JPH0335036A - 近赤外線吸収性改質剤およびその製造方法 - Google Patents
近赤外線吸収性改質剤およびその製造方法Info
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- JPH0335036A JPH0335036A JP16844589A JP16844589A JPH0335036A JP H0335036 A JPH0335036 A JP H0335036A JP 16844589 A JP16844589 A JP 16844589A JP 16844589 A JP16844589 A JP 16844589A JP H0335036 A JPH0335036 A JP H0335036A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、可視光線を比較的よく透過し近赤外線吸収能
に優れた新規な近赤外線吸収性改質剤およびその製造方
法に関するものである。
に優れた新規な近赤外線吸収性改質剤およびその製造方
法に関するものである。
従来、六塩化タングステン(W(1,)を用いて近赤外
線吸収性物質を得る方法としては例えば米国特許第3.
692,688号明細書に、WCl、と塩化スス(Sn
Cl t・2HzO)をメタクリル酸メチルシラツブに
溶解することにより近赤外線吸収能を有する溶液が得ら
れ、さらにこれを重合して実質的にヘイズのない近赤外
線吸収能に優れた樹脂材料が得られることが開示されて
いる。
線吸収性物質を得る方法としては例えば米国特許第3.
692,688号明細書に、WCl、と塩化スス(Sn
Cl t・2HzO)をメタクリル酸メチルシラツブに
溶解することにより近赤外線吸収能を有する溶液が得ら
れ、さらにこれを重合して実質的にヘイズのない近赤外
線吸収能に優れた樹脂材料が得られることが開示されて
いる。
しかしながら、上記従来技術の追試によれば、W(1,
とSnCl * ・2HzOをメタクリル−酸メチルシ
ラツブに溶解した&Il或物は濃青色に発色し近赤外線
をよく吸収する性質をもっているが、このMi戒物の近
赤外線吸収能は経時変化を起こすため性能が劣化し、ま
た溶液が重合前駆体であるため保存安定性が悪く長期保
存することができないという欠点があった。さらに上記
組成物を鋳型に注入して重合して得られた鋳型板すなわ
ち近赤外線吸収性樹脂材料は褪色していると共に近赤外
線を吸収する能力が大巾に減少しており、これを紫外線
あるいは太陽光に曝露してはじめて再び濃青色を呈し近
赤外線吸収能を発揮し、一方暗所で長期間放置の間の褪
色するいわゆるフォトクロミズムを呈するため、W(J
&とSnCj! t・211ffiOを用いた近赤外線
吸収材料は一定の品質を備えた光学的フィルターや熱線
吸収性グレージング等の工業製品を提供する上で好まし
くないという問題点を有していた。
とSnCl * ・2HzOをメタクリル−酸メチルシ
ラツブに溶解した&Il或物は濃青色に発色し近赤外線
をよく吸収する性質をもっているが、このMi戒物の近
赤外線吸収能は経時変化を起こすため性能が劣化し、ま
た溶液が重合前駆体であるため保存安定性が悪く長期保
存することができないという欠点があった。さらに上記
組成物を鋳型に注入して重合して得られた鋳型板すなわ
ち近赤外線吸収性樹脂材料は褪色していると共に近赤外
線を吸収する能力が大巾に減少しており、これを紫外線
あるいは太陽光に曝露してはじめて再び濃青色を呈し近
赤外線吸収能を発揮し、一方暗所で長期間放置の間の褪
色するいわゆるフォトクロミズムを呈するため、W(J
&とSnCj! t・211ffiOを用いた近赤外線
吸収材料は一定の品質を備えた光学的フィルターや熱線
吸収性グレージング等の工業製品を提供する上で好まし
くないという問題点を有していた。
またメタクリル酸メチルシラツブを反応溶媒として、こ
れに−C1,とSnCII 1H!0を溶解する方法の
ため、近赤外線吸収性樹脂材料の製造方法も限定され形
状、加工性、表面特性など工業製品として多様なニーズ
に応えることができないという問題点もあった。
れに−C1,とSnCII 1H!0を溶解する方法の
ため、近赤外線吸収性樹脂材料の製造方法も限定され形
状、加工性、表面特性など工業製品として多様なニーズ
に応えることができないという問題点もあった。
したがって、本発明は、上述の問題点を解決すべく、メ
タクリル酸メチルシラツブを反応溶媒として用いること
がなく、かつ近赤外線吸収能の良好な近赤外線吸収性改
質剤およびその製造方法を提供することを目的とする。
タクリル酸メチルシラツブを反応溶媒として用いること
がなく、かつ近赤外線吸収能の良好な近赤外線吸収性改
質剤およびその製造方法を提供することを目的とする。
本発明者等は、前記課題を解決すべく近赤外線吸収能の
重合時および経時的な不安定性を改良し、フォトクロミ
ズムを抑制することを特徴とする近赤外線吸収性改質剤
およびその製造方法について鋭意検討を重ねた結果、六
塩化タングステンとリン酸エステルおよび/または亜リ
ン酸エステルを反応させることによって得られる反応混
合物により本発明の目的が遠戚されることを見い出し、
本発明を完成した。
重合時および経時的な不安定性を改良し、フォトクロミ
ズムを抑制することを特徴とする近赤外線吸収性改質剤
およびその製造方法について鋭意検討を重ねた結果、六
塩化タングステンとリン酸エステルおよび/または亜リ
ン酸エステルを反応させることによって得られる反応混
合物により本発明の目的が遠戚されることを見い出し、
本発明を完成した。
すなわち、本発明の要旨とするところは、六塩化タング
ステンと、リン酸エステルおよび/または亜リン酸エス
テルとの反応混合物からなる近赤外線吸収性改質剤およ
びその製造方法にある。
ステンと、リン酸エステルおよび/または亜リン酸エス
テルとの反応混合物からなる近赤外線吸収性改質剤およ
びその製造方法にある。
以下本発明の詳細な説明する。
本発明において用いられるリン酸エステルは、次式(1
)で示されるフォスフェート (但し、式中nは1,2あるいは3であり、Rは炭素数
1〜18のアルキル基、アリル基、アリール基、アラル
キル基、(メタ)アクリロキシアルキル基あるいはそれ
の誘導体を示す)であり、具体的には、モノエチルフォ
スフェート、ジエチルフォスフェート、トリエチルフォ
スフェート、モノブチルフォスフェート、ジブチルフォ
スフェート、トリブチルフォスフェート、モノプトキシ
エチルフォスフヱート、モノ(2−エチルヘキシル)フ
ォスフェート、ビス(2−エチルヘキシル)フォスフェ
ート、トリス(2−エチルヘキシル〉フォスフェート、
モノフェニルフォスフェート、ジフェニルフォスフェー
ト、トリフェニルフォスフェート、モノ (2−クロロ
エチル)フォスフェート、ビス(2−クロロエチル)フ
ォスフェート、トリス(2−クロロエチル)フォスフェ
ート、モノ (2−ヒドロキシエチルメタクリレート)
フォスフェート、ビス(2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート)フォスフニー)、)リス(2−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート)フォスフェート等を好ましい例とし
てあげることができる。
)で示されるフォスフェート (但し、式中nは1,2あるいは3であり、Rは炭素数
1〜18のアルキル基、アリル基、アリール基、アラル
キル基、(メタ)アクリロキシアルキル基あるいはそれ
の誘導体を示す)であり、具体的には、モノエチルフォ
スフェート、ジエチルフォスフェート、トリエチルフォ
スフェート、モノブチルフォスフェート、ジブチルフォ
スフェート、トリブチルフォスフェート、モノプトキシ
エチルフォスフヱート、モノ(2−エチルヘキシル)フ
ォスフェート、ビス(2−エチルヘキシル)フォスフェ
ート、トリス(2−エチルヘキシル〉フォスフェート、
モノフェニルフォスフェート、ジフェニルフォスフェー
ト、トリフェニルフォスフェート、モノ (2−クロロ
エチル)フォスフェート、ビス(2−クロロエチル)フ
ォスフェート、トリス(2−クロロエチル)フォスフェ
ート、モノ (2−ヒドロキシエチルメタクリレート)
フォスフェート、ビス(2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート)フォスフニー)、)リス(2−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート)フォスフェート等を好ましい例とし
てあげることができる。
本発明において用いられる亜リン酸エステルは次式(2
)で示されるフォスファイト (但し式中nは1,2あるいは3であり、Rは炭素数1
〜18のアルキル基、アリル基、アリール基、アラルキ
ル基、〈メタ)アクリロキシアルキル基あるいはそれの
誘導体を示す)で、具体的には、モノエチルフォスファ
イト、ジエチルフォスファイト、トリエチルフォスファ
イト、モノブチルフォスファイト、ジブチルフォスファ
イト、トリブチルフォスファイト、モノ 〈2−エチル
ヘキシル)フォスファイト、ビス(2−エチルヘキシル
)フォスファイト、トリス(2−エチルヘキシル)フォ
スファイト、モノデシルフォスファイト、ジデシルフォ
スファイト、トリデシルフォスファイト、モノステアリ
ルフォスファイト、ジステアリルフォスファイト、トリ
ステアリルフォスファイト、モノフェニルフォスファイ
ト、ジフェニルフォスファイト、トリフェニルフォスフ
ァイト、モノ (ノニルフェニル〉フォスファイト、ビ
ス(ノニルフェニル)フォスファイト、トリス(ノニル
フェニル)フォスファイト、モノ (2,3−ジクロロ
プロピル)フォスファイト、ビス(2,3−ジクロロプ
ロピル)フォスファイト、トリス(2,3−ジクロロプ
ロピル)フォスファイト等が好ましい例としてあげるこ
とができる。
)で示されるフォスファイト (但し式中nは1,2あるいは3であり、Rは炭素数1
〜18のアルキル基、アリル基、アリール基、アラルキ
ル基、〈メタ)アクリロキシアルキル基あるいはそれの
誘導体を示す)で、具体的には、モノエチルフォスファ
イト、ジエチルフォスファイト、トリエチルフォスファ
イト、モノブチルフォスファイト、ジブチルフォスファ
イト、トリブチルフォスファイト、モノ 〈2−エチル
ヘキシル)フォスファイト、ビス(2−エチルヘキシル
)フォスファイト、トリス(2−エチルヘキシル)フォ
スファイト、モノデシルフォスファイト、ジデシルフォ
スファイト、トリデシルフォスファイト、モノステアリ
ルフォスファイト、ジステアリルフォスファイト、トリ
ステアリルフォスファイト、モノフェニルフォスファイ
ト、ジフェニルフォスファイト、トリフェニルフォスフ
ァイト、モノ (ノニルフェニル〉フォスファイト、ビ
ス(ノニルフェニル)フォスファイト、トリス(ノニル
フェニル)フォスファイト、モノ (2,3−ジクロロ
プロピル)フォスファイト、ビス(2,3−ジクロロプ
ロピル)フォスファイト、トリス(2,3−ジクロロプ
ロピル)フォスファイト等が好ましい例としてあげるこ
とができる。
本発明に用いる六塩化タングステン、リン酸エステルお
よび/または亜リン酸エステルの添加量及びその添加割
合は、近赤外線吸収改質剤の使用態様により広範囲の設
定することができ、特に限定を設ける必要はないが、リ
ン酸エステルおよび/または亜リン酸エステルの量は、
六塩化タングステン量に対して0.1倍モル以上、好ま
しくは1〜300倍モル、さらに好ましくは2〜100
倍モルが望ましい0例えば、透明樹脂に近赤外線吸収性
改質剤を添加する場合、リン酸エステルおよび/または
亜リン酸エステルが六塩化タングステンの0.1倍モル
未満では、近赤外線吸収能の向上が充分でない場合があ
り、近赤外線吸収能の経時的な安定性を考慮すると等モ
ル以上が好ましく、一方リン酸エステルおよび/または
亜リン酸エステルの量が多すぎると、樹脂の物性低下を
招きやすく好ましくない。
よび/または亜リン酸エステルの添加量及びその添加割
合は、近赤外線吸収改質剤の使用態様により広範囲の設
定することができ、特に限定を設ける必要はないが、リ
ン酸エステルおよび/または亜リン酸エステルの量は、
六塩化タングステン量に対して0.1倍モル以上、好ま
しくは1〜300倍モル、さらに好ましくは2〜100
倍モルが望ましい0例えば、透明樹脂に近赤外線吸収性
改質剤を添加する場合、リン酸エステルおよび/または
亜リン酸エステルが六塩化タングステンの0.1倍モル
未満では、近赤外線吸収能の向上が充分でない場合があ
り、近赤外線吸収能の経時的な安定性を考慮すると等モ
ル以上が好ましく、一方リン酸エステルおよび/または
亜リン酸エステルの量が多すぎると、樹脂の物性低下を
招きやすく好ましくない。
本発明における近赤外線吸収性改質剤は、六塩化タング
ステンとリン酸エステル、六塩化タングステンと亜リン
酸エステル、あるいは六塩化タングステンとリン酸エス
テルおよび亜リン酸エステルをそれぞれ出発原料として
得られる反応混合物であり、これらの原料が充分に混合
されるように撹拌しながら反応することが六塩化タング
ステン(WCli)の溶解性の点から好ましい。このと
きリン酸エステルおよび/または亜リン酸エステルが液
体の場合には、この液体中にWCl、を添加して反応を
行ってもよく、あるいは溶媒中にWCJ 。
ステンとリン酸エステル、六塩化タングステンと亜リン
酸エステル、あるいは六塩化タングステンとリン酸エス
テルおよび亜リン酸エステルをそれぞれ出発原料として
得られる反応混合物であり、これらの原料が充分に混合
されるように撹拌しながら反応することが六塩化タング
ステン(WCli)の溶解性の点から好ましい。このと
きリン酸エステルおよび/または亜リン酸エステルが液
体の場合には、この液体中にWCl、を添加して反応を
行ってもよく、あるいは溶媒中にWCJ 。
とリン酸エステルおよび/または亜リン酸エステルを添
加し反応を行ってもよい。また室温で固体のリン酸エス
テルおよび/または亜リン酸エステルの場合にはこれら
を融点以上に加熱し溶融状態において−CI1.を添加
して反応してもよく、あるいは溶媒に溶解させてから反
応を行ってもよい。
加し反応を行ってもよい。また室温で固体のリン酸エス
テルおよび/または亜リン酸エステルの場合にはこれら
を融点以上に加熱し溶融状態において−CI1.を添加
して反応してもよく、あるいは溶媒に溶解させてから反
応を行ってもよい。
溶媒としては、反応混合物を溶解し、溶媒沸点が反応温
度より著しく低くないものであれば特に限定はなく、ま
た溶媒の量としては少なくとも出発原料を溶解する程度
の量があればよい。
度より著しく低くないものであれば特に限定はなく、ま
た溶媒の量としては少なくとも出発原料を溶解する程度
の量があればよい。
本発明の近赤外線吸収性改質剤を得るための反応の条件
としては、室温あるいは室温より若干高い温度から出発
原料であるリン酸エステルあるいは亜リン酸エステルが
激しく分解を起こさない程度の温度以下で反応を行うこ
とが望ましく、具体的には20〜200℃、好ましくは
30〜180℃、さらに好ましくは50〜150℃の温
度で30時間以下、好ましくは0.5〜20時間、さら
に好ましくは1〜10時間それぞれ反応を行なう。
としては、室温あるいは室温より若干高い温度から出発
原料であるリン酸エステルあるいは亜リン酸エステルが
激しく分解を起こさない程度の温度以下で反応を行うこ
とが望ましく、具体的には20〜200℃、好ましくは
30〜180℃、さらに好ましくは50〜150℃の温
度で30時間以下、好ましくは0.5〜20時間、さら
に好ましくは1〜10時間それぞれ反応を行なう。
以上述べた如く、本発明の近赤外線吸収性改質剤は、六
塩化タングステンとリン酸エステルおよび/または亜リ
ン酸エステルとを反応せしめることによって得られるが
、更に、近赤外線吸収性能を向上し、経時的な安定性を
向上する目的で、上記反応系中に水を添加することがで
きる。水の添加時期は、六塩化タングステンとリン酸エ
ステルおよび/または亜リン酸エステルとを反応する前
、反応中、あるいは反応した後に添加してもよい。
塩化タングステンとリン酸エステルおよび/または亜リ
ン酸エステルとを反応せしめることによって得られるが
、更に、近赤外線吸収性能を向上し、経時的な安定性を
向上する目的で、上記反応系中に水を添加することがで
きる。水の添加時期は、六塩化タングステンとリン酸エ
ステルおよび/または亜リン酸エステルとを反応する前
、反応中、あるいは反応した後に添加してもよい。
また水の添加量は、六塩化タングステン量と等モル以上
が好ましく、沈殿が生成しない量、すなわち通常塩化タ
ングステン量の約50倍モル以下である。
が好ましく、沈殿が生成しない量、すなわち通常塩化タ
ングステン量の約50倍モル以下である。
本発明の近赤外線吸収性改質剤は、塗料、樹脂材料等に
添加することによって、簡便に近赤外線吸収性能を付与
することができ、熱線吸収材料、肉眼保護用フィルター
、半導体受光素子用赤外線吸収フィルター、赤外感光性
の感光材料用セーフライトフィルターへの利用や植物の
生育の制御等に使用することができる。・ 〔実施例〕 以下、本発明を具体的実施例をもって説明する。
添加することによって、簡便に近赤外線吸収性能を付与
することができ、熱線吸収材料、肉眼保護用フィルター
、半導体受光素子用赤外線吸収フィルター、赤外感光性
の感光材料用セーフライトフィルターへの利用や植物の
生育の制御等に使用することができる。・ 〔実施例〕 以下、本発明を具体的実施例をもって説明する。
なお透過スペクトルおよび透過率は分光光度計(@I日
立製作所製:U−3410型)で測定した。
立製作所製:U−3410型)で測定した。
実施例1
100mj!三つロフラスコに六塩化タングステン(w
clh) 18.0 gとモノブチルフォスフェート
とジブチルフォスフェートの混合物(城北化学工業KK
製: JP−504)37.0g (平均分子量でW(
J6の4,5倍モル)を入れテフロン製の撹拌棒・羽根
で撹拌する。三つロフラスコをオイルバス中で徐々に加
熱していくと、50℃程度で塩化水素ガスの発生がみら
れ、溶液の色は60℃程度で緑色、90℃で青色に変化
し、さらに温度を120℃まで加熱すると塩化水素ガス
の発生は僅かになり、この後120℃でさらに3時間撹
拌加熱を行なって、粘度のある近赤外線吸収能を有する
溶液を得た。
clh) 18.0 gとモノブチルフォスフェート
とジブチルフォスフェートの混合物(城北化学工業KK
製: JP−504)37.0g (平均分子量でW(
J6の4,5倍モル)を入れテフロン製の撹拌棒・羽根
で撹拌する。三つロフラスコをオイルバス中で徐々に加
熱していくと、50℃程度で塩化水素ガスの発生がみら
れ、溶液の色は60℃程度で緑色、90℃で青色に変化
し、さらに温度を120℃まで加熱すると塩化水素ガス
の発生は僅かになり、この後120℃でさらに3時間撹
拌加熱を行なって、粘度のある近赤外線吸収能を有する
溶液を得た。
得られた反応混合物溶液を酢酸エチルに0.33重量%
の割合で溶解させた溶液を311セルに入れ透過スペク
トルを測定した。この結果を第1図中Aで示すが、反応
液を含まない酢酸エチルのスペクトルBとの比較かられ
かるように、この近赤外線吸収性付与剤は可視の光は比
較的よく透過するとともに優れた近赤外線吸収能を示し
た。
の割合で溶解させた溶液を311セルに入れ透過スペク
トルを測定した。この結果を第1図中Aで示すが、反応
液を含まない酢酸エチルのスペクトルBとの比較かられ
かるように、この近赤外線吸収性付与剤は可視の光は比
較的よく透過するとともに優れた近赤外線吸収能を示し
た。
実施例2
実施例1で得られた近赤外線吸収性を有する溶液2gに
水を0.03 g添加し加熱しながら溶解した。得られ
た溶液を酢酸エチルに0.33重量%溶解した液につい
て透過スペクトルを測定し、第1表に400=1400
nI11における透過率を示すが、実施例1で得られた
溶液の近赤外域における吸収能がさらに向上していた。
水を0.03 g添加し加熱しながら溶解した。得られ
た溶液を酢酸エチルに0.33重量%溶解した液につい
て透過スペクトルを測定し、第1表に400=1400
nI11における透過率を示すが、実施例1で得られた
溶液の近赤外域における吸収能がさらに向上していた。
実施例3
三つロフラスコにジエチルフォスファイト20gと六塩
化タングステン2gを入れ撹拌混合しながら徐々に温度
を上げて、100℃に到達した後この温度で1時間反応
を行った後、さらにこれに水を0.01gを添加し反応
を継続した。この反応混合物溶液をジクロロエタンの中
で2重量%の濃度になるように溶液を調製し透過率を測
定した。
化タングステン2gを入れ撹拌混合しながら徐々に温度
を上げて、100℃に到達した後この温度で1時間反応
を行った後、さらにこれに水を0.01gを添加し反応
を継続した。この反応混合物溶液をジクロロエタンの中
で2重量%の濃度になるように溶液を調製し透過率を測
定した。
この結果を第1表に示す。
実施例4.5
三つロフラスコに六塩化タングステンとリン酸エステル
を第2表記載のような組成割合で添加混合し、120℃
で3時間加熱撹拌して反応を行ない、近赤外線吸収能を
有する反応液を得た。得られたこれらの反応混合物溶液
について透過スペクトルを測定し、第1表に400〜1
4QOnsにおける透過率を示した。この結果かられか
るように実施例1で得られた反応液と同様近赤外線の吸
収能がすぐれていた。
を第2表記載のような組成割合で添加混合し、120℃
で3時間加熱撹拌して反応を行ない、近赤外線吸収能を
有する反応液を得た。得られたこれらの反応混合物溶液
について透過スペクトルを測定し、第1表に400〜1
4QOnsにおける透過率を示した。この結果かられか
るように実施例1で得られた反応液と同様近赤外線の吸
収能がすぐれていた。
実施例6
100■l三つロフラスコにフタル酸ジオクチル20.
0“gを入れ、これに六塩化タングステン4.0gとジ
ブチルフォスフェート(■大へ化学工業所製:DP−4
) 1.0g (−C1kの0.5倍モル)を加え10
0℃で1時間加熱撹拌し、近赤外線吸収性を有する溶液
を得た。これを酢酸エチルに1.75%の濃度で溶解し
透過率を測定した。この結果を第1表に示す。
0“gを入れ、これに六塩化タングステン4.0gとジ
ブチルフォスフェート(■大へ化学工業所製:DP−4
) 1.0g (−C1kの0.5倍モル)を加え10
0℃で1時間加熱撹拌し、近赤外線吸収性を有する溶液
を得た。これを酢酸エチルに1.75%の濃度で溶解し
透過率を測定した。この結果を第1表に示す。
実施例7
100+4!三つロフラスコにフタル酸ジオクチル20
.0 gを入れ、これに六塩化タングステン4.0gと
ジブチルフォスフェート(−大へ化学工業所製: DP
−4) 8.5 g (WCj!iの4倍モル)を加え
100℃で1時間加熱撹拌し、近赤外線吸収性を有する
反応混合物溶液を得た。これを酢酸エチルに0.5%の
濃度で溶解し透過率を測定した。
.0 gを入れ、これに六塩化タングステン4.0gと
ジブチルフォスフェート(−大へ化学工業所製: DP
−4) 8.5 g (WCj!iの4倍モル)を加え
100℃で1時間加熱撹拌し、近赤外線吸収性を有する
反応混合物溶液を得た。これを酢酸エチルに0.5%の
濃度で溶解し透過率を測定した。
この結果を第1表に示す。
応用例1
実施例1で得られた反応溶液0.27 gを予め0.2
gの水を溶解したメタクリル酸メチル50gに添加混合
し、紫外線吸収剤としてTinuvin 327(CI
BA−GfiIGY社製)0.3g、重合触媒として2
.2−アゾビス−2,4−ジメチルバレロニトリル0.
07gを添加し溶解させた。常法に従って、ガスケット
を2枚の平行なガラス板にはさんだ鋳型間に注入し、6
0℃の水槽に3時間浸漬し、ついで120℃の空気槽で
2時間加熱を行って重合を完了させ、冷却後ガラスより
#J#させて板厚3.15mの樹脂板を得た。
gの水を溶解したメタクリル酸メチル50gに添加混合
し、紫外線吸収剤としてTinuvin 327(CI
BA−GfiIGY社製)0.3g、重合触媒として2
.2−アゾビス−2,4−ジメチルバレロニトリル0.
07gを添加し溶解させた。常法に従って、ガスケット
を2枚の平行なガラス板にはさんだ鋳型間に注入し、6
0℃の水槽に3時間浸漬し、ついで120℃の空気槽で
2時間加熱を行って重合を完了させ、冷却後ガラスより
#J#させて板厚3.15mの樹脂板を得た。
得られた樹脂板の透過スペクトルを第2図中のCで示す
が、同図に示す板厚3田の通常のメタクリル樹脂板(協
和ガス化学工業■製;バラグラス)の透過スペクトルD
との比較かられかるように、この樹脂板は可視域の光は
比較的よく透過するとともに通常のメタクリル樹脂板に
比較して優れた近赤外域の吸収能を示した。
が、同図に示す板厚3田の通常のメタクリル樹脂板(協
和ガス化学工業■製;バラグラス)の透過スペクトルD
との比較かられかるように、この樹脂板は可視域の光は
比較的よく透過するとともに通常のメタクリル樹脂板に
比較して優れた近赤外域の吸収能を示した。
応用例2
実施例6で得られた反応溶液0.83 gをメタクリル
酸メチル50gに溶解させ、紫外線吸収剤としてTin
uvin 327 (CIBA−GEIGY社製)0
.3gを添加した後重合触媒として2.2 −アゾビス
−2,4−ジメチルバレロニトリル0.07 gを添加
混合し、応用例1と同様にして重合を行ない板厚3、2
I nの近赤外線吸収性を有する樹脂板を得た。
酸メチル50gに溶解させ、紫外線吸収剤としてTin
uvin 327 (CIBA−GEIGY社製)0
.3gを添加した後重合触媒として2.2 −アゾビス
−2,4−ジメチルバレロニトリル0.07 gを添加
混合し、応用例1と同様にして重合を行ない板厚3、2
I nの近赤外線吸収性を有する樹脂板を得た。
この樹脂板の透過スペクトルを第2図中のEで示す。
本発明は以上述べたように、六塩化タングステンとリン
酸エステルおよび/または亜リン酸エステルとの反応混
合物からなる近赤外線吸収性改質剤であるから、得られ
た反応混合物は可視域において比較的高い透過率を示し
、近赤外域においてはよく光を吸収するすぐれた性能を
有する。得られる近赤外線吸収性物質は反応混合物の形
であるので種々の方法で近赤外線吸収材料に含有させる
ことができ有用である。応用例として挙げたキャスト重
合によって得られた板も重合過程において近赤外線吸収
性能の減少はなく、暗所に長期間放置により褪色すると
いうフォトクロミズムも見られず性能の安定した材料を
得ることができる。
酸エステルおよび/または亜リン酸エステルとの反応混
合物からなる近赤外線吸収性改質剤であるから、得られ
た反応混合物は可視域において比較的高い透過率を示し
、近赤外域においてはよく光を吸収するすぐれた性能を
有する。得られる近赤外線吸収性物質は反応混合物の形
であるので種々の方法で近赤外線吸収材料に含有させる
ことができ有用である。応用例として挙げたキャスト重
合によって得られた板も重合過程において近赤外線吸収
性能の減少はなく、暗所に長期間放置により褪色すると
いうフォトクロミズムも見られず性能の安定した材料を
得ることができる。
また、本発明は、六塩化タングステンとリン酸エステル
および/または亜リン酸エステルとを反応せしめる近赤
外線吸水性改質剤の製造方法であるから、上記の如く有
用な近赤外線吸水性改質剤を簡便かつ容易に提供するこ
とができる。
および/または亜リン酸エステルとを反応せしめる近赤
外線吸水性改質剤の製造方法であるから、上記の如く有
用な近赤外線吸水性改質剤を簡便かつ容易に提供するこ
とができる。
第1図は実施例1で得られた近赤外線吸収性改質剤を酢
酸エチルに溶解させた透過スペクトル(A)および酢酸
エチルの透過スペクトル(B)を表わしたものである。 第2図は応用例1.2で得られた近赤外線吸収性を有す
る樹脂板の透過スペクトル(C)、(E)および通常の
メタクリル樹脂板の透過スペクトル(D)を表わしたも
のである。
酸エチルに溶解させた透過スペクトル(A)および酢酸
エチルの透過スペクトル(B)を表わしたものである。 第2図は応用例1.2で得られた近赤外線吸収性を有す
る樹脂板の透過スペクトル(C)、(E)および通常の
メタクリル樹脂板の透過スペクトル(D)を表わしたも
のである。
Claims (3)
- (1)六塩化タングステンと、リン酸エステルおよび/
または亜リン酸エステルとの反応混合物からなる近赤外
線吸収性改質剤。 - (2)六塩化タングステンと、リン酸エステルおよび/
または亜リン酸エステルとを反応せしめることを特徴と
する近赤外線吸収性改質剤の製造方法。 - (3)水を添加して反応せしめることを特徴とする請求
項2記載の近赤外線吸収性改質剤の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1168445A JP2882641B2 (ja) | 1989-06-30 | 1989-06-30 | 近赤外線吸収性改質剤およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1168445A JP2882641B2 (ja) | 1989-06-30 | 1989-06-30 | 近赤外線吸収性改質剤およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0335036A true JPH0335036A (ja) | 1991-02-15 |
JP2882641B2 JP2882641B2 (ja) | 1999-04-12 |
Family
ID=15868248
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1168445A Expired - Fee Related JP2882641B2 (ja) | 1989-06-30 | 1989-06-30 | 近赤外線吸収性改質剤およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2882641B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05163408A (ja) * | 1991-12-16 | 1993-06-29 | Daicel Chem Ind Ltd | 近赤外線吸収メタクリル系樹脂組成物及びその成形体 |
JPH05179228A (ja) * | 1992-01-06 | 1993-07-20 | Daicel Chem Ind Ltd | 近赤外線吸収剤用組成物並びに近赤外線吸収材料及びそれらを含有した成形体 |
WO2019093525A1 (ja) * | 2017-11-13 | 2019-05-16 | 住友金属鉱山株式会社 | 長期安定性に優れる吸収微粒子分散液および吸収微粒子分散体と、それらの製造方法 |
-
1989
- 1989-06-30 JP JP1168445A patent/JP2882641B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05163408A (ja) * | 1991-12-16 | 1993-06-29 | Daicel Chem Ind Ltd | 近赤外線吸収メタクリル系樹脂組成物及びその成形体 |
JPH05179228A (ja) * | 1992-01-06 | 1993-07-20 | Daicel Chem Ind Ltd | 近赤外線吸収剤用組成物並びに近赤外線吸収材料及びそれらを含有した成形体 |
WO2019093525A1 (ja) * | 2017-11-13 | 2019-05-16 | 住友金属鉱山株式会社 | 長期安定性に優れる吸収微粒子分散液および吸収微粒子分散体と、それらの製造方法 |
CN111344376A (zh) * | 2017-11-13 | 2020-06-26 | 住友金属矿山株式会社 | 长期稳定性优异的吸收微粒分散液和吸收微粒分散体及它们的制造方法 |
JPWO2019093525A1 (ja) * | 2017-11-13 | 2020-11-19 | 住友金属鉱山株式会社 | 長期安定性に優れる吸収微粒子分散液および吸収微粒子分散体と、それらの製造方法 |
US11578184B2 (en) | 2017-11-13 | 2023-02-14 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Absorbing fine particle dispersion liquid and absorbing fine particles dispersion body having excellent long-term stability, and method for producing them |
CN111344376B (zh) * | 2017-11-13 | 2023-10-13 | 住友金属矿山株式会社 | 长期稳定性优异的吸收微粒分散液和吸收微粒分散体及它们的制造方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2882641B2 (ja) | 1999-04-12 |
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