JPH0333038A - 板ガラスの表面改質法 - Google Patents
板ガラスの表面改質法Info
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- JPH0333038A JPH0333038A JP16641589A JP16641589A JPH0333038A JP H0333038 A JPH0333038 A JP H0333038A JP 16641589 A JP16641589 A JP 16641589A JP 16641589 A JP16641589 A JP 16641589A JP H0333038 A JPH0333038 A JP H0333038A
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- Japan
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- glass
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- irradiation
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Landscapes
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は板ガラスの表面改質法に係わり、特にフロート
式製板装置により生産されたフロート板ガラスの化学強
化の際に有効となる仮ガラスの表面改質法に関する。
式製板装置により生産されたフロート板ガラスの化学強
化の際に有効となる仮ガラスの表面改質法に関する。
［従来の技術］
一般に光ディスクに使用されるガラス基板はフロート板
ガラスを化学強化した板が用いられてい。
ガラスを化学強化した板が用いられてい。
る。ところが、フロート板ガラスを化学強化する際、フ
ロート板ガラスの片表面層内（最表面から数ｌＯμの深
さまでの層内）に存在する２〜４ｗｔ％のスズ元素の影
響で板が反るという現象が現れる。
ロート板ガラスの片表面層内（最表面から数ｌＯμの深
さまでの層内）に存在する２〜４ｗｔ％のスズ元素の影
響で板が反るという現象が現れる。
この反りを防ぐためには今のところこのガラス表面層内
のスズ元素を完全除去することが最善であり、通常はそ
の片表面を機械研磨することが行なわれている。
のスズ元素を完全除去することが最善であり、通常はそ
の片表面を機械研磨することが行なわれている。
［発明が解決しようとする課題］
このような機械研磨を行なって反りの発生しないガラス
を得るためには最表面から１０μもの層を研磨する必要
がある。これは費用も時間もかかる方法であり、そのた
め実際は研磨厚みを小さくすることも行なわれている。
を得るためには最表面から１０μもの層を研磨する必要
がある。これは費用も時間もかかる方法であり、そのた
め実際は研磨厚みを小さくすることも行なわれている。
この場合、若干の反りの発生は避けられない。
本発明は上記従来の問題点を解決し、迅速かつ低費用で
スズ元素の完全除去を行なうという板ガラスの表面改質
法を提供する。
スズ元素の完全除去を行なうという板ガラスの表面改質
法を提供する。
［課題を解決するための手段］
本発明の板ガラス表面改質法は、フロート式製板装置に
より生産されたガラス板の片表面に存在するスズ元素を
除去するにあたり、ＣＯ□レーザーをその表面に照射し
て除去することを特徴としている。すなわち、化学強化
する前の光デイスク用基板ガラスに対し、５〜１０に一
クラスのＣ（ｈ レーザーをオシレーション照射する。
より生産されたガラス板の片表面に存在するスズ元素を
除去するにあたり、ＣＯ□レーザーをその表面に照射し
て除去することを特徴としている。すなわち、化学強化
する前の光デイスク用基板ガラスに対し、５〜１０に一
クラスのＣ（ｈ レーザーをオシレーション照射する。
この時ガラス基板上での照射密度に応じて表面層内のス
ズ元素は蒸発揮散し、ガラス表面層から完全除去される
。
ズ元素は蒸発揮散し、ガラス表面層から完全除去される
。
なお、照射時間はガラス表面層のみを瞬間溶解させるた
め短い方が好適で、１ ｓｅｃ以下が望ましい。
め短い方が好適で、１ ｓｅｃ以下が望ましい。
［実施例コ
以下に図面を参照して本発明の実施例について説明する
。
。
第１図は本発明の板ガラス表面改質法を実施するに好適
なＣＯ，レーザー照射法を示す図である。
なＣＯ，レーザー照射法を示す図である。
第１図に示す装置を用いてガラス板のスズ元素の存在す
る片表面に対しＣＯ□レーザーの照射を実施した。すな
わち、ＣＯ□レーザー１より出射したレーザー光は、ミ
ラー５、集光レンズ４、ξう・−６を経由してオシレー
ション装置２により均一にガラス表面３に照射される。
る片表面に対しＣＯ□レーザーの照射を実施した。すな
わち、ＣＯ□レーザー１より出射したレーザー光は、ミ
ラー５、集光レンズ４、ξう・−６を経由してオシレー
ション装置２により均一にガラス表面３に照射される。
このときガラス表面への照射密度、照射時間を種々変え
て実施した結果を第１表に示す。
て実施した結果を第１表に示す。
第
表
第１表に示されるように３００Ｊ／ｃ−以上の照射密度
で照射前には２〜４ｗｔ％あった表面層内のスズ元素は
、照射後はほぼ完全に消失した。
で照射前には２〜４ｗｔ％あった表面層内のスズ元素は
、照射後はほぼ完全に消失した。
［発明の効果］
以上説明した通り、本発明の板ガラス表面改質法によれ
ばフロート板ガラスの片表面層内に存在するスズ元素を
容易にかつ迅速低費用で完全除去でき、よって化学強化
の際反りの発生しない基板ガラスを供与することが可能
となる。
ばフロート板ガラスの片表面層内に存在するスズ元素を
容易にかつ迅速低費用で完全除去でき、よって化学強化
の際反りの発生しない基板ガラスを供与することが可能
となる。
第１図は本発明の板ガラス表面改質法を実施するに好適
なＣＯ２レーザーの照射法を示す図である。
なＣＯ２レーザーの照射法を示す図である。
Claims (1)
- フロート式製板装置により生産されたガラス板の片表面
に存在するスズ元素を除去するにあたり、ＣＯ＿２レー
ザーをその表面に照射して除去することを特徴とする板
ガラスの表面改質法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16641589A JPH066497B2 (ja) | 1989-06-28 | 1989-06-28 | 板ガラスの表面改質法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16641589A JPH066497B2 (ja) | 1989-06-28 | 1989-06-28 | 板ガラスの表面改質法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0333038A true JPH0333038A (ja) | 1991-02-13 |
| JPH066497B2 JPH066497B2 (ja) | 1994-01-26 |
Family
ID=15831003
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16641589A Expired - Lifetime JPH066497B2 (ja) | 1989-06-28 | 1989-06-28 | 板ガラスの表面改質法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH066497B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004069760A1 (ja) * | 2003-02-04 | 2004-08-19 | Asahi Glass Company, Limited | ガラス基板表面の異物除去方法 |
| DE102006003878A1 (de) * | 2006-01-27 | 2007-08-09 | Schott Ag | Verfahren zum Verbessern der Oberflächenqualität von gefloatetem Flachglas |
-
1989
- 1989-06-28 JP JP16641589A patent/JPH066497B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004069760A1 (ja) * | 2003-02-04 | 2004-08-19 | Asahi Glass Company, Limited | ガラス基板表面の異物除去方法 |
| US7767929B2 (en) | 2003-02-04 | 2010-08-03 | Asahi Glass Company, Limited | Method for removing foreign matter on glass substrate surface |
| DE102006003878A1 (de) * | 2006-01-27 | 2007-08-09 | Schott Ag | Verfahren zum Verbessern der Oberflächenqualität von gefloatetem Flachglas |
| DE102006003878B4 (de) * | 2006-01-27 | 2010-09-02 | Schott Ag | Verfahren zum Verbessern der Oberflächenqualität von gefloatetem Flachglas |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH066497B2 (ja) | 1994-01-26 |
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