JP6347572B2 - リフトオフ装置およびリフトオフ方法 - Google Patents
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Description
加圧されたガスが通るガス流路と、処理液が通る処理液流路と、それぞれの流路に連通されるとともに、加圧されたガスおよび処理液を混合することにより形成される液滴化された処理液を含む混合流体を噴射するノズルとを有する混合流体形成装置と、
混合流体形成装置をステージに対して相対的に移動させる移動装置とを備え、
パターン化されたレジストおよびレジスト上に成膜された金属層を表面に有する基板が、ステージ上において、回転された状態にて保持されており、
ステージ上にて回転された状態の基板の表面に対して、ノズルから混合流体を噴射することにより、レジストおよび金属層を剥離して、基板の表面にパターン化された金属層を形成する、リフトオフ装置を提供する。
加圧されたガスと処理液とを混合することにより液滴化された処理液を含む混合流体を形成する工程と、
回転された状態の基板の表面に対して混合流体を噴射することにより、レジストおよび金属層を剥離して、基板の表面にパターン化された金属層を形成する工程と、を有するリフトオフ方法を提供する。
2 ケミカルチャンバ
3 リンスチャンバ
4 基板搬送装置
5 基板
6 把持アーム
7 ステージ
8 ステージ
9 ステージ支持装置
10 混合流体形成装置
11 移動装置
12 第1の流路
13 第2の流路
14 ノズル
15 ガス供給源
16 処理液供給源
17 回転軸
18 容器
19 配管
20 ステージ支持装置
21 混合流体形成装置
22 移動装置
23 第1の流路
24 第2の流路
25 ノズル
26 ガス供給源
27 純水供給源
28 容器
29 配管
30 回転軸
31 レジスト
32 金属層
33 クラック
34 回路パターン
35 バリ
Claims (6)
- 基板を保持するとともに、保持した基板を回転させるステージと、
加圧されたガスが通るガス流路と、処理液が通る処理液流路と、それぞれの流路に連通されるとともに、加圧されたガスおよび処理液を混合することにより形成される液滴化された処理液を含む混合流体を噴射する1つのノズルのみとを有する第1混合流体形成装置と、
第1混合流体形成装置をステージに対して相対的に移動させる移動装置とを備え、
パターン化されたレジストおよびレジスト上に成膜された金属層を表面に有する基板が、ステージ上において、回転された状態にて保持されており、
ステージ上にて回転された状態の基板の表面に対して、ノズルから混合流体を噴射して、混合流体を基板上の金属層に衝突させることにより、金属層にダメージを与え、これにより、金属層にクラックが形成され、クラックを介して金属層内部のレジストに混合流体が到達すると、混合流体中の有機溶剤の膨潤作用によりレジストが膨潤し、噴射を継続して行うと、レジストおよび金属層を剥離してバリを除去し、基板の表面にパターン化された金属層を形成し、
枚葉式であるとともに、
混合流体の噴射を行うチャンバにおいて、第1混合流体形成装置のみにより基板表面への液体の噴射を行い、
金属層がパターン化された基板の表面に残存する不純物を除去する表面洗浄処理を、混合流体の噴射を行うチャンバとは別のチャンバにおいて、第1混合流体形成装置とは別の第2混合流体形成装置によって混合流体を噴射することにより行う、リフトオフ装置。 - 第1混合流体形成装置は、処理液として有機溶剤を用い、第2混合流体形成装置は、処理液として純水を用いる、請求項1に記載のリフトオフ装置。
- 第1混合流体形成装置に処理液を供給する処理液供給源と、
基板およびステージを覆うように配置される容器と、
容器の底部に設けられた開口を一端として、他端が処理液供給源に接続された配管と、
を備える、請求項1又は2に記載のリフトオフ装置。 - パターン化されたレジストおよびレジスト上に成膜された金属層を表面に有する基板を、回転させた状態にて保持する工程と、
加圧されたガスと処理液とを混合することにより液滴化された処理液を含む混合流体を第1混合流体形成装置により形成する工程と、
回転された状態の基板の表面に対して、第1混合流体形成装置に1つのみ設けられたノズルから混合流体を噴射して、混合流体を基板上の金属層に衝突させることにより、金属層にダメージを与え、これにより、金属層にクラックが形成され、クラックを介して金属層内部のレジストに混合流体が到達すると、混合流体中の有機溶剤の膨潤作用によりレジストが膨潤し、噴射を継続して行うと、レジストおよび金属層を剥離してバリを除去し、基板の表面にパターン化された金属層を形成する工程と、を有し、
枚葉式であるとともに、
基板の表面にパターン化された金属層を形成する工程において、第1混合流体形成装置のみにより基板表面への液体の噴射を行い、
金属層がパターン化された基板の表面に残存する不純物を除去する表面洗浄処理を、混合流体の噴射を行うチャンバとは別のチャンバにおいて、第1混合流体形成装置とは別の第2混合流体形成装置によって混合流体を噴射することにより行う、リフトオフ方法。 - 第1混合流体形成装置は、処理液として有機溶剤を用い、第2混合流体形成装置は、処理液として純水を用いる、請求項4に記載のリフトオフ方法。
- 第1混合流体形成装置から基板の表面に噴射された混合流体を回収して第1混合流体形成装置の処理液の供給源に戻す工程をさらに含む、請求項4又は5に記載のリフトオフ方法。
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