JPH0335036A - 近赤外線吸収性改質剤およびその製造方法 - Google Patents
近赤外線吸収性改質剤およびその製造方法Info
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- JPH0335036A JPH0335036A JP16844589A JP16844589A JPH0335036A JP H0335036 A JPH0335036 A JP H0335036A JP 16844589 A JP16844589 A JP 16844589A JP 16844589 A JP16844589 A JP 16844589A JP H0335036 A JPH0335036 A JP H0335036A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- KPGXUAIFQMJJFB-UHFFFAOYSA-H tungsten hexachloride Chemical compound Cl[W](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)Cl KPGXUAIFQMJJFB-UHFFFAOYSA-H 0.000 claims abstract description 25
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 20
- -1 phosphorous acid ester Chemical class 0.000 claims abstract description 14
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 239000003607 modifier Substances 0.000 claims description 18
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 claims description 12
- OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N phosphorous acid Chemical compound OP(O)O OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims description 11
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 14
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 8
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 abstract description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 abstract description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 abstract description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 3
- ZUNGGJHBMLMRFJ-UHFFFAOYSA-O ethoxy-hydroxy-oxophosphanium Chemical compound CCO[P+](O)=O ZUNGGJHBMLMRFJ-UHFFFAOYSA-O 0.000 abstract description 3
- ZJXZSIYSNXKHEA-UHFFFAOYSA-L ethyl phosphate(2-) Chemical compound CCOP([O-])([O-])=O ZJXZSIYSNXKHEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 24
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 19
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 7
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- JYFHYPJRHGVZDY-UHFFFAOYSA-N Dibutyl phosphate Chemical compound CCCCOP(O)(=O)OCCCC JYFHYPJRHGVZDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 150000008301 phosphite esters Chemical class 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 239000000113 methacrylic resin Substances 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- GPOGLVDBOFRHDV-UHFFFAOYSA-N (2-nonylphenyl) dihydrogen phosphite Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1OP(O)O GPOGLVDBOFRHDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UWSMKYBKUPAEJQ-UHFFFAOYSA-N 5-Chloro-2-(3,5-di-tert-butyl-2-hydroxyphenyl)-2H-benzotriazole Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O UWSMKYBKUPAEJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IOVBFSRXGQUXIU-UHFFFAOYSA-N 5-hydroxy-2-methylpent-2-enoic acid phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O.OC(=O)C(C)=CCCO.OC(=O)C(C)=CCCO IOVBFSRXGQUXIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Natural products CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BNMJSBUIDQYHIN-UHFFFAOYSA-N butyl dihydrogen phosphate Chemical compound CCCCOP(O)(O)=O BNMJSBUIDQYHIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 2
- LXCYSACZTOKNNS-UHFFFAOYSA-N diethoxy(oxo)phosphanium Chemical compound CCO[P+](=O)OCC LXCYSACZTOKNNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphite Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 2
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANHAEBWRQNIPEV-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl dihydrogen phosphate Chemical compound OP(O)(=O)OCCCl ANHAEBWRQNIPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJKDOMVGKKPJBH-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl dihydrogen phosphate Chemical compound CCCCC(CC)COP(O)(O)=O LJKDOMVGKKPJBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIERETOOQGIECD-UHFFFAOYSA-N Angelic acid Natural products CC=C(C)C(O)=O UIERETOOQGIECD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMGHIGLOERPWGC-UHFFFAOYSA-N Bis-(2-chloroethyl) phosphate Chemical compound ClCCOP(=O)(O)OCCCl PMGHIGLOERPWGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MXAYLEWMDCXHOB-UHFFFAOYSA-N OP(O)OCC(Cl)CCl Chemical compound OP(O)OCC(Cl)CCl MXAYLEWMDCXHOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPWLFJWLOOPDRT-UHFFFAOYSA-N bis(2,3-dichloropropyl) hydrogen phosphite Chemical compound ClCC(Cl)COP(O)OCC(Cl)CCl LPWLFJWLOOPDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMKQJQJURXYLC-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexoxy)-oxophosphanium Chemical compound CCCCC(CC)CO[P+](=O)OCC(CC)CCCC ZLMKQJQJURXYLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKTGWOXVQUNCLN-UHFFFAOYSA-N bis(2-nonylphenyl) hydrogen phosphite Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1OP(O)OC1=CC=CC=C1CCCCCCCCC ZKTGWOXVQUNCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- OOSPDKSZPPFOBR-UHFFFAOYSA-N butyl dihydrogen phosphite Chemical compound CCCCOP(O)O OOSPDKSZPPFOBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- PYFRLDVYGBCYLI-UHFFFAOYSA-N decyl dihydrogen phosphite Chemical compound CCCCCCCCCCOP(O)O PYFRLDVYGBCYLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEGLCEQVOFDUPX-UHFFFAOYSA-N di-(2-ethylhexyl)phosphoric acid Chemical compound CCCCC(CC)COP(O)(=O)OCC(CC)CCCC SEGLCEQVOFDUPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVXOPEOQUQWRHQ-UHFFFAOYSA-N dibutyl phosphite Chemical compound CCCCOP([O-])OCCCC BVXOPEOQUQWRHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POWRQOUEUWZUNQ-UHFFFAOYSA-N didecyl phosphite Chemical compound CCCCCCCCCCOP([O-])OCCCCCCCCCC POWRQOUEUWZUNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCQFCFPECQILOL-UHFFFAOYSA-N diethyl hydrogen phosphate Chemical compound CCOP(O)(=O)OCC UCQFCFPECQILOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKXAFOJPRGDZPB-UHFFFAOYSA-N dioctadecoxy(oxo)phosphanium Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCO[P+](=O)OCCCCCCCCCCCCCCCCCC OKXAFOJPRGDZPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASMQGLCHMVWBQR-UHFFFAOYSA-M diphenyl phosphate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(=O)([O-])OC1=CC=CC=C1 ASMQGLCHMVWBQR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KUMNEOGIHFCNQW-UHFFFAOYSA-N diphenyl phosphite Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP([O-])OC1=CC=CC=C1 KUMNEOGIHFCNQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- CSWFWSPPZMEYAY-UHFFFAOYSA-N octadecyl dihydrogen phosphite Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOP(O)O CSWFWSPPZMEYAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- VCAFTIGPOYBOIC-UHFFFAOYSA-N phenyl dihydrogen phosphite Chemical compound OP(O)OC1=CC=CC=C1 VCAFTIGPOYBOIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMPQUABWPXYYSH-UHFFFAOYSA-N phenyl phosphate Chemical compound OP(O)(=O)OC1=CC=CC=C1 CMPQUABWPXYYSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 230000008635 plant growth Effects 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000004071 soot Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- YOUIDGQAIILFBW-UHFFFAOYSA-J tetrachlorotungsten Chemical compound Cl[W](Cl)(Cl)Cl YOUIDGQAIILFBW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- UIERETOOQGIECD-ONEGZZNKSA-N tiglic acid Chemical compound C\C=C(/C)C(O)=O UIERETOOQGIECD-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 1
- STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N tributyl phosphate Chemical compound CCCCOP(=O)(OCCCC)OCCCC STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTTGYFREQJCEML-UHFFFAOYSA-N tributyl phosphite Chemical compound CCCCOP(OCCCC)OCCCC XTTGYFREQJCEML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N triethyl phosphate Chemical compound CCOP(=O)(OCC)OCC DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDZBKCUKTQZUTL-UHFFFAOYSA-N triethyl phosphite Chemical compound CCOP(OCC)OCC BDZBKCUKTQZUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNUJLMSKURPSHE-UHFFFAOYSA-N trioctadecyl phosphite Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOP(OCCCCCCCCCCCCCCCCCC)OCCCCCCCCCCCCCCCCCC CNUJLMSKURPSHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)(=O)OC1=CC=CC=C1 XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCFIEBVTVHJMQR-UHFFFAOYSA-N tris(2,3-dichloropropyl) phosphite Chemical compound ClCC(Cl)COP(OCC(Cl)CCl)OCC(Cl)CCl FCFIEBVTVHJMQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQUQLFOMPYWACS-UHFFFAOYSA-N tris(2-chloroethyl) phosphate Chemical compound ClCCOP(=O)(OCCCl)OCCCl HQUQLFOMPYWACS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILLOBGFGKYTZRO-UHFFFAOYSA-N tris(2-ethylhexyl) phosphite Chemical compound CCCCC(CC)COP(OCC(CC)CCCC)OCC(CC)CCCC ILLOBGFGKYTZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQBLOZGVRHAYGT-UHFFFAOYSA-N tris-decyl phosphite Chemical compound CCCCCCCCCCOP(OCCCCCCCCCC)OCCCCCCCCCC QQBLOZGVRHAYGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Optical Filters (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、可視光線を比較的よく透過し近赤外線吸収能
に優れた新規な近赤外線吸収性改質剤およびその製造方
法に関するものである。
に優れた新規な近赤外線吸収性改質剤およびその製造方
法に関するものである。
従来、六塩化タングステン（Ｗ（１，）を用いて近赤外
線吸収性物質を得る方法としては例えば米国特許第３．
６９２，６８８号明細書に、ＷＣｌ、と塩化スス（Ｓｎ
Ｃｌ ｔ・２ＨｚＯ）をメタクリル酸メチルシラツブに
溶解することにより近赤外線吸収能を有する溶液が得ら
れ、さらにこれを重合して実質的にヘイズのない近赤外
線吸収能に優れた樹脂材料が得られることが開示されて
いる。
線吸収性物質を得る方法としては例えば米国特許第３．
６９２，６８８号明細書に、ＷＣｌ、と塩化スス（Ｓｎ
Ｃｌ ｔ・２ＨｚＯ）をメタクリル酸メチルシラツブに
溶解することにより近赤外線吸収能を有する溶液が得ら
れ、さらにこれを重合して実質的にヘイズのない近赤外
線吸収能に優れた樹脂材料が得られることが開示されて
いる。
しかしながら、上記従来技術の追試によれば、Ｗ（１，
とＳｎＣｌ ＊ ・２ＨｚＯをメタクリル−酸メチルシ
ラツブに溶解した＆Ｉｌ或物は濃青色に発色し近赤外線
をよく吸収する性質をもっているが、このＭｉ戒物の近
赤外線吸収能は経時変化を起こすため性能が劣化し、ま
た溶液が重合前駆体であるため保存安定性が悪く長期保
存することができないという欠点があった。さらに上記
組成物を鋳型に注入して重合して得られた鋳型板すなわ
ち近赤外線吸収性樹脂材料は褪色していると共に近赤外
線を吸収する能力が大巾に減少しており、これを紫外線
あるいは太陽光に曝露してはじめて再び濃青色を呈し近
赤外線吸収能を発揮し、一方暗所で長期間放置の間の褪
色するいわゆるフォトクロミズムを呈するため、Ｗ（Ｊ
＆とＳｎＣｊ！ ｔ・２１１ｆｆｉＯを用いた近赤外線
吸収材料は一定の品質を備えた光学的フィルターや熱線
吸収性グレージング等の工業製品を提供する上で好まし
くないという問題点を有していた。
とＳｎＣｌ ＊ ・２ＨｚＯをメタクリル−酸メチルシ
ラツブに溶解した＆Ｉｌ或物は濃青色に発色し近赤外線
をよく吸収する性質をもっているが、このＭｉ戒物の近
赤外線吸収能は経時変化を起こすため性能が劣化し、ま
た溶液が重合前駆体であるため保存安定性が悪く長期保
存することができないという欠点があった。さらに上記
組成物を鋳型に注入して重合して得られた鋳型板すなわ
ち近赤外線吸収性樹脂材料は褪色していると共に近赤外
線を吸収する能力が大巾に減少しており、これを紫外線
あるいは太陽光に曝露してはじめて再び濃青色を呈し近
赤外線吸収能を発揮し、一方暗所で長期間放置の間の褪
色するいわゆるフォトクロミズムを呈するため、Ｗ（Ｊ
＆とＳｎＣｊ！ ｔ・２１１ｆｆｉＯを用いた近赤外線
吸収材料は一定の品質を備えた光学的フィルターや熱線
吸収性グレージング等の工業製品を提供する上で好まし
くないという問題点を有していた。
またメタクリル酸メチルシラツブを反応溶媒として、こ
れに−Ｃ１，とＳｎＣＩＩ １Ｈ！０を溶解する方法の
ため、近赤外線吸収性樹脂材料の製造方法も限定され形
状、加工性、表面特性など工業製品として多様なニーズ
に応えることができないという問題点もあった。
れに−Ｃ１，とＳｎＣＩＩ １Ｈ！０を溶解する方法の
ため、近赤外線吸収性樹脂材料の製造方法も限定され形
状、加工性、表面特性など工業製品として多様なニーズ
に応えることができないという問題点もあった。
したがって、本発明は、上述の問題点を解決すべく、メ
タクリル酸メチルシラツブを反応溶媒として用いること
がなく、かつ近赤外線吸収能の良好な近赤外線吸収性改
質剤およびその製造方法を提供することを目的とする。
タクリル酸メチルシラツブを反応溶媒として用いること
がなく、かつ近赤外線吸収能の良好な近赤外線吸収性改
質剤およびその製造方法を提供することを目的とする。
本発明者等は、前記課題を解決すべく近赤外線吸収能の
重合時および経時的な不安定性を改良し、フォトクロミ
ズムを抑制することを特徴とする近赤外線吸収性改質剤
およびその製造方法について鋭意検討を重ねた結果、六
塩化タングステンとリン酸エステルおよび／または亜リ
ン酸エステルを反応させることによって得られる反応混
合物により本発明の目的が遠戚されることを見い出し、
本発明を完成した。
重合時および経時的な不安定性を改良し、フォトクロミ
ズムを抑制することを特徴とする近赤外線吸収性改質剤
およびその製造方法について鋭意検討を重ねた結果、六
塩化タングステンとリン酸エステルおよび／または亜リ
ン酸エステルを反応させることによって得られる反応混
合物により本発明の目的が遠戚されることを見い出し、
本発明を完成した。
すなわち、本発明の要旨とするところは、六塩化タング
ステンと、リン酸エステルおよび／または亜リン酸エス
テルとの反応混合物からなる近赤外線吸収性改質剤およ
びその製造方法にある。
ステンと、リン酸エステルおよび／または亜リン酸エス
テルとの反応混合物からなる近赤外線吸収性改質剤およ
びその製造方法にある。
以下本発明の詳細な説明する。
本発明において用いられるリン酸エステルは、次式（１
）で示されるフォスフェート （但し、式中ｎは１，２あるいは３であり、Ｒは炭素数
１〜１８のアルキル基、アリル基、アリール基、アラル
キル基、（メタ）アクリロキシアルキル基あるいはそれ
の誘導体を示す）であり、具体的には、モノエチルフォ
スフェート、ジエチルフォスフェート、トリエチルフォ
スフェート、モノブチルフォスフェート、ジブチルフォ
スフェート、トリブチルフォスフェート、モノプトキシ
エチルフォスフヱート、モノ（２−エチルヘキシル）フ
ォスフェート、ビス（２−エチルヘキシル）フォスフェ
ート、トリス（２−エチルヘキシル〉フォスフェート、
モノフェニルフォスフェート、ジフェニルフォスフェー
ト、トリフェニルフォスフェート、モノ （２−クロロ
エチル）フォスフェート、ビス（２−クロロエチル）フ
ォスフェート、トリス（２−クロロエチル）フォスフェ
ート、モノ （２−ヒドロキシエチルメタクリレート）
フォスフェート、ビス（２−ヒドロキシエチルメタクリ
レート）フォスフニー）、）リス（２−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート）フォスフェート等を好ましい例とし
てあげることができる。
）で示されるフォスフェート （但し、式中ｎは１，２あるいは３であり、Ｒは炭素数
１〜１８のアルキル基、アリル基、アリール基、アラル
キル基、（メタ）アクリロキシアルキル基あるいはそれ
の誘導体を示す）であり、具体的には、モノエチルフォ
スフェート、ジエチルフォスフェート、トリエチルフォ
スフェート、モノブチルフォスフェート、ジブチルフォ
スフェート、トリブチルフォスフェート、モノプトキシ
エチルフォスフヱート、モノ（２−エチルヘキシル）フ
ォスフェート、ビス（２−エチルヘキシル）フォスフェ
ート、トリス（２−エチルヘキシル〉フォスフェート、
モノフェニルフォスフェート、ジフェニルフォスフェー
ト、トリフェニルフォスフェート、モノ （２−クロロ
エチル）フォスフェート、ビス（２−クロロエチル）フ
ォスフェート、トリス（２−クロロエチル）フォスフェ
ート、モノ （２−ヒドロキシエチルメタクリレート）
フォスフェート、ビス（２−ヒドロキシエチルメタクリ
レート）フォスフニー）、）リス（２−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート）フォスフェート等を好ましい例とし
てあげることができる。
本発明において用いられる亜リン酸エステルは次式（２
）で示されるフォスファイト （但し式中ｎは１，２あるいは３であり、Ｒは炭素数１
〜１８のアルキル基、アリル基、アリール基、アラルキ
ル基、〈メタ）アクリロキシアルキル基あるいはそれの
誘導体を示す）で、具体的には、モノエチルフォスファ
イト、ジエチルフォスファイト、トリエチルフォスファ
イト、モノブチルフォスファイト、ジブチルフォスファ
イト、トリブチルフォスファイト、モノ 〈２−エチル
ヘキシル）フォスファイト、ビス（２−エチルヘキシル
）フォスファイト、トリス（２−エチルヘキシル）フォ
スファイト、モノデシルフォスファイト、ジデシルフォ
スファイト、トリデシルフォスファイト、モノステアリ
ルフォスファイト、ジステアリルフォスファイト、トリ
ステアリルフォスファイト、モノフェニルフォスファイ
ト、ジフェニルフォスファイト、トリフェニルフォスフ
ァイト、モノ （ノニルフェニル〉フォスファイト、ビ
ス（ノニルフェニル）フォスファイト、トリス（ノニル
フェニル）フォスファイト、モノ （２，３−ジクロロ
プロピル）フォスファイト、ビス（２，３−ジクロロプ
ロピル）フォスファイト、トリス（２，３−ジクロロプ
ロピル）フォスファイト等が好ましい例としてあげるこ
とができる。
）で示されるフォスファイト （但し式中ｎは１，２あるいは３であり、Ｒは炭素数１
〜１８のアルキル基、アリル基、アリール基、アラルキ
ル基、〈メタ）アクリロキシアルキル基あるいはそれの
誘導体を示す）で、具体的には、モノエチルフォスファ
イト、ジエチルフォスファイト、トリエチルフォスファ
イト、モノブチルフォスファイト、ジブチルフォスファ
イト、トリブチルフォスファイト、モノ 〈２−エチル
ヘキシル）フォスファイト、ビス（２−エチルヘキシル
）フォスファイト、トリス（２−エチルヘキシル）フォ
スファイト、モノデシルフォスファイト、ジデシルフォ
スファイト、トリデシルフォスファイト、モノステアリ
ルフォスファイト、ジステアリルフォスファイト、トリ
ステアリルフォスファイト、モノフェニルフォスファイ
ト、ジフェニルフォスファイト、トリフェニルフォスフ
ァイト、モノ （ノニルフェニル〉フォスファイト、ビ
ス（ノニルフェニル）フォスファイト、トリス（ノニル
フェニル）フォスファイト、モノ （２，３−ジクロロ
プロピル）フォスファイト、ビス（２，３−ジクロロプ
ロピル）フォスファイト、トリス（２，３−ジクロロプ
ロピル）フォスファイト等が好ましい例としてあげるこ
とができる。
本発明に用いる六塩化タングステン、リン酸エステルお
よび／または亜リン酸エステルの添加量及びその添加割
合は、近赤外線吸収改質剤の使用態様により広範囲の設
定することができ、特に限定を設ける必要はないが、リ
ン酸エステルおよび／または亜リン酸エステルの量は、
六塩化タングステン量に対して０．１倍モル以上、好ま
しくは１〜３００倍モル、さらに好ましくは２〜１００
倍モルが望ましい０例えば、透明樹脂に近赤外線吸収性
改質剤を添加する場合、リン酸エステルおよび／または
亜リン酸エステルが六塩化タングステンの０．１倍モル
未満では、近赤外線吸収能の向上が充分でない場合があ
り、近赤外線吸収能の経時的な安定性を考慮すると等モ
ル以上が好ましく、一方リン酸エステルおよび／または
亜リン酸エステルの量が多すぎると、樹脂の物性低下を
招きやすく好ましくない。
よび／または亜リン酸エステルの添加量及びその添加割
合は、近赤外線吸収改質剤の使用態様により広範囲の設
定することができ、特に限定を設ける必要はないが、リ
ン酸エステルおよび／または亜リン酸エステルの量は、
六塩化タングステン量に対して０．１倍モル以上、好ま
しくは１〜３００倍モル、さらに好ましくは２〜１００
倍モルが望ましい０例えば、透明樹脂に近赤外線吸収性
改質剤を添加する場合、リン酸エステルおよび／または
亜リン酸エステルが六塩化タングステンの０．１倍モル
未満では、近赤外線吸収能の向上が充分でない場合があ
り、近赤外線吸収能の経時的な安定性を考慮すると等モ
ル以上が好ましく、一方リン酸エステルおよび／または
亜リン酸エステルの量が多すぎると、樹脂の物性低下を
招きやすく好ましくない。
本発明における近赤外線吸収性改質剤は、六塩化タング
ステンとリン酸エステル、六塩化タングステンと亜リン
酸エステル、あるいは六塩化タングステンとリン酸エス
テルおよび亜リン酸エステルをそれぞれ出発原料として
得られる反応混合物であり、これらの原料が充分に混合
されるように撹拌しながら反応することが六塩化タング
ステン（ＷＣｌｉ）の溶解性の点から好ましい。このと
きリン酸エステルおよび／または亜リン酸エステルが液
体の場合には、この液体中にＷＣｌ、を添加して反応を
行ってもよく、あるいは溶媒中にＷＣＪ 。
ステンとリン酸エステル、六塩化タングステンと亜リン
酸エステル、あるいは六塩化タングステンとリン酸エス
テルおよび亜リン酸エステルをそれぞれ出発原料として
得られる反応混合物であり、これらの原料が充分に混合
されるように撹拌しながら反応することが六塩化タング
ステン（ＷＣｌｉ）の溶解性の点から好ましい。このと
きリン酸エステルおよび／または亜リン酸エステルが液
体の場合には、この液体中にＷＣｌ、を添加して反応を
行ってもよく、あるいは溶媒中にＷＣＪ 。
とリン酸エステルおよび／または亜リン酸エステルを添
加し反応を行ってもよい。また室温で固体のリン酸エス
テルおよび／または亜リン酸エステルの場合にはこれら
を融点以上に加熱し溶融状態において−ＣＩ１．を添加
して反応してもよく、あるいは溶媒に溶解させてから反
応を行ってもよい。
加し反応を行ってもよい。また室温で固体のリン酸エス
テルおよび／または亜リン酸エステルの場合にはこれら
を融点以上に加熱し溶融状態において−ＣＩ１．を添加
して反応してもよく、あるいは溶媒に溶解させてから反
応を行ってもよい。
溶媒としては、反応混合物を溶解し、溶媒沸点が反応温
度より著しく低くないものであれば特に限定はなく、ま
た溶媒の量としては少なくとも出発原料を溶解する程度
の量があればよい。
度より著しく低くないものであれば特に限定はなく、ま
た溶媒の量としては少なくとも出発原料を溶解する程度
の量があればよい。
本発明の近赤外線吸収性改質剤を得るための反応の条件
としては、室温あるいは室温より若干高い温度から出発
原料であるリン酸エステルあるいは亜リン酸エステルが
激しく分解を起こさない程度の温度以下で反応を行うこ
とが望ましく、具体的には２０〜２００℃、好ましくは
３０〜１８０℃、さらに好ましくは５０〜１５０℃の温
度で３０時間以下、好ましくは０．５〜２０時間、さら
に好ましくは１〜１０時間それぞれ反応を行なう。
としては、室温あるいは室温より若干高い温度から出発
原料であるリン酸エステルあるいは亜リン酸エステルが
激しく分解を起こさない程度の温度以下で反応を行うこ
とが望ましく、具体的には２０〜２００℃、好ましくは
３０〜１８０℃、さらに好ましくは５０〜１５０℃の温
度で３０時間以下、好ましくは０．５〜２０時間、さら
に好ましくは１〜１０時間それぞれ反応を行なう。
以上述べた如く、本発明の近赤外線吸収性改質剤は、六
塩化タングステンとリン酸エステルおよび／または亜リ
ン酸エステルとを反応せしめることによって得られるが
、更に、近赤外線吸収性能を向上し、経時的な安定性を
向上する目的で、上記反応系中に水を添加することがで
きる。水の添加時期は、六塩化タングステンとリン酸エ
ステルおよび／または亜リン酸エステルとを反応する前
、反応中、あるいは反応した後に添加してもよい。
塩化タングステンとリン酸エステルおよび／または亜リ
ン酸エステルとを反応せしめることによって得られるが
、更に、近赤外線吸収性能を向上し、経時的な安定性を
向上する目的で、上記反応系中に水を添加することがで
きる。水の添加時期は、六塩化タングステンとリン酸エ
ステルおよび／または亜リン酸エステルとを反応する前
、反応中、あるいは反応した後に添加してもよい。
また水の添加量は、六塩化タングステン量と等モル以上
が好ましく、沈殿が生成しない量、すなわち通常塩化タ
ングステン量の約５０倍モル以下である。
が好ましく、沈殿が生成しない量、すなわち通常塩化タ
ングステン量の約５０倍モル以下である。
本発明の近赤外線吸収性改質剤は、塗料、樹脂材料等に
添加することによって、簡便に近赤外線吸収性能を付与
することができ、熱線吸収材料、肉眼保護用フィルター
、半導体受光素子用赤外線吸収フィルター、赤外感光性
の感光材料用セーフライトフィルターへの利用や植物の
生育の制御等に使用することができる。・ 〔実施例〕 以下、本発明を具体的実施例をもって説明する。
添加することによって、簡便に近赤外線吸収性能を付与
することができ、熱線吸収材料、肉眼保護用フィルター
、半導体受光素子用赤外線吸収フィルター、赤外感光性
の感光材料用セーフライトフィルターへの利用や植物の
生育の制御等に使用することができる。・ 〔実施例〕 以下、本発明を具体的実施例をもって説明する。
なお透過スペクトルおよび透過率は分光光度計（＠Ｉ日
立製作所製：Ｕ−３４１０型）で測定した。
立製作所製：Ｕ−３４１０型）で測定した。
実施例１
１００ｍｊ！三つロフラスコに六塩化タングステン（ｗ
ｃｌｈ） １８．０ ｇとモノブチルフォスフェート
とジブチルフォスフェートの混合物（城北化学工業ＫＫ
製： ＪＰ−５０４）３７．０ｇ （平均分子量でＷ（
Ｊ６の４，５倍モル）を入れテフロン製の撹拌棒・羽根
で撹拌する。三つロフラスコをオイルバス中で徐々に加
熱していくと、５０℃程度で塩化水素ガスの発生がみら
れ、溶液の色は６０℃程度で緑色、９０℃で青色に変化
し、さらに温度を１２０℃まで加熱すると塩化水素ガス
の発生は僅かになり、この後１２０℃でさらに３時間撹
拌加熱を行なって、粘度のある近赤外線吸収能を有する
溶液を得た。
ｃｌｈ） １８．０ ｇとモノブチルフォスフェート
とジブチルフォスフェートの混合物（城北化学工業ＫＫ
製： ＪＰ−５０４）３７．０ｇ （平均分子量でＷ（
Ｊ６の４，５倍モル）を入れテフロン製の撹拌棒・羽根
で撹拌する。三つロフラスコをオイルバス中で徐々に加
熱していくと、５０℃程度で塩化水素ガスの発生がみら
れ、溶液の色は６０℃程度で緑色、９０℃で青色に変化
し、さらに温度を１２０℃まで加熱すると塩化水素ガス
の発生は僅かになり、この後１２０℃でさらに３時間撹
拌加熱を行なって、粘度のある近赤外線吸収能を有する
溶液を得た。
得られた反応混合物溶液を酢酸エチルに０．３３重量％
の割合で溶解させた溶液を３１１セルに入れ透過スペク
トルを測定した。この結果を第１図中Ａで示すが、反応
液を含まない酢酸エチルのスペクトルＢとの比較かられ
かるように、この近赤外線吸収性付与剤は可視の光は比
較的よく透過するとともに優れた近赤外線吸収能を示し
た。
の割合で溶解させた溶液を３１１セルに入れ透過スペク
トルを測定した。この結果を第１図中Ａで示すが、反応
液を含まない酢酸エチルのスペクトルＢとの比較かられ
かるように、この近赤外線吸収性付与剤は可視の光は比
較的よく透過するとともに優れた近赤外線吸収能を示し
た。
実施例２
実施例１で得られた近赤外線吸収性を有する溶液２ｇに
水を０．０３ ｇ添加し加熱しながら溶解した。得られ
た溶液を酢酸エチルに０．３３重量％溶解した液につい
て透過スペクトルを測定し、第１表に４００＝１４００
ｎＩ１１における透過率を示すが、実施例１で得られた
溶液の近赤外域における吸収能がさらに向上していた。
水を０．０３ ｇ添加し加熱しながら溶解した。得られ
た溶液を酢酸エチルに０．３３重量％溶解した液につい
て透過スペクトルを測定し、第１表に４００＝１４００
ｎＩ１１における透過率を示すが、実施例１で得られた
溶液の近赤外域における吸収能がさらに向上していた。
実施例３
三つロフラスコにジエチルフォスファイト２０ｇと六塩
化タングステン２ｇを入れ撹拌混合しながら徐々に温度
を上げて、１００℃に到達した後この温度で１時間反応
を行った後、さらにこれに水を０．０１ｇを添加し反応
を継続した。この反応混合物溶液をジクロロエタンの中
で２重量％の濃度になるように溶液を調製し透過率を測
定した。
化タングステン２ｇを入れ撹拌混合しながら徐々に温度
を上げて、１００℃に到達した後この温度で１時間反応
を行った後、さらにこれに水を０．０１ｇを添加し反応
を継続した。この反応混合物溶液をジクロロエタンの中
で２重量％の濃度になるように溶液を調製し透過率を測
定した。
この結果を第１表に示す。
実施例４．５
三つロフラスコに六塩化タングステンとリン酸エステル
を第２表記載のような組成割合で添加混合し、１２０℃
で３時間加熱撹拌して反応を行ない、近赤外線吸収能を
有する反応液を得た。得られたこれらの反応混合物溶液
について透過スペクトルを測定し、第１表に４００〜１
４ＱＯｎｓにおける透過率を示した。この結果かられか
るように実施例１で得られた反応液と同様近赤外線の吸
収能がすぐれていた。
を第２表記載のような組成割合で添加混合し、１２０℃
で３時間加熱撹拌して反応を行ない、近赤外線吸収能を
有する反応液を得た。得られたこれらの反応混合物溶液
について透過スペクトルを測定し、第１表に４００〜１
４ＱＯｎｓにおける透過率を示した。この結果かられか
るように実施例１で得られた反応液と同様近赤外線の吸
収能がすぐれていた。
実施例６
１００■ｌ三つロフラスコにフタル酸ジオクチル２０．
０“ｇを入れ、これに六塩化タングステン４．０ｇとジ
ブチルフォスフェート（■大へ化学工業所製：ＤＰ−４
） １．０ｇ （−Ｃ１ｋの０．５倍モル）を加え１０
０℃で１時間加熱撹拌し、近赤外線吸収性を有する溶液
を得た。これを酢酸エチルに１．７５％の濃度で溶解し
透過率を測定した。この結果を第１表に示す。
０“ｇを入れ、これに六塩化タングステン４．０ｇとジ
ブチルフォスフェート（■大へ化学工業所製：ＤＰ−４
） １．０ｇ （−Ｃ１ｋの０．５倍モル）を加え１０
０℃で１時間加熱撹拌し、近赤外線吸収性を有する溶液
を得た。これを酢酸エチルに１．７５％の濃度で溶解し
透過率を測定した。この結果を第１表に示す。
実施例７
１００＋４！三つロフラスコにフタル酸ジオクチル２０
．０ ｇを入れ、これに六塩化タングステン４．０ｇと
ジブチルフォスフェート（−大へ化学工業所製： ＤＰ
−４） ８．５ ｇ （ＷＣｊ！ｉの４倍モル）を加え
１００℃で１時間加熱撹拌し、近赤外線吸収性を有する
反応混合物溶液を得た。これを酢酸エチルに０．５％の
濃度で溶解し透過率を測定した。
．０ ｇを入れ、これに六塩化タングステン４．０ｇと
ジブチルフォスフェート（−大へ化学工業所製： ＤＰ
−４） ８．５ ｇ （ＷＣｊ！ｉの４倍モル）を加え
１００℃で１時間加熱撹拌し、近赤外線吸収性を有する
反応混合物溶液を得た。これを酢酸エチルに０．５％の
濃度で溶解し透過率を測定した。
この結果を第１表に示す。
応用例１
実施例１で得られた反応溶液０．２７ ｇを予め０．２
ｇの水を溶解したメタクリル酸メチル５０ｇに添加混合
し、紫外線吸収剤としてＴｉｎｕｖｉｎ ３２７（ＣＩ
ＢＡ−ＧｆｉＩＧＹ社製）０．３ｇ、重合触媒として２
．２−アゾビス−２，４−ジメチルバレロニトリル０．
０７ｇを添加し溶解させた。常法に従って、ガスケット
を２枚の平行なガラス板にはさんだ鋳型間に注入し、６
０℃の水槽に３時間浸漬し、ついで１２０℃の空気槽で
２時間加熱を行って重合を完了させ、冷却後ガラスより
＃Ｊ＃させて板厚３．１５ｍの樹脂板を得た。
ｇの水を溶解したメタクリル酸メチル５０ｇに添加混合
し、紫外線吸収剤としてＴｉｎｕｖｉｎ ３２７（ＣＩ
ＢＡ−ＧｆｉＩＧＹ社製）０．３ｇ、重合触媒として２
．２−アゾビス−２，４−ジメチルバレロニトリル０．
０７ｇを添加し溶解させた。常法に従って、ガスケット
を２枚の平行なガラス板にはさんだ鋳型間に注入し、６
０℃の水槽に３時間浸漬し、ついで１２０℃の空気槽で
２時間加熱を行って重合を完了させ、冷却後ガラスより
＃Ｊ＃させて板厚３．１５ｍの樹脂板を得た。
得られた樹脂板の透過スペクトルを第２図中のＣで示す
が、同図に示す板厚３田の通常のメタクリル樹脂板（協
和ガス化学工業■製；バラグラス）の透過スペクトルＤ
との比較かられかるように、この樹脂板は可視域の光は
比較的よく透過するとともに通常のメタクリル樹脂板に
比較して優れた近赤外域の吸収能を示した。
が、同図に示す板厚３田の通常のメタクリル樹脂板（協
和ガス化学工業■製；バラグラス）の透過スペクトルＤ
との比較かられかるように、この樹脂板は可視域の光は
比較的よく透過するとともに通常のメタクリル樹脂板に
比較して優れた近赤外域の吸収能を示した。
応用例２
実施例６で得られた反応溶液０．８３ ｇをメタクリル
酸メチル５０ｇに溶解させ、紫外線吸収剤としてＴｉｎ
ｕｖｉｎ ３２７ （ＣＩＢＡ−ＧＥＩＧＹ社製）０
．３ｇを添加した後重合触媒として２．２ −アゾビス
−２，４−ジメチルバレロニトリル０．０７ ｇを添加
混合し、応用例１と同様にして重合を行ない板厚３、２
Ｉ ｎの近赤外線吸収性を有する樹脂板を得た。
酸メチル５０ｇに溶解させ、紫外線吸収剤としてＴｉｎ
ｕｖｉｎ ３２７ （ＣＩＢＡ−ＧＥＩＧＹ社製）０
．３ｇを添加した後重合触媒として２．２ −アゾビス
−２，４−ジメチルバレロニトリル０．０７ ｇを添加
混合し、応用例１と同様にして重合を行ない板厚３、２
Ｉ ｎの近赤外線吸収性を有する樹脂板を得た。
この樹脂板の透過スペクトルを第２図中のＥで示す。
本発明は以上述べたように、六塩化タングステンとリン
酸エステルおよび／または亜リン酸エステルとの反応混
合物からなる近赤外線吸収性改質剤であるから、得られ
た反応混合物は可視域において比較的高い透過率を示し
、近赤外域においてはよく光を吸収するすぐれた性能を
有する。得られる近赤外線吸収性物質は反応混合物の形
であるので種々の方法で近赤外線吸収材料に含有させる
ことができ有用である。応用例として挙げたキャスト重
合によって得られた板も重合過程において近赤外線吸収
性能の減少はなく、暗所に長期間放置により褪色すると
いうフォトクロミズムも見られず性能の安定した材料を
得ることができる。
酸エステルおよび／または亜リン酸エステルとの反応混
合物からなる近赤外線吸収性改質剤であるから、得られ
た反応混合物は可視域において比較的高い透過率を示し
、近赤外域においてはよく光を吸収するすぐれた性能を
有する。得られる近赤外線吸収性物質は反応混合物の形
であるので種々の方法で近赤外線吸収材料に含有させる
ことができ有用である。応用例として挙げたキャスト重
合によって得られた板も重合過程において近赤外線吸収
性能の減少はなく、暗所に長期間放置により褪色すると
いうフォトクロミズムも見られず性能の安定した材料を
得ることができる。
また、本発明は、六塩化タングステンとリン酸エステル
および／または亜リン酸エステルとを反応せしめる近赤
外線吸水性改質剤の製造方法であるから、上記の如く有
用な近赤外線吸水性改質剤を簡便かつ容易に提供するこ
とができる。
および／または亜リン酸エステルとを反応せしめる近赤
外線吸水性改質剤の製造方法であるから、上記の如く有
用な近赤外線吸水性改質剤を簡便かつ容易に提供するこ
とができる。
第１図は実施例１で得られた近赤外線吸収性改質剤を酢
酸エチルに溶解させた透過スペクトル（Ａ）および酢酸
エチルの透過スペクトル（Ｂ）を表わしたものである。 第２図は応用例１．２で得られた近赤外線吸収性を有す
る樹脂板の透過スペクトル（Ｃ）、（Ｅ）および通常の
メタクリル樹脂板の透過スペクトル（Ｄ）を表わしたも
のである。
酸エチルに溶解させた透過スペクトル（Ａ）および酢酸
エチルの透過スペクトル（Ｂ）を表わしたものである。 第２図は応用例１．２で得られた近赤外線吸収性を有す
る樹脂板の透過スペクトル（Ｃ）、（Ｅ）および通常の
メタクリル樹脂板の透過スペクトル（Ｄ）を表わしたも
のである。
Claims (3)
- （１）六塩化タングステンと、リン酸エステルおよび／
または亜リン酸エステルとの反応混合物からなる近赤外
線吸収性改質剤。 - （２）六塩化タングステンと、リン酸エステルおよび／
または亜リン酸エステルとを反応せしめることを特徴と
する近赤外線吸収性改質剤の製造方法。 - （３）水を添加して反応せしめることを特徴とする請求
項２記載の近赤外線吸収性改質剤の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1168445A JP2882641B2 (ja) | 1989-06-30 | 1989-06-30 | 近赤外線吸収性改質剤およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1168445A JP2882641B2 (ja) | 1989-06-30 | 1989-06-30 | 近赤外線吸収性改質剤およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0335036A true JPH0335036A (ja) | 1991-02-15 |
| JP2882641B2 JP2882641B2 (ja) | 1999-04-12 |
Family
ID=15868248
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1168445A Expired - Fee Related JP2882641B2 (ja) | 1989-06-30 | 1989-06-30 | 近赤外線吸収性改質剤およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2882641B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05163408A (ja) * | 1991-12-16 | 1993-06-29 | Daicel Chem Ind Ltd | 近赤外線吸収メタクリル系樹脂組成物及びその成形体 |
| JPH05179228A (ja) * | 1992-01-06 | 1993-07-20 | Daicel Chem Ind Ltd | 近赤外線吸収剤用組成物並びに近赤外線吸収材料及びそれらを含有した成形体 |
| WO2019093525A1 (ja) * | 2017-11-13 | 2019-05-16 | 住友金属鉱山株式会社 | 長期安定性に優れる吸収微粒子分散液および吸収微粒子分散体と、それらの製造方法 |
-
1989
- 1989-06-30 JP JP1168445A patent/JP2882641B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05163408A (ja) * | 1991-12-16 | 1993-06-29 | Daicel Chem Ind Ltd | 近赤外線吸収メタクリル系樹脂組成物及びその成形体 |
| JPH05179228A (ja) * | 1992-01-06 | 1993-07-20 | Daicel Chem Ind Ltd | 近赤外線吸収剤用組成物並びに近赤外線吸収材料及びそれらを含有した成形体 |
| WO2019093525A1 (ja) * | 2017-11-13 | 2019-05-16 | 住友金属鉱山株式会社 | 長期安定性に優れる吸収微粒子分散液および吸収微粒子分散体と、それらの製造方法 |
| CN111344376A (zh) * | 2017-11-13 | 2020-06-26 | 住友金属矿山株式会社 | 长期稳定性优异的吸收微粒分散液和吸收微粒分散体及它们的制造方法 |
| JPWO2019093525A1 (ja) * | 2017-11-13 | 2020-11-19 | 住友金属鉱山株式会社 | 長期安定性に優れる吸収微粒子分散液および吸収微粒子分散体と、それらの製造方法 |
| US11578184B2 (en) | 2017-11-13 | 2023-02-14 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Absorbing fine particle dispersion liquid and absorbing fine particles dispersion body having excellent long-term stability, and method for producing them |
| CN111344376B (zh) * | 2017-11-13 | 2023-10-13 | 住友金属矿山株式会社 | 长期稳定性优异的吸收微粒分散液和吸收微粒分散体及它们的制造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2882641B2 (ja) | 1999-04-12 |
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