JPH0347190A - 含フッ素界面活性剤及びその製造方法 - Google Patents
含フッ素界面活性剤及びその製造方法Info
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- JPH0347190A JPH0347190A JP2107844A JP10784490A JPH0347190A JP H0347190 A JPH0347190 A JP H0347190A JP 2107844 A JP2107844 A JP 2107844A JP 10784490 A JP10784490 A JP 10784490A JP H0347190 A JPH0347190 A JP H0347190A
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- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は新規な含フツ素界面活性剤及びその製造方法に
関する。
関する。
(従来技術)
従来、含フツ素界面活性剤としては、電解フッ素化によ
り得られるパーフルオロアルキルスルホニルフルオライ
ド(CsF+□SO□F)及びパーフルオロアルキルカ
ルボニルフルオライド(CvF+5COF)などを出発
原料とし、これらにアミド基やエステル基を介してポリ
エーテル基を結合させたものが知られている。しかし、
このような反応では、界面活性剤として有用な炭素原子
数が6以上のパーフルオロアルキル誘導体の収率が非常
に低いという問題がある。更に、パーフルオロアルキル
基を存するカルボン酸のエステル(C7FI 5cOO
R)は加水分解されやすく、不安定であるという問題も
ある。
り得られるパーフルオロアルキルスルホニルフルオライ
ド(CsF+□SO□F)及びパーフルオロアルキルカ
ルボニルフルオライド(CvF+5COF)などを出発
原料とし、これらにアミド基やエステル基を介してポリ
エーテル基を結合させたものが知られている。しかし、
このような反応では、界面活性剤として有用な炭素原子
数が6以上のパーフルオロアルキル誘導体の収率が非常
に低いという問題がある。更に、パーフルオロアルキル
基を存するカルボン酸のエステル(C7FI 5cOO
R)は加水分解されやすく、不安定であるという問題も
ある。
一方、パーフルオロアルキルカルビノールにエチレンオ
キシドを反応させて得られるポリエーテル系の界面活性
剤もよく知られているが、この反応では、エチレンオキ
シドの重合度の制御が困難であるため、満足すべき製造
方法であるとは言い難い。
キシドを反応させて得られるポリエーテル系の界面活性
剤もよく知られているが、この反応では、エチレンオキ
シドの重合度の制御が困難であるため、満足すべき製造
方法であるとは言い難い。
そこで、最近、ヘキサフルオロプロピレン(HFP)の
2〜4量体オリゴマーとポリエーテルの末端水酸基とを
塩基の存在下で反応させる方法(特公昭59−1319
号公報参照)が開発されている。
2〜4量体オリゴマーとポリエーテルの末端水酸基とを
塩基の存在下で反応させる方法(特公昭59−1319
号公報参照)が開発されている。
(発明が解決しようとする問題点)
しかし、RFPオリゴマーには、数種の異性体が混在し
ており、この異性体の構造によってはポリエーテルの水
酸基の付加が進行しない場合があるため、反応効率が低
いという問題がある。
ており、この異性体の構造によってはポリエーテルの水
酸基の付加が進行しない場合があるため、反応効率が低
いという問題がある。
さらには、含フツ素有機基を有するエポキシド(問題点
を解決するための手段) 即ち本発明によれば、下記一般式(I)及び(I[)、 エーテルとを反応させる界面活性剤の製造方法が提案さ
れている(特開昭61−133244号公報参照)が、
この場合、出発原料が高価であることに加えて、エポキ
シドのエポキシ環が不安定であり、反応効率の点からみ
ても有利であるとは言い難い。
を解決するための手段) 即ち本発明によれば、下記一般式(I)及び(I[)、 エーテルとを反応させる界面活性剤の製造方法が提案さ
れている(特開昭61−133244号公報参照)が、
この場合、出発原料が高価であることに加えて、エポキ
シドのエポキシ環が不安定であり、反応効率の点からみ
ても有利であるとは言い難い。
従って本発明の目的は、新規な含フツ素界面活性剤を提
供すること、及び安定性に優れた出発原料を使用し且つ
高い反応効率で含フツ素界面活性剤を製造することが可
能な方法を提供することにある。
供すること、及び安定性に優れた出発原料を使用し且つ
高い反応効率で含フツ素界面活性剤を製造することが可
能な方法を提供することにある。
式中、
R,は、炭素原子数4〜IOのパーフルオロアルキル基
または炭素原子数5〜14のパーフルオロポリエーテル
基を表わし、 Qは、ポリエチレングリコール鎖、ポリプロピレングリ
コール鎖またはこれらの両方からなるポリエーテル基を
表わし、 Rは水素原子、アリル基、炭素原子数1〜4のアルキル
基、または炭素原子数2〜3のアシル基を表わし、 !及びmは、それぞれ0または1の整数であり、nは、
1〜3の整数である、 (式中、R,、Q、 /及びmは前記のとおりである
。) で表わされる含フツ素有機ケイ素化合物の少なくとも1
種からなる含フツ素界面活性剤が提供される。
または炭素原子数5〜14のパーフルオロポリエーテル
基を表わし、 Qは、ポリエチレングリコール鎖、ポリプロピレングリ
コール鎖またはこれらの両方からなるポリエーテル基を
表わし、 Rは水素原子、アリル基、炭素原子数1〜4のアルキル
基、または炭素原子数2〜3のアシル基を表わし、 !及びmは、それぞれ0または1の整数であり、nは、
1〜3の整数である、 (式中、R,、Q、 /及びmは前記のとおりである
。) で表わされる含フツ素有機ケイ素化合物の少なくとも1
種からなる含フツ素界面活性剤が提供される。
本発明によれば更に、
(A)−数式〔■〕 :
e
(I[)
(式中、Rr、 f及びmは前記の通り)で表わされ
る有機ケイ素化合物と、 (B)下記−数式(IV) CH,=CH−CH2O−Q−R(IV)(式中、Q及
びRは前記の通り) で表わされるポリエーテル化合物とを白金系触媒の存在
下で反応させることから成る含フツ素界面活性剤の製造
方法が提供される。
る有機ケイ素化合物と、 (B)下記−数式(IV) CH,=CH−CH2O−Q−R(IV)(式中、Q及
びRは前記の通り) で表わされるポリエーテル化合物とを白金系触媒の存在
下で反応させることから成る含フツ素界面活性剤の製造
方法が提供される。
本発明の含フツ素界面活性剤の製造方法は、出発原料と
して、含フツ素有機基を有する有機ケイ素化合物(A)
と末端にアリル基を有するポリエーテル化合物(B)と
を組み合せて使用したことに特徴を存し、白金系触媒の
存在下で、有機ケイ素化合物(A)の活性な5i−H基
とポリエーテル化合物(B)のアリル基との間でヒドロ
シリル化反応を行わせることにより、疎水性の含フツ素
有機基と親水性のポリエーテル基とがケイ素原子を介し
て結合した含フツ素界面活性剤を製造するものである。
して、含フツ素有機基を有する有機ケイ素化合物(A)
と末端にアリル基を有するポリエーテル化合物(B)と
を組み合せて使用したことに特徴を存し、白金系触媒の
存在下で、有機ケイ素化合物(A)の活性な5i−H基
とポリエーテル化合物(B)のアリル基との間でヒドロ
シリル化反応を行わせることにより、疎水性の含フツ素
有機基と親水性のポリエーテル基とがケイ素原子を介し
て結合した含フツ素界面活性剤を製造するものである。
かかる製造方法においては、使用する出発原料は化学的
安定性が高く、またこれら出発原料を用いて行われる合
成反応の反応効率は極めて高いという利点を有している
。
安定性が高く、またこれら出発原料を用いて行われる合
成反応の反応効率は極めて高いという利点を有している
。
(A)有機ケイ素化合物
本発明の製造方法において、出発原料の一つとして使用
される有機ケイ素化合物(A)は、前記−数式〔■〕、
即ち、 e (III) (式中、R,、i及びnは前記の通り)で表わされる。
される有機ケイ素化合物(A)は、前記−数式〔■〕、
即ち、 e (III) (式中、R,、i及びnは前記の通り)で表わされる。
ここで含フツ素有機基R1は、界面活性剤に疎水性を発
揮させるために疎水性基として導入するためのものであ
り、炭素原子数4〜10のパーフルオロアルキル基また
は、炭素原子数5〜14のパーフルオロポリエーテル基
である。
揮させるために疎水性基として導入するためのものであ
り、炭素原子数4〜10のパーフルオロアルキル基また
は、炭素原子数5〜14のパーフルオロポリエーテル基
である。
かかるパーフルオロアルキル基は、下記−数式、ChF
tt++ (式中、kは4〜lOの整数である) で表わされ、具体的には、ノナフルオロブチル基。
tt++ (式中、kは4〜lOの整数である) で表わされ、具体的には、ノナフルオロブチル基。
ウンデカフルオロペンチル基、トリデカフルオロヘキシ
ル基、ペンタデカフルオロヘプチル基、ヘプタデカフル
オロオクチル基、ノナデカフルオロノニル基、ヘンエイ
コサフルオロデシル基、7−トリフルオロメチルへキサ
デカフルオロオクチル基、5−トリフルオロメチルドデ
カフルオロヘキシル基等を例示することができる。これ
らのパーフルオロアルキル基のうちで代表的なものは炭
素数4,6及び8のものである。尚、含フツ素含有基R
,が上述したパーフルオロアルキル基である場合には、
−数式(III)において数lは0であることが好適で
あり、この場合の有機ケイ素化合物(A)は、下記−数
式(I[[a)で表わされる。
ル基、ペンタデカフルオロヘプチル基、ヘプタデカフル
オロオクチル基、ノナデカフルオロノニル基、ヘンエイ
コサフルオロデシル基、7−トリフルオロメチルへキサ
デカフルオロオクチル基、5−トリフルオロメチルドデ
カフルオロヘキシル基等を例示することができる。これ
らのパーフルオロアルキル基のうちで代表的なものは炭
素数4,6及び8のものである。尚、含フツ素含有基R
,が上述したパーフルオロアルキル基である場合には、
−数式(III)において数lは0であることが好適で
あり、この場合の有機ケイ素化合物(A)は、下記−数
式(I[[a)で表わされる。
Me
(I[a)
式中、k、m及びnは前記の通りである。
また炭素原子数5〜14のパーフルオロエーテル基とし
ては、例えば下記一般式、 (式中、yは1〜4の整数である) で表わされる基を例示することができる。また含フツ素
有機基Rrがこの様なパーフルオロエーテル基である場
合には、前記一般式(I[)において、数lはlである
ことが好適であり、この場合の有機ケイ素化合物(A)
は、下記一般式(I[b )で表わされる。
ては、例えば下記一般式、 (式中、yは1〜4の整数である) で表わされる基を例示することができる。また含フツ素
有機基Rrがこの様なパーフルオロエーテル基である場
合には、前記一般式(I[)において、数lはlである
ことが好適であり、この場合の有機ケイ素化合物(A)
は、下記一般式(I[b )で表わされる。
Me
〔■b〕
(式中、y、 m及びnは前記の通り)。
この様なパーフルオロアルキルエーテル基としては、R
,CH20CH2−として、即ち、下記式、(式中、y
は前記の通り1〜4の整数である)で表わされる形で、
具体的には、6−ドリフルオロメチルー6、8.8.9
.9.10.10.10−才クタフル才ロー4.7−シ
オキサデシル基、6,9−ビス(トリフルオロメチル)
−6,8,8,9,11,11,12,12,13,
13,13−ウンデカフルオロ−4,7,10−トリオ
キサトリデシル基、6.9.12−)リス(トリフルオ
ロメチル)−6,8,8,9,11,11,12,14
,14,15,15,16,16,16−チトラデカフ
ルオロー4.7.10.13−テトラオキサデシル基等
を例示することができる。
,CH20CH2−として、即ち、下記式、(式中、y
は前記の通り1〜4の整数である)で表わされる形で、
具体的には、6−ドリフルオロメチルー6、8.8.9
.9.10.10.10−才クタフル才ロー4.7−シ
オキサデシル基、6,9−ビス(トリフルオロメチル)
−6,8,8,9,11,11,12,12,13,
13,13−ウンデカフルオロ−4,7,10−トリオ
キサトリデシル基、6.9.12−)リス(トリフルオ
ロメチル)−6,8,8,9,11,11,12,14
,14,15,15,16,16,16−チトラデカフ
ルオロー4.7.10.13−テトラオキサデシル基等
を例示することができる。
上述した一数式〔I〕で表される有機ケイ素化合物(A
)は、例えば次の方法によって製造することができる。
)は、例えば次の方法によって製造することができる。
即ち、前記一般式(I[)において、m=0である有機
ケイ素化合物は、例えばn=1の場合について説明する
と、これに対応するモノクロロシランを下記反応式(i
)に示す様に金属水素化物によって還元することによっ
て製造される(W、 H。
ケイ素化合物は、例えばn=1の場合について説明する
と、これに対応するモノクロロシランを下記反応式(i
)に示す様に金属水素化物によって還元することによっ
て製造される(W、 H。
Hebergall、 O,H,Johnson、 J
、 Am、 Chem、 Sac、。
、 Am、 Chem、 Sac、。
71、4022 (1949)参照)。
一般式(III)においてn=2又は3である化合物の
場合も、前記モノクロロシランの代りに対応するジクロ
ロシラン又はトリクロロシランを使用することで、上記
と同様に製造できる。
場合も、前記モノクロロシランの代りに対応するジクロ
ロシラン又はトリクロロシランを使用することで、上記
と同様に製造できる。
また前記一般式〔I〕において、m=1である有機ケイ
素化合物の製造を、例えばn=1の場合、即ちジシロキ
サンである場合について説明すると、例えば下記反応式
(ii)によって示される通り、1、1.3.3−テト
ラメチルジシロキサンとパーフルオロ基を置換基として
有するオレフィンとの部分付加反応によって製造される
。
素化合物の製造を、例えばn=1の場合、即ちジシロキ
サンである場合について説明すると、例えば下記反応式
(ii)によって示される通り、1、1.3.3−テト
ラメチルジシロキサンとパーフルオロ基を置換基として
有するオレフィンとの部分付加反応によって製造される
。
Me
(i)
(ii)
また下記反応式(ii)によって示される様に、2種の
ジシロキサンの平衡化反応によっても製造することがで
きる。
ジシロキサンの平衡化反応によっても製造することがで
きる。
一般式(III)において、n=2又は3である化合物
を、前記ジシロキサンの代りに対応するトリシロキサン
又はテトラシロキサンを使用することにより、同様に製
造することができる。
を、前記ジシロキサンの代りに対応するトリシロキサン
又はテトラシロキサンを使用することにより、同様に製
造することができる。
本発明の製造方法において使用されるもう一方の出発原
料は、前記−数式〔■〕、即ち、CHg=CHCH2O
Q R[IV)(式中、Q及びRは前記の通り) で表わされるポリエーテル化合物である。
料は、前記−数式〔■〕、即ち、CHg=CHCH2O
Q R[IV)(式中、Q及びRは前記の通り) で表わされるポリエーテル化合物である。
該−数式(IV)において、ポリエーテル基Qは、ポリ
エチレングリコール鎖及びポリプロピレングリコール鎖
のうちの1種または2種以上を構成成分とするものであ
る。即ち、ポリエーテル基Qはエチレングリコールの単
独重合鎖、プロピレングリコールの単独重合鎖及びこれ
ら両者の共重合鎖の何れであってもよい。そして、両者
の共重合鎖とする場合は、ブロック重合鎖、ランダム重
合鎖の何れの形態でもよい。但し、このポリエーテル基
Qは界面活性剤に親水性を付与する目的で導入されるも
のであるため、その重合度は前述の疎水基である含フツ
素有機基R,を有する有機ケイ素化合物(A)との均衡
を考慮して決定する必要がある。例えば、プロピレング
リコールは、エチレングリコールに比べて親水性が相対
的に低いのでポリエーテル基Qとして、プロピレングリ
コールの単独重合鎖を用いる場合は、相対的に高重合度
の重合鎖を用いることが望ましい。また、エチレングリ
コールとプロピレングリコールとの共重合鎖を用いる場
合は、全体に占めるプロピレングリコールの含育量は、
2〜lOモル%の範囲にあることが好適である。
エチレングリコール鎖及びポリプロピレングリコール鎖
のうちの1種または2種以上を構成成分とするものであ
る。即ち、ポリエーテル基Qはエチレングリコールの単
独重合鎖、プロピレングリコールの単独重合鎖及びこれ
ら両者の共重合鎖の何れであってもよい。そして、両者
の共重合鎖とする場合は、ブロック重合鎖、ランダム重
合鎖の何れの形態でもよい。但し、このポリエーテル基
Qは界面活性剤に親水性を付与する目的で導入されるも
のであるため、その重合度は前述の疎水基である含フツ
素有機基R,を有する有機ケイ素化合物(A)との均衡
を考慮して決定する必要がある。例えば、プロピレング
リコールは、エチレングリコールに比べて親水性が相対
的に低いのでポリエーテル基Qとして、プロピレングリ
コールの単独重合鎖を用いる場合は、相対的に高重合度
の重合鎖を用いることが望ましい。また、エチレングリ
コールとプロピレングリコールとの共重合鎖を用いる場
合は、全体に占めるプロピレングリコールの含育量は、
2〜lOモル%の範囲にあることが好適である。
また前記−数式(IV)において、末端基Rは過度に大
きな有機基になると、疎水基としての機能を示す場合が
あり、化合物(B)の親水性が損なわれる。したがって
Rとしては、例えば、水素原子、アリル基、炭素原子数
1〜4のアルキル基、炭素原子数2〜4のアシル基を使
用する。なかでも、メチル基及びアセチル基は好ましい
ものである。尚、末端Rがアリル基である場合には、化
合物(B)は両末端にアリル基を有する構造となり、こ
れらの両末端に有機ケイ素化合物(A)が反応すること
になる。
きな有機基になると、疎水基としての機能を示す場合が
あり、化合物(B)の親水性が損なわれる。したがって
Rとしては、例えば、水素原子、アリル基、炭素原子数
1〜4のアルキル基、炭素原子数2〜4のアシル基を使
用する。なかでも、メチル基及びアセチル基は好ましい
ものである。尚、末端Rがアリル基である場合には、化
合物(B)は両末端にアリル基を有する構造となり、こ
れらの両末端に有機ケイ素化合物(A)が反応すること
になる。
またこの場合には、前記有機ケイ素化合物(A)として
前記−数式(I[[)においてn=1のもの、即ちSi
H基を1個有するものを用いることが望ましい。SiH
基を2個以上有する有機ケイ素化合物を用いて後述する
反応を行なうと、得られる含フツ素有機ケイ素化合物は
ポリマー化して界面活性剤として不適当なものとなるお
それがある。
前記−数式(I[[)においてn=1のもの、即ちSi
H基を1個有するものを用いることが望ましい。SiH
基を2個以上有する有機ケイ素化合物を用いて後述する
反応を行なうと、得られる含フツ素有機ケイ素化合物は
ポリマー化して界面活性剤として不適当なものとなるお
それがある。
上述したポリエーテル化合物の具体例としては、これに
限定されるものではないが、例えば次の化合物を例示す
ることができる。
限定されるものではないが、例えば次の化合物を例示す
ることができる。
CH雪=CHCHtO(CHxCHtO)+oMe 。
CH*=CHCH*0(CHxCHtO)szMe 。
e
CHz=CHCHzO(CHxCHtO)sMeCHz
= CHC)110(CH,CH20) l。He CH*=CHCHtO(CHxCHtO)s)ICH,
=C)IcHIO(CHICI!0)、、CHgCH=
CH,。
= CHC)110(CH,CH20) l。He CH*=CHCHtO(CHxCHtO)s)ICH,
=C)IcHIO(CHICI!0)、、CHgCH=
CH,。
反応
本発明の製造方法によれば、白金系触媒の存在下、前記
有機ケイ素化合物(A)とポリエーテル化合物(B)と
の間においてヒドロシリル化反応を行ない、該化合物(
A)のSiH基を化合物(B)のアリル基に付加させる
ことによって目的とする含フツ素界面活性剤が得られる
。
有機ケイ素化合物(A)とポリエーテル化合物(B)と
の間においてヒドロシリル化反応を行ない、該化合物(
A)のSiH基を化合物(B)のアリル基に付加させる
ことによって目的とする含フツ素界面活性剤が得られる
。
この反応において使用される白金系触媒としては、特に
限定されるものでなく、例えば、塩化白金酸、アルコー
ル変性塩化白金酸、白金ビニルシロキサン、白金黒、塩
化白金酸とオレフィンもしくはアルデヒドとの錯体をあ
げることができ、特に塩化白金酸及びアルコール変性塩
化白金酸、白金ビニルシロキサンが高活性である点で好
ましい。
限定されるものでなく、例えば、塩化白金酸、アルコー
ル変性塩化白金酸、白金ビニルシロキサン、白金黒、塩
化白金酸とオレフィンもしくはアルデヒドとの錯体をあ
げることができ、特に塩化白金酸及びアルコール変性塩
化白金酸、白金ビニルシロキサンが高活性である点で好
ましい。
この白金系触媒の使用量は、通常、反応液全体に対して
白金の重量に換算して1−1oo ppm程度である。
白金の重量に換算して1−1oo ppm程度である。
また、反応温度は90〜140°C1好ましくは、10
0〜120℃であり、反応時には原料を溶媒で希釈して
行うことが一般的である。使用する溶媒としては、白金
系触媒と共存した際にSiH基やアリル基と反応するこ
とのないものであれば特に限定されるものではない。例
えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプ
タン、オクタン、シクロヘキサン等の炭化水素類、ジイ
ソプロピルエーテル、ジブチルエーテル等のエーテル類
、ヘキサメチルジシロキサン、1.1.3.3.5.5
.7.7−オクタメチルシクロテトラシロキサン等のシ
ロキサン類をあげることができる。尚、原料及び反応生
成物の粘度が充分に低く、撹拌に支障が生じない場合に
は特に溶媒を使用しなくともよい。
0〜120℃であり、反応時には原料を溶媒で希釈して
行うことが一般的である。使用する溶媒としては、白金
系触媒と共存した際にSiH基やアリル基と反応するこ
とのないものであれば特に限定されるものではない。例
えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプ
タン、オクタン、シクロヘキサン等の炭化水素類、ジイ
ソプロピルエーテル、ジブチルエーテル等のエーテル類
、ヘキサメチルジシロキサン、1.1.3.3.5.5
.7.7−オクタメチルシクロテトラシロキサン等のシ
ロキサン類をあげることができる。尚、原料及び反応生
成物の粘度が充分に低く、撹拌に支障が生じない場合に
は特に溶媒を使用しなくともよい。
また、アリル基とSiH基との反応を有効に行うために
は、溶媒としてイソプロピルアルコールを用いることが
好適であることが知られており(特公昭43−6932
号参照)、この方法を本発明の製造方法に適用すること
も可能である。この場合には、SiH基とアルコール性
OHとの反応を抑制するために酢酸エチル等を共存させ
ることが望ましく、さらに反応温度を70〜100°C
1特に80〜90°Cの範囲とすることが好適である。
は、溶媒としてイソプロピルアルコールを用いることが
好適であることが知られており(特公昭43−6932
号参照)、この方法を本発明の製造方法に適用すること
も可能である。この場合には、SiH基とアルコール性
OHとの反応を抑制するために酢酸エチル等を共存させ
ることが望ましく、さらに反応温度を70〜100°C
1特に80〜90°Cの範囲とすることが好適である。
含フツ素界面活性剤
かくして製造される本発明の含フツ素界面活性剤は、前
記一般式〔I〕及び〔■〕。
記一般式〔I〕及び〔■〕。
述した通り)
で表わされる含フツ素有機ケイ素化合物の少なくとも1
種から成る。
種から成る。
ここで前記一般式〔I〕で表わされるものは、ポリエー
テル化合物(B)として、分子鎖の片端にアリル基を有
するものを使用することによって製造される。この様な
本発明の含フツ素界面活性剤の代表的なものとして、次
の含フツ素有機ケイ素化合物を例示することができる。
テル化合物(B)として、分子鎖の片端にアリル基を有
するものを使用することによって製造される。この様な
本発明の含フツ素界面活性剤の代表的なものとして、次
の含フツ素有機ケイ素化合物を例示することができる。
(上記式中、R(= R,Q、 f、 m及びnは前
また前記一般式(I[)で表わされる含フツ素有機ケイ
素化合物から成る含フツ素界面活性剤は、ポリエーテル
化合物(B)として分子鎖両端にアリル基を有するもの
を使用し、且つ有機ケイ素化合物(A)として前記一般
式(I[)においてn=1のもの、即ちSiH基を1個
有するものを使用することによって製造される。このタ
イプの含フツ素界面活性剤としては、次のものを例示す
ることができる。
また前記一般式(I[)で表わされる含フツ素有機ケイ
素化合物から成る含フツ素界面活性剤は、ポリエーテル
化合物(B)として分子鎖両端にアリル基を有するもの
を使用し、且つ有機ケイ素化合物(A)として前記一般
式(I[)においてn=1のもの、即ちSiH基を1個
有するものを使用することによって製造される。このタ
イプの含フツ素界面活性剤としては、次のものを例示す
ることができる。
このようにして得られた新規な含フツ素界面活性剤は、
湿潤性、浸透性、展着性、泡安定性、流動性、乳化性、
分散性、撥水撥油性を付与または向上させる性質を有し
ているため、種々の分野での応用が期待できる。具体的
には、プラスチ・ツク及びゴム工業分野における重合用
乳化剤、ラテックスの安定剤、粉末フルオロカーボンポ
リマーの凝集物の調製助剤、展着、塗装むらをコントロ
ールするための発泡添加剤、グリースに撥水撥油性を付
与するための添加剤、ポリオレフィンの内部帯電防止剤
及び粘着防止剤;石油工業分野における油貯蔵装置から
の重質油回収に際しての流動性の改善用添加剤、潤滑油
の耐摩耗性向上のための添加剤、ガソリンの気化器中で
の氷結防止用添加剤、フィルム形成によるガソリン、ジ
ェット燃料の蒸発抑制剤;繊維工業分野における溶融防
止工程の改善のための流動性向上用添加剤、羊毛の炭化
助剤、紡糸サイジング工程での合成糊剤PVA水溶液の
表面張力低下用添加剤、マーセル化助剤、染色仕上げ助
剤;染料及び顔料工業分野における顔料の着色性及び分
散性向上用助剤、塗料欠陥是正のための流展性及びへこ
み防止性付与剤、塗料中の溶剤の蒸発速度の調整剤;金
属及び機械工業分野における光沢処理浴の添加剤、金属
エツチング用添加剤、はんだフラッグス用添加剤、腐食
抑制剤、めっきのミスト防止剤;製薬及び農薬分野にお
ける殺菌剤の浸透性改良剤、除草剤及び殺虫剤の湿潤性
改良剤、乳化、分散及び展着性改良剤;家庭用品分野に
おけるクリーナ品への添加剤、艶出剤へのレベリング向
上剤、化粧品用添加剤、帯電防止剤:写真及び印刷分野
におけるインクの流動性及び流展性付与のための添加剤
、写真乳剤のレベル剤、フィルムの帯電防止剤、フィル
ム乾燥助長剤等である。
湿潤性、浸透性、展着性、泡安定性、流動性、乳化性、
分散性、撥水撥油性を付与または向上させる性質を有し
ているため、種々の分野での応用が期待できる。具体的
には、プラスチ・ツク及びゴム工業分野における重合用
乳化剤、ラテックスの安定剤、粉末フルオロカーボンポ
リマーの凝集物の調製助剤、展着、塗装むらをコントロ
ールするための発泡添加剤、グリースに撥水撥油性を付
与するための添加剤、ポリオレフィンの内部帯電防止剤
及び粘着防止剤;石油工業分野における油貯蔵装置から
の重質油回収に際しての流動性の改善用添加剤、潤滑油
の耐摩耗性向上のための添加剤、ガソリンの気化器中で
の氷結防止用添加剤、フィルム形成によるガソリン、ジ
ェット燃料の蒸発抑制剤;繊維工業分野における溶融防
止工程の改善のための流動性向上用添加剤、羊毛の炭化
助剤、紡糸サイジング工程での合成糊剤PVA水溶液の
表面張力低下用添加剤、マーセル化助剤、染色仕上げ助
剤;染料及び顔料工業分野における顔料の着色性及び分
散性向上用助剤、塗料欠陥是正のための流展性及びへこ
み防止性付与剤、塗料中の溶剤の蒸発速度の調整剤;金
属及び機械工業分野における光沢処理浴の添加剤、金属
エツチング用添加剤、はんだフラッグス用添加剤、腐食
抑制剤、めっきのミスト防止剤;製薬及び農薬分野にお
ける殺菌剤の浸透性改良剤、除草剤及び殺虫剤の湿潤性
改良剤、乳化、分散及び展着性改良剤;家庭用品分野に
おけるクリーナ品への添加剤、艶出剤へのレベリング向
上剤、化粧品用添加剤、帯電防止剤:写真及び印刷分野
におけるインクの流動性及び流展性付与のための添加剤
、写真乳剤のレベル剤、フィルムの帯電防止剤、フィル
ム乾燥助長剤等である。
(実施例)
実施例1
各末端にアリル基及びメチル基を有する平均重合度lO
のポリエチレンオキイド51g (0,1モル)とトル
エン100 rrrLとを4つロフラスコ中に仕込み、
これに塩化白金酸0.07gを含有するトルエン5鳳り
を加えて100〜110°Cに加熱した。このフラスコ
内容物を撹拌しながら、2−(ヘプタデカフルオロオク
チルエチル)ジメチルシラン53g (0,105モル
)を滴下した。滴下後110〜120℃において約5時
間反応を行わせ、ガスクロマトグラフィーによりシラン
の消費量を確認したのち、 130〜150’C/ 5
mmHHにおいて反応混合物からトルエン及び低沸点
留分を除去した。この結果、褐色液体92gを得た。こ
の生成物の赤外吸収スペクトルを測定したところ、22
50cm −’の5i−H基及び1630an−’のア
リル基の吸収が消失しており、反応の進行が確認された
。更に、原料のポリエーテルと含フツ素シランは相溶し
ないが、反応混合物は均一な液体であることから、得ら
れたものは、目的化合物、即ち: であることを確認した。(収率84%)実施例2〜17 原料のポリエーテル化合物及び含フツ素有機ケイ素化合
物を第1表に示すとおり様々に代えた他は、上記実施例
1と同様の方法で反応を行い、各種の含フツ素界面活性
剤を得た。各実施例における原料、生成物及び収率を第
1表に示した。
のポリエチレンオキイド51g (0,1モル)とトル
エン100 rrrLとを4つロフラスコ中に仕込み、
これに塩化白金酸0.07gを含有するトルエン5鳳り
を加えて100〜110°Cに加熱した。このフラスコ
内容物を撹拌しながら、2−(ヘプタデカフルオロオク
チルエチル)ジメチルシラン53g (0,105モル
)を滴下した。滴下後110〜120℃において約5時
間反応を行わせ、ガスクロマトグラフィーによりシラン
の消費量を確認したのち、 130〜150’C/ 5
mmHHにおいて反応混合物からトルエン及び低沸点
留分を除去した。この結果、褐色液体92gを得た。こ
の生成物の赤外吸収スペクトルを測定したところ、22
50cm −’の5i−H基及び1630an−’のア
リル基の吸収が消失しており、反応の進行が確認された
。更に、原料のポリエーテルと含フツ素シランは相溶し
ないが、反応混合物は均一な液体であることから、得ら
れたものは、目的化合物、即ち: であることを確認した。(収率84%)実施例2〜17 原料のポリエーテル化合物及び含フツ素有機ケイ素化合
物を第1表に示すとおり様々に代えた他は、上記実施例
1と同様の方法で反応を行い、各種の含フツ素界面活性
剤を得た。各実施例における原料、生成物及び収率を第
1表に示した。
含フツ素界面活性剤の評価
実施例1〜17において得られた界面活性剤の水溶液の
表面張力を、界面活性剤の濃度を代えて測定し、その結
果を第2表に示した。尚、表面張力の測定にはウィルヘ
ルミ法を用い、温度25℃、対象をガラス板とした。
表面張力を、界面活性剤の濃度を代えて測定し、その結
果を第2表に示した。尚、表面張力の測定にはウィルヘ
ルミ法を用い、温度25℃、対象をガラス板とした。
(参考)
水の表面張力
フ2.4ダイン/cm
(発明の効果)
本発明の含フツ素界面活性剤は、湿潤性、浸透性、展着
性、泡安定性、流動性、乳化性2分散性。
性、泡安定性、流動性、乳化性2分散性。
田水性、撥油性等の特性を付与若しくは向上させるとい
う性質を存しており、プラスチック及びゴム工業、石油
化学工業、繊維工業等の各種分野での応用が可能である
。
う性質を存しており、プラスチック及びゴム工業、石油
化学工業、繊維工業等の各種分野での応用が可能である
。
Claims (1)
- (1)下記一般式〔 I 〕及び〔II〕、 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕 式中、 R_1は、炭素原子数4〜10のパーフルオロアルキル
基または炭素原子数5〜14のパーフルオロポリエーテ
ル基を表わし、 Qは、ポリエチレングリコール鎖、ポリプロピレングリ
コール鎖またはこれらの両方からなるポリエーテル基を
表わし、 Rは水素原子、アリル基、炭素原子数1〜4のアルキル
基、または炭素原子数2〜30のアシル基を表わし、 l及びmは、それぞれ0または1の整数であり、nは、
1〜3の整数である、 で表わされる含フッ素有機ケイ素化合物の少なくとも1
種から成る含フッ素界面活性剤。(2)(A)一般式〔
III〕: ▲数式、化学式、表等があります▼〔III〕 (式中、R_1は炭素原子数4〜10のパーフルオロア
ルキル基または炭素原子数5〜14のパーフルオロポリ
エーテル基を表わし、l及びmはそれぞれ0または1で
あり、nは1,2または3である)で示される有機ケイ
素化合物と、 (B)一般式〔IV〕: CH_2=CH−CH_2O−Q−R〔IV〕(式中、Q
はポリエチレングリコール鎖およびポリプロピレングリ
コール鎖から選ばれる少なくとも1種を含有するポリエ
ーテル基を表わし、Rは水素原子、アリル基、炭素原子
数1〜4のアルキル基、または炭素原子数2〜3のアシ
ル基を表わす)で示されるポリエーテル化合物とを白金
系触媒の存在下で反応させることから成る請求項1に記
載の含フッ素界面活性剤の製造方法。
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Cited By (5)
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---|---|---|---|---|
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Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5124467A (en) * | 1990-07-20 | 1992-06-23 | Ciba-Geigy Corporation | Perfluoroalkypolyoxyalkylpolysiloxane surfactants |
US5288891A (en) * | 1990-11-22 | 1994-02-22 | Nippon Oil And Fats Co. Ltd. | Fluoralykyl group-containing organosilicon oligomer, method for preparing same and surface treating agent |
US5159096A (en) * | 1991-09-30 | 1992-10-27 | Union Carbide Chemicals & Plastics Technology Corporation | Process for the preparation of siloxane-oxyalkylene copolymers |
JPH0778066B2 (ja) * | 1991-10-17 | 1995-08-23 | 信越化学工業株式会社 | 含フッ素有機ケイ素化合物およびその製造方法 |
JP2668472B2 (ja) * | 1991-10-17 | 1997-10-27 | 信越化学工業株式会社 | 含フッ素有機ケイ素化合物 |
US5360869A (en) * | 1992-10-30 | 1994-11-01 | University Of North Carolina At Chapel Hill | Method of making fluorinated copolymers |
US5274159A (en) * | 1993-02-18 | 1993-12-28 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Destructable fluorinated alkoxysilane surfactants and repellent coatings derived therefrom |
US5412135A (en) * | 1993-04-21 | 1995-05-02 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Organic silicon compounds and curable organopolysiloxane compositions |
DE4320920C1 (de) * | 1993-06-24 | 1994-06-16 | Goldschmidt Ag Th | Silane mit hydrophilen Gruppen, deren Herstellung und Verwendung als Tenside in wäßrigen Medien |
DE4330059C1 (de) * | 1993-09-06 | 1994-10-20 | Goldschmidt Ag Th | Silane mit hydrophilen Gruppen, deren Herstellung und Verwendung als Tenside in wäßrigen Medien |
US5834612A (en) * | 1996-05-18 | 1998-11-10 | Asahi Glass Company Ltd. | Fluorine-containing organic compound |
TW492839B (en) * | 1996-08-16 | 2002-07-01 | Monsanto Co | Sequential application method for treating plants with exogenous chemicals |
US5821195A (en) * | 1996-08-16 | 1998-10-13 | Monsanto Company | Sequential application method for enhancing glyphosate herbicidal effectiveness with reduced antagonism |
JP4341871B2 (ja) * | 2000-05-31 | 2009-10-14 | 信越化学工業株式会社 | シリコーン重合物及びシリコーン組成物並びにそれを用いた化粧料 |
WO2006127664A1 (en) * | 2005-05-23 | 2006-11-30 | Innovation Chemical Technologies, Ltd. | Fluorinated organic silicon coating material |
GB2432836A (en) * | 2005-12-01 | 2007-06-06 | 3M Innovative Properties Co | Fluorinated surfactant |
US8476385B2 (en) | 2007-06-06 | 2013-07-02 | 3M Innovative Properties Company | Fluorinated ether compositions and methods of using the same |
CN102317403A (zh) | 2008-12-18 | 2012-01-11 | 3M创新有限公司 | 使含烃地层与氟化醚组合物接触的方法 |
US20150265990A1 (en) * | 2012-11-01 | 2015-09-24 | Dow Corning Corporation | Disiloxane compounds and their uses |
CN108671850B (zh) * | 2018-05-11 | 2019-12-10 | 中国石油天然气股份有限公司 | 一种含单全氟辛基的氟硅表面活性剂以及油基泡沫驱油剂 |
CN112691607B (zh) * | 2020-12-26 | 2022-05-03 | 张家港邦力材料科技有限公司 | 一种双子型含氟表面活性剂和其制备方法及应用 |
CN113980748B (zh) * | 2021-11-15 | 2024-01-26 | 安徽冠宇光电科技有限公司 | 一种太阳能单多晶硅片清洗液及其制备方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2759019A (en) * | 1954-08-09 | 1956-08-14 | Minnesota Mining & Mfg | Perfluoro amine compounds and quaternary derivatives |
DE1768630A1 (de) * | 1968-06-10 | 1971-07-29 | Walter Bloechl | alpha-,ss-,oder gamma-funktionelle Fluoralkylsiliziumverbindungen,ihre Herstellung und Verwendung als Tenside mit oleophober Impraegnierwirkung |
US3639156A (en) * | 1970-05-19 | 1972-02-01 | Us Agriculture | Siloxane polymers for soil-repellent and soil-release textile finishes |
JPS591319B2 (ja) * | 1975-09-30 | 1984-01-11 | 株式会社ネオス | 含フッ素界面活性剤の製法 |
JPH0242092A (ja) * | 1988-08-02 | 1990-02-13 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 重合性エーテル型シラン化合物 |
JPH02115190A (ja) * | 1988-10-21 | 1990-04-27 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 含フッ素有機ケイ素化合物 |
-
1990
- 1990-04-24 US US07/513,890 patent/US5043464A/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-04-24 EP EP90107771A patent/EP0394963B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-04-24 DE DE69015417T patent/DE69015417T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-04-24 JP JP2107844A patent/JPH0678345B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06336808A (ja) * | 1993-05-27 | 1994-12-06 | Noda Corp | 建築用板及びその製造方法 |
US6866982B2 (en) | 2001-12-27 | 2005-03-15 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Resist composition and patterning process |
KR100877663B1 (ko) * | 2001-12-27 | 2009-01-12 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 레지스트 재료 및 패턴 형성 방법 |
JP2011173977A (ja) * | 2010-02-24 | 2011-09-08 | Kao Corp | フッ素変性シリコーン、その製造方法、及びそれを含有する化粧料 |
EP2479611A2 (en) | 2011-01-19 | 2012-07-25 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Chemically amplified positive resist composition and patterning process |
KR20160122682A (ko) | 2011-01-19 | 2016-10-24 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 화학 증폭 포지티브형 레지스트 재료 및 패턴 형성 방법 |
JPWO2014034508A1 (ja) * | 2012-08-27 | 2016-08-08 | 日本バルカー工業株式会社 | ブリードが抑制された成形体およびその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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DE69015417D1 (de) | 1995-02-09 |
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EP0394963B1 (en) | 1994-12-28 |
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