JPH0340217A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ｒ産業上の利用分野］ 本発明は電磁変換特性に優れ、かつ走行耐久性に優れる
磁気記録媒体に関するものである。

〔従来の技術］ 磁気テープ、ディスク等の磁気記録媒体は、現在オーデ
ィオテープ、ビデオテープ、コンピューターテープ、フ
ロッピーディスク等に広範に使用されているが、更に高
密度化の方向で清力的な研究が進められている。磁気記
録システムは衆知のように磁気ヘッドを介して記録再生
を行うものである。従って磁気記録媒体の高密度化には
磁気特性の改善や、磁性層中の強磁性粉末の均一分布化
などの手段以外に、磁気記録媒体と磁気ヘッド間で生ず
る間隙損失（スペーシングロス）をできるだけ少なくす
る手段が必要である。

このため例えば磁性層表面を出来るだけ平滑にし磁気テ
ープと磁気ヘッド間の間隙損失を少なくすることに努力
が払われてきた。

しかしながら、磁性面が鏡面化され、磁気記録媒体と磁
気ヘッド間の接触がよくなるにしたがって磁性層の強度
が問題となり、磁気ヘッドとの接触による磁性層の脱落
や、磁気へンド面への付着、ヘッド目詰まりなどの問題
が発生した。このため従来、平均粒径１μｍ前後の研磨
剤粒子を磁性層中に、少量添加し磁性層を強化すること
が行われてきた。

研磨剤として用いられてきた粒子はＡｆｆｉ、　０３、
Ｃｒ、Ｏ，，５ｉＣ１αＦｅ、ｏ、等の粒子であり、電
磁変換特性の低下を防止し、ヘッド摩耗を少なくするた
め磁性層表面にできるだけまばらになるように添加され
ていた。しかしながら強磁性粉末を微粒子化し、さらに
高保磁力化させ、磁性層を平滑化することなどにより磁
気記録媒体の高密度化を一層追求していくと上記方法で
はテープの強度の点で、又ヘッドを最適状態に保つ点で
不十分であることが判明した。そこで特開昭６１−５７
０３６では記録波長ｌｌＩｍ′＠後あるいは１μｍ以下
の高密度記録においては、磁性層表面に露出した研磨剤
粒子の分布状態即ち磁性層表面の単位面積当りの研磨剤
粒子の平均個数を０．２５個／μＭ以上に設定すること
により、磁気記録媒体の研磨性が改善され、これによる
クリーニング効果により、センダスト等の金属系ヘッド
面での焼き付き、変色、目詰りの問題が解決すると提案
している。しかるにこのような特性は確かに改良するこ
とが可能であっても繰り返し走行による磁気テープ端部
のダメージによるオーディオ出力低下については未だ不
十分な状況であった。

この理由に対し、本発明者らは鋭意検討した結果テープ
端部のダメージに対しｆｎ性層端部の研磨材が大きな役
割をもち、磁性層表面よりむしろ多くの研磨剤を存在さ
せることが必要であることをつきとめ本発明に至った。

〔発明の目的〕

すなわち本発明の目的はＲＦ出力が優れると共に繰り返
し走行によるテープの端部のダメージによるオーディオ
出力低下を防止した磁気記録媒体を提供することにある
。

〔発明の構成〕

すなわち本発明の上記目的は非磁性支持体上に強磁性粉
末を結合剤中に分散させた磁性層を設け、所定の幅に裁
断して磁性層裁断面を有する磁気記録媒体において前記
磁性層表面にモース硬度６以上の研磨剤が平均０．３個
／μＭ〜１．４個／μボの密度で存在し、前記（Ｒ性層
裁断面には磁性層表面より０．１個／μＭより以上の高
い密度で研磨剤が存在することを特徴とする磁気記録媒
体によって達成でき、更に好ましくは前記磁性層が第一
層とその上に設けた第二層からなる重層の磁性層であり
、前記磁性層裁断面の研磨剤の存在密度が第二層より第
一層の方が０．１個／μｍ２より以上の高い密度で存在
することを特徴とする磁気記録媒体によって達成できる
。

従来の磁気記録媒体でも当然のことながら、多量の研磨
剤を添加すればおのずとテープ断面の磁性層、テープ表
面の磁性層に含まれる研磨剤は多くなる。

しかしながら、研磨剤の添加量を多くすると磁性層の充
填度が低下し電磁変換特性が悪化するという問題点があ
り、従来のテープではこの二つを両立させることは困難
であった。

本発明になる磁気記録媒体がかかる良好な電磁変換特性
と走行耐久性を有することは以下のような理由によると
考えられる。

すなわち、磁性′層表面の研磨剤はスチルや目詰まりに
対してはモース硬度６以上の研磨剤を０゜３個〜１．４
個／μＭ含ませれば十分な特性が得られることがわかっ
た。０．３個／μＭ以下では耐久性が十分でなく、１．
４個／μＭを越えると電磁変換特性が悪化し好ましくな
い。

一方、磁性層断面には表面より多くの研磨剤を存在さ、
せることにより操り返し走行によるテープ端面の損傷が
少なく、十分な走行耐久性を付与することができるので
ある。

本発明になる研磨剤の存在密度をコントロールする方法
は高度の技術を必要とする。

磁性層中に均一に分散された研磨剤を塗布したのち乾燥
されるまでにその磁性層中での分布がきまるが、これは
塗布液中の溶剤および研磨剤どうしの親和性の差、乾燥
速度などにより変わることを実験的に見いだすことがで
きた。

例えば乾燥を急激に行なうと、すなわち、蒸発しやすい
溶剤を用いると磁性層表面に研磨剤が出てきやすい。又
ゆっくり乾燥する、すなわち蒸発しにくい溶剤を用いる
と研磨剤は磁性層中に入りやすいという傾向がある。

又研磨剤を結合剤でペーストにすると特定の結合剤との
組合せにより表面に出やすい場合がある。

例えばアミノ系結合剤具体的にはアミノ基含有塩化ビニ
ル樹脂を用いると磁性層表面に出てこないが、例えばフ
ン素糸結合剤、具体的にはフッ素含有ポリウレタンを用
いた場合は磁性層表面に出てきやすい。

又研磨剤そのものの特性によっても影響される。

例えばヘンガラ（α−ｐ’ｅｚｏ、）は磁性層表面に出
やすい研磨剤であり、又研磨剤を結合剤でくるむと更に
磁性層表面に出てきやすい。

また、磁性層を重層構成とし、磁性層断面のみを形成す
る下層に研磨剤を多く含ませることによっても達成させ
ることができる。

本発明の磁性層中に含まれる強磁性粉末の粒子径（長軸
径）は０．３０μ以下で好ましくは０゜２０μ以下であ
り、更に好ましくは０．１５μ以下である。長軸径に対
する短軸径の比、すなわち針状比は２〜２０である。こ
こで言う長袖とは粒子の３つの軸でもっとも長い軸、短
軸とはもっとも短い軸を意味する。

重層の場合は第二層の強磁性粉末の粒子径が第一層のそ
れより小さいことが好ましいまた、強ｔｎ性粉末をＢＥ
Ｔ法による比表面積で表せば２５〜ＢＯｎｆ／ｇであり
、重層の場合、第二層の比表面積が第一層のそれより大
きいことが好ましい。

本発明の強磁性粉末の結晶子サイズは４５０〜１００オ
ングストロームであり、好ましくは３５０〜１５０オン
グストロームである６重層の場合、第二層がより小さい
ことが好ましい。

本発明の強磁性粉末のＨｃは２００〜１８０００ｅで、
好ましく５００−１００００ｅである。

重層の場合第二層のＨｃが高い方が好ましい。

本発明の強磁性粉末のδＳは５０ｅｍｕ／ｇ以上、好ま
しくはマＯｅ　ｍ　ｕ　／　ｇ以上、であり、強磁性粉
末が金属微粉末の場合は１００　ｅ　ｍ　ｕ　／　ｇ以
上が好ましい。

本発明の強磁性粉末がコバルト変性酸化鉄の場合、２価
の鉄の３価の鉄に対する比は好ましくは０〜２０％であ
りさらに好ましくは５〜１０％である。また鉄原子に対
するコバルト原子の量は０〜１５％、好ましくは３〜８
％である。

強磁性粉末のｐＨは用いる結合剤との組合せにより最適
化することが好ましい。その範囲は４〜１２であるが、
好ましくは６〜１０である。

強磁性粉末の少なくとも一方を必要に応じ、ＡＩ、Ｓｉ
、Ｐまたはこれらの酸化物などで表面処理を施してもか
まわない。

本発明の強磁性粉末としては１−Ｆｅ０ｘ（ｘ＝１．３
３〜１．５）、Ｃｏ変性７−Ｆｅ０ｘ（ｘ＝１．３３〜
１．５）、ＦｅまたはＮｉまたはｃｏを主成分（７５％
以上）とする強磁性合金微粉末、バリウムフェライト、
ストロンチウムフェライトなど公知の強磁性粉末が使用
できるやこれらの強磁性粉末には所定の原子以外にＡ１
、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ。

Ｍｏ、、Ｒｈ５Ｐｄ、ＡＨ，Ｓｎ、、Ｓｂ、Ｔｅ。

Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、ＨｇＳ　Ｐｂ、Ｂ　ｉ。

ＬａＳ　Ｃｅ、、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、ＣｏＳ　ＭｎＳ　Ｚ
ｎ。

Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでもかまわない。

上記強磁性粉末の中で強磁性合金微粉末については少量
の水酸化物、または酸化物を含んでもよい。強磁性合金
＠粉末の公知の製造方法により得られたものを用いるこ
とができ、下記の方法をあげることができる。

複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）と水素などの還元
性気体で還元する方法、酸化鉄を水素などの還元性気体
で還元してＦｅあるいはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る方法
、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強磁性金属
の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸塩ある
いはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する方法、
金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を得る方
法などである。このようにして得られた強磁性合金粉末
は公知の徐酸化処理、すなわち有Ｒｉ８剤に浸せきした
のち乾燥させる方法、有機溶剤に浸せきしたのち酸素含
有ガスを送り込んで表面に酸化膜を形成したのち乾燥さ
せる方法、有ａ溶剤を用いず酸素ガスと不活性ガスの分
圧を調整して表面に酸化皮膜を形成する方法のいずれを
施したものでも用いることができる。

また、本発明に用いられる強磁性粉末は空孔が少ないほ
うが好ましくその値は２０容量％以下、さらに好ましく
は５容量％以下である。

本発明で用いられる強磁性む）末は公知の方法に従って
製造することができる。また形状については先に示した
粒子サイズについての特性を満足すれば針状、粒状、米
粒状、板状いずれでもかまわない。

本発明に使用される結合剤としは従来公知の熱可塑系樹
脂、熱硬化系樹脂、反応型樹脂やこられの混合物が単層
磁性層又は重層磁性層での第一層、第二層とも使用され
る。

熱可塑系樹脂としては、ガラス転移温度が一１００〜１
５０°Ｃ１敗平均分子量が１，０００〜２ｏｏ、ｏｏｏ
、好ましくは１０，０００〜１０００００、重合度が約
５０〜ｌ、００Ｏ程度のものである。

このような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニ
ルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エ
ステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリ
ル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジェン、
エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニ
ルエーテル、等ヲ構成単位として含む重合体または共重
合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。

また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としてはフェノー
ル樹脂、エポキシ樹脂、ボリウレクン硬化型樹脂、尿素
樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹
脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ
−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネート
プレポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリ
イソシアネートの混合物、ポリウレタンとポリイソシア
ネートの混合物等があげられる。

これらの樹脂については朝倉書店発行のｒプラスチック
ハンドブック」に詳細に記載されている。

また、公知の電子線硬化型樹脂を第一層、または第二層
の磁性層に使用することも可能である。

これらの例とその製造方法については特開昭６２２５６
２１９に詳細に記載されている。

以上の樹脂は単独または組合せて使用できるが、好まし
いものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル・酢酸ビニル
樹脂、塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール樹脂
、塩化ビニル・酢酸ビニル・無水マレイン酸共重合体、
中から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂の組
合せ、またはこれらにポリイソシアネートを組み合わせ
たものがあげられる。

ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポリウレタン、
ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエステル
ポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、ポリエ
ステルポリカーボネートポリウレタン、ポリカプロラク
トンポリウレタンなど公知のものが使用できる。

ここに示したすべての結合剤について、より優れた分散
性と耐久性を得るためには必要に応し、−ＣＯＯＭ、−
３○３　Ｍ、−０３Ｏ，Ｍ。

−ｐ＝ｏ　（ＯＭ）ｔ　、−０−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）２、（
以上につきＭは水素原子、またはアルカリ金属塩基）、
ＯＨ，ＮＲ”、Ｎ″Ｒ″（Ｒは炭化水素基）エポキシ基
、ＳＨ，ＣＮ、などから選ばれる少なくともひとつ以上
の極性基を共重合または付加反応で導入したものを用い
ることが好ましい。

このような極性基の量は１０−’〜１０−＠モル／ｇで
あり、好ましくは１Ｏ−２〜１０−６モル／ｇである。

本発明に用いられるこれらの結合剤の具体的な例として
はユニオンカーバイト社製　ＶＡＧＨｌＶＹＨＨ，ＶＭ
ＣＨ，ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ。

ＶＲＯ）Ｉ、ＶＹＥＳ、ＶＹＮＣ，ＶＭＣＣ。

ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、ＰＫＨＨ％　ＰＫＨＪ。

ＰＫＨＣ，ＰＫＦＥ、口惜化学工業社製、ＭＰＲ−ＴＡ
、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡＬ。

ＭＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ。

ＭＰＲ−ＴＭ、電気化学社製１０００Ｗ、ＤＸ８０、Ｄ
Ｘ８１．ＤＸ８２、ＤＸ８３、日本ゼオン社製ＭＲ１１
０，ＭＲ１００，４００Ｘ１１０Ａ、日本ボリウレクン
社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４、
大日本インキ社製パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３
０８０、Ｔ−５２０１、パーノックＤ−４００，Ｄ−２
１０−８０、クリスボン６１０９．７２０９、東洋紡社
製Ｕバイｏ７Ｒ８２００、ＵＲ８３００゜ＲＶ５３０、
ＲＶ２８０、大日精化社製、グイフェラミン４０２０．
５０２０，５１００．５３００．９０２０．９０２２．
７０２０、三菱化成社製、ＭＸ５００４、三洋化成社製
、サンブレン５Ｐ−１５０，旭化成社製、サランＦ３１
０、Ｆ２１０などがあげられる。

本発明に用いられる結合剤は単層磁性層、又は重層磁性
層の場合の第一、第二層とも各層の強磁性粉末に対し、
５〜５０％の範囲、好ましくは１０〜３０％の範囲で用
いられる。塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５〜３０％
、ポリウレタン樹脂合を用いる場合は２〜２０％、ポリ
イソシアネートは２〜２０％の範囲でこれらを組み合わ
せて用いるのが好ましい。

本発明において、ポリウレタンを用いる場合はガラス転
移温度が−５０−１００°Ｃ，破断伸びが１００〜２０
００％、破断応力は０．０５〜１０ｋｇ　／　ｃ４、降
伏点は０．　０５〜１０ｋｇ／ｃｄが好ましい。

本発明にもちいるポリイソシアネートとしては、トリレ
ンジイソシアネート、４−４′−ジフェニルメタンジイ
ソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシ
リレンジイソシアネート、ナフチレン−１５−ジイソシ
アネート、ｏ−トルイジンジイソシアネート、イソホロ
ンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシア
ネート等のイソシアネートａ、また、これらのイソシア
ネート類ｔ（とポリアルコールとの生成物、また、イソ
シアネートｉの縮合によって生成したポリイソシアネー
ト等を使用することができる。これらのイソシアネート
類の市販されている商品名としては、日本ポリウレタン
社製、コロネートＬ、コロホー１−ＨＬ、コロネー）２
０３０、コロネート２０３１．−、リオネートＭＲ，Ｑ
リオネートＭＴＬ、武田薬品社製、タケネートＤ−１０
２、タケネートＤ−１１ＯＮ、タケネート２００、タケ
ネートＤ−２０２、住友バイエル社製、デスモジュール
上１デスモジ立−ルＩＬ、デスモジュールＮ１デスモジ
ユールＨＬ、等がある。

本発明に使用されるカーボンブラックはゴム用ファーネ
ス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブ
ラック、等を用いることができる。

比表面積は５〜５００％／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４
００Ｉ１１１／１００ｇ、粒子径は５ｍμ〜３００ｍ、
ｙ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１−１０％、タップ
密度は０．１−１ｇ／ｃｃ、が好ましい。

本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な例とし
てはキャボット社製、 ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ　　２０００．．１３００゜１
０００．９００．８００．７００、 ＶＵＬＣＡＮ　　ＸＣ−７２、旭カーボン社製、＃８０
、＃６０、＃５５、＃５０、＃３５、三菱化成工業社製
、＃２４０ＯＢ、＃２３００．＃９００、＃１０００、
＃３０．＃４０．＃１０Ｂ。

コンロンビアカーボン社製、Ｃ０ＮＤＵＣＴＥＸＳＣＳ
ＲＡＶＥＮ　　１５０．５０．４０．１５などがあげら
れる。カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり
、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラ
ファイト化したものを使用してもかまわない。また、カ
ーボンブラックを磁性塗料に添加する前にあらかじめ結
合剤で分散してもかまわない。

これらのカーボンブラックは第一層、第二層の磁性層と
も単独、または組合せで使用することができる。カーボ
ンブラックを使用する場合は強磁性粉末に対する量は第
一層、第二層の磁性層とも′０．１〜３０％でもちいる
ことが好ましい。

カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、
遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用
いるカーボンブランクにより異なる。従って本発明に使
用されるこれらのカーボンブラックは第一層、第二層で
その種類、量、組合せを変え、粒子サイズ、吸油量、電
導度、ｐ　Ｈなどの先に示した緒特性をもとに目的に応
して使い分けることはもちろん可能である。例えば、第
一層の導電性の高いカーボンブラックを用ることにより
帯電を防止し、第二層に粒子径の大きいカーボンブラッ
クを用い摩擦係数を下げるなどがあげられる。

本発明で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボ
ンブラック便覧」カーボンブラック協会編を参考にする
ことができる。

本発明に用いられる研磨剤としてはα化率９０％以上の
α−アルミナ、β−アル旦す、炭化ケイ素、酸化クロム
、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、人造ダイア
モンド、窒化珪素、炭化珪素チタンカーバイト、酸化チ
タン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など主としてモース硬
度６以上の公知の材料が単独または組合せで使用される
。また、これらの研磨剤どうしの複合体（研磨剤を他の
研磨剤で表面処理したもの）を使用してもよい。これら
の研磨剤には主成分以外の化合物または元素が含まれる
場合もあるが主成分が９０％以上であれば効果にかわり
はない。これら研磨剤の粒子サイズは０．Ｏｌ〜２μが
好ましいが、必要に応して粒子サイズの異なる研磨剤を
組み合わせたり、単独の研磨剤でも粒径分布を広くして
同様の効果をもたせることもできる。タップ密度は０．
３〜２ｇ／ｃｃ、含水率は０．　１〜５％、ｐｔ＋は２
〜１１、比表面積は１〜３０ｒｒＴ／ｇ、が好ましい。

本発明に用いられる研磨剤の形状は針状、球状、サイコ
ロ状、のいずれでも良いが、形状の一部に角を有するも
のが研磨性が高く好ましい。

本発明に用いられる研磨剤の具体的な例としては、仕度
化学社製、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫＰ−５０
、ＨＩＴ−５０、日本化学工業社製、Ｇ５、（，７、Ｓ
−１、戸田工業社製、１００ＥＤ、！４０ＥＤ、などが
あげられる。

本発明の目的である、研磨剤分布のコントロールは、研
磨剤の種類、溶剤＆［ｌ戒、乾燥条件、研磨剤の添加時
期の組合せにより実験的にもとめた。

また、研磨剤をあらかじめ結合剤で分散しペースト化し
たのち磁性層とともに分散してもかまわない。

重層とする場合は第一層の研磨剤の強磁性粉末にたいす
る添加看を第二層のそれより多くする方が本発明の磁気
記録媒体を得やすい。

本発明に使用される添加剤としては潤滑効果、帯電防止
効果、分散効果、可塑効果、などをもつものが使用され
る。二硫化モリブデン、二硫化タングステン、グラファ
イト、窒化ホウ素、弗化黒鉛、シリコーンオイル、極性
基をもつシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、弗素含有
シリコーン、弗素含有アルコール、弗素含有エステル、
ポリオレフィン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステ
ルおよびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルお
よびそのアルカリ金属塩、ポリフェニルエーテル、弗素
含有アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、
炭素数ｌＯ〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含ん
でも、また分岐していてもかまわない）、および、これ
らの金属塩（Ｌｉ、Ｎａ、に、Ｃｕなど）または、炭素
数１２〜２２の一価、二価、三価、四価、五個、六価ア
ルコール、（不飽和結合を含んでも、また分岐していて
もかまわない）、炭素数１２〜２２のアルコキシアルコ
ール、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合
を含んでも、また分岐していてもかまわない）と炭素数
２〜１２の一価、二価、三価、四価、五個、六価アルコ
ールのいずれか一つ（不飽和結合を含んでも、また分岐
していてもかまわない）とからなるモノ脂肪酸エステル
またはジ脂肪酸エステルまたはトリ脂肪酸エステル、ア
ルキレンオキシド重合物のモノアルキルエーテルの脂肪
酸エステル、炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８
〜２２の脂肪族アミン、などが使用できる。これらの具
体例としてはラウリン酸、兆リスチン酸、パル旦チン酸
、ステアリン酸、ヘヘン酸、ステアリン酸ブチル、オレ
イン酸、リノール酸、リルン酸、エライジン酸、ステア
リン酸オクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸イ
ソオクチル、ミリスチン酸オクチル、ステアリン酸ブト
キシエチル、アンヒドロソルビタントリステアレート、
アンヒドロソルビタジステアレート、アンヒドロソルビ
タントリステアレート、オレイルアルコール、ラウリル
アルコール、があげられる。

また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシ
ドール系、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加
体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステルア
ミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、
複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等のカ
チオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、燐酸
、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基を含
むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸
類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類、ア
ルキルヘタイン型、等の両性界面活性剤等も使用できる
。

これらの界面活性剤については、「界面活性剤便覧」　
（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されている。

これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％純粋
ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、
分解物、酸化物等の不純分がふくまれてもかまわない。

これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好まし
くは１０％以下である。

本発明で用いられる有ｊａ熔媒は任意の比率でアセトン
、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイ
ソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テト
ラヒドロフラン、等のケトン類、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール
、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノール
、などのアルコール類、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸
イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリ
コール等のエステル類、グリコールジメチルエーテル、
グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン、などのグ
リコールエーテル系、ベンゼン、トルエン、キソレン、
クレゾール、クロルヘンゼン、などの芳香族炭化水素類
、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭
素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロル
ベンゼン、等の塩素化炭化水素類、Ｎ、Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、ヘキサン等のものが使用できる。

これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではなく、主成
分以外にも異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化
物、水分等の不純分がふくまれてもかまわない。これら
の不純分は３０％以下が好ましく、さらに好ましくは１
０％以下である。

本発明で用いる有機溶媒は重層の場合、必要ならば第一
層と第二層でその種類、量を変えてもかまわない。第一
層に揮発性の高い溶媒をもちい表面性を向上させる、第
一層に表面張力の高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオキ
サンなど）を用い塗布の安定性をあげる、第二層の溶解
性パラメータの高い溶媒を用い充填度を上げるなどがそ
の例としてあげられるがこれらの例に限られたものでは
ないことは無論である。

本発明の磁気記録媒体の厚み構成は非磁性支持体が１〜
１００μ、好ましくは６〜２０μ、磁性層厚は０．５μ
〜ｌＯμ、好ましくは１〜５μ、重層の場合、第二磁性
層は１．　５μ以下、好ましくは１．　０μ以下、さら
に好ましくは０．５μ以下である。磁性層の厚みは非磁
性支持体の厚みの１／１００〜２倍の範囲で用いられる
。

また、非磁性支持体と第一層の間に密着性向上のための
下塗り層、または帯電防止のためのカーボンブラノクを
含む層などの中間層を設けてもかまわない。これらの厚
みは０．Ｏ１〜２μ、このましくは０．０５〜０．５μ
である。また、非磁性支持体の磁性層側と反対側にバッ
クコート層を設けてもかまわない。この厚みはＯ，１〜
２μ、好ましくは０．３〜１．　０μである。これらの
中間層、バックコートａは公知のものが使用できる。

本発明に用いられる非磁性支持体はポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレンナフタレート、等のポリエステ
ル類、ポリオレフィン類、セルローストリアセテート、
ポリカーボネート、ポリアξド、ポリイミド、ポリアミ
ドイミド、ポリスルフォン、などの公知のフィルムが使
用できる。これらの支持体にはあらかしめコロナ放電処
理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理、な
どをおこなっても良い１本発明の目的を達成するには、
非磁性支持体として中心線平均表面粗さが０．０３μｍ
以下、好ましくは０．０２．ｕｍ以下、さらに好ましく
は０．０１７７ｍ以下のものを使用する必要がある。ま
た、これらの非磁性支持体は単に中心線平均表面粗さが
小さいだけではなく、ｌμ以上の粗大突起がないことが
好ましい、また表面の粗さ形状は必要に応じて支持体に
添加されるフィラーの大きさと量により自由にコントロ
ールされるものである。これらのフィラーとしては一例
としてはＣａ、Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の他、
アクリル系などの有機微籾末があげられる０本発明に用
いられる非磁性支持体のテープ走行方向のＦ−５値は好
ましくは５〜ｓｏｋｇ／閣！、テープ幅方向のＦ−５値
は好ましくは３〜３０ｋｇ／　ｗｍ　”であり、テープ
長手方向のＦ−５値がテープ幅方向のＦ−５値より高い
のが一般的であるが、特に幅方向の強度を高くする必要
があるときはその限りでない。

破断強度は両方向とも５〜１００　ｋｇ／　ｎ＋ｍ”　
、弾性率は１００〜２０００ｋｇ／ｌｌｆｆ１”　、が
好ましい。

本発明の磁気記録媒体の磁性塗料を製造する工程は、少
なくとも混練工程、分散工程、およびこれらの工程の前
後に必要に応じて設けた混合工程からなる。

本発明の目的を達成するためには、従来の公知の製造技
術を一部の工程として用いることができることはもちろ
んであるが、混練工程では連続ニーダや加圧ニーダなど
強す）混練力をもつものを使用することもできる。

これらの混練処理の詳細については特願昭６２−２６４
７２２、特願昭６２−２３６８７２に記載されている。

また、本発明の磁気記録媒体を重層とする場合は第２磁
性層の厚みは１．５μ以下が好ましくこのような厚みを
実現するためには従来の第一層を塗布し、乾燥したのち
第二層をその上の設ける逐次重層方式では塗布欠陥が生
し実質的に製造することは困難であり、本発明では、特
開昭６２−２１２９３３に示されるような同時重層塗布
方式を用いることが好ましい。

〔発明の効果〕

本発明の磁気記録媒体は磁性層表面と磁性層裁断面の研
磨剤量をコントロールし、磁性層裁断面の研磨剤の存在
量を磁性層表面より０．１個／μｍ２以上多くすること
により優れたＲＦ出力を保ちながらオーディオ出力の低
下を防ぐことができるものである。

オーディオ出力低下を防ぐためは磁性層裁断面の強化が
必要でありそのためには端面に十分な量の研磨剤が必要
である。

しかしながら従来の技術では表面の研磨剤も多くなり充
填度と表面性の低下によりＲＦ出力も低下するという問
題があったが、本発明では磁性層裁断面と磁性層表面の
研磨剤量をコントロールすることにより初めて両特性を
同時に満すことができたのである。

〔実施例〕

次に本発明の実施例および比較例を示す。なお、実施例
および比較例中の１部」との表示は「重量部」を示すも
のである。

実施例と比較例 策二延性春 コバルト変性酸化鉄　　　　　　　、１００部Ｈｃ　　
６０００ｅ、比表面積　３０ｍ／ｇ結晶子サイズ４００
オングストローム 粒子サイズ（長軸径）０．２５μ、 針状比　ｌＯ 塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体　　
　　　　　　　　　　　ｌＯ部ｍ威比　８６：１３１　
　ｆｆｉ合度４００ポリエステルポリウレタン樹脂　　
　　５部カーボンブラック　　　　　　　　　　３部（
粒子サイズ０．０５μｍ） α−アルミナ　　　　　　　　　　１０部（粒子サイズ
０．３μｍ） ブチルステアレート　　　　　　　　　　１部ステアリ
ン酸　　　　　　　　　　　　２部酢酸ブチル　　　　
　　　　　　　２００部策二椎立璽 コバルト変性酸化鉄　　　　　　　１００部Ｈｃ　　７
０００ｅ、比表面積　３５ｒｒｒ／ｇ結晶子サイズ３５
０オングストローム 粒子サイズ（長軸径）０．２０μ、 針状比　１２ 塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体　　
　　　　　　　　　　　１２部組成比　８６：１３１　
　重合度４００ポリエステルポリウレタン樹脂　　　　
６部（カルボキシル基１０−４モル／ｇ含有）α−アル
宅す　　　　　　　　　　　３部（粒子サイズ０．３μ
ｍ） カーボンフ゛ランク　　　　　　　　　　　３部（粒子
サイズ０，１０ＩＪｍ） ブチルステアレート　　　　　　　　　　１部ステアリ
ン酸　　　　　　　　　　　　２部酢酸ブチル　　　　
　　　　　　　２００部例１゜ 上記のうち第二磁性層の磁性塗料について、各成分をニ
ーダでｌ昆練したのち、サンド旦ルをもちいて分散させ
た。得られた分散液にポリイソシアネートを加え、さら
にそれぞれに酢酸ブチル４０部を加え、１μｍの平均孔
径を有するフィルターを用いて濾過し、塗布液を調整し
た。

得られた塗布液を、８０°Ｃで乾燥後の厚さが４４０μ
ｍになるように厚さ１５μｍで中心線表面粗さが０．０
１μのポリエチレンテレフタレート支持体上にリバース
ロール塗布をおこない、湿潤状態にあるうちに３０００
Ｇの磁力をもつコバルト磁石と１５０００の磁力をもつ
ソレノイドにより配向させ乾燥後、７段のカレンダで温
度９０°Ｃにて処理を行い、１／２インチの幅にスリッ
トし、ビデオテープを製造した。このようにして得られ
たテープを８−１としその特性を第１表、に示した。

例２゜ 例１のα−アルミナ量を６部としたサンプルをＢ−２と
した。

例３゜ 例２の乾燥温度を６０°ＣとしたサンプルをＡ−１とし
た。

例４゜ 例２の乾燥温度を１００　’Ｃとしたサンプルを８３と
した。

例５゜ 例２の溶剤をトルエンとしたサンプルをＡ−２、酢酸ブ
チルとシクロヘキサノンの３０／７０の混合系としたサ
ンプルをＡ−３，５０１５０の混合系としたサンプルを
Ａ−４とした。７０／３０の混合系としたサンプルをＡ
−９とした。

例６゜ 第一層の磁性塗料を塗布後、同時重層塗布方式によって
第一磁性層が未載のうちにその上に第二層を塗布し、そ
のあと同様に乾燥させて得られたテープをＡ−５とした
。このとき、第一層の乾燥後の摩みは３．０μ、第二層
の厚みは１．０μであった。

例７゜ 例２のα−アルミナのかわりに粒径０．３μの二酸化ク
ロムをもちいたテープをＢ−５とした。

例８゜ 例５のα−アルミナのかわりに二酸化クロムを用いたサ
ンプルをそれぞれＡ−６、Ａ−７とした。

例９゜ 例６のα−アルミナのかわりに二酸化クロムを用いたサ
ンプルをＡ−８とした。

例１０ 例３のα−アルミナの量を１０部としたサンプルをＢ−
６とした。

例１１゜ 例２の乾燥温度を７０°Ｃとしたサンプルを８７とした
。

評価方法 ＲＦ出力 画像信号５０１ＲＥの映像信号を基準録画電流で記録し
た。この再生ＲＦ出力のエンベロープの平均値をオシロ
スコープで測定し、次式により算出した。

ＲＦ出力（ｄＢ）＝２ｏｌＯｇｌＯｖ／ｖＯＶ　　平均
値 Ｖ、　　基準値 オーディオ出力低下 投下電器■製ビデオデツキＡＧ６２００にて１２０分長
０テープを５巻１００パス走行させ、オーディオの１ｋ
Ｈｚ出力の低下量を平均でもとめた。

磁性層表面と磁性層裁断面の研磨剤量 走査型電子顕微鏡にて磁性層の表面と断面の写真を１０
，０００倍で撮影し、３０μ−の面積に存在する研磨剤
の量を目視で調べた。

測定は５点の平均で磁性層断面の場合は厚み方向に等間
隔で５点測定し平均した。

第１表の結果より明らかな如く本発明の条件を満足する
Δ−１〜Ａ−９のサンプルはオーディオ出力低下は一２
ｄＢ以内と良好であり、同時にＲＦ出力も０．９ｄＢ以
上の良好な値を示している。

一方本発明の条件よりはずれたＢ−１〜Ｂ−７のサンプ
ルはオーディオ出力低下が一１４ｄＢと太きく　（Ｂ−
１）又はＲＦ出力が０．５ｄＢ以下であり（Ｂ−２〜Ｂ
〜マ）両者の特性を同時に満たすものはなかった。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）非磁性支持体上に強磁性粉末を結合剤中に分散さ
   せた磁性層を設け、所定の幅に裁断して磁性層裁断面を
   有する磁気記録媒体において前記磁性層表面にモース硬
   度６以上の研磨剤が平均０．３個／μｍ＾２〜１．４個
   ／μｍ＾２の密度で存在し、前記磁性層裁断面には磁性
   層表面より０．１個／μｍ＾２より以上の高い密度で研
   磨剤が存在することを特徴とする磁気記録媒体。
2. （２）前記磁性層が第一層とその上に設けた第二層から
   なる重層の磁性層であり、前記磁性層裁断面の研磨剤の
   存在密度が第二層より第一層の方が０．１個／μｍ＾２
   より以上の高い密度で存在することを特徴とする磁気記
   録媒体。