JPH0347575A - 洗浄方法および装置 - Google Patents

洗浄方法および装置

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Publication number
JPH0347575A
JPH0347575A JP17906889A JP17906889A JPH0347575A JP H0347575 A JPH0347575 A JP H0347575A JP 17906889 A JP17906889 A JP 17906889A JP 17906889 A JP17906889 A JP 17906889A JP H0347575 A JPH0347575 A JP H0347575A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cleaning
cleaning liquid
nozzle
cleaned
inert gas
Prior art date
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Pending
Application number
JP17906889A
Other languages
English (en)
Inventor
Shin Okuyama
奥山 森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Senju Metal Industry Co Ltd
Original Assignee
Senju Metal Industry Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Senju Metal Industry Co Ltd filed Critical Senju Metal Industry Co Ltd
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Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/10Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
    • B08B3/102Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration with means for agitating the liquid

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、はんだ付は後のプリント基板のように非水溶
性の汚れが付着した被洗浄物を水溶性の洗浄液で洗浄す
る方法および装置に関する。
〔従来の技術〕
プリント基板のはんだ付けに用いるフラックスは松脂を
主成分としたものである。テレビやビデオテープレコー
ダーのような民生機器に用いるプリント基板では該フラ
ックス残渣が付着していてもあまり問題にはならないが
、大型コンピューターや通信機器のような精密電子機器
に用いるプリント基板はフラックス残渣が付着している
と、ここにゴミやホコリが付着して計算のエラーの原因
となることがあるため、該プリント基板ではフラックス
残渣の洗浄を行わなくてはならなくなっている。
従来、フラックス残渣の洗浄には松脂をよく溶解するフ
ッ素系有1!溶剤や塩素系有機溶剤を用いていたが、フ
ッ素系有機溶剤は地球を取り巻くオゾン層を破壊して太
陽の紫外線を多量に地球上に到達させ、人間に皮膚ガン
を起こさせる原因となり、また塩素系有機溶剤は地下に
滲透して地下水に混入し、地下水を飲用に適さなくして
しまう。
それ故、これら有機溶剤の使用が規制されてきており、
有機溶剤に代わる洗浄液の開発が行われるようになって
きた。
近時、はんだ付は後のプリント基板の洗浄に優れた効果
を有する洗浄液としてテルペン化合物から成る洗浄液が
開発された。
該洗浄液の特性は次の通りである。
■酸素と結びつくと化学構造式が変わり、洗浄効果が低
下する。
■引火点が低い。
■ワックスや油脂類等とエマルジョンを形成して被洗浄
物からこれらを剥離させる。
該洗浄液を用いた洗浄方法は、洗浄液をノズルから噴出
させて被洗浄物に吹き付けたり、洗浄液を超音波洗浄槽
に入れて、そこに被洗浄物を浸漬する等であった。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところで従来の洗浄液を吹き付ける方法では、洗浄液が
霧状となるため洗浄液に引火した場合、爆発するという
非常に危険なものであり、また洗浄液が細かくなるため
、その表面積が大きくなり酸化もしやすくなってしまう
ものである。超音波洗浄槽も超音波のエネルギーにより
液面では細かい洗浄液が飛びはねるため、前述洗浄液の
吹付は方法と同様、爆発の危険性や洗浄液の劣化等が生
ずるものである。
本発明はテルペン化合物のような洗浄液を使用するにも
かかわらず、火災や爆発の危険性がないばかりか、洗浄
液の劣化がなく、しかも洗浄効果も極めて良好となる洗
浄方法および装置を提供することにある。
〔発明の構成〕
本発明者は、洗浄液の流動とともに不活性ガスの気泡を
流動させると、洗浄液の劣化や爆発の危険性もなく、し
かも洗浄効果の上がることに着目して本発明を完成させ
た。
本発明は、洗浄液中に被洗浄物を浸漬して洗浄を行う方
法において、洗浄槽内て洗浄液を一方向に流動させると
ともに、流動する洗浄液内に不活性ガスを注入して不活
性ガスの気泡を形成し、該気泡と流動洗浄液とを被洗浄
物に当てて洗浄を行うことを特徴とする洗浄方法であり
、被洗浄物を洗浄槽の洗浄液に浸漬して洗浄を行う洗浄
装置において、洗浄槽の側面には洗浄液と不活性ガスを
噴出するノズルが設置されていることを特徴とする洗浄
装置である。
〔作用〕
洗浄液を流動させて被洗浄物を洗浄する時、流動する洗
浄液中に不活性ガスを注入すると、液体が攪拌されるに
もかかわらず洗浄液が酸化しない。
洗浄液の表面に浮かんだ不活性ガスの気泡や不活性ガス
が該洗浄液面を被うため表面の酸化を防ぎ、しかも酸素
が遮断されるため洗浄液に引火することがない。
〔実施例〕
洗浄槽1の一方の側面にはノズル2が設置されており、
該側面と相対する側面には排出口3が設置されている。
ノズル2と排出口3とは洗浄槽の外部でバイブ4により
接続されている。バイブ4の途中にはポンプ5が設置さ
れていて、洗浄液6はノズル→洗浄槽→排出ロ→ポンプ
→ノズルと循環するようになっている。ノズル2には不
活性ガスボンベ7が接続されており、ノズルから噴出す
る洗浄液中に不活性ガスを注入するようになっている。
洗浄槽1の周囲には被洗浄物8が挿入されたカゴ9を搬
送するコンベアlOが設置されている。該コンベアは矢
印方向へ走行するもので、被洗浄物8が挿入されたカゴ
9を吊設して洗浄槽の排出口近傍の外側面を上昇し、カ
ゴを排出口に近くの洗浄槽内に降ろしてから洗浄槽内を
ノズル方向へ走行させ、ノズル近くで上方に上げ、ノズ
ルの設置された外側面を降下させるようになっている。
洗浄槽内に浸漬後の被洗浄物を上方に上げる途中にはエ
アーナイフ11が設置されている。また、洗浄槽1の上
方にはコンベア10の上部を包囲するとともに洗浄槽の
上部をも包囲するカバーいている。
次に洗浄方法について説明する。
先ず被洗浄物8をカゴ9に入れ、洗浄槽の排出口3の設
置された外側を上方に走行するコンベア10に吊設する
。被洗浄物はコンベアに搬送され、洗浄槽の上方から排
出口が設置された近くの洗浄槽内に降りて洗浄液6に浸
漬され、洗浄槽内をノズル方向に向って走行する。この
時、洗浄液はポンプ5によりノズル2から噴出し、排出
口3から出るという循環が行われており、しかもノズル
から噴出する洗浄液には不活性ガスが注入され気泡とな
って噴出されている。本発明に用いる洗浄液は汚れを溶
かして洗浄するものではなく、被洗浄物から剥離するこ
とにより洗浄するものである。
従って本発明のようにノズルから洗浄液を勢いよく噴出
させて被洗浄物に衝突させると剥離効果はあがるが、噴
出する洗浄液中に気泡を混入すると洗浄効果はさらに向
上する。その理由は、気泡は被洗浄物に沿って上方に浮
き上がるため、一部剥離を起こした汚れを気泡とともに
上方に浮き上がらせて剥離をよくする。しかも気泡は被
洗浄物に衝突して、はじける時、その衝撃でさらに剥離
効果を上げるものである。また、被洗浄物を洗浄液の流
動方向と逆方向に走行させると、洗浄液の流動に対して
被洗浄物の走行が相対的に早くなるため洗浄液や気泡の
被洗浄物への衝撃が大きくなり汚れの剥離を一段と高め
ることができる。不活性ガスの気泡は洗浄液内を浮き上
がって洗浄液表面を覆うし、また、気泡が破壊しても気
体の状態で洗浄表面を覆うため、洗浄槽上に酸素があっ
てもこれを遮断し、洗浄液を劣化させたり、洗浄液が引
火することがない。さらにカバーは不活性ガスが拡散す
るのを防いで洗浄液の表面に漂わしておくことができる
。特に不活性ガスとして窒素やヘリウムのように空気よ
り軽いものを用いた場合にはカバーは不活性ガスの拡散
を防ぐ効果が著しい。
洗浄槽内を走行した被洗浄物はノズルの手前で上昇し、
エアーナイフ11により余分な洗浄液や剥離後被洗浄物
に付着した汚れを吹き落とす。そしてカゴはノズルの近
傍の開口から降下し、ここで取り外されて洗浄が終了す
る。
〔発明の効果〕
本発明によれば、洗浄液とともにノズルから噴出される
気泡の汚れ剥離効果により、落ちにくい汚れても完全に
落とすことができ、しかも該気泡を不活性ガスで作るた
め、洗浄液の劣化を起こさせないばかりか、引火性の洗
浄液でも火災や爆発を防ぐという二重、三重の効果を奏
することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明洗浄装置の正面図である。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)洗浄液中に被洗浄物を浸漬して洗浄を行う方法に
    おいて、洗浄槽内で洗浄液を一方向に流動させるととも
    に、流動する洗浄液内に不活性ガスを注入して不活性ガ
    スの気泡を形成し、該気泡と流動洗浄液とを被洗浄物に
    当てて洗浄を行うことを特徴とする洗浄方法。
  2. (2)前記被洗浄物を流動する洗浄液に対して逆方向に
    移動させながら洗浄を行うことを特徴とする特許請求の
    範囲第(1)項記載の洗浄方法。
  3. (3)被洗浄物を洗浄槽の洗浄液に浸漬して洗浄を行う
    洗浄装置において、洗浄槽の側面には洗浄液と不活性ガ
    スを噴出するノズルが設置されていることを特徴とする
    洗浄装置。
  4. (4)前記洗浄槽の上方には被洗浄物を搬送するコンベ
    アが設置されていることを特徴とする特許請求の範囲第
    (3)項記載の洗浄装置。
  5. (5)前記洗浄槽の上方には雰囲気用のカバーが設置さ
    れていることを特徴とする特許請求の範囲第(3)乃至
    第(4)項記載の洗浄槽。
JP17906889A 1989-07-13 1989-07-13 洗浄方法および装置 Pending JPH0347575A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03207482A (ja) * 1990-01-11 1991-09-10 Fuji Electric Co Ltd 洗浄装置
EP0607974A1 (en) * 1993-01-21 1994-07-27 Uchinami Co.,Ltd. Underwater washing method and device
US20140069468A1 (en) * 2012-09-11 2014-03-13 Ge-Hitachi Nuclear Energy Americas Llc Methods of cleaning a submerged surface using a fluid jet discharging a liquid/gas combination
CN107096759A (zh) * 2016-02-23 2017-08-29 朱隆娅 一种防爆超声波清洗机
JP2019018139A (ja) * 2017-07-14 2019-02-07 中外炉工業株式会社 洗浄装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03207482A (ja) * 1990-01-11 1991-09-10 Fuji Electric Co Ltd 洗浄装置
EP0607974A1 (en) * 1993-01-21 1994-07-27 Uchinami Co.,Ltd. Underwater washing method and device
US20140069468A1 (en) * 2012-09-11 2014-03-13 Ge-Hitachi Nuclear Energy Americas Llc Methods of cleaning a submerged surface using a fluid jet discharging a liquid/gas combination
US9839925B2 (en) * 2012-09-11 2017-12-12 Ge-Hitachi Nuclear Energy Americas Llc Methods of cleaning a submerged surface using a fluid jet discharging a liquid/gas combination
CN107096759A (zh) * 2016-02-23 2017-08-29 朱隆娅 一种防爆超声波清洗机
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