JP2882641B2 - 近赤外線吸収性改質剤およびその製造方法 - Google Patents
近赤外線吸収性改質剤およびその製造方法Info
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- JP2882641B2 JP2882641B2 JP1168445A JP16844589A JP2882641B2 JP 2882641 B2 JP2882641 B2 JP 2882641B2 JP 1168445 A JP1168445 A JP 1168445A JP 16844589 A JP16844589 A JP 16844589A JP 2882641 B2 JP2882641 B2 JP 2882641B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、可視光線を比較的よく透過し近赤外線吸収
能に優れた新規な近赤外線吸収性改質剤およびその製造
方法に関するものである。
能に優れた新規な近赤外線吸収性改質剤およびその製造
方法に関するものである。
従来、六塩化タングステン（WCl6）を用いて近赤外線
吸収性物質を得る方法としては例えば米国特許第3,692,
688号明細書に、WCl6と塩化スズ（SnCl2・2H2O）をメタ
クリル酸メチルシラップに溶解することにより近赤外線
吸収能を有する溶液が得られ、さらにこれを重合して実
質的にヘイズのない近赤外線吸収能に優れた樹脂材料が
得られることが開示されている。
吸収性物質を得る方法としては例えば米国特許第3,692,
688号明細書に、WCl6と塩化スズ（SnCl2・2H2O）をメタ
クリル酸メチルシラップに溶解することにより近赤外線
吸収能を有する溶液が得られ、さらにこれを重合して実
質的にヘイズのない近赤外線吸収能に優れた樹脂材料が
得られることが開示されている。
しかしながら、上記従来技術の追試によれば、WCl6と
SnCl2・2H2Oをメタクリル酸メチルシラップに溶解した
組成物は濃青色に発色し近赤外線をよく吸収する性質を
もっているが、この組成物の近赤外線吸収能は経時変化
を起こすため性能が劣化し、また溶液が重合前駆体であ
るため保存安定性が悪く長期保存することができないと
いう欠点があった。さらに上記組成物を鋳型に注入して
重合して得られた鋳型板すなわち近赤外線吸収性樹脂材
料は褪色していると共に近赤外線を吸収する能力が大巾
に減少しており、これを紫外線あるいは太陽光に曝露し
てはじめて再び濃青色を呈し近赤外線吸収能を発揮し、
一方暗所で長期間放置の間の褪色するいわゆるフォトク
ロミズムを呈するため、WCl6とSnCl2・2H2Oを用いて近
赤外線吸収材料は一定の品質を備えた光学的フィルター
や熱線吸収性グレージング等の工業製品を提供する上で
好ましくないという問題点を有していた。
SnCl2・2H2Oをメタクリル酸メチルシラップに溶解した
組成物は濃青色に発色し近赤外線をよく吸収する性質を
もっているが、この組成物の近赤外線吸収能は経時変化
を起こすため性能が劣化し、また溶液が重合前駆体であ
るため保存安定性が悪く長期保存することができないと
いう欠点があった。さらに上記組成物を鋳型に注入して
重合して得られた鋳型板すなわち近赤外線吸収性樹脂材
料は褪色していると共に近赤外線を吸収する能力が大巾
に減少しており、これを紫外線あるいは太陽光に曝露し
てはじめて再び濃青色を呈し近赤外線吸収能を発揮し、
一方暗所で長期間放置の間の褪色するいわゆるフォトク
ロミズムを呈するため、WCl6とSnCl2・2H2Oを用いて近
赤外線吸収材料は一定の品質を備えた光学的フィルター
や熱線吸収性グレージング等の工業製品を提供する上で
好ましくないという問題点を有していた。
またメタクリル酸メチルシラップを反応溶媒として、
これにWCl6とSnCl2・2H2Oを溶解する方法のため、近赤
外線吸収性樹脂材料の製造方法も限定され形状、加工
性、表面特性など工業製品として多様なニーズに応える
ことができないという問題点もあった。
これにWCl6とSnCl2・2H2Oを溶解する方法のため、近赤
外線吸収性樹脂材料の製造方法も限定され形状、加工
性、表面特性など工業製品として多様なニーズに応える
ことができないという問題点もあった。
したがって、本発明は、上述の問題点を解決するべ
く、メタクリル酸メチルシラップを反応溶媒として用い
ることがなく、かつ近赤外線吸収能の良好な近赤外線吸
収性改質剤およびその製造方法を提供することを目的と
する。
く、メタクリル酸メチルシラップを反応溶媒として用い
ることがなく、かつ近赤外線吸収能の良好な近赤外線吸
収性改質剤およびその製造方法を提供することを目的と
する。
本発明者等は、前記課題を解決すべく近赤外線吸収能
の重合時および経時的な不安定性を改良し、フォトクロ
ミズムを抑制することを特徴とする近赤外線吸収性改質
剤およびその製造方法について鋭意検討を重ねた結果、
六塩化タングステンとリン酸エステルおよび／または亜
リン酸エステルを反応させることによって得られる反応
混合物により本発明の目的か達成されることを見い出
し、本発明を完成した。
の重合時および経時的な不安定性を改良し、フォトクロ
ミズムを抑制することを特徴とする近赤外線吸収性改質
剤およびその製造方法について鋭意検討を重ねた結果、
六塩化タングステンとリン酸エステルおよび／または亜
リン酸エステルを反応させることによって得られる反応
混合物により本発明の目的か達成されることを見い出
し、本発明を完成した。
すなわち、本発明の要旨とするところは、六塩化タン
グステンと、六塩化タングステンに対して0.1倍モル以
上の次式（１） （但し、式中ｎは1,2あるいは３であり、Ｒは炭素数１
〜18である、置換基を有していてもよいアルキル基、ア
リル基、アリール基、アラルキル基、（メタ）アクリロ
キシアルキル基を示す） で示されるリン酸エステルおよび／または次式（２） （但し、式中ｎは1,2あるいは３であり、Ｒは炭素数１
〜18である、置換基を有していてもよいアルキル基、ア
リル基、アリール基、アラルキル基、（メタ）アクリロ
キシアルキル基を示す） で示される亜リン酸エステルとの反応混合物からなる近
赤外線吸収性改質剤およびその製造方法にある。
グステンと、六塩化タングステンに対して0.1倍モル以
上の次式（１） （但し、式中ｎは1,2あるいは３であり、Ｒは炭素数１
〜18である、置換基を有していてもよいアルキル基、ア
リル基、アリール基、アラルキル基、（メタ）アクリロ
キシアルキル基を示す） で示されるリン酸エステルおよび／または次式（２） （但し、式中ｎは1,2あるいは３であり、Ｒは炭素数１
〜18である、置換基を有していてもよいアルキル基、ア
リル基、アリール基、アラルキル基、（メタ）アクリロ
キシアルキル基を示す） で示される亜リン酸エステルとの反応混合物からなる近
赤外線吸収性改質剤およびその製造方法にある。
以下本発明を詳細に説明する。
本発明において用いられるリン酸エステルは、次式
（１）で示されるフォスフェート （但し、式中ｎは1,2あるいは３であり、Ｒは炭素数１
〜18である、置換基を有していてもよいアルキル基、ア
リル基、アリール基、アラルキル基、（メタ）アクリロ
キシルアルキル基を示す）であり、具体的には、モノエ
チルフワスフェート、ジエチルフォスフェート、トリエ
チルフォスフェート、モノブチルフォスフェート、ジブ
チルフォスフェート、トリブチルフォスフェート、モノ
ブトキシエチルフォスフェート、モノ（２−エチルヘキ
シル）フォスフェート、ビス（２−エチルヘキシル）フ
ォスフェート、トリス（２−エチルヘキシル）フォスフ
ェート、モノフェニルフォスフェート、ジフェニルフォ
スフェート、トリフェニルフォスフェート、モノ（２−
クロロエチル）フォスフェート、ビス（２−クロロエチ
ル）フォスフェート、トリス（２−クロロエチル）フォ
スフェート、モノ（２−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト）フォスフェート、ビス（２−ヒドロキシエチルメタ
クリレート）フォスフェート、トリス（２−ヒドロキシ
エチルメタクリレート）フォスフェート等を好ましい例
としてあげることができる。
（１）で示されるフォスフェート （但し、式中ｎは1,2あるいは３であり、Ｒは炭素数１
〜18である、置換基を有していてもよいアルキル基、ア
リル基、アリール基、アラルキル基、（メタ）アクリロ
キシルアルキル基を示す）であり、具体的には、モノエ
チルフワスフェート、ジエチルフォスフェート、トリエ
チルフォスフェート、モノブチルフォスフェート、ジブ
チルフォスフェート、トリブチルフォスフェート、モノ
ブトキシエチルフォスフェート、モノ（２−エチルヘキ
シル）フォスフェート、ビス（２−エチルヘキシル）フ
ォスフェート、トリス（２−エチルヘキシル）フォスフ
ェート、モノフェニルフォスフェート、ジフェニルフォ
スフェート、トリフェニルフォスフェート、モノ（２−
クロロエチル）フォスフェート、ビス（２−クロロエチ
ル）フォスフェート、トリス（２−クロロエチル）フォ
スフェート、モノ（２−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト）フォスフェート、ビス（２−ヒドロキシエチルメタ
クリレート）フォスフェート、トリス（２−ヒドロキシ
エチルメタクリレート）フォスフェート等を好ましい例
としてあげることができる。
本発明において用いられる亜リン酸エステルは次式
（２）で示されるフォスファイト （但し式中ｎは1,2あるいは３であり、Ｒは炭素数１〜1
8である、置換基を有していてもよいアルキル基、アリ
ル基、アリール基、アラルキル基、（メタ）アクリロキ
シルアルキル基を示す）で、具体的には、モノエチルフ
ォスファイト、ジエチルフォスファイト、トリエチルフ
ォスファイト、モノブチルフォスファイト、ジブチルフ
ォスファイト、トリブチルフォスファイト、モノ（２−
エチルヘキシル）フォスファイト、ビス（２−エチルヘ
キシル）フォスファイト、トリス（２−エチルヘキシ
ル）フォスファイト、モノデシルフォスファイト、ジデ
シルフォスファイト、トリデシルフォスファイト、モノ
ステアリルフォスファイト、ジステアリルフォスファイ
ト、トリステアリルフォスファイト、モノフェニルフォ
スファイト、ジフェニルフォスファイト、トリフェニル
フォスファイト、モノ（ノニルフェニル）フォスファイ
ト、ビス（ノニルフェニル）フォスファイト、トリス
（ノニルフェニル）フォスファイト、モノ（2,3−ジク
ロロプロピル）フォスファイト、ビス（2,3−ジクロロ
プロピル）フォスファイト、トリス（2,3−ジクロロプ
ロピル）フォスファイト等が好ましい例としてあげるこ
とができる。
（２）で示されるフォスファイト （但し式中ｎは1,2あるいは３であり、Ｒは炭素数１〜1
8である、置換基を有していてもよいアルキル基、アリ
ル基、アリール基、アラルキル基、（メタ）アクリロキ
シルアルキル基を示す）で、具体的には、モノエチルフ
ォスファイト、ジエチルフォスファイト、トリエチルフ
ォスファイト、モノブチルフォスファイト、ジブチルフ
ォスファイト、トリブチルフォスファイト、モノ（２−
エチルヘキシル）フォスファイト、ビス（２−エチルヘ
キシル）フォスファイト、トリス（２−エチルヘキシ
ル）フォスファイト、モノデシルフォスファイト、ジデ
シルフォスファイト、トリデシルフォスファイト、モノ
ステアリルフォスファイト、ジステアリルフォスファイ
ト、トリステアリルフォスファイト、モノフェニルフォ
スファイト、ジフェニルフォスファイト、トリフェニル
フォスファイト、モノ（ノニルフェニル）フォスファイ
ト、ビス（ノニルフェニル）フォスファイト、トリス
（ノニルフェニル）フォスファイト、モノ（2,3−ジク
ロロプロピル）フォスファイト、ビス（2,3−ジクロロ
プロピル）フォスファイト、トリス（2,3−ジクロロプ
ロピル）フォスファイト等が好ましい例としてあげるこ
とができる。
本発明に用いる六塩化タングステン、リン酸エステル
および／または亜リン酸エステルの添加量及びその添加
割合は、近赤外線吸収改質剤の使用態様により広範囲の
設定することができるが、リン酸エステルおよび／また
は亜リン酸エステルの量は、六塩化タンクステン量に対
して0.1倍モル以上であることが必要であり、好ましく
は１〜300倍モル、さらに好ましくは２〜100倍モルであ
る。透明樹脂に近赤外線吸収性改質剤を添加する場合、
リン酸エステルおよび／または亜リン酸エステルが六塩
化タングステンの0.1倍モル未満では、近赤外線吸収能
の向上が充分でない場合があり、近赤外線吸収能の経時
的な安定性を考慮すると等モル以上が好ましく、一方リ
ン酸エステルおよひ／または亜リン酸エステルの量が多
すぎると、樹脂の物性低下を招きやすく好ましくない。
および／または亜リン酸エステルの添加量及びその添加
割合は、近赤外線吸収改質剤の使用態様により広範囲の
設定することができるが、リン酸エステルおよび／また
は亜リン酸エステルの量は、六塩化タンクステン量に対
して0.1倍モル以上であることが必要であり、好ましく
は１〜300倍モル、さらに好ましくは２〜100倍モルであ
る。透明樹脂に近赤外線吸収性改質剤を添加する場合、
リン酸エステルおよび／または亜リン酸エステルが六塩
化タングステンの0.1倍モル未満では、近赤外線吸収能
の向上が充分でない場合があり、近赤外線吸収能の経時
的な安定性を考慮すると等モル以上が好ましく、一方リ
ン酸エステルおよひ／または亜リン酸エステルの量が多
すぎると、樹脂の物性低下を招きやすく好ましくない。
本発明における近赤外線吸収性改質剤は、六塩化タン
グステンとリン酸エステル、六塩化タングステンと亜リ
ン酸エステル、あるいは六塩化タングステンとリン酸エ
ステルおよび亜リン酸エステルをそれぞれ出発原料とし
て得られる反応混合物であり、これらの原料が充分に混
合されるように撹拌しながら反応することが六塩化タン
グステン（WCl6）の溶解性の点から好ましい。このとき
リン酸エステルおよび／または亜リン酸エステルが液体
の場合には、この液体中にWCl6を添加して反応を行って
もよく、あるいは溶媒中にWCl6とリン酸エステルおよび
／または亜リン酸エステルを添加し反応を行ってもよ
い。また室温で固体のリン酸エステルの場合にはこれら
を融点以上に加熱し溶融状態においてWCl6を添加して反
応してもよく、あるいは溶媒に溶解させてから反応を行
ってもよい。溶媒としては、反応混合物を溶解し、溶媒
沸点が反応温度より著しく低くないものであれば特に限
定はなく、また溶媒の量としては少なくとも出発原料を
溶解する程度の量があればよい。
グステンとリン酸エステル、六塩化タングステンと亜リ
ン酸エステル、あるいは六塩化タングステンとリン酸エ
ステルおよび亜リン酸エステルをそれぞれ出発原料とし
て得られる反応混合物であり、これらの原料が充分に混
合されるように撹拌しながら反応することが六塩化タン
グステン（WCl6）の溶解性の点から好ましい。このとき
リン酸エステルおよび／または亜リン酸エステルが液体
の場合には、この液体中にWCl6を添加して反応を行って
もよく、あるいは溶媒中にWCl6とリン酸エステルおよび
／または亜リン酸エステルを添加し反応を行ってもよ
い。また室温で固体のリン酸エステルの場合にはこれら
を融点以上に加熱し溶融状態においてWCl6を添加して反
応してもよく、あるいは溶媒に溶解させてから反応を行
ってもよい。溶媒としては、反応混合物を溶解し、溶媒
沸点が反応温度より著しく低くないものであれば特に限
定はなく、また溶媒の量としては少なくとも出発原料を
溶解する程度の量があればよい。
本発明の近赤外線吸収性改質剤を得るための反応の条
件としては、室温あるいは室温より若干高い温度から出
発原料であるリン酸エステルあるいは亜リン酸エステル
が激しく分解を起こさない程度の温度以下で反応を行う
ことが望ましく、具体的には20〜200℃、好ましくは30
〜180℃、さらに好ましくは50〜150℃の温度で30時間以
下、好ましくは0.5〜20時間、さらに好ましくは１〜10
時間それぞれ反応を行なう。
件としては、室温あるいは室温より若干高い温度から出
発原料であるリン酸エステルあるいは亜リン酸エステル
が激しく分解を起こさない程度の温度以下で反応を行う
ことが望ましく、具体的には20〜200℃、好ましくは30
〜180℃、さらに好ましくは50〜150℃の温度で30時間以
下、好ましくは0.5〜20時間、さらに好ましくは１〜10
時間それぞれ反応を行なう。
以上述べた如く、本発明の近赤外線吸収性改質剤は、
六塩化タングステンとリン酸エステルおよび／または亜
リン酸エステルとを反応せしめることによって得られる
が、更に、近赤外線吸収性能を向上し、経時的な安定性
を向上する目的で、上記反応系中に水を添加することが
できる。水の添加時期は、六塩化タングステンとリン酸
エステルおよび／または亜リン酸エステルとを反応する
前、反応中、あるいは反応した後に添加してもよい。ま
た水の添加量は、六塩化タングステン量と等モル以上か
好ましく、沈殿か生成しない量、すわなち通常塩化タン
グステン量の約50倍モル以下である。
六塩化タングステンとリン酸エステルおよび／または亜
リン酸エステルとを反応せしめることによって得られる
が、更に、近赤外線吸収性能を向上し、経時的な安定性
を向上する目的で、上記反応系中に水を添加することが
できる。水の添加時期は、六塩化タングステンとリン酸
エステルおよび／または亜リン酸エステルとを反応する
前、反応中、あるいは反応した後に添加してもよい。ま
た水の添加量は、六塩化タングステン量と等モル以上か
好ましく、沈殿か生成しない量、すわなち通常塩化タン
グステン量の約50倍モル以下である。
本発明の近赤外線吸収性改質剤は、塗料、樹脂材料等
に添加することによって、簡便に近赤外線吸収性能を付
与することができ、熱線吸収材料、肉眼保護用フィルタ
ー、半導体受光素子用赤外線吸収フィルター、赤外感光
性の感光材料用セーフライトフィルターへの利用や植物
の生育の制御等に使用することができる。
に添加することによって、簡便に近赤外線吸収性能を付
与することができ、熱線吸収材料、肉眼保護用フィルタ
ー、半導体受光素子用赤外線吸収フィルター、赤外感光
性の感光材料用セーフライトフィルターへの利用や植物
の生育の制御等に使用することができる。
以下、本発明を具体的実施例をもって説明する。なお
透過スペクトルおよび透過率は分光光度計（（株）日立
製作所製:U−3410型）で測定した。
透過スペクトルおよび透過率は分光光度計（（株）日立
製作所製:U−3410型）で測定した。
実施例１ 100ml三つ口フラスコに六塩化タングステン（WCl6）1
8.0gとモノブチルフォスフェートとジブチルフォスフェ
ートの混合物（城北化学工業KK製:JP−504）37.0g（平
均分子量でWCl6の4.5倍モル）を入れテフロン製の撹拌
棒・羽根で撹拌する。三つ口フラスコをオイルバス中で
徐々に加熱していくと、50℃程度で塩化水素ガスの発生
がみられ、溶液の色は60℃程度で緑色、90℃で青色に変
化し、さらに温度を120℃まで加熱すると塩化水素ガス
の発生は僅かになり、この後120℃でさらに３時間撹拌
加熱を行なって、粘度のある近赤外線吸収能を有する溶
液を得た。
8.0gとモノブチルフォスフェートとジブチルフォスフェ
ートの混合物（城北化学工業KK製:JP−504）37.0g（平
均分子量でWCl6の4.5倍モル）を入れテフロン製の撹拌
棒・羽根で撹拌する。三つ口フラスコをオイルバス中で
徐々に加熱していくと、50℃程度で塩化水素ガスの発生
がみられ、溶液の色は60℃程度で緑色、90℃で青色に変
化し、さらに温度を120℃まで加熱すると塩化水素ガス
の発生は僅かになり、この後120℃でさらに３時間撹拌
加熱を行なって、粘度のある近赤外線吸収能を有する溶
液を得た。
得られた反応混合物溶液を酢酸エチルに0.33重量％の
割合で溶解させた溶液を3mmセルに入れ透過スペクトル
を測定した。この結果を第１図中Ａで示すが、反応液を
含まない酢酸エチルのスペクトルＢとの比較からわかる
ように、この近赤外線吸収性付与剤は可視の光は比較的
よく透過するとともに優れた近赤外線吸収能を示した。
割合で溶解させた溶液を3mmセルに入れ透過スペクトル
を測定した。この結果を第１図中Ａで示すが、反応液を
含まない酢酸エチルのスペクトルＢとの比較からわかる
ように、この近赤外線吸収性付与剤は可視の光は比較的
よく透過するとともに優れた近赤外線吸収能を示した。
実施例２ 実施例１で得られた近赤外線吸収性を有する溶液2gに
水を0.03g添加し加熱しながら溶解した。得られた溶液
を酢酸エチルに0.33重量％溶解した液について透過スペ
クトルを測定し、第１表に400〜1400nmにおける透過率
を示すが、実施例１で得られた溶液の近赤外域における
吸収能がさらに向上していた。
水を0.03g添加し加熱しながら溶解した。得られた溶液
を酢酸エチルに0.33重量％溶解した液について透過スペ
クトルを測定し、第１表に400〜1400nmにおける透過率
を示すが、実施例１で得られた溶液の近赤外域における
吸収能がさらに向上していた。
実施例３ 三つ口フラスコにジエチルフォスファイト20gと六塩
化タングステン2gを入れ撹拌混合しながら徐々に温度を
上げて、100℃に到達した後この温度で１時間反応を行
った後、さらにこれに水を0.01gを添加し反応を継続し
た。この反応混合物溶液をジクロロエタンの中で２重量
％の濃度になるように溶液を調製し透過率を測定した。
この結果を第１表に示す。
化タングステン2gを入れ撹拌混合しながら徐々に温度を
上げて、100℃に到達した後この温度で１時間反応を行
った後、さらにこれに水を0.01gを添加し反応を継続し
た。この反応混合物溶液をジクロロエタンの中で２重量
％の濃度になるように溶液を調製し透過率を測定した。
この結果を第１表に示す。
実施例4,5 三つ口フラスコに六塩化タングステンとリン酸エステ
ルを第２図表記載のような組成割合で添加混合し、120
℃で３時間加熱撹拌して反応を行ない、近赤外線吸収能
を有する反応液を得た。得られたこれらの反応混合物溶
液について透過スペクトルを測定し、第１表に400〜140
0nmにおける透過率を示した。この結果からわかるよう
に実施例１で得られた反応液と同様近赤外線の吸収能が
すぐれていた。
ルを第２図表記載のような組成割合で添加混合し、120
℃で３時間加熱撹拌して反応を行ない、近赤外線吸収能
を有する反応液を得た。得られたこれらの反応混合物溶
液について透過スペクトルを測定し、第１表に400〜140
0nmにおける透過率を示した。この結果からわかるよう
に実施例１で得られた反応液と同様近赤外線の吸収能が
すぐれていた。
実施例６ 100ml三つ口フラスコにフタル酸ジオクチル20.0gを入
れ、これに六塩化タングステン4.0gとジブチルフォスフ
ェート（（株）大八化学工業所製:DP−４）1.0g（WCl6
の0.5倍モル）を加え100℃で１時間加熱撹拌し、近赤外
線吸収性を有する溶液を得た。これを酢酸エチルに1.75
％の濃度で溶解し透過率を測定した。この結果を第１表
に示す。
れ、これに六塩化タングステン4.0gとジブチルフォスフ
ェート（（株）大八化学工業所製:DP−４）1.0g（WCl6
の0.5倍モル）を加え100℃で１時間加熱撹拌し、近赤外
線吸収性を有する溶液を得た。これを酢酸エチルに1.75
％の濃度で溶解し透過率を測定した。この結果を第１表
に示す。
実施例７ 100ml三つ口フラスコにフタル酸ジオクチル20.0gを入
れ、これに六塩化タングステン4.0gとジブチルフォスフ
ェート（（株）大八化学工業所製:DP−４）8.5g（WCl6
の４倍モル）を加え100℃で１時間加熱撹拌し、近赤外
線吸収性を有する反応混合物溶液を得た。これを酢酸エ
チルに0.5％の濃度で溶解し透過率を測定した。この結
果を第１表に示す。
れ、これに六塩化タングステン4.0gとジブチルフォスフ
ェート（（株）大八化学工業所製:DP−４）8.5g（WCl6
の４倍モル）を加え100℃で１時間加熱撹拌し、近赤外
線吸収性を有する反応混合物溶液を得た。これを酢酸エ
チルに0.5％の濃度で溶解し透過率を測定した。この結
果を第１表に示す。
応用例１ 実施例１で得られた反応溶液0.27gを予め0.2gの水を
溶解したメタクリル酸メチル50gに添加混合し、紫外線
吸収剤としてTinuvin 327（CIBA−GEIGY社製）0.3g、重
合触媒として2,2′−アゾビス−2,4−ジメチルバレロニ
トリル0.07gを添加し溶解させた。常法に従って、ガス
ケットを２枚の平行なガラス板にはさんだ鋳型間に注入
し、60℃の水槽に３時間浸漬し、ついで120℃の空気槽
で２時間加熱を行って重合を完了させ、冷却後ガラスよ
り剥離させて板厚3.15mmの樹脂板を得た。
溶解したメタクリル酸メチル50gに添加混合し、紫外線
吸収剤としてTinuvin 327（CIBA−GEIGY社製）0.3g、重
合触媒として2,2′−アゾビス−2,4−ジメチルバレロニ
トリル0.07gを添加し溶解させた。常法に従って、ガス
ケットを２枚の平行なガラス板にはさんだ鋳型間に注入
し、60℃の水槽に３時間浸漬し、ついで120℃の空気槽
で２時間加熱を行って重合を完了させ、冷却後ガラスよ
り剥離させて板厚3.15mmの樹脂板を得た。
得られた樹脂板の透過スペクトルを第２図中のＣで示
すが、同図に示す板厚3mmの通常のメタクリル樹脂板
（協和ガス化学工業（株）製；パラグラス）の透過スペ
クトルＤとの比較からわかるように、この樹脂板は可視
域の光は比較的よく透過するとともに通常のメタクリル
樹脂板に比較して優れた近赤外域の吸収能を示した。
すが、同図に示す板厚3mmの通常のメタクリル樹脂板
（協和ガス化学工業（株）製；パラグラス）の透過スペ
クトルＤとの比較からわかるように、この樹脂板は可視
域の光は比較的よく透過するとともに通常のメタクリル
樹脂板に比較して優れた近赤外域の吸収能を示した。
応用例２ 実施例６で得られた反応溶液0.83gをメタクリル酸メ
チル50gに溶解させ、紫外線吸収剤としてTinuvin 327
（CIBA−GEIGY社製）0.3gを添加した後重合触媒として
2,2′−アゾビス−2,4−ジメチルバレロニトリル0.07g
を添加混合し、応用例１と同様に重合を板厚3.21mmの近
赤外線吸収性を有する樹脂板を得た。この樹脂板の透過
スペクトルを第２図中のＥで示す。
チル50gに溶解させ、紫外線吸収剤としてTinuvin 327
（CIBA−GEIGY社製）0.3gを添加した後重合触媒として
2,2′−アゾビス−2,4−ジメチルバレロニトリル0.07g
を添加混合し、応用例１と同様に重合を板厚3.21mmの近
赤外線吸収性を有する樹脂板を得た。この樹脂板の透過
スペクトルを第２図中のＥで示す。
〔発明の効果〕 本発明は以上述べたように、六塩化タングステンとリ
ン酸エステルおよび／または亜リン酸エステルとの反応
混合物からなる近赤外線吸収性改質剤であるから、得ら
れた反応混合物は可視域において比較的高い透過率を示
し、近赤外域においてはよく光を吸収するすぐれた性能
を有する。得られる近赤外線吸収性物質は反応混合物の
形であるので種々の方法で近赤外線吸収材料に含有させ
ることができ有用である。応用例として挙げたキャスト
重合によって得られた板も重合過程において近赤外線吸
収性能の減少はなく、暗所に長期間放置により褪色する
というフォトクロミズムも見られず性能の安定した材料
を得ることができる。
ン酸エステルおよび／または亜リン酸エステルとの反応
混合物からなる近赤外線吸収性改質剤であるから、得ら
れた反応混合物は可視域において比較的高い透過率を示
し、近赤外域においてはよく光を吸収するすぐれた性能
を有する。得られる近赤外線吸収性物質は反応混合物の
形であるので種々の方法で近赤外線吸収材料に含有させ
ることができ有用である。応用例として挙げたキャスト
重合によって得られた板も重合過程において近赤外線吸
収性能の減少はなく、暗所に長期間放置により褪色する
というフォトクロミズムも見られず性能の安定した材料
を得ることができる。
また、本発明は、六塩化タングステンとリン酸エステ
ルおよび／または亜リン酸エステルとを反応せしめる近
赤外線吸水性改質剤の製造方法であるから、上記の如く
有用な近赤外線吸水性改質剤を簡便かつ容易に提供する
ことができる。
ルおよび／または亜リン酸エステルとを反応せしめる近
赤外線吸水性改質剤の製造方法であるから、上記の如く
有用な近赤外線吸水性改質剤を簡便かつ容易に提供する
ことができる。
第１図は実施例１で得られた近赤外線吸収性改質剤を酢
酸エチルに溶解させた透過スペクトル（Ａ）および酢酸
エチルの透過スペクトル（Ｂ）を表わしたものである。 第２図は応用例1,2で得られた近赤外線吸収性を有する
樹脂板の透過スペクトル（Ｃ）、（Ｅ）および通常のメ
タクリル樹脂板の透過スペクトル（Ｄ）を表わしたもの
である。
酸エチルに溶解させた透過スペクトル（Ａ）および酢酸
エチルの透過スペクトル（Ｂ）を表わしたものである。 第２図は応用例1,2で得られた近赤外線吸収性を有する
樹脂板の透過スペクトル（Ｃ）、（Ｅ）および通常のメ
タクリル樹脂板の透過スペクトル（Ｄ）を表わしたもの
である。
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C08K 3/00 - 13/08 C09K 3/00 - 3/32 G02B 5/22 G02C 7/10 G03G 5/06
Claims (3)
- 【請求項１】六塩化タングステンと、六塩化タングステ
ンに対して0.1倍モル以上の次式（１） （但し、式中ｎは1,2あるいは３であり、Ｒは炭素数１
〜18である、置換基を有していてもよいアルキル基、ア
リル基、アリール基、アラルキル基、（メタ）アクリロ
キシアルキル基を示す） で示されるリン酸エステルおよび／または次式（２） （但し、式中ｎは1,2あるいは３であり、Ｒは炭素数１
〜18である、置換基を有していてもよいアルキル基、ア
リル基、アリール基、アラルキル基、（メタ）アクリロ
キシアルキル基を示す） で示される亜リン酸エステルとの反応混合物からなる近
赤外線吸収性改質剤。 - 【請求項２】六塩化タングステンと、六塩化タングステ
ンに対して0.1倍モル以上の次式（１） （但し、式中ｎは1,2あるいは３であり、Ｒは炭素数１
〜18である、置換基を有していてもよいアルキル基、ア
リル基、アリール基、アラルキル基、（メタ）アクリロ
キシアルキル基を示す） で示されるリン酸エステルおよび／または次式（２） （但し、式中ｎは1,2あるいは３であり、Ｒは炭素数１
〜18である、置換基を有していてもよいアルキル基、ア
リル基、アリール基、アラルキル基、（メタ）アクリロ
キシアルキル基を示す） で示される亜リン酸エステルとを反応せしめることを特
徴とする近赤外線吸収性改質剤の製造方法。 - 【請求項３】水を添加して反応せしめることを特徴とす
る請求項２記載の近赤外線吸収性改質剤の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1168445A JP2882641B2 (ja) | 1989-06-30 | 1989-06-30 | 近赤外線吸収性改質剤およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1168445A JP2882641B2 (ja) | 1989-06-30 | 1989-06-30 | 近赤外線吸収性改質剤およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0335036A JPH0335036A (ja) | 1991-02-15 |
| JP2882641B2 true JP2882641B2 (ja) | 1999-04-12 |
Family
ID=15868248
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1168445A Expired - Fee Related JP2882641B2 (ja) | 1989-06-30 | 1989-06-30 | 近赤外線吸収性改質剤およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2882641B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3206940B2 (ja) * | 1991-12-16 | 2001-09-10 | ダイセル化学工業株式会社 | 近赤外線吸収メタクリル系樹脂組成物及びその成形体 |
| JP3150745B2 (ja) * | 1992-01-06 | 2001-03-26 | ダイセル化学工業株式会社 | 近赤外線吸収剤用組成物並びに近赤外線吸収材料及びそれらを含有した成形体 |
| TW201925353A (zh) * | 2017-11-13 | 2019-07-01 | 日商住友金屬礦山股份有限公司 | 長期安定性優異之吸收微粒子分散液及吸收微粒子分散體暨該等之製造方法 |
-
1989
- 1989-06-30 JP JP1168445A patent/JP2882641B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0335036A (ja) | 1991-02-15 |
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