠いほうの中間壁を上昇させることができ、この点がそれら の外部タンクを互いに他を良好に区画化するように考慮される。
請求の範囲第10項に記載の現像装置において、昇降装置の駆動モータは余裕動 力の小さいもので間に合う。従って、この駆動モータは高出力用に設計する必要 がない。更には、この駆動モータは溢流タンクをそれらの2つの位置の間で迅速 に移動させ得るので現像装置の作動準備期間を特に迅速に設定することができる 。移動した処理液の溢流による昇降時に溢流タンクおよびその中の処理液の総重 量が減るが、ばね機構の力も昇降移動とともに減るので、移動距離とはほぼ無関 係の余裕動力が全体として得られる。
請求の範囲第11項に記載の現像装置においては、処理室の、被現像材料の搬送 方向を横断する方向に寸法が大きい場合でも、溢流タンクを動揺作用または作動 停止の危険性をきもなわずに確実にかつ少い動力で昇降させることができる。
請求の範囲第12項に記載の現像装置において、昇降ロッドやばね機構によって 形成された副装置がコンパクトかつ簡単な構造であって有益である。
請求の範囲第13項に記載の現像装置においては、らせんばねや昇降ロッドを形 成する材料が耐食性のものである必要がない。更には、昇降ロッドのガイド装置 も同時に密封機能をもつ必要がないので、このガイド装置を特に容易に移動させ 得るように設計できる、例えば、昇降ロッドの横断面を十字形にすることができ る。
請求の範囲第14項に記載の現像装置において、例えば、溢流タンクにまだ入っ ている処理液を処理液の完全交換のために除去しなければならない場合に溢流タ ンクを外部タンクから迅速かつ簡単に取り外すことができる。
請求の範囲第15項に記載の現像装置においては、処理液を処理室へ均一分配で しかも、それら処理液が処理室全体を通じて流れるような箇所において導入でき る。
請求の範囲第16項に記載の現像装置においては、処理液を供給する供給部の寸 法が小さく、更に、供給部の入口端部における密封箇所が、処理液の、特に帰還 のために構成された装置領域に近接しているので、その密封箇所においては密封 の必要がそれほど太き(ない。
請求の範囲第17項に記載の現像装置において、供給部品と、ハウジングと一体 の処理液用送出孔とを溢流タンクの垂直挿入で自動的に接続することができ、ま た溢流タンクの垂直方向の切り離しにより除去することができる。
請求の範囲第18項に記載の現像装置においては、供給部の突出部は垂直方向に 短く、そのため、ハウジングと一体の送出孔に対して押圧されると、曲げ応力の みを受けるようになる。
請求の範囲第19項に記載の現像装置において、供給部と、ハウジングと一体の 送出孔との間の密封箇所に現れる漏出処理液は現像装置の関連外部タンクへ直ち に制御帰還させられる。
請求の範囲第20項に記載の現像装置において、該当の処理室の内部へ新しい処 理液が均一に送出される。
請求の範囲第21項に記載の現像装置において、搬送ローラによって密封されな い処理室の下方領域全体の製作が容易で、同様に、この領域の取付けや交換が容 易であり、その領域の清掃が容易であり、また定期的な基本清掃の際に搬送ロー ラを容易に相互接近させることができる。
請求の範囲第22項に記載の現像装置において、基部この基部によって支持され た封止襠部を処理室だけに嵌合させて、封止襠部が所望の位置関係でしかも所望 基準曲げ予圧のもとで、入口孔または出口孔を成すローラ対の下方ローラに対し て確実に係止するようになっている。
請求の範囲第23項に記載の現像装置においては、基部を、その挿入距離を正確 に事前に調整して特に簡単かつ確実に挿入することができる。
請求の範囲第24項に記載の現像装置において、基部と封止襠部を単一射出成形 で簡単に製作できる。
請求の範囲第25項に記載のように、全体の寸法は小さいが、昇降装置は溢流タ ンクを大きな範囲で昇降させることができる。また、溢流タンクの上、下端位置 は昇降装置の駆動モータが、反応が正確でない端位置センサーで制御してもクラ ンクの特性により首尾良く保持される。
請求の範囲第27項に記載の昇降装置においては、駆動モータと溢流タンクとの 間における全動力伝達作用は、該当昇降距離とは無関係である。
請求の範囲第28項に記載の昇降装置においても、同様の利点が得られる。
請求の範囲第29項に記載の現像装置においては、現像装置に被現像材料を導入 する場合、溢流タンクは、すでに高い造出位置にあれば自動的に下降する。更に は、現像動作の終了後、溢流タンクは下方の動作位置から、搬送手段全体をその 溢れ出る位置へ自動的に上昇させる。
請求の範囲第30項に記載の現像装置においては、装置内の更に奥の位置におい て搬送路が上方位置の溢流タンクによって遮断されていても供給領域が被現像材 料を受け取る。こうして使用者は装置が動作準備完了状態になるまで待たなくと もよく、即座に別の作業に転することができる。また、その使用者は装置が動作 できる状態にないという印象を受けない。
請求の範囲第31項に記載の現像装置においては、処理室において、溢流タンク を下降させても、搬送路の上方に位置する液面が動力学的に確実に維持される。
更には、温度センサーが処理液の加熱されたことを検知すると常に処理液が循環 される。こうして、関連の加熱装置における処理液の過熱が防止される。
請求の範囲第32項に記載の現像装置においては、関連の加熱装置を通る処理液 の循環作用は同加熱装置のスイッチを切った後でも所定時間だけ維持される。
請求の範囲第33項に記載の現像装置においては、溢流タンク中の処理液残量を 関連の外部タンクに放出できるので、溢流タンクを装置から取り外さなくとも処 理液と完全に入れ替えることができる。
本発明の現像装置は溢流タンクの吐出弁の作動が極めて特に簡単であること、詳 しくは昇降装置の駆動装置を用いてサーボ作動させることができるという長所を もっている。
以下、添付図面に従って本発明を更に詳細に説明する。
第1図はX線フィルム用連続現像装置の引込部、現像液部、定着液部、水洗部の 各域長手方向の垂直縦断面図、第2図は第1図の図面平面の上方から見て、第1 図に示す現像装置の水平方向に延びる側壁の平面図であって、この図においては 二重溢流タンクに対する昇降装置の細部を示すためにタンク・ハウジングはいく つかの部分に破断されており、第3図は第1図の図示平面の背後に位置しかつ、 1図に示す現像装置の側壁の平面図であって、この図においては二重溢流タンク に対する昇降装置および現像処理室および定着処理室へ処理液を供給する処理液 供給部の細部を示すためにタンク・ハウジングのいくつかの部分が破断されてお り、第4図1響処理液部と組合わさった二重処理室の、ローラと封止襠部とによ って動力学的に密封された部分の前端の平面図であって、現像液供給部が一部断 面図示されておりまた第4図の前部に位置する処理室の側板の一部が破断されて おり、第5図は動力学的に密封された処理室に対する基部変更例の、第6図の線 ■−■による一部断面側面図、第6図は第5図に示す基部の片端の、第5図の線 Vl−Vlによる一部断面平面図、 第7図は現像装置の搬送ローラ用主駆動モータ、現像液部および定着液部におけ る溢流といの昇降装置用のモータ、および現像液および定着液を循環させるポン プ用のモータ、の制御部のブロック図、第8図は二重溢流タンクの変更例の垂直 縦断面図、 第9図は二重溢流タンクの別の変更例の垂直縦断面図、第10図は関連溢流タン クおよび、タンク・ハウジングの隣接部の、処理液供給品変更例と、動力学的に 密封された処理室の隣接部の断面図、 第11図は第2図と同様の図であって、昇降装置の変更例を示しており、 第12図は第2図と同様の図であって、昇降装置の別の変更例を示している。
第1図において、連続現像装置のハウジングは全体的に参照番号10で示されて いる。このハウジングの中には導入室12があり、この導入室12は前端壁14 と、後方の第1中間壁16と、左側壁18と、右側壁20と、突壁18とで形成 されている。以下の説明において、「前」、「後」、「左」、「右」なる術語は 現像装置の中を移動する被現像材料の搬送方向、従って現像装置の導入端におけ る視点に対して言う。
また現像タンク室30も装置の一部であり、これを形成するのは、前端壁24と 、第2中間壁26と、側壁18.20と、ハウジング10の底壁28である。同 様に、装置の一部として定着タンク室34があり、これはハウジング10の後方 端壁32と、同ハウジング10の側壁18.20と、底壁28と、第2中間壁2 6とから形成されている。
また水洗タンク室36は第3中間壁38と、この第3中間壁38の後段に位置す る第4中間壁(図示せず)と、ハウジング10の側壁18.20と、高位置底壁 40とで形成されている。導入室12の中には全体的に参照番号42で示す供給 架台が設けられており、この架台42は供給ローラ対44.46を備えている。
更には反射式光バリヤ−48も設けられており、これは、被現像薄膜材料がその 直下に、すなわち、ローラ対44によって形成された、装置の供給空隙の直前に 来ると出力信号を出す。
上記ローラ対44.46は側板50,52に取り付けられており、これは側板は ロッド54によって互いに確実に結合されている。
同様にして、やはリロッド54で結合された2枚の側板56゜58が二重架台の 支持構造を形成しており、この支持構造は一体物として取り扱えるものであり、 またその、現像部域と関連する部分は全体として参照番号60で示され、定着部 と関連する部分には特に参照番号62を付されている。
現像架台60にはローラ対64〜70が設けられており、それらローラ対は架台 の横断中央平面に対し実質的に対称的に配置されており、また現像部においては 被現像材料の湾曲搬送路を形成している。ローラ対66と68との間には単一ガ イド・ローラ72が設けられおり、このガイド・ローラが搬送路の最下点におけ る被現像材料をローラ対68ヘガイドする。
現像部の側板56,58の下端にはバヨネット結合を用いた基部74が釈放自在 に設けられており、この基部74については後で第4図に従ってより詳しく説明 する。基部74は中空の射出成形された部品であって、中央に分配室76を有し 、この中央分配室76は複数の均一分布させた孔78を通じて現像架台60の内 部と接続されている。分配室76の側部には、現像液供給路溝80.82が第1 図の平面に対して直角に延びて設けられており、これらの路溝は孔84を通じて 分配室76と接続されている。
供給路溝80.82への現像液供給の詳細についても第3図、第4図に従って後 述する。
第1図の平面に対して直角に延びる封止襠部86,88が基部74の前方、後方 の端部に射出成形で形成されている。これらの封止襠部は弾性降伏する軟性合成 材料からなり、基部74に直接に射出成形で形成されている。無負荷時には封止 襠部86゜88は基部74の表面に垂直に立つ。基部74を正しく挿入すれば、 封止襠部86..88はローラ対64の下部ローラ90の外表面あるいはローラ 対70の下部ローラ92に対し、て曲げ予張力を伴なって係止する。これらのロ ーラは、被現像材料の搬送方向(第1図で左から右)が決められた状態で右回り に回転すると、被現像材料に弾性係止している封止襠部86.88に接触する。
現像装置のその他のローラと同様に、ローラ対64.70は剛性コア94と、弾 性降伏する被覆部98とからなる。更には、ローラ対のローラどうしの中心間距 離はそれらのローラの周面が互いに他に対して密に係止するように選ばれている 。被覆部98の前方、後方の端面は側板56.58まで直接にガイドされており 、それら側板上に摺動摩擦して回転する。このために、被覆部98の端部と隣接 側板との間には低摩擦の材料で作った座金を挿入できる。
封止襠部86,88とこれらを支持する基部74と同様に、ローラ対64.70 は実質的に液密の現像室100を形成している。ローラ対64.70と、封止襠 部86.88とローラ90,92との間の密封部位とによって形成された動力学 的密封部を通ってほんのわずかの処理液漏流が逃げるが、この漏流は供給路溝8 0.82へ供給される現像液流に比べ無視し得る。
装置が静止している時に循環ポンプによって連続供給される現像液が現像室10 0の端部に位置するローラ対64.70の上部ローラを越えて流れないようにす るために、側板56には溢流孔102が設けられており、その孔の下縁は現像液 の作用レベルを決定する。この作用レベルはローラ対64で形成された現像室1 00の入口孔の上、ローラ対70によって形成された現像室100の出口孔の上 、およびその入口孔と出口孔との間に位置する被現像材料の搬送路の全領域の上 にあることは明らかである。従って、被現像材料の両面は十分に現像液に接触す ることになる。
定着架台62は以上詳述した現像架台60の構造に極めて類似した構造を有して いる。ローラ対104.106.108は現像部において真直な搬送路を形成し ている。バヨネット結合で側板56=58に結合された基部110は定着架台6 2の内部に孔114を通じて結合された中央分配室112と、分配室112に孔 120を通じて結合された側部供給路溝116.118とを有している。基部1 10には弾性降伏する封止襠部122.124がやはり射出成形で形成されてお り、これらの封止襠部はローラ対104の下部ローラ126あるいはローラ対1 08の下部ローラ128と協働する。ローラ対104.108は、基部110の 封止襠部122.124とともに、やはり実質的に液密の処理室、すなわち、現 像室130を形成している。側板56の溢流132もまた現像液の作用レベルを 決定するので、現像液は現像室130を通る全経路にわたって被現像材料の両面 を万遍なく洗うことになる。
参照番号134で全体を示されている水洗架台が水洗タンク室36の中に挿入さ れている。水洗架台134においては、入口側の1対のローラ136と、出口側 の1対のローラ (第1図に図示せず)と、基部138およびこの基部に射出成 形で形成された封止襠部(第1図にはそのうちの入口側の封止襠部140だけを 示す)とが実質的に液密の処理室を形成しており、この室からは、基部138を 通じて供給された水が溢流孔を通じてもう1回抜かれる。この溢流孔は第1図に は図示しないが前記溢流孔102.132と同様に配設されている。現像架台6 0と定着架台62との下方には二重溢流タンク148が設けられている。この二 重溢流タンクは現像用溢流タンク144と定着用溢流タンク146とから構成さ れ、これら溢流タンクは共通中間壁148によってともに保持されている。これ ら2つの溢流タンク144.146の横断面輪郭は、溢流タンクの各種壁部が、 二重溢流タンク142が第1図に実線で示す高いフラッド位置にある時に、現像 架台60あるいは定着架台62を距離をさほどおかずに包囲するように選ばれて いる。
中間壁148の部域において、二重溢流タンク142の基部には溝149が設け られており、この溝の中で中間壁16は、二重溢流タンク142が第1図に実線 で示すそのローラ造出位置から下降させられると、第1図に破線で示す動作位置 に来る。
この位置では、二重溢流タンク142の前、後端壁が、搬送ローラによって決め られる被現像材料の経路の下方に来て、その材料を開放する。造出位置において は、タンクの端壁がその被現像材料経路を遮断し、また現像架台60あるいは定 着架台62においては、現像室100および定着室130が動力学的に密封され るだけなので、若干漏れを生じることとは無関係に、上記端壁によって液面が高 く維持されるのでこの架台のローラは完全に浸漬される。従って、こうなってい ない場合に装置のスイッチを切った時ローラ上に残る処理液滴から水が蒸発する ために生じるような固体残留物がそれらのローラの上に生成することがない。
第2図、第3図に示すように、二重溢流タンク142は側部支持アーム150. 152を有しており、これらのアームは同二重溢流タンク142を2本の昇降ロ ッド154.156の上端に例えば雄ねじを有しかつ該当支持アームを介してガ イドされる該当昇降ロッドの端部160にねじ付けられたナツト158で取り付 けている。
昇降ロッド154.156はそれらの横断面が十字状であり、ハウジング10に 形成されたガイド・ブツシュ162.164の中でそれぞれ移動する。
昇降ロッド154.156の上端はらせんばね166によって包囲されており、 このらせんはねの下端はハウジング10の水平中間壁168に支持されており、 また上端のほうは支持アーム150、152の上側にそれぞれ係合している。
上記らせんはね166のほうはベローズ170によって包囲されており、それら のベローズの上端は関連の支持アーム150または152に密結合されており、 下端のほうは水平中間壁168にやはり密結合されている。
連結(昇降)ロッド154.156は連結ロッド176、178の駆動端に連結 ビン172.174を介してそれぞれ結合されている。またそれら連結ロッドの 従動端は、クランク・ディスク184゜186によって支持されたクランク・ビ ン180,182にそれぞれ枢着されている。
上記2枚のクランク・ディスク184.186は、底壁28に形成された支承ラ グ200の中で回転するシャフト188によって回転自在に結合されている。
第2図に示すように、クランク・ディスク186は歯車リムを備え、一方向歯車 202に咬合しており、この歯車202には同期モータ206のビニオン204 が作用している。
上記同期モータ206は、後退しかつ底壁28に形成されたハウジング肩部20 8に確実にねじ付けされており、その底壁の側縁部には2つの支持リブ210. 212があり、これらのリブは上記クランク・ディスク184.186の円滑な 回転を容易にする一方では装置下側におけるホースやケーブルの設置を容易にす るものである。ハウジング10の側壁18.20の折り返えされた部域214. 216はクランク・ディスク184.186の上部を受容しかつ連結ロッド17 6、178の横方向振れ出しを可能にする。
また第1図に示すように、より大きい隔室218が水洗室36の下方に残ってお り、その中には薬液類を計量し、供給するための、各種処理液循環ポンプや処理 液用加熱装置を設置できる。第1図はまた支持リブ210.210どうしの間の 4本のホース、すなわち、現像液吐出接続部220に接続された現像液還流ホー ス220、ハウジングlOの現像液供給接続部224に接続された現像液供給ホ ース226、定着液吐出接続部228に接続された定着液還流ホース230、お よびハウジング10の定着液供給接続部232に接続された定着液ホース234 が示さ°れている。
また第2図に示すように、支持リブ210の孔236を経て、ケーブル238. 240.242が、支持リブ210.212で形成されたホースおよびケーブル の通路の中にガイドされており、それらケーブルは、反射式光バリヤー244. 246あるいは同期モータ206と接続されている。
上記光バリヤ−244は二重溢流タンク142の上端位置に対するセンサーを有 している。この二重溢流タンクが完全に上昇すると上記センサーに向き合う位置 に来るのはクランク・ディスク186によって支持されたミラー248である。
また上記光バリヤ−246は二重溢流タンク142の下端位置に対するセンサー であり、クランク・ディスク186によって支持された第2ミラー250と協働 し、この第2ミラーはクランク・ビン180.182がそれらの下死点に達した 時に光バリヤ−246と向き合う位置に来る。上記光バリヤ−48とともに、光 バリヤー244.246は第8図に従って後で更に詳細に述べるように、二重溢 流タンク142の昇降を制御する。
第1図に示すように、後部に位置するそれらの側壁の上端において、溢流タンク 144.146には溢流溝252.254が設けられている。こうして、溢流タ ンク内部から移動した処理液は溢流タンクから現像部または定着部の中心近くの 正確に決定された箇所だけに流れる。上記溢流溝252.254と垂直方向に心 合して、溢流タンク144.146には垂下する滴下バー256゜258が設け られている。溢流タンクの高さは、滴下バー256゜258の下端が、現像液タ ンク室30あるいは定着液タンク室34の中では最下位許容液面も、やはり処理 液に浸漬しているように計測される。このように、溢流タンク内部から移動した 処理液は明確な層状液流として飛散することなく、溢流タンク下方に位置するタ ンク室の中へ移動する。昇降ロッド154゜156から取り外した後、二重溢流 タンク142を平坦面に安全に置くことができるように、溢流タンク146の基 部には横断支持リブ260が形成されており、このリブの高さは滴下バー258 の高さに対応する。
現像液溢流タンク144はその片側にのみ滴下バー256を有するがもう一方の 側にはそうしたバーがないので、この点で、同期モータ206を設置するのにハ ウジング10を使用することもできる。
側板56.58は4つの支持ビン262を担持しており、これらのビンはその上 にカバー264または266が載る。これらのカバーはほとんど隙間なく側板5 6,58と溢流タンク144.146の横断壁との間に係合する。支持ビン26 2の位置は、カバー264、266の下側が溢畠位置における液面の高さを規定 する溢流溝252.254の下縁と一致するように選択されている。現像装置の スイッチを切ると、溢流タンク144.146の中の処理液が気中からの酸素の 混入からこうして確実に防護される。
第3図、第4図に示すように、基部74.110への現像液および定着液の供給 は側板56の外側に嵌着された供給部268゜270を用いて行われる。供給部 は第3図、第4図に示すように前部にありかつ垂直に下方に延びる入口部272 .274と、側板56に直接隣接しかつ同様に下方に延びる送出部276とを有 している。これら2つの部分は中間部によって互いに結合されて逆U字状の供給 路溝を形成している。
入口部272.274の下端にはフランジ280.282を備えており、これら のフランジは封止リング284.286を使用して水平中間壁168の上側に密 嵌されている。水平中間壁に形成されている入口部272に向き合っている孔は 現像液供給接続部224に接続された現像液供給路溝288である。供給部27 0の入口部274は、定着液供給接続部232からの定着液供給路溝290と連 通している。
第4図に示すように、供給部268の送出部276の下端は側板56の長手方向 に延びる2本の分枝路溝292と接続されており、それら分枝路溝の端部は側板 56の孔296を通じて基部784の供給路溝80.82に接続されている。
また第4図に示すように、側板56の下端および側板58の下端にもバヨネット 溝298が設けられており、それらの溝の中には基部74の端壁によって支持さ れたバヨネット・ビン300が係合している。
定着架台62の場合、現像架台670と同様に処理液供給と基部と装着が行われ る。
第5図、第6図は基部302の変更例を示しており、前方、後方端に射出成形さ れたその封止襠部304.306は弾性変形自在であり、それらの無負荷状態を 実線でまた取付けされた状態を破線でそれぞれ示されている。それらの封止襠部 304゜306と協働するローラ対の下部ローラも第5図に破線で示されている 。
基部302は単一の供給孔308を有して、その孔は平面図で示すU字状分配路 溝310に接続されている。この路溝は複数の孔312を通じて処理液を吐出す る。基部302の端壁は、側板56,58の対応バヨネット溝と協働するバヨネ ット・ビン314を支持している。
側板56.58に基部302を挿入するための移動は第5図において垂直矢印3 16と隣接の水平矢印318で示されている。第5図に示すように、水平矢印3 18の長さは、垂直矢印316で規定する移動を行う時に封止襠部304.30 6が後の段階で封止襠部と協働するローラに衝合しないように選ばれている。水 平矢印318で示す第2移動を行う時だけ、封止襠部304.306は関連のロ ーラと衝合し、この場合、封止襠部は弾性曲げ応力を与えられる。
底部分を側板に嵌着するための上述の確実なガイドによって、封止襠部のよじれ や従って封止襠部とこれらと協働するローラとの不十分な封止を排除できる。
以下、第7図に従って説明する。
溢流タンクの下端位置センサーを形成する光バリヤーの出力はインバータ320 を通じてANDゲート322の第1人力に接続される。上記ANDゲートの第2 人力において同ゲート322は光バリヤ−48からの出力信号を受ける。その出 力信号は被現像薄膜材料が現像装置の供給孔の前方に在ると出されるものである 。こうして、薄膜材料を現像する時にはANDゲート322の出力に信号が出さ れるが、2つの溢流タンクはそれらの下端位置には来す、従って依然として搬送 路を遮断する。
上記ANDゲート322の出力信号は同期モータ206の制御回路324のステ ップダウン制御端子へ送られる。この信号が発生すると、上記制御回路324に よって、クランク・ディスク184が左回りに回転する方向に同期モータ206 が回転投入される。このモータ回転は光バリヤ−246で形成される下端位置セ ンサーが出力信号を発生すると終了させられる。
上記ANDゲート322の出力信号はまた搬送装置の駆動モータ328の制御回 路326の緩慢制御端子にも送られる。上記駆動モータは動力伝達装置(歯車列 、歯付きベルト等)(図示せず)を介して現像装置の各種架台の各種ローラを同 期駆動するものである。上記緩慢制御端子が信号を受けると、制御回路326は 駆動モータ328を、現像のために引き込まれたフィルムの前縁が、現像液溢流 タンク144の前壁の上縁によってローラ対64によって形成された現像液架台 60の入口孔への接近が解除されると中間壁16をまさに越えて移動するほど速 くローラが駆動されるような速度で回転させる。駆動モータ328の全動作速度 の対応の何分の−かは制御回路326の制御端子に“X%”で示される。
駆動モータ328の全動作速度をもたらす、制御回路326の第2“100%” 制御端子は、被現像材料が現像装置の中間壁の背後に来ると、信号を受ける。こ のために、この制御端子の前にはORゲート330が設けられている。このゲー トの1つの入力はANDゲート332の出力に接続されており、このANDゲー トの入力は光バリヤ−246の出力信号および光バリヤ−48の出力信号を受け る。従って、駆動モータ328の全動作速度は常に、二重溢流タンク142が完 全に下降させられかつ未現像薄膜材料が光バリヤ・−48と向き合う位置に来る と予め設定される。
また光バリヤ−48の出力に接続されているのは単安定クリップ・フロップ33 4であり、このフリップ・フロップは後縁でトリガーされ、その出力はORゲー ト330の第2人力に接続されている。単安定フリップ・フロップ334の周期 は光バリヤー48から出るフィルムの後縁が現像装置を完全に通過するのに必要 な時間間隔を若干上まわるように選択されている。
制御回路324のステップアップ制御端子の前にはANDゲート322の出力、 光バリヤ−244、ORゲート330に接続されている。こうして二重溢流タン ク142は被現像材料が現像装置全体の中にはもはや位置してはおらずしかも現 像装置の中に新しいフィルムが導入されていない時はじめて上昇させられる。
第7図の下方部分において、参照番号338が現像液温度の温度センサーを示し ており、このセンサーは現像液タンク60の中にあるいは現像液の回路の別の箇 所に設けることができる。温度センサー338は比較器340の1つの入力に接 続されており、その比較器の第2人力は、可調抵抗342として示す基準温度伝 送器に接続されている。測定温度が上記基準温度を下まわると、比較器340は 制御回路344を制御し、これによって加熱抵抗346が付勢される。上記加熱 抵抗346は、2つの管であるその端部に溶着させた伝熱板348に座着されて いる。それらの管部は2つの循環ポンプ354.356の出口孔に結合されてお り、それらのポンプは還流ホース222.230を通じて、ハウジング10の対 応タンク室からの現像液あるいは定着液を吸い込み、それを供給ホース226. 234へ導入する。
上記循環ポンプ354.356は共通のポンプ・モータ358によって駆動され 、そのポンプ・モータのための制御回路360が設けられている。
制御回路360の入力端子はORゲート362の出力に接続されており、このO Rゲートの入力かORゲート330の出力、ANDゲート322の出力、比較器 340の出力、および単安定フリップ・フロップ364に接続されている。温度 センサー338において基準温度に達した後、上記単安定フリップ・フロップ3 64によって、構成部品348〜353によって形成された加熱装置に蓄えられ た熱が処理液に確実に伝達される時間だけポンプ・モータ358が動作し続けさ せられるので、この加熱装置において処理液部分の過熱は生じない。
以上に述べた連続現像装置は、現像するX線フィルムの枚数が少くしかも処理液 類を約4週間も新しいものと交換しないような歯科医その他の開業医において使 用できるものであって、この実施例においては、使用する現像液は全体で51J ツトル、定着液は4リツトルである。被現像材料による処理液の除去や水分の蒸 発により、処理液は現像液でも定着液でもその量が約4週間で代表的には1.5 リットル減ってしまう。
現像部や定着部には動力学的に密封した処理室を使用しているので、この処理液 損失は動力学的に密封した処理室における動作状態に及ぼす影響はせいぜい二次 的なものである。現像装置が動作するにつれて、現像液タンク室30あるいは定 着液タンク室34における処理液の液面は段々に低くなってしまう。
約4週間たった後、処理液を完全に取り換える必要があれば、ここでは詳示しな い弁によって、還流ホース222.230は排出路溝に接続され、タンク室に残 る処理液がその方向に流出する。その後、現像架台60および定着架台62はと もに(装置スイッチを切って、従って二重溢流タンク142を上昇させて)上昇 させられる。架台が交換された状態で、溢流タンク144、146の中の液面は かなり下降するので、溢流タンクを取り外しかつ上昇させて取り出す時に比較的 大きな偶発的な傾斜があっても処理液が飛散することはない。この状態で該当処 理液の代表的には374リツトルがまだ中に残っている二重溢流タンク142は 流しへ運んで、その内容を出し切り、流水で洗浄できる。
二重溢流タンク142、現像架台60および定着架台62を取り外した後、還流 ホース222.230は対応の弁を逆の位置に設定することによって吐出路溝か らもう1度切り離され、この時、更に4週間の使用に十分な量である5リツトル の現像液および定着液を単純に上から現像装置または定着装置へ注入できる。溢 流タンク144.146によっては保持できない処理液の大部分がそれらタンク の下に位置するタンク室へ溢流溝252゜254を経て流入する。この薬液交換 の後、現像装置および定着装置のローラは、現像装置のスイッチを入れなくても 塩外皮の生成から保護される。
溢流タンクの頻繁な根本的洗浄が不要である使用分野では、溢流タンクの内容お よびその溢流タンクの下方に位置するタンク室の内容を処理液の完全交換のため に排出できるように溢流タンクに排出弁を装置できる。第9図、第10図は現像 溢流タンク144の2つの適宜変更例を示している。第8図、第9図には示さな い定着溢流タンク146には同様に構成された排出弁が設けられている。
第8図に示す現像溢流タンク144においては、基部が中心に向って若干傾斜す るように構成されており、またこの基部の最下位には排出孔366が設けられて いる。この排出孔は、弾性封止ディスク370を支持する弁体368で被覆され ている。
溢流タンク144の基部に形成された支承ラグ376に旋回ビン374によって 取り付けられたロケット・アーム372の自由端に上記弁体368が座着されて いる。
ロケット・アーム372の第2端はばね座板378で構成されている。このばね 座板378の上側と溢流タンク144の基部の上側との間にはらせん圧縮ばね3 80が挿入されている。このばね380は弁体368は吐出孔366を締め切る 位置に弁体368を保持するものである。
上記ばね座板378と垂直に心合して、ハウジング10は、第8図に破線で示す ストッパー382を支持する。このストッパーは、溢流タンク144の動作位置 に達する少し前あるいはこの動作位置を越えて移動した後にのみばね座板378 がそのストッパーに達するように配設されている。
前の例では、弁体368は、溢流タンク144が下降させられる毎に確実に開く ので、溢流タンク144は漏斗として作用する。こうして、溢流溝252は溢流 タンク144の上方造出位置においてのみ有効となる。ストッパーの位置がこう じて選ばレルト、ポンプ・モータ358も、動作位置ではほんの少しの処理液し かない溢流タンクに処理液が充填されるように、溢流タンクの上昇時に動作させ られることになる。
他方、搬送路を越える溢流タンクの下方動作位置においてはまだストッパー38 2には届かないほど低い位置にストッパーが来ると、昇降装置の作用ストローク を、溢流タンク144゜146の造出位置と動作位置との間の垂直距離より若干 長くなるように選択しなければならない。動作位置への到達に応動する光バリヤ ーとこのバリヤーと協働するミラー250は、動作位置への到達時に同期モータ 206のスイッチが切られるように配設されたままである。しかし、この位置で は、クランク・ビン180.182はまだそれらの下死点には到達していない。
処理液が完全に交換された時に手動スイッチ384を用いて制御回路324のス テップダウン制御端子に信号を与えることによって、ストッパー382に対して ばね座板378を移動させ、こうして排出孔366から弁体368を昇降させる ことができる。
こうして、溢流タンク144.146の内容はその下に位置するタンク室へ流入 し、更にそこから吐出路溝へ流入する。
第9図に示す変更実施例においては、排出孔366は現像溢流タンク144の左 側壁下端に設けられている。これに応じて、支承ラグ376、揺動アーム372 、らせん圧縮ばね380およびばね座板378もその側壁の正面に設けられてい る。第1図に示す上部の端部には、上から容易に接近できる作動板386を備え ている。揺動アーム372を手で作動させることにより、溢流タンク144の内 容は必要に応じて、特に処理液を完全交換する場合に排出することができる。
第1O図は現像装置の変更例のその横断中心線による垂直断面図である。供給部 268においては、下方に至る外部入口部272は省略され、突出部の下壁に直 接に入口孔が設けられている。この入口孔は円錐壁で構成されており、円錐状に 適宜構成された現像供給接続部224の端部に直接座着されている。
現像供給接続部は溢流溝252に隣接した左側壁18の傾斜層388に座着され ている。
第10図に示すように、溢流溝252によって決定される溢流レベルは参照符号 Fで示されており、また装置動作時に溢流孔102によって調整される動作レベ ルは参照符号Aで示されている。
第11図に示す昇降装置の変更例において、昇降ロッド154゜156の円形下 端は楔部材390の上を移動する。これらの楔部材はそれらの下方部において、 ねじ部を有し、そのねじ部はそれぞれ、雄ねじ付きスピンドル392の上を移動 する。その雄ねじ付きスピンドル392は歯車394によって駆動され、ビニオ ン204が同期モータ206によって駆動される。両方の雄ねじ付きスピンドル を連結しているのがチェーン駆動部396である。この実施例においては、らせ んはね166は、溢流タンクがその自重や、その中の処理液の重貴によって下降 するほど弱いものを選択しなければならない。またこの実施例においては、溢流 タンクを確実に下降させたい場合は、楔部材390の楔面の代りに、連結ビン1 72に代るカム・ビンが中に移動する、上記雄ねじ付きスピンドル392の上を 移動するカム板に対応して傾斜するカム溝を使用しなければならない。
第12図に示す更に別の変更実施例においては、昇降ロッド154、156の下 端は雄ねじ付きスピンドル398として構成されている。この雄ねじ付きスピン ドルは軸方向に静止した回転雄ねじ付きスリーブ400と協働するものであり、 そのスリーブは同期モータ206のビニオン204によって駆動される一方向歯 車202を咬合する。チェーン駆動396はまた2つの雄ねじ付きスリーブ40 0を連結する。
本発明の更に別の変更実施例においては、二重溢流タンク142の垂直移動を、 作用室が直列連結されておりかつ油圧同期させた2つの油圧シリンダで直接行う ことができる。また二重溢流タンクを並列昇降させるには、例えば平行リンク機 構等のレバー・バーが適している。
第11図、第12図に示す実施例においては、光バリヤ−244゜246の代り に、溢流タンクと直接に協働する端位置センサー、例えば誘導近接スイッチが使 用される。
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Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.処理液を受容し、内部において被現像材料の搬送平面上方に位置する処理液 の作用液面を維持することができ、この目的で動力学的密封機構を入口孔および 出口孔にそれぞれ設けており、この機構を通じて被現像材料を通過させることが できしかもその機構内に被現像材料を移動させる搬送手段が配設されている、少 なくとも1つの処理室と、上記処理室を包囲しており、上記の動力学的に密封さ れた処理室から漏れた処理液が落下する外部タンクと、上記処理室と組合わさっ ており、各々が関連の外部タンクからの処理液を吸い込みかつそれを関連の動力 学的に密封された処理室の中へ搬入する循環ポンプとを備えた、写真フィルム、 特にX線フィルム用の連続現像装置において、上記外部タンク(30,34)と 動力学的に密封された処理室(100,130)との間にそれぞれ溢流タンク( 144,146)が配設されており、同タンクおよび関連の処理室(34,36 )の中の液面が搬送手段(64〜72;104〜108)および動力学的密封機 構(64,70,86,88および104,108,122,124)の上方に 在る上方溢出位置と、処理室(100,130)の入口孔と出口孔が開放される 下方動作位置との間で昇降装置(150〜206)によって溢流タンクを移動さ せることができる、現像装置。 2.上記溢流タンク(144,146)が、それらの境界壁のうち少くとも1つ の境界壁の上縁に溢流溝(252,254)を備えている、上記請求の範囲第1 項に記載の現像装置。 3.溢流溝(252,254)を備える境界壁において、上記溢流タンク(14 4,146)には、それら溢流タンクの基部を越えて上方に延びる滴下バー(2 56,258)が設けられている、上記請求の範囲第2項に記載の現像装置。 4.外側タンク(30,34)内の最下位許容液面でも、上記滴下バー(256 ,258)が同タンク中の処理液にやはり浸漬される、上記請求の範囲第3項に 記載の現像装置。 5.上記溢流溝(252,254)が、被現像材料の搬送方向と平行に延びる溢 流タンク(252,254)の側方境界壁に設けられている、上記請求の範囲第 3項または第4項に記載の現像装置。 6.上記溢流溝(252,254)が、搬送手段(64〜70,90;104〜 108)の駆動装置から離れた溢流タンク(144,146)の側方境界壁に設 けられている、上記請求の範囲第5項に記載の現像装置。 7.上記滴下バー(256,258)から離れており、その滴下バーと同じ高さ の支持体(260)が溢流タンク(144,146)の基部から下方に延びてい る、上記請求の範囲第6項に記載の現像装置。 8.搬送方向において互いに追従する少なくとも2つの溢流タンク(144,1 46)が互いに確実に結合されている、上記請求の範囲第1項〜第7項のいずれ か1つに記載の現像装置。 9.多重溢流タンク(144)の基部が少くとも1つの溝(149)を有してお り、この溝には、多重溢流タンク機構(142)の下方に位置しかつ関連の外側 タンク(30,34)を分離させる中間壁(26)を、溢流タンク機構を下降さ せる時に導入することができる、上記請求の範囲第8項に記載の現像装置。 10.溢流タンク(144,146)を垂直に下方に偏位させ、処理液を充填し た溢流タンク(144,146)の重量に対して選択した強さを有するはね機構 (160)を有する、上記請求の範囲第1項〜第9項のいずれか1つに記載の現 像装置。 11.溢流タンク(144,146)の側部境界壁に配設された2本の昇降ロッ ド(154,156)と、これらの両昇降ロッド(154,156)の移動を確 実に結合する手段(188,398)とを有する、上記請求の範囲第1項〜第1 0項のいずれか1つに記載の現像装置。 12.上記はね機構が、上記昇降ロッド(154,156)を包囲するらせんは ね(166)を有する、上記請求の範囲第11項に記載の現像装置。 13.上記昇降ロッド(154,156)の上端および好ましくはこれらロッド を包囲するらせんはね(166)がベローズ(170)で封止されている、上記 請求の範囲第11項または第12項に記載の現像装置。 14.上記溢流タンク(144,146)が昇降ロッド(154,156)の上 端に迅速釈放接続部(158,160)を介して設けられている、上記請求の範 囲第11項〜第13項のいずれか1つに記載の現像装置。 15、上記処理室(100;130)の基部(74;110;302)がそれぞ れ、処理液分配部として構成されており、また処理室の側壁が、上方に延びる供 給部(268,270)をそれぞれ支持しており、この供給部は、突出している 上方供給部とともに、高いタンク位置において関連の潅流タンク(144,14 6)に係合している、上記求の範囲第1項〜第14項のいずれか1つに記載の現 像装置。 16.上記供給部(268,270)が溢流溝(252,254)の部域に設け られており、同溝の下縁に係合している、上記請求の範囲第15項に記載の現像 装置。 17.上記供給部(268,270)が下方に向いた供給孔を有しており、この 孔が、処理室(100,130)を導入する時に、ハウジングと一体の、該当処 理液の送出孔(224,232)のすぐ上に位置する、上記請求の範囲第15項 または第16項に記載の現像装置。 18.ハウジングと一体の送出孔(224,232)が関連の溢流タンク(14 4,146)の縁部と同じ高さにあり、このタンクを越えて供給部(268,2 70)が係合している、上記請求の範囲第17項に記載の現像装置。 19.ハウジングと一体の上記送出孔(224,232)が外部タンク(30, 34)の側壁(18)の、内向きに傾斜している肩部(388)によって包囲さ れている、上記請求の範囲第17項または第18項に記載の現像装置。 20.基部(74;110;302)が、関連の処理液に対する複数の出口孔( 878;114;312)を有している、上記請求の範囲第15項〜第19項の いずれか1つに記載の現像装置。 21.搬送方向にある基部(74;110;302)の前方、後方の端部が、該 当の処理液室(100;130)の入口孔または出口孔の動力学的密封を保証す る、ローラ対(64,70;104,108)の下部ローラ(90,92;12 6,128)とそれぞれ協働する弾性封止唇部(86,88;122,124; 304,306)を支持している、上記請求の範囲第15項〜第20項のいずれ か1つに記載の現像装置。 22.基部(74;110;302)および処理室(100;130)の側壁( 56,58)に協働ガイド手段(298,300)が設けられており、このガイ ド手段によって、基部の載置移動の第1部分において、封止唇部(86,88; 122,124;304,306)がそれらと協働する下部ローラ(90,92 ;126,128)に出会うことがないことと、側壁上の基部の載置移動の最終 部分が、封止唇部の自由端が、それらの封止唇部と協働する下部ローラに向かっ て実質的には径方向にガイドされることとが保証される、上記請求の範囲第12 項に記載の現像装置。 23.上記ガイド手段がバヨネット溝(298)とバヨネット・ビン(300) とを有している、上記請求の範囲第22項に記載の現像装置。 24.基部(74;110;302)が合成樹脂を射出成形して形成されており 、また封止唇部(86,88;122,124;304,306)は弾性合成材 料で作られて基部に直接に射出成形されている、上記請求の範囲第21項〜第2 3項のいずれか1つに記載の現像装置。 25.上記昇降装置が、溢流タンク(144,146)に連結ロッド(176, 178)を介して作用するクランク・ピン(180,182)を有している、上 記請求の範囲第1項〜第24項のいずれか1つに記載の現像装置。 26.2本の昇降ロッド(154,156)が各々、関連のクランク・ピン(1 80,182)に連結ロッド(176,178)を介して連結されておりかつ両 クランク・ピンがシャフト(188)によって連結されている、上記請求の範囲 第25項に記載の現像装置。 27.上記昇降装置が溢流タンク(144,146)に作用する楔機構(390 )を有している、上記請求の範囲第1項〜第24項のいずれか1つに記載の現像 装置。 28.上記昇降装置が溢流タンク(144,146)に作用する雄ねじ付き駆動 部(400,402)を有している、上記請求の範囲第1項〜第24項のいずれ か1つに記載の現像装置。 29.溢流タンク(144,146)が上方溢出位置および下方動作位置に対す る端位置センサー(244〜255)と、入口孔に被現像材料が在ることに応動 ずる入口センサー(48)と、昇降装置の駆動モータ(206)の昇降モータ制 御回路(324)とを有しており、上記制御回路は、入口センサー(48)の出 力信号はあるが下方動作位置に対する端位置センサー(246)の出力信号がな い場合に溢流タンク(144,146)を上昇させる方向に第1制御信号によっ て上記駆動モータを付勢し、た上記入口センサー(48)の出力信号が無くなっ てしまう時点から所定の時間間隔が経過すると、溢流タンク(144,146) を下降させる方向に第2制御信号で上記駆動モータ(216)を付勢するように なっている、上記請求の範囲第1項〜第28項に記載の現像装置。 30.上記搬送手段(64〜70,104〜108)に作用する第2駆動モータ (328)の搬送モータ制御回路(322,330〜334)を有しており、上 記制御回路は第1制御信号を受けると第1速度でまた第2制御信号を受けると第 2速度で動作するように第1制御信号によって第2駆動モータを制御するように なっており、上記第1速度は、溢流タンク(144)が処理室の入口孔を開放す ると被現像材料の前縁が第1処理室(100)の入口孔に達するように選択され ており、また上記第2速度は各処理室(100,130)における被現像材料の 所望処理時間に対して選択されている、上記請求の範囲第29項に記載の現像装 置。 31.循環ポンプ機構(354,356)の駆動モータ(358)に対してポン プ・モータ制御回路(322,330〜334,362)が設けられており、こ の回路は第1制御信号、第2制御信号あるいは温度スイッチ(338〜342) の出力信号を受けると上記駆動モータを付勢するようになっている、上記請求の 範囲第29項または第30項に記載の現像装置。 32.上記温度スイッチ(338〜342)の出力信号の後縁によってトリガー できるタイミング部材(364)が設けられており、上記タイミング部材の出力 信号によってポンプ・モータ制御回路(322,330〜334,362)に上 記ポンプ駆動モータ(358)を付勢させるようになっている、上記請求の範囲 第31項に記載の現像装置。 33.溢流タンク(144,146)がその下方部分において送出孔(366) を備えており、この孔は閉位置へ偏位された弁体(368)によって通常は閉じ られており、作動部(378,386)を移動させることによって開くことがで きるようになっている、上記請求の範囲第1項〜第32項のいずれか1つに記載 の現像装置。 34.上記作動部(378)は溢流タンク(144,146)を、ハウジングと 一体のストッパー(382)に対して垂直に移動させることによって作動させ得 るようになっている、上記請求の範囲第33項に記載の現像装置。
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0789276A1 (en) * 1996-02-08 1997-08-13 Agfa-Gevaert N.V. Apparatus for the processing of photographic sheet material
DE19724034C2 (de) * 1997-06-06 2001-02-01 Agfa Gevaert Ag Vorrichtung zum Behandeln von fotografischen Einzelblatt-Schichtträgern
EP0895126A1 (en) * 1997-07-28 1999-02-03 Agfa-Gevaert N.V. Vessel for the wet processing of photographic sheet material
US20060249178A1 (en) * 2005-05-05 2006-11-09 Vectis Technologies Inc. Printing plate processor
US8534937B2 (en) * 2009-10-19 2013-09-17 Eastman Kodak Company Plate developer with a configurable transport path

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3093051A (en) * 1958-08-14 1963-06-11 Ritzerfeld Wilhelm Apparatus for treating printing foils
US3057282A (en) * 1959-04-06 1962-10-09 Eastman Kodak Co Fluid treating device for sheet or strip materials
GB1216477A (en) * 1967-11-20 1970-12-23 Charles William Clark Photographic apparatus
US3587429A (en) * 1968-11-06 1971-06-28 Eastman Kodak Co Integral processing tray and liquid container
GB1495745A (en) * 1975-05-22 1977-12-21 Kodak Ltd Liquid containers
US4023190A (en) * 1975-06-02 1977-05-10 Sybron Corporation Film processor
DE2633145A1 (de) * 1976-07-23 1978-06-08 Agfa Gevaert Ag Vorrichtung zur nassbehandlung fotografischer schichttraeger
DE2731045A1 (de) * 1977-07-08 1979-01-25 Agfa Gevaert Ag Vorrichtung zur nassbehandlung fotografischer schichttraeger
DE3345084C2 (de) * 1983-12-13 1985-10-10 Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen Entwicklungsvorrichtung für horizontal geführte Schichtträger
US4758857A (en) * 1986-04-03 1988-07-19 Nix Company, Ltd. Automatic film developing machine

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