JPS59201081A - ホログラム製造方法 - Google Patents
ホログラム製造方法Info
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- JPS59201081A JPS59201081A JP7652583A JP7652583A JPS59201081A JP S59201081 A JPS59201081 A JP S59201081A JP 7652583 A JP7652583 A JP 7652583A JP 7652583 A JP7652583 A JP 7652583A JP S59201081 A JPS59201081 A JP S59201081A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
- G03H1/18—Particular processing of hologram record carriers, e.g. for obtaining blazed holograms
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- G03H2001/187—Trimming process, i.e. macroscopically patterning the hologram
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（ａ）発明の技術分野
本発明はホロクラムの装造方法に係り、＋＋イしくけセ
ラチンのような吸湿性のある結合剤’Ｑ ’＋６む゛Ｉ
Δ光材を用いるホロクラムの装造方法りこ関する。
ラチンのような吸湿性のある結合剤’Ｑ ’＋６む゛Ｉ
Δ光材を用いるホロクラムの装造方法りこ関する。
（ｂ）技術の背景
近年、ｉ）ＯＳ （ＰａＩｎＬ−ｏｆ−ｓａＩｅ ）シ
ステムムこ、５３けるバーコード”読取り装置、あるい
はレーザプリンタ等において、ボじ！グラムの旧ｊｊｉ
！Ｊｎ Ｑ３４を、１リノ（］シた光ビーム走査方式か
用いられている。
ステムムこ、５３けるバーコード”読取り装置、あるい
はレーザプリンタ等において、ボじ！グラムの旧ｊｊｉ
！Ｊｎ Ｑ３４を、１リノ（］シた光ビーム走査方式か
用いられている。
これば、従来のガルバノミラ−あるいは回転多面鏡等を
用いる光ヒーム走査方式では、光″ｉ”糸の構造が複雑
であり、かつ回転多面鏡および回転駆動系を高精度にす
る必要かありごのために装置コスト力袖隔くつくこと、
および走査１ｉ出にｊ板界があるのに則して、；ｊＺ
［ニアクラムを用いに光ヒーム走五方式においてはこれ
らに対する条件が緩和され、比較的低コス１−で高速・
高精度と大きな走査幅を有する光ヒーム走査装置が得ら
れるからである。
用いる光ヒーム走査方式では、光″ｉ”糸の構造が複雑
であり、かつ回転多面鏡および回転駆動系を高精度にす
る必要かありごのために装置コスト力袖隔くつくこと、
および走査１ｉ出にｊ板界があるのに則して、；ｊＺ
［ニアクラムを用いに光ヒーム走五方式においてはこれ
らに対する条件が緩和され、比較的低コス１−で高速・
高精度と大きな走査幅を有する光ヒーム走査装置が得ら
れるからである。
上記のような光ヒーム走査用のホログラムは、通常ガラ
ス甚扱上に塗布された感光ｔオに形成されるのであるが
、現在、銀塩を主体とする（δ光物質と結合剤としての
、例えばセラチンを混合して調製された感光材が主とし
て用いられている。しかしながら、セラチンは吸湿性が
強く、空気中の水分を吸収して感光（オ層の白濁あるい
は変形を生し、このためにポロクラムの光学的特性が劣
化しゃすい。
ス甚扱上に塗布された感光ｔオに形成されるのであるが
、現在、銀塩を主体とする（δ光物質と結合剤としての
、例えばセラチンを混合して調製された感光材が主とし
て用いられている。しかしながら、セラチンは吸湿性が
強く、空気中の水分を吸収して感光（オ層の白濁あるい
は変形を生し、このためにポロクラムの光学的特性が劣
化しゃすい。
（Ｃ）従来技術と問題点
従来、上記のようなホログラム（−般に最終形状か円板
であるのでホログラムディスクと呼ばれている）におい
ては、該ホログラムを形成した感光層の周縁部分を除去
した上で、咳Ｊ’＜ ＬＪグラムを支持する基板および
別の、例えはガラス板等で該ホログラムを挟み込むよう
にして貼りもね−Ｕた構造として完成される。
であるのでホログラムディスクと呼ばれている）におい
ては、該ホログラムを形成した感光層の周縁部分を除去
した上で、咳Ｊ’＜ ＬＪグラムを支持する基板および
別の、例えはガラス板等で該ホログラムを挟み込むよう
にして貼りもね−Ｕた構造として完成される。
上記において、該周縁部分、すなわち不要部分の感光Ｊ
習の除去方法としては、該部分にお（Ｊる（・ム光層を
機械的方法、例えば刃物で削り取る方法が採用されてい
た。しかしなから、この方法では、加工所要時間が長い
こと、支持基板に陽が付き、最終的ポログラムディスク
の機械的強度か劣化１−る（数１１００Ｏｒｐの速度で
回転された場合に基板が分裂する）等の欠点かあった。
習の除去方法としては、該部分にお（Ｊる（・ム光層を
機械的方法、例えば刃物で削り取る方法が採用されてい
た。しかしなから、この方法では、加工所要時間が長い
こと、支持基板に陽が付き、最終的ポログラムディスク
の機械的強度か劣化１−る（数１１００Ｏｒｐの速度で
回転された場合に基板が分裂する）等の欠点かあった。
（ｄ１発明の目的
本発明は、吸湿性情合剤を含む感光（副を用いたホロク
ラムにの製造において、不要部分の感光７・（を効率よ
（、かつ基板に対して強度劣化を与／Ｌることなく除去
するｊフｒ規な方法を提１°バすること・−２目的とす
る。
ラムにの製造において、不要部分の感光７・（を効率よ
（、かつ基板に対して強度劣化を与／Ｌることなく除去
するｊフｒ規な方法を提１°バすること・−２目的とす
る。
（ｅ）発明の構成
本発明は、例えばセラチンのような吸引ｆ兄性結合剤を
含む感光層を用いたポロクラムを製造する場合に、不要
部分における（ざ光層を化学的処理剤を用いて１徐去す
ることを特徴とする。具体的には該化学的処理剤として
、例えはｉｉｔ記吸湿性結合刑がゼラチンの場合には次
亜塩素酸ソーダが用いられる。第１の除去方法において
は、ゴム状弾性体０リングを介して被加工ホログラム支
持基板と補助基板とを圧接することによって必要ｇＢ分
の感光層を保護した状態で該化学的処理剤中で該不要部
分を除去する。第２の除去方法においては、該不要部分
の感光層のみが該化学的処理剤中に浸漬されるようにし
て被加工ホログラム支持基板を回転じ、この場合必要に
応じて、該化学的処理剤中から上ってくる感光層に接触
するようにして払拭体を設けるか、あるい・は感光層の
必要部分と不要部分との境界近傍において該不要部分に
向かってノズルがら空気もしくは不活性基板を噴射する
。また必要に応して液体の該化学的処理ｊｒ’１の液面
に該被加工ホログラム支持基板に近接して造波防止体を
設ける。第３の除去方法においては、該被加工ホログラ
ム支持基板を回転した状態で感光層の梁要部分に対して
ノズルから該化学的処理剤を噴４ｊし７、この場合必要
に応じて、必要部分の該感光層に対して該化学的処理剤
が噴射されることをｔｉ／）止するだめの、少な（とも
その一部か該化学的処理剤の噴射方向に沿うような（］
１す面を台する遮ｆ１“＆体・を設り、該遮蔽体として
被加工ホログーノム支（も基板に対して底面を平行に、
かつ中心！ｌ！ｌか該被加エホログラム支持基板の回転
軸の延長上に設りられた円誰体を用いることを１１テ徴
上する。
含む感光層を用いたポロクラムを製造する場合に、不要
部分における（ざ光層を化学的処理剤を用いて１徐去す
ることを特徴とする。具体的には該化学的処理剤として
、例えはｉｉｔ記吸湿性結合刑がゼラチンの場合には次
亜塩素酸ソーダが用いられる。第１の除去方法において
は、ゴム状弾性体０リングを介して被加工ホログラム支
持基板と補助基板とを圧接することによって必要ｇＢ分
の感光層を保護した状態で該化学的処理剤中で該不要部
分を除去する。第２の除去方法においては、該不要部分
の感光層のみが該化学的処理剤中に浸漬されるようにし
て被加工ホログラム支持基板を回転じ、この場合必要に
応じて、該化学的処理剤中から上ってくる感光層に接触
するようにして払拭体を設けるか、あるい・は感光層の
必要部分と不要部分との境界近傍において該不要部分に
向かってノズルがら空気もしくは不活性基板を噴射する
。また必要に応して液体の該化学的処理ｊｒ’１の液面
に該被加工ホログラム支持基板に近接して造波防止体を
設ける。第３の除去方法においては、該被加工ホログラ
ム支持基板を回転した状態で感光層の梁要部分に対して
ノズルから該化学的処理剤を噴４ｊし７、この場合必要
に応じて、必要部分の該感光層に対して該化学的処理剤
が噴射されることをｔｉ／）止するだめの、少な（とも
その一部か該化学的処理剤の噴射方向に沿うような（］
１す面を台する遮ｆ１“＆体・を設り、該遮蔽体として
被加工ホログーノム支（も基板に対して底面を平行に、
かつ中心！ｌ！ｌか該被加エホログラム支持基板の回転
軸の延長上に設りられた円誰体を用いることを１１テ徴
上する。
ｉｆ）発明の実施例
、以下に本発明の実施例を図面を参照し、て説すトダる
。
。
第１図はホログラムチ４スクの一般的製造方１．Ｉ。
の概要を説明するための図であゲご、イノ１］えはン５
ラス等の基板１」二には、例えばセラチアＱ） Ｕ、う
な吸湿性結合剤を含む感光ｊΔ２か設コノられ゛ご、４
Ｊ′す、該感光層２に対してレーザ光等の可］、ル光Ｃ
う寸／、Ｊ：波面が投影され、これにより感光層２．）
・（・さ光してンＪ（ログラム像が形成される〔同図（
Δ）〕。該感ノＩＬｊ茫２の周縁部分３か除去されのち
〔同図（シ）〕、該感光闇２の上に別の７１ｈ助基板４
・会正、ニー）て基１及１と補助基板４か貼り合わさ；
ｌ’Ｌ ＋１７１Ｊ図（−シ、さらに−１１基板１およ
び４は円板状にりＪ ）ｉＪｉ・ω）毘・加」二されて
ホログラムディスクが完成する。なお、同図において５
は両基板１および４間の接着；―である。
ラス等の基板１」二には、例えばセラチアＱ） Ｕ、う
な吸湿性結合剤を含む感光ｊΔ２か設コノられ゛ご、４
Ｊ′す、該感光層２に対してレーザ光等の可］、ル光Ｃ
う寸／、Ｊ：波面が投影され、これにより感光層２．）
・（・さ光してンＪ（ログラム像が形成される〔同図（
Δ）〕。該感ノＩＬｊ茫２の周縁部分３か除去されのち
〔同図（シ）〕、該感光闇２の上に別の７１ｈ助基板４
・会正、ニー）て基１及１と補助基板４か貼り合わさ；
ｌ’Ｌ ＋１７１Ｊ図（−シ、さらに−１１基板１およ
び４は円板状にりＪ ）ｉＪｉ・ω）毘・加」二されて
ホログラムディスクが完成する。なお、同図において５
は両基板１および４間の接着；―である。
ところで、第１図（Ｂ）の状態のように感光層２の周縁
部分（不要部分）３の除去かｄ・要であるが、前記のよ
うに従来は刃物等を用いた機械的力性によって除去が行
われていたために、該除去上程に長時間を要するととも
に高コス）となり、また該工程で基板１に生じた微少錫
が；ｊ；ロクラムティスクの高速回転（数１１０００ｒ
ｐ ）の間に成長し、その結果該ホログラムディスクか
分裂破損するような、装置の信頼性と人体に対する安全
１〃Ｊ生上問題となるような障害の原因となっていたの
である。
部分（不要部分）３の除去かｄ・要であるが、前記のよ
うに従来は刃物等を用いた機械的力性によって除去が行
われていたために、該除去上程に長時間を要するととも
に高コス）となり、また該工程で基板１に生じた微少錫
が；ｊ；ロクラムティスクの高速回転（数１１０００ｒ
ｐ ）の間に成長し、その結果該ホログラムディスクか
分裂破損するような、装置の信頼性と人体に対する安全
１〃Ｊ生上問題となるような障害の原因となっていたの
である。
本発明の第１の除去力法器よ、第２図（Ａ）に示すよう
なゴム状弾性体から成るＯリングらを′ａ置したｍ１食
性］ｉ汲７ （該Ｏリングの一部分が埋設されていても
よい）を、同図（Ｂ）にノ」＜すよフに感光層２の上に
重ね、基板１と配食性１月反７とを圧接・固定した状態
で（必要に旭・シて治具を用いて）全体を、例えば次亜
塩素酸ソーダの１〜１０％を８液（常温〉に浸漬する。
なゴム状弾性体から成るＯリングらを′ａ置したｍ１食
性］ｉ汲７ （該Ｏリングの一部分が埋設されていても
よい）を、同図（Ｂ）にノ」＜すよフに感光層２の上に
重ね、基板１と配食性１月反７とを圧接・固定した状態
で（必要に旭・シて治具を用いて）全体を、例えば次亜
塩素酸ソーダの１〜１０％を８液（常温〉に浸漬する。
その結果、感光層２にお＆）る周縁部分は分解されて化
学的処理剤中に溶失され、必要部分の感光層２が残る。
学的処理剤中に溶失され、必要部分の感光層２が残る。
本発明の第２の除去方法は、第３図にボーＪ−ように基
、汲１を回転軸８に取付け（例えば吸着チャ／りあるい
は熟熔融性のピッチを用いる）、基板１を該回転軸８に
より回転させながら化学的処理剤溶液９に浸漬する。そ
の結果、感光層２の浸成部分が溶失し、円形の感光層２
が残る。この場合、化学的処理剤溶液９から上ゲできた
（・す光層２表面あるい−は感光層２が除去された状態
の基板１表向に４１着した化学的処理剤溶液９か除去し
ないトす光層部分に流下するのを防止するために、第３
１５シこ示すような払拭体１０（例えはフェルトのよ・
〕な吸水性と弾力性のある材：（−１、またはゴムのよ
うな弓１）：外体材料か好適）を、基板１面に接触する
ようにして液面近傍に設け、基板１かｌＯｉ中から」−
７でくると直ちに余分の化学的処理剤を拭き取るか、あ
るいは第５図に示ずようにノスル１１から乾燥空気また
は窒素カス等の感光層２を侵す４３それのない不活性ガ
ス等の気体１２を、感光層２の残すべき部分から外周に
向かって噴射して余分の１ヒ学的処理剤を除去する。ま
た、第６図に示ずよ・うな造波防止体１３を感光層２の
表面に近接して設＆、ｌることによって、基板ｌの回転
にともなって化学的処理剤／８液９の液面が動揺し、感
光層２の必要部分の輪郭か不均一となることが防止でき
る。
、汲１を回転軸８に取付け（例えば吸着チャ／りあるい
は熟熔融性のピッチを用いる）、基板１を該回転軸８に
より回転させながら化学的処理剤溶液９に浸漬する。そ
の結果、感光層２の浸成部分が溶失し、円形の感光層２
が残る。この場合、化学的処理剤溶液９から上ゲできた
（・す光層２表面あるい−は感光層２が除去された状態
の基板１表向に４１着した化学的処理剤溶液９か除去し
ないトす光層部分に流下するのを防止するために、第３
１５シこ示すような払拭体１０（例えはフェルトのよ・
〕な吸水性と弾力性のある材：（−１、またはゴムのよ
うな弓１）：外体材料か好適）を、基板１面に接触する
ようにして液面近傍に設け、基板１かｌＯｉ中から」−
７でくると直ちに余分の化学的処理剤を拭き取るか、あ
るいは第５図に示ずようにノスル１１から乾燥空気また
は窒素カス等の感光層２を侵す４３それのない不活性ガ
ス等の気体１２を、感光層２の残すべき部分から外周に
向かって噴射して余分の１ヒ学的処理剤を除去する。ま
た、第６図に示ずよ・うな造波防止体１３を感光層２の
表面に近接して設＆、ｌることによって、基板ｌの回転
にともなって化学的処理剤／８液９の液面が動揺し、感
光層２の必要部分の輪郭か不均一となることが防止でき
る。
本発明の第３の除去方法は、第７図に示すように、回転
！１１Ｉ８に固定されて回転する基板１の感光層２の除
去部分表面に対してノズル１１から化学的処理剤溶液９
を噴射するものてあって、照射は感光層２の中心部分か
ら外周部分に向りて行われる。
！１１Ｉ８に固定されて回転する基板１の感光層２の除
去部分表面に対してノズル１１から化学的処理剤溶液９
を噴射するものてあって、照射は感光層２の中心部分か
ら外周部分に向りて行われる。
感光層２の除去部分の輪７１９を均一に、かつ高４：ｈ
度で除去するためシこ、感光層２の残すべき部分にス］
する化学的処理剤溶液９の噴射を遮＋ｉ！ｊする遮１１
＆体１４を必要に応じて設けてもよい。該遮蔽（＊１４
は華に板状あるいはその他の立体状であってもよく、少
なくともその１つの面が化学的処理剤溶液９の噴射方向
に平行となるよ・うに傾斜している。なお、同図（Ａ）
Ｌよ正面図、（Ｂ）は１１１１１面図である。該遮蔽体
１４は第８図に示すような、底面＠ Ｌ ４Ｘｉ： １
と平行に２、中心軸を回転！ｉｌｌ ８の延長状にある
よ・つにして設けられだ円１ｆｆｆ体１５とＵ７、該円
Ｓｆｎ体１５のｊ、Ｊ、線と平行方向に化学的処理剤溶
１１ν９を（・さ光層２の表面に噴射するのが適当であ
る。な、友；、上記Ｑこ、ぢいて円錐体１５は単に円錐
面である場合３訃む。
度で除去するためシこ、感光層２の残すべき部分にス］
する化学的処理剤溶液９の噴射を遮＋ｉ！ｊする遮１１
＆体１４を必要に応じて設けてもよい。該遮蔽（＊１４
は華に板状あるいはその他の立体状であってもよく、少
なくともその１つの面が化学的処理剤溶液９の噴射方向
に平行となるよ・うに傾斜している。なお、同図（Ａ）
Ｌよ正面図、（Ｂ）は１１１１１面図である。該遮蔽体
１４は第８図に示すような、底面＠ Ｌ ４Ｘｉ： １
と平行に２、中心軸を回転！ｉｌｌ ８の延長状にある
よ・つにして設けられだ円１ｆｆｆ体１５とＵ７、該円
Ｓｆｎ体１５のｊ、Ｊ、線と平行方向に化学的処理剤溶
１１ν９を（・さ光層２の表面に噴射するのが適当であ
る。な、友；、上記Ｑこ、ぢいて円錐体１５は単に円錐
面である場合３訃む。
（ｇ）発明の効果
本発明によれば、従来の力法乙こ比して短：１）間でホ
ログラムの不要部分を除去てき、かつ該７ｊクロクラＡ
（７）支持基板に損傷を５．えろおそれ力・なく、低コ
ストかつ高信頼性のポしスクラムデ弓ノ、りを提供可能
とする効果がある。
ログラムの不要部分を除去てき、かつ該７ｊクロクラＡ
（７）支持基板に損傷を５．えろおそれ力・なく、低コ
ストかつ高信頼性のポしスクラムデ弓ノ、りを提供可能
とする効果がある。
第１図はホログラＪ−＋ディスクの凹造冑（要を説明す
るための図、）ｊ、１５ ｔ）図かジノ第８図までは不
発明の実施例を示す図であで）。 図において１は基板、２：よ（・Δ光層、３；よ周）１
３１５分、４は補助基板、５は接着層、６８まＯリング
、７は耐食性平イ友、８は回転軸、９は化学的処理り１
］溶液、１０は払拭体、１１はノスル、１２は気（２）
１．１３は造波防止体、１４ば遮蔽体、１５は円１（４
体である。 竿１司 （Ａ） 第２ｖＩ （Ａ） −７ （・ ２゜ 第３目 茎４間 第５Ｈ ” ’ｉ （Ａ） ＣＢ） ７０５−
るための図、）ｊ、１５ ｔ）図かジノ第８図までは不
発明の実施例を示す図であで）。 図において１は基板、２：よ（・Δ光層、３；よ周）１
３１５分、４は補助基板、５は接着層、６８まＯリング
、７は耐食性平イ友、８は回転軸、９は化学的処理り１
］溶液、１０は払拭体、１１はノスル、１２は気（２）
１．１３は造波防止体、１４ば遮蔽体、１５は円１（４
体である。 竿１司 （Ａ） 第２ｖＩ （Ａ） −７ （・ ２゜ 第３目 茎４間 第５Ｈ ” ’ｉ （Ａ） ＣＢ） ７０５−
Claims (9)
- （１）吸湿性結合剤を含む感光材を用いたホログラムの
装造において、不要部分の感光層を化学的処理剤を用い
て除去することを特徴とするポログラム製造方法。 - （２）化学的処理剤として次亜塩素酸ソー ダを用いる
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のホログラ
ム製造方法。 - （３）ゴム状弾性体０リングを介して被加工ホログラム
支持基板と補助基板とを圧接することによって、ａ・要
部分の感光層を化学的処理剤から保護することを特徴と
する特許請求の範囲第１項記載のホログラム製造方法。 - （４）不要部分の感光層のみが化学的処理剤中に浸漬さ
れるよフに、被加工ホログラム支持基板を回転させるこ
とを１１．＋１徴とする特許請求の範囲第１項記載のホ
ログラム製造方法。 - （５）化学的浸漬剤中から上がってくる感光層に接触す
るようにして払拭体を設けたことを特徴とする特許請求
の範囲第４項記載のホログラム製造方法。 - （６）ノズルから空気もしくは不活性気体を、感光層の
必要部分と不要部分の境界近傍において該不要部分に向
かって噴射することを特徴とする特許請求の範囲第４項
記載のボログラム製造方法。 - （７）液体の化学的処理剤の液面に造波防止体を、被加
工ホログラム支持基板に近接して設けることを特徴とす
る特許請求の範囲第４項一記載のホログラム製造方法。 - （８）ノズルから化学的処理剤を不要部分の感光層に対
して噴射することを特徴とする特許請求の範囲第１項記
載のホログラム製造方法。 - （９）必要部分の感光層に対して化学的処理剤が噴射さ
れることを防止するための、少な（ともその一部が該化
学的処理剤の噴射方向に〆合うよ・シな側面を有する遮
蔽体を設けることを特徴とする特許請求の範囲第８項記
載のホログラム製造方法。 （Ｉｏ）被加工ホログラム支持基板に対し７て底面を平
行に、かつ中心軸が該被加工ホログラム支持基板の回転
軸の延長上に設けられた円錐体を特徴とする特許請求の
範囲第７項記載のポログラム製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7652583A JPS59201081A (ja) | 1983-04-30 | 1983-04-30 | ホログラム製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7652583A JPS59201081A (ja) | 1983-04-30 | 1983-04-30 | ホログラム製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59201081A true JPS59201081A (ja) | 1984-11-14 |
Family
ID=13607695
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7652583A Pending JPS59201081A (ja) | 1983-04-30 | 1983-04-30 | ホログラム製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59201081A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0385418A2 (en) * | 1989-02-28 | 1990-09-05 | Sony Magnescale, Inc. | Hologram scale having moisture resistance |
-
1983
- 1983-04-30 JP JP7652583A patent/JPS59201081A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0385418A2 (en) * | 1989-02-28 | 1990-09-05 | Sony Magnescale, Inc. | Hologram scale having moisture resistance |
| US5172250A (en) * | 1989-02-28 | 1992-12-15 | Sony Magnescale, Inc. | Hologram scale having moisture resistance |
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