JPH0337857B2 - - Google Patents
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- JPH0337857B2 JPH0337857B2 JP27570586A JP27570586A JPH0337857B2 JP H0337857 B2 JPH0337857 B2 JP H0337857B2 JP 27570586 A JP27570586 A JP 27570586A JP 27570586 A JP27570586 A JP 27570586A JP H0337857 B2 JPH0337857 B2 JP H0337857B2
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- JP
- Japan
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- layer
- substrate
- insulating resin
- resin layer
- plasma
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- Expired
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- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27570586A JPS63128730A (ja) | 1986-11-19 | 1986-11-19 | 多層配線方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27570586A JPS63128730A (ja) | 1986-11-19 | 1986-11-19 | 多層配線方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63128730A JPS63128730A (ja) | 1988-06-01 |
JPH0337857B2 true JPH0337857B2 (enrdf_load_stackoverflow) | 1991-06-06 |
Family
ID=17559216
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27570586A Granted JPS63128730A (ja) | 1986-11-19 | 1986-11-19 | 多層配線方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63128730A (enrdf_load_stackoverflow) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5990005A (en) * | 1997-02-10 | 1999-11-23 | Nec Corporation | Method of burying a contact hole with a metal for forming multilevel interconnections |
JP4173307B2 (ja) * | 1999-06-24 | 2008-10-29 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体集積回路の製造方法 |
-
1986
- 1986-11-19 JP JP27570586A patent/JPS63128730A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS63128730A (ja) | 1988-06-01 |
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