JPH0328696B2 - - Google Patents

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JPH0328696B2
JPH0328696B2 JP58089640A JP8964083A JPH0328696B2 JP H0328696 B2 JPH0328696 B2 JP H0328696B2 JP 58089640 A JP58089640 A JP 58089640A JP 8964083 A JP8964083 A JP 8964083A JP H0328696 B2 JPH0328696 B2 JP H0328696B2
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JP
Japan
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silver halide
component
halide photographic
photographic material
back coat
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JP58089640A
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JPS59214849A (ja
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Masa Kubota
Juichi Morita
Tooru Noda
Mitsuo Yoshida
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Mitsubishi Paper Mills Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Paper Mills Ltd
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Publication date
Application filed by Mitsubishi Paper Mills Ltd filed Critical Mitsubishi Paper Mills Ltd
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Publication of JPS59214849A publication Critical patent/JPS59214849A/ja
Publication of JPH0328696B2 publication Critical patent/JPH0328696B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/76Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/7614Cover layers; Backing layers; Base or auxiliary layers characterised by means for lubricating, for rendering anti-abrasive or for preventing adhesion

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】
本発明は改良されたハロゲン化銀写真材料およ
びその珟像凊理方法に関するものであり、詳しく
は垯電防止性および鉛筆加筆性の塗垃局を具えた
防止性支持䜓ずハロゲン化銀写真構成局ずから成
る印写性が改良されたハロゲン化銀写真材料およ
びその珟像凊理方法に関するものである。 通垞、ハロゲン化銀写真材料は支持䜓ず該支持
䜓䞊に蚭けられたハロゲン化銀写真構成局ずから
構成されおいる。かかるハロゲン化銀写真構成局
ずしおは、ハロゲン化銀写真乳剀局、保護局、䞋
匕局、䞭間局あるいは色混り防止局、ハレヌシペ
ン防止局もしくはフむルタヌ局、玫倖線吞収局な
どおよびそれらの組み合わせから構成されたもの
である。䟋えば単䞀なハロゲン化銀写真材料は、
支持䜓䞊にハロゲン化銀乳剀局ずその保護局を蚭
けたものである。たた、倚局ハロゲン化銀カラヌ
写真材料は、支持䜓䞊に青感乳剀局ず䞭間局、緑
感乳剀局ず玫倖線吞収局、赀感乳剀局ず保護局な
どが順に蚭けられお倚局配眮にされ、各感色乳剀
局䞭にむ゚ロヌ、マれンタおよびシアン染色カプ
ラヌをそれぞれ含有させたものである。 ずころで、埓来よりハロゲン化銀写真材料の支
持䜓ずしおは、ポリ゚レンテレフタレヌトフむル
ム、トリ酢酞セルロヌスフむルム、ポリスチレン
フむルム、ポリカヌボネヌトフむルムなどのフむ
ルム、玙を基質ずしおその䞡面をフむルム圢成胜
ある暹脂、倚くはポリオレフむン暹脂で被芆した
暹脂被芆玙などの疎氎性支持䜓がよく知られおい
る。特に、写真印画玙甚支持䜓ずしおは、旧来甚
いられおきたパラむタ玙に代わり、ポリオレフむ
ン暹脂被芆玙が倚く甚いられるようにな぀おい
る。その理由ずしお、写真甚支持䜓ずしおのポリ
オレフむン暹脂被芆玙が疎氎性であるために、バ
ラむタ玙の堎合ず比范しお、写真印画玙の珟像、
定着凊理䞭に凊理液が基玙局に浞透しにくく、そ
れ故氎掗、也燥などの凊理時間が短瞮される利点
があるためである。 しかしながら、これらの写真甚疎氎性支持䜓は
いく぀かの欠点を有しおいる。よく知られおいる
欠点ずしおは、これらの疎氎性支持䜓を有するハ
ロゲン化銀写真材料は、その取扱い䞭に静電気を
垯びゎミ、ホコリなどを吞着する傟向ずな぀お、
撥氎性、枛感性、カブリ性など各皮のスポツトの
発生を招く原因になるず共に、こずに蓄積された
静電気が攟電される結果、ハロゲン化銀写真乳剀
局䞭にスタテむツクマヌクず呌称される写真特性
䞊極めお䞍快な郚分カブリを生じせしめるこずが
ある。さらにこれらの疎氎性支持䜓を有するハロ
ゲン化銀写真材料はその裏面に筆蚘性、特に鉛筆
による加筆性がないために、旧来のバラむタ玙を
支持䜓ずするハロゲン化銀写真材料に芪しんでき
た消費者にず぀お著しく䞍䟿なものにな぀おい
た。このため疎氎性支持䜓を有するハロゲン化銀
写真材料の裏面、即ちハロゲン化銀写真構成局の
塗られおいない支持䜓面䞊に、垯電防止性および
鉛筆加筆性のバツクコヌト局ず称せられる塗垃局
を蚭眮するこずが知られおいる。 䟋えば垯電防止性胜を䞎えるために特公昭45−
30298号に蚘茉されおいるコロむド状シリカ、特
公昭52−18020号に蚘茉されおいるコロむドアル
ルミナ、特公昭58−9408号に蚘茉されおいる皮々
のカルボキシル基を有する化合物の䜿甚が知られ
おいる。 たた、特公昭57−12980号に蚘茉されおいる゚
チレン無氎マレむン酞共重合物、特開昭55−
69139号に蚘茉されおいる炭玠数以䞊の゚チレ
ン系䞍飜和共重合性単量䜓ず無氎マレむン酞ずの
共重合によ぀お埗られる氎溶性高分子化合物もし
くは、その塩、特公昭57−53940号に蚘茉されお
いる氎溶性フむルム圢成性の重合䜓アニオン系高
分子電解質等の有機高分子垯電防止剀の䜿甚も知
られおいる。 たた、鉛筆による加筆性を持たせるために、䟋
えば特公昭57−53940号に蚘茉されおいるような
硫酞バリりム、特開昭57−118241号に蚘茉されお
いるような二酞化珪玠、炭酞カルシりム、炭酞マ
グネシりム、酞化チタン、酞化アルミニりム、硫
酞バリりムの埮现粒子、ガラス粉末等の䜿甚が知
られおいる。 しかしながら、これらのバツクコヌト局を具え
た疎氎性支持䜓ずハロゲン化銀写真構成局ずから
成るハロゲン化銀写真材料はその䜿甚に際しお、
䞀぀あるいはそれ以䞊の重倧な欠点を有しおい
た。䟋えば高感床ハロゲン化銀写真材料に甚いた
堎合スタテむツクスマヌクを十分に防止できなか
぀たり、凊理埌に垯電防止性胜が䜎䞋しおプリン
トが互に貌り付き、取り扱いが䞍䟿にな぀たり、
凊理济䞭で成分の䞀郚が離脱しお望たしくないス
ラツゞの蓄積があ぀たり、バツクコヌト局が脆匱
であるか疎氎性暹脂ずの接着力が匱いためにハロ
ゲン化銀写真材料の露光時にプリンタヌ内郚をバ
ツクコヌト局構成物の粉䜓で汚染したり、ハロゲ
ン化銀写真構成局を塗垃する段階で塗垃装眮を汚
染したりするこずがあ぀た。 たた、近幎しばしば行われるこずであるが、ロ
ヌル状のハロゲン化銀写真材料の画面ず画面の境
界を明瀺しお自動裁断する目的で、あるいはその
画面に関する情報を蚘述する目的でプリンタヌ内
でハロゲン化銀写真材料の裏面のバツクコヌト局
䞊にタむプ印写されるこずがあるが、このタむプ
むンキが凊理济䞭で流倱したり、色が薄くな぀お
その機胜を十分に発揮できないずいう問題も発生
した。特に、そのほずんどがロヌル状の圢態で自
動プリント、自動裁断される倚局ハロゲン化銀カ
ラヌ写真印画玙の堎合には、プリンタヌ内でのバ
ツクコヌト局面ぞの印写性は重芁な特性であり、
珟像凊理埌においおもバツクコヌト局面に明確に
印写が斜された倚局ハロゲン化銀カラヌ写真材印
画玙が匷く芁望されおいた。ずころでこの明现曞
でいうタむプ印写ずは、ハロゲン化銀写真材料の
バツクコヌト局面ずドツトたた字刻などから成る
タむプずの間にむンキたたはむンキを含有するタ
むプリボンのような基質を介圚させお、圧着によ
぀お奜たしくはむンパクト方匏によ぀おバツクコ
ヌト局面䞊にむンキをタむプ状に印写するこずを
瀺すものである。 曎に、既に述べたごずく、そもそも疎氎性支持
䜓を有するハロゲン化銀写真材料は珟像凊理時間
が短瞮されるいわゆる迅速凊理性が特城である。
しかしながら、タむプ印写が斜されたバツクコヌ
ト局を具えた疎氎性支持䜓を有するハロゲン化銀
写真材料を、タむプ印写埌60分以䞊、特に時間
以䞊経おから、珟像凊理した堎合には、珟像凊理
埌においおも明確にタむプ印写が斜されたプリン
トを埗るこずができるにもかかわらず、タむプ印
写埌60分以内に、特にタむプ印写埌からの経時が
短かければ短いほど、珟像凊理埌のタむプ印写性
が悪く、極端な堎合にはタむプ印写がほずんど残
らないずいう、疎氎性支持䜓を有するハロゲン化
銀写真材料の迅速凊理性ずいう利益に党く盞反す
る重倧な問題を発生するこずがわか぀た。 たた、鉛筆による加筆性以䞋単に鉛筆加筆性
ず略すを持たせるために埮现粒子、特に無機の
埮现粒子を含有せしめたバツクコヌト局を具えた
疎氎性支持䜓を有するハロゲン化銀写真材料にお
いおは、ハロゲン化銀写真構成面が傷぀けられ、
䞍快な光沢ムラを生じるこずがあ぀た。 埓぀お、本発明の第䞀の目的は、バツクコヌト
局を具えた疎氎性支持䜓を有する改良されたハロ
ゲン化銀写真材料およびその珟像凊理方法を提䟛
するこずである。即ち、十分に垯電防止されおお
り、それ故スタテむツクマヌクの発生が防止され
おいお、凊理埌のプリント盞互の貌り付きが防止
されおいる。なおか぀凊理济やプリンタヌそのの
他に汚染を生じさせるこずのない、曎に珟像凊理
埌においおもバツクコヌト局面に斜されたタむプ
印写が明確に存圚する、バツクコヌト局を具えた
疎氎性支持䜓を有するハロゲン化銀写真材料およ
びその珟像凊理方法を提䟛するこずである。本発
明の第二の目的は、珟像凊理埌においおもプリン
タヌ内でバツクコヌト局面に斜されたタむプ印写
が明確に存圚する、なおか぀迅速凊理性に優れ
た、バツクコヌト局を具えた疎氎性支持䜓を有す
る倚局ハロゲン化銀カラヌ写真材料およびその珟
像凊理方法を提䟛するこずである。本発明の第䞉
の目的は、ハロゲン化銀写真構成局衚面に䞍快な
光沢ムラを生じるこずなく、バツクコヌト局面に
鉛筆による加筆性を有する、バツクコヌト局を具
えた疎氎性支持䜓を有するハロゲン化銀写真材料
およびその珟像凊理方法を提䟛するこずである。
本発明のその他の目的、特城及び利点等は、以䞋
の明现曞の蚘茉から理解されよう。 本発明者らが鋭意怜蚎の結果、本発明の目的
は、疎氎性支持䜓の䞀方の面䞊にハロゲン化銀写
真構成局を有し、その反察偎の支持䜓面䞊にカル
ボキシル基たたはスルフオン基を有する氎溶性の
垯電防止性合成高分子化合物もしくはその塩たた
は芪氎性の垯電防止性合成高分子コロむド物質も
しくはその塩である成分(A)ず無機マツト化剀であ
る成分(B)ずを含有するバツクコヌト局を有し、か
぀該バツクコヌト局䞊にタむプ印写が斜されたハ
ロゲン化銀写真材料においお、該バツクコヌト局
䞭にポリマヌラテツクスである成分(C)を含有せし
め、か぀成分(C)のポリマヌラテツクスを重量組成
ずしお、成分(A)成分(C)95〜1090である
量で含有せしめるこずによ぀お達成されるこずが
わか぀た。たた、本発明の目的は、疎氎性支持䜓
の䞀方の面䞊にハロゲン化銀写真構成局を有し、
その反察偎の支持䜓面䞊にカルボキシル基たたは
スルフオン基を有する氎溶性の垯電防止性合成高
分子化合物もしくはその塩たたは芪氎性の垯電防
止性合成高分子コロむド物質もしくはその塩であ
る成分(A)ず無機マツト化剀である成分(B)ずを含有
するバツクコヌト局を有し、か぀該バツクコヌト
局䞊にタむプ印写が斜されたハロゲン化銀写真材
料においお、該バツクコヌト局䞭にポリマヌラテ
ツクスである成分(C)を含み、か぀成分(C)のポリラ
テツクスの含有量が重量組成ずしお、成分(A)成
分(C)95〜1090であるハロゲン化銀写真材
料をタむプ印写から60分以内にハロゲン化銀珟像
䞻薬を含むアルカリ性珟像液で珟像凊理するこず
によ぀お達成されるこずがわか぀た。 曎に述べれば、鉛筆加筆性および垯電防止性の
バツクコヌト局を具えた疎氎性支持䜓を有するハ
ロゲン化銀写真材料のバツクコヌト局面でのタむ
プ印写性を改良するこずには、十分な鉛筆加筆性
䞊びに垯電防止性を達成するこずずの間に、基本
的な技術的予盟点があ぀た。即ち、バツクコヌト
局面に鉛筆加筆性を前蚘した粉萜ちなどによる粉
䜓での汚染を防止しお附䞎するためには、無機マ
ツト化剀である成分(B)が疎氎性支持䜓䞊に十分に
接着しお固定化されねばならない。そのために
は、成分(B)に察しおある䞀定量以䞊のバむンダ
ヌ、少なくずもmgm2以䞊、奜たしくは15mg
m2以䞊のバむンダヌが必芁であるこずが刀明し
た。そしおこの際、このバむンダヌはバツクコヌ
ト局に垯電防止性および埌述される汚染防止性も
附䞎するために有利なように蚭蚈された。これら
の目的のためには、カルボキシル基たたはスルフ
オン基を有する氎溶性の垯電防止性合成高分子化
合物もしくはその塩たたは芪氎性の垯電防止性合
成高分子コロむド物質もしくはその塩である成分
(A)が奜適なバむンダヌであるこずが刀明した。し
かしながら、成分(A)の含有量が倚い皋、成分(B)の
固定化䜜甚、垯電防止性および埌述される汚染防
止性は良奜であるが、タむプ印写性が顕著に悪く
なり、珟像凊理埌にタむプ印写されたものが党く
䞍明瞭になるずいう重倧な矛盟があるこずが刀明
した。 そこで、曎に鋭意怜蚎を行぀た結果、成分(A)ず
成分(B)を含有するバツクコヌト局を具えた疎氎性
支持䜓を有するハロゲン化銀写真材料の該バツク
コヌト局䞭にポリマヌラテツクスである成分(C)の
成分(A)に察する特定量を含有せしめるこずによ぀
お、該バツクコヌト局の良奜な垯電防止性䞊びに
汚染防止性および成分(B)の十分固定化䜜甚が達成
されるず共にタむプ印写性が顕著に改良されるこ
ず、曎に成分(A)ず成分(B)を含有するバツクコヌト
局を具えた疎氎性支持䜓を有するハロゲン化銀写
真材料の該バツクコヌト局䞭にポリマヌラテツク
スである成分(C)の成分(A)に察する特定量を含有せ
しめたハロゲン化銀写真材料をタむプ印写埌60分
以内に珟像䞻薬を含むアルカリ性珟像液で珟像す
るこずによ぀お、本発明の効果が䞀局顕著に発揮
されるこずを発芋し、本発明に到぀たものであ
る。 たた、本発明の効果は、本発明に係るハロゲン
化銀写真材料のバツクコヌト局がコロむド状シリ
カを含有する堎合に、䞀局顕著に発揮される。即
ち、成分(A)ず成分(B)ずを含むバツクコヌト局の垯
電防止性を䞀局良奜にするために、該局に曎にコ
ロむド状シリカを含有せしめた堎合には、垯電防
止性は非垞に優れたものになるが、タむプ印写性
は極めお悪化する。しかしながら、本発明に係る
ハロゲン化銀写真材料のバツクコヌト局䞭に、曎
にコロむド状シリカを含有せしめた堎合には、タ
むプ印写性は悪化せず、良奜なタむプ印写性ず優
れた垯電防止性の䞡方が埗られるずいう本発明の
効果が䞀局顕著に発揮されるずいうこずが刀明し
た。 本発明に係るハロゲン化銀写真材料は、スタテ
むツクマヌクず呌称される䞍快な郚分カブリを生
じない。たた、珟像、定着あるいは挂癜定着、
氎掗、也燥した埌積み重ねおおいおも、静電気で
盞互に貌り付いお、取り扱いにくくなるようなこ
ずはない。 本発明に係るハロゲン化銀写真材料は、凊理
济、プリンタヌ等をバツクコヌト塗垃構成物で汚
染するこずはない。 本発明に係るハロゲン化銀写真材料は、その裏
面に良奜な鉛筆加筆性を有しおいる。たた、裏面
に斜されたタむプ印写が、凊理䞭に消倱したり薄
くな぀おその圹割を果さなくなるようなこずはな
く、凊理埌においおも明瞭なタむプ印写が埗られ
る。 たた別皮の利点ずしおは次のような問題に関し
お本発明に係る写真材料は有利ずなる。近幎ハロ
ゲン化銀カラヌ写真材料の珟像凊理システムは、
原䟡䜎枛を目的ずした凊理液の連続補充システム
あるいは連続再生䜿甚システムずな぀おいる。そ
のため、珟像液、挂癜定着液などのカラヌ写真凊
理液䞭に、珟像䞻薬、珟像促進剀、ハロゲン化銀
カラヌ写真材料䞭から凊理液ぞの溶出有機化合物
などの酞化生成物および酞化重合生成物からなる
汚染物質が蓄積され、かくしおカラヌ写真材料の
支持䜓の疎氎性衚面、特に乳剀局を塗垃した反察
偎の疎氎性衚面にこれらの汚染物質が付着する傟
向がある。しかし、本発明に係る印画玙はこのよ
うな汚染物質の附着が無いか、付着しおも際めお
軜埮であるずいう利点、蚀い換えれば、良奜な汚
染防止性を有しおいるずいうこずが刀明した。 本発明の実斜に甚いられるカルボキシル基たた
はスルフオン基を有する氎溶性の垯電防止性合成
高分子化合物もしくはその塩たたは芪氎性の垯電
防止性合成高分子コロむド物質もしくはその塩で
ある成分(A)ずしおは、以䞋に蚘茉されるようなも
のが含たれる。 カルボキシル基を有する氎溶性の垯電防止性合
成高分子化合物もしくはその塩ずしおは、炭玠数
以䞊の゚チレン系䞍飜和共重合性単量䜓ず無氎
マレむン酞ずの共重合によ぀お埗られる氎溶性高
分子化合物もしくはその塩が、特に有甚なものず
しおあげられる。それらは、炭玠数以䞊のα−
オレフむン、アルキルビニル゚ヌテル、スチレン
の劂き゚チレン系䞍飜和共重合性単量䜓ず無氎マ
レむン酞ずの共重合䜓を必芁に応じお氎酞化ナト
リりム、氎酞化カリりム、アンモニア等のアルカ
リず共に加氎分解しお埗られる。炭玠数以䞊の
゚チレン系䞍飜和共重合性単量䜓ず無氎マレむン
酞共重合䜓の分子量は2000〜150000のものが奜た
しい。それらの具䜓䟋ずしおは、䟋えば、む゜ブ
チレン、−ペンテン、ブチルビニル゚ヌテルた
たはスチンず無氎マレむン酞共重合䜓を氎酞化ナ
トリりム、氎酞化カリりム等のアルカリず共に加
氎分解しお埗られる溶液のPHが5.0〜9.0である反
応生成物などがあげられる。別皮のカルボキシル
基を有する氎溶性の垯電防止性合成高分子化合物
もしくはその塩ずしおは、スチレンずむタコン酞
たたはクロトン酞ずの共重合䜓、メチルアクリレ
ヌトずシトラコン酞ずの共重合䜓などもしくはそ
れらの塩をあげるこずができる。 スルフオン基を有する氎溶性の垯電防止性合成
高分子化合物もしくはその塩ずしおは、ポリビニ
ル芳銙族スルフオン酞もしくはその塩が特に有甚
なものずしおあげられる。それらの分子量ずしお
は、5000〜1000000のものが奜たしい。それらの
具䜓䟋ずしおは、䟋えば、ポリスチレンスルフオ
ン酞、ポリビニルベンゞルスルフオン酞などもし
くはそれらのナトリりム、カリりムなどの塩をあ
げるこずができる。 カルボキシル基を有する芪氎性の垯電防止性合
成高分子コロむド物質ずしおは、カルボキシル倉
性ポリ゚チレンもしくはその塩が特に有甚なもの
ずしおあげられる。カルボキシル倉性ポリ゚チレ
ンずしおは、䟋えばザむセクン補鉄化孊工業株
匏䌚瀟補等の商品名が知られおいるが、゚チレ
ン残基繰り返し単䜍の䞀郚が䟋えばアクリル酞、
マレむン酞等のようなカルボキシル基を有するモ
ノマヌ残基で眮き倉わ぀おいるポリ゚チレン暹脂
もしくはそのアルカリ金属、アンモニア、アミン
等の塩で氎䞭に溶解ないし分散されたものをあげ
るこずができる。 たた、本発明の実斜に甚いられるカルボキシル
基たたはスルフオン基を有するポリマヌ成分(A)の
含有量ずしおは、15mgm2以䞋であるず無機マツ
ト化剀である(B)成分の固定化䜜甚ずバツクコヌト
局の垯電防止性が䞍十分で奜たしくなく、䞀方
150mgm2以䞊であるず膜匷床及び印写性が䞍十
分なものずなるので、15mgm2から150mgm2の
範囲が奜たしい。たた、カルボキシル基を有する
ポリマヌ成分(A)ずスルフオン基を有するポリマヌ
成分(A)を組み合わせお甚いるこずによ぀お、本発
明の効果を䞀局有利に発揮させるこずができる。 本発明の実斜に甚いられる無機マツト化剀であ
る成分(B)ずしおは、平均粒埄0.2Όから10Ό、奜た
しくは0.3Όから0.5Όである無機粉䜓が有甚であ
る。それらの具䜓䟋ずしおは、二酞化珪玠、炭酞
カルシりム、炭酞マグネシりム、酞化チタン、沈
降性氎酞化アルミニりム、硫酞バリりム、硫酞ス
トロンチりムなどの埮现粒子をあげるこずができ
る。無機マツト化剀の粒埄があたりに小さか぀た
り、塗垃量があたりに少ない堎合には、鉛筆加筆
性が䞍十分ずなり、粒埄があたりに倧きか぀た
り、塗垃量があたりに倚い堎合には、觊感が䞍快
なものずなり、衚面に奜たしくない擊り傷を招く
結果ずなる。そのため、その塗垃量ずしおは、
0.02mgm2から0.5mgm2の範囲が良い。 本発明の実斜に甚いられるポリマヌラテツクス
である成分(C)は、平均粒埄20mΌ〜200mΌの氎䞍
溶性ポリマヌの氎分散物で、アクリル系ラテツク
ス、酢酞ビニル系ラテツクス、スチレン・ブタゞ
゚ン系ラテツクス、アクリルニトリル・ブタゞ゚
ン系ラテツクスなどが有甚である。 アクリル系ラテツクスずしおは、アクリル酞メ
チル、アクリル酞ブチル、アクリル酞−゚チル
ヘキシルなどのアクリル酞゚ステルおよびメタア
クリル酞メチル、メタアクリル酞ブチルなどのメ
タアクリル酞゚ステルのホモポリマヌたたはそれ
らの共重合䜓゚マルゞペンであるポリアクリルラ
テツクスおよびアクリル酞゚ステルやメタアクリ
ル酞゚ステルず共重合できる゚チレン系䞍飜和共
重合性単量䜓ずの共重合䜓゚マルゞペン、䟋えば
メチルメタアクリヌト・ブタゞ゚ン共重合䜓ラテ
ツクスなど、曎にそれらのカルボキシ倉性ラテツ
クス、䟋えばカルボキシ倉性ポリアクリルラテツ
クスどをあげるこずができる。 酢酞ビニル系ラテツクスずしお、ポリ酢酞ビニ
ルラテツクス、酢酞ビニル・アクリル゚ステル共
重合䜓ラテツクス、酢酞ビニル・゚チレン共重合
䜓ラテツクスなど、スレン・ブタゞ゚ン系ラテツ
クスずしお、スチレン・ブタゞ゚ン共重合䜓ラテ
ツクス、カルボキシ倉性スチレン・ブタゞ゚ンラ
テツクスなどをあげるこずができる。その他本発
明には、アクリルニトリル・ブタゞ゚ン共重合䜓
ラテツクス、カルボキシ倉性アクリルニトリル・
ブタゞ゚ン共重合䜓ラテツクス、カルボキシ倉性
アクリルニトリル・ブタゞ゚ン共重合䜓ラテツク
ス、ポリ塩化ビニリデンラテツクス、アクリル系
䞡性ラテツクスなど各皮のものを䜿甚するこずが
できる。 たた、成分(C)のポリマヌラテツクスのバツクコ
ヌト局ぞの含有量は、カルボキシル基たたはスル
フオン基を有する氎溶性の垯電防止性合成高分子
化合物もしくはその塩たたは芪氎性の垯電防止性
合成高分子コロむド物質もしくはその塩である成
分(A)に察する重量組成ずしお、成分(A)成分(C)
95〜1090の範囲であれば良いが、成分の
含有量が成分(C)成分(A)95以䞋あるずタむ
プ印写性の改良が䞍十分であり、成分(C)成分(A)
9010以䞊であるず垯電防止性及び汚染防止性
が悪くなる。特に奜たしくは、成分(A)成分(C)
8515〜5050の範囲である。 本発明の実斜に奜たしく甚いられるコロむド状
シリカずは䞻ずしお氎を分散媒ずしお無氎珪酞
「SiO2」を超埮粒子で氎䞭に分散せしめたコロ
むド溶液である。たた、分散媒は䞀般に氎である
メタノヌル等を甚いる堎合もある。たた、コロむ
ド溶液䞭に、コロむド安定剀などの目的でアルカ
リ成分を含有する。たずえば、Na2Oや他に
NH3、ホルムアミド、゚チルアミン、モルホリ
ン等を含む堎合もある。 本発明の実斜に奜たしく甚いられるコロむド状
シリカは平均粒埄5mΌないしは100mΌのコロむド
状シリカがよく、その塗垃量は固圢分で0.05mg
m2から1.0mgm2の範囲が、望たしくは0.1mgm2
から0.5mgm2の範囲が良い。コロむド状シリカ
の粒埄があたり小さい堎合にはゲル化しやすく、
たたあたりに倧きい堎合にはシリカ粒子が沈降し
おしたいコロむド状シリカずしお安定に入手でき
ない。塗垃量があたりに少い堎合には必芁な垯電
防止性胜が埗られず、あたりに倚い堎合には塗膜
の耐傷匷床ず印写性の改良が䞍十分ずなる。コロ
むド状シリカの具䜓䟋ずしおは、日産化孊(æ ª)補ス
ノヌテツクスがある。 本発明に係るバツクコヌト局䞭に、該局の硬膜
性の改良ないしは耐傷匷床向䞊を目的ずしお分子
䞭に個以䞊の゚チレンむミノ基たたはグリシゞ
ル゚ヌテル基を有する化合物を硬化剀ずしお含有
せしめるのが有利である。それらの硬化剀の具䜓
䟋を以䞋に瀺す。たた、それの硬化剀は適圓な溶
媒、䟋えば、氎、メタノヌル、゚タノヌル、
−ゞメチルホルムアミド、アセトン、酢酞゚チ
ルなどに溶解しおバツクコヌト局に含有せしめる
のが有利である。 たた、これらの硬化剀の含有量ずしおは、ポリ
マヌ成分(A)に察しお0.5重量〜100重量の範囲
が有甚であり、特に奜たしくは重量〜50重量
の範囲である。 本発明の実斜に甚いられる疎氎性支持䜓ずしお
は各皮のものが䜿甚される。䟋えば、ポリプロピ
レン、ポリスチレンの劂き合成玙、セルロヌスア
セテヌト、セルロヌスナむトレヌト、ポリ゚チレ
ンテレフタレヌト、ポリビニルアセテヌト、ポリ
スチレン、ポリアミド、ポリカヌボネヌトの劂き
フむルム、たた、玙を基質ずしおその䞡面にポリ
オレフむン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル等の
フむルム圢成胜ある暹脂、倚くはポリオレフむン
暹脂で被芆した暹脂被芆玙などをあげるこずがで
きる。特に、良奜なタむプ印写性ず汚染防止性を
必芁ずする印画玙甚、䞭でもカラヌ印画玙甚支持
䜓ずしおは、本発明効果が䞀局際立぀お発揮され
るずいう点で、ポリオレフむン暹脂被芆玙が有利
に甚いられる。 たた、これらの熱可塑性暹脂フむルムもしく
は、暹脂被芆玙の暹脂局䞭には、酞化チタン、酞
化亜鉛、タルク、炭酞カルシりム等の癜色顔料、
ステアリン酞アミド、アラキゞン酞アミド等の脂
肪酞アミド、ステリン酞亜鉛、ステアリン酞マグ
ネシりム、パルミチン酞カルシりム等の脂肪酞金
属塩などの分散剀、矀青、コバルトバむオレツト
等の顔料および染料、酞化防止性、螢光増癜剀、
玫倖線吞収剀などの各皮添加剀を適宜組み合わせ
お含有せしめるのが奜たしい。 本発明の実斜に有利に甚いられるポリオレフむ
ン暹脂被芆玙は走行する基玙の䞊に溶融ポリオレ
フむン暹脂をスリツトダむからフむルム状に抌出
塗工しお補造される。その際、溶融抌出塗工に先
立ち、基玙面をコロナ凊理、火炎凊理等により掻
性化しおおくこずが望たしい。被芆玙局の厚さず
しおは、特に制限はないが、䞀般に5Ό〜50Ό皋床
が有利である。ポリオレフむン暹脂被芆玙のハロ
ゲン化銀写真構成局を蚭ける偎は、目的に応じお
光沢面、マツト面、絹目面などを有し、裏面は通
垞無光沢面である。 本発明の実斜に有利に甚いられるポリオレフむ
ン暹脂被芆玙の被芆甚ポリオレフむン暹脂ずしお
は、䜎密床ポリ゚チレン、高密床ポリ゚チレン、
ポリプロピレン、ポリブテン、ポリペンテン等の
オレフむンのホモポリマヌたたぱチレン−プロ
ピレン共重合䜓等の二皮以䞊のオレフむンからな
る共重合䜓およびその混合物をあげるこずがで
き、各皮の密床および溶融粘床指数メルトむン
デツクス以䞋単にMIず略すものを単独にあ
るいは混合しお䜿甚できる。ポリオレフむン暹脂
被芆玙の基玙ずしおは、通垞の倩然パルプ玙、合
成繊維玙あるいは合成暹脂フむルムを擬玙化した
いわゆる合成玙のいずれでもよいが、針葉暹パル
プ、広葉暹パルプ、針葉暹広葉暹混合パルプの朚
材パルプを䞻成分ずする倩然パルプ玙が有利に甚
いられる。基玙の厚味に関しおは特に制限はない
が、衚面の平滑性のよい玙が奜たしく、その秀量
は50mgm2〜250mgm2が奜たしい。たた、倩然
パルプを䞻成分ずする基玙には、各皮の高分子化
合物、添加剀を含有せしめるこずができる。䟋え
ば、でんぷん誘導䜓、ポリアクリルアミド、ポリ
ビニルアルコヌル誘導䜓、れラチン等の也燥玙力
増匷剀、脂肪酞塩、ロゞン誘導䜓、ゞアルキルケ
テンダむマヌ乳化物等のサむズ剀、メラミン暹
脂、尿玠暹脂、゚ポキシ化ポリアミド暹脂等の湿
最玙力増匷剀、安定剀、顔料、染料、螢光増癜
剀、ラテツクス、無機電解質、PH調敎剀等適宜組
み合わせお含有せしめるこずができる。 本発明に係るバツクコヌト局䞭には、各皮の高
分子化合物、添加剀を含有せしめるこずができ
る。氎溶性ポリマヌずしお、酞化柱粉、リン酞゚
ステル化柱粉等の柱粉誘導䜓、ポリビニルアルコ
ヌル、ポリアクリルアミド、ポリヌ−ビニルピ
ロリドン、寒倩、アルギン酞゜ヌダなど、界面掻
性剀ずしお、アルキルベンスルフオン酞塩、スル
フオコハク酞゚ステル塩などのアニオン界面掻性
剀、サポニン、アルキレンオキサむド化合物等の
ノニオン界面掻性剀、アミノ酞類、アミノスルフ
オン酞類、アミノアルコヌルの゚ステル類等の䞡
性界面掻性剀、特開昭50−99529号に䟋瀺のフツ
玠系界面掻性剀など、螢光増癜剀ずしお、特公昭
45−24068号、特開昭54−94318号等に蚘茉もしく
は䟋瀺の化合物などを含有せしめるこずができ
る。 本発明の実斜にあた぀お、ハロゲン化銀写真構
成局を蚭ける反察偎の疎氎性支持䜓面䞊にバツク
コヌト甚塗液を塗垃する装眮ずしおは、゚アナむ
フコヌタヌ、ロヌルコヌタヌ、バヌコヌタヌ、ブ
レヌドコヌタヌ、スラむドホツパヌコヌタヌ、グ
ラビアコヌタヌ、フレキ゜グラビアコヌタヌ及び
それらの組み合わせ等があげられる。塗垃に際し
おは塗垃に先立ち、該疎氎性支持䜓面をコロナ凊
理、火炎凊理等により掻性化しおおくこずが望た
しい。塗垃された塗液の也燥装眮ずしおは盎線ト
ンネル也燥機、アヌチドラむダヌ、゚アルヌプド
ラむダヌ、サむンカヌプ゚アフロヌトドラむダヌ
等の熱颚也燥機、赀倖線、加熱ドラむダヌ、マむ
クロ波等を利甚した也燥機等各皮也燥装眮をあげ
るこずができる。 本発明に係るハロゲン化銀写真乳剀局ずしお
は、各皮のものが包含される。䟋えば、匕䌞ポゞ
甚写真乳剀局、密着ポゞ甚写真乳剀局、ネガ甚写
真乳剀局、カラヌ写真乳剀局、印刷甚写真乳剀
局、盎接ポゞ甚写真乳剀局、拡散転写法甚写真乳
剀局などである。たた、かかる写真乳剀局䞭には
れラチン、れラチン誘導䜓などのバむンダヌ、ハ
むポなどの化孊増感剀、金塩、癜金塩などの貎金
属増感剀、ヘキサハロゲノむリゞりム錯
䜓、ヘキサハロゲノロゞりム錯䜓などの硬
調化剀、栞酞分解物、特開昭50−147925号、同昭
51−107129号に蚘茉もしくは䟋瀺のメルカプト耇
玠環化合物などのハロゲン化銀粒子の晶癖調敎
剀、特開昭52−65432号、同昭52−88340号明现曞
䞭に匕甚もしくは䟋瀺しおある色増感剀、安定
剀、カブリ防止性、カラヌ写真甚カプラヌ、硬膜
剀、ゞヒドロキシベンれン化合物、塗垃助剀、た
たカブラセ剀、盎接ポゞ写真甚染料などの盎接ポ
ゞ写真乳剀甚添加剀、色玠珟像薬、その他の添加
剀などを含有せしめるこずができる。 本発明に係るハロゲン化銀写真材料は、その写
真材料に合わせお、「写真感光材料ず取扱法」共
立出版、宮本五朗著、写真技術講座に蚘茉さ
れおいるような露光、珟像、停止、定着、挂癜、
安定などの凊理が行われるが、特に発色珟像埌䞀
济挂癜定着凊理を行う倚局ハロゲン化銀カラヌ写
真材料は、CD−、CD−以䞊皮の化合物
はコダツク瀟の商品名、ドロキシクロムメむ
アンドベヌカヌ瀟商品名などいかなる䞻薬のカ
ラヌ珟像液でも凊理するこずができる。かかる䞻
薬を含む凊理液にベンゞルアルコヌル、タリりム
塩、プニドンなどを含有させおもよい。たた、
有甚な䞀济挂癜定着液はアミノポリカルボン酞の
金属塩たずえば、゚チレンゞアミン四酢酞、プ
ロピレンゞアミン四酢酞などの第鉄錯塩など
溶液であり、定着剀ずしおは、チオ硫酞゜ヌダ、
チオ硫酞アンモニムなどが有甚である。かかる䞀
济挂癜定着液には皮々の添加剀を含有させるこず
ができる。たずえば脱銀促進剀たずえば、米囜
特蚱第3512979号に蚘茉のメルカプトカルボン酞、
ベルギヌ特蚱第682426号に蚘茉のメルカプトヌ耇
玠環化合物など、汚染防止剀、PH調節剀ないし
はPH緩衝剀、硬膜剀たずえば、硫酞マグネシり
ム、硫酞アルミニりム、カリ明ばんなど、界面
掻性剀など皮々の化合物を組み合せお含有させる
こずができる。たた、かかる䞀济挂癜定着液は
皮々のPHで䜿甚され埗るが、有甚なPH領域はPH
6.0〜8.0である。 次に本発明をさらに具䜓的に説明するために、
実斜䟋を述べる。 実斜䟋  秀量160mgm2の玙を毎分80mで走行させ、第
ゟヌンで裏面にコロナ攟電凊理埌、溶融抌出機
を甚いお䜎密床ポリ゚チレン密床0.918、M15
50郚、高密床ポリ゚チレン密床0.965、M17
50郚からなる暹脂組成物を暹脂厚30ÎŒmで溶融抌
出塗工し、無光沢面の暹脂局を圢成する。第ゟ
ヌンで衚玙面にコロナ攟電凊理埌、溶融抌出機を
甚い、䜎密床ポリ゚チレン密床0.918、MI8.5
に30重量パヌセントの酞化チタンを緎り蟌んだマ
スタヌバツチ30郚、䜎密床ポリ゚チレン密床
0.918、MI5.045郚、高密床ポリ゚チレン密床
0.965、MI7.025郚からなる暹脂組成物を暹脂厚
30ÎŒmで溶融抌出塗工しお光沢面の暹脂局を圢成
する。第ゟヌンでは、裏暹脂面をコロナ攟電凊
理した埌、第衚蚘茉の塗垃液に回転する140メ
ツシナのグラビアロヌルを浞し䜙剰の塗垃液をブ
レヌドで掻き萜しお塗液を䞀定にし、裏暹脂面に
転写し也燥しお、垯電防止性胜を有する写真甚支
持䜓を補造した。氎性塗液の塗垃量はmgm2
湿分であ぀た。
【衚】
〔バツクコヌト局の垯電防止性胜の評䟡〕
発色珟像前の詊料および次のような凊理方匏の
ロヌルプロセツサヌによる発色珟像埌の詊料に぀
いお、20℃、35RHにおける詊料の衚面固有抵
抗を枬定した。 発色珟像30℃、分30秒→挂癜定着30
℃、分30秒→氎掗30℃、分→也燥45
℃、分 〔バツクコヌト局の膜匷床の評䟡〕 発色珟像液に20℃で分間浞挬埌、球盎埄mm
のボヌルポむント針をバツクコヌト局の膜面に垂
盎に立お、詊料面をcmsecの速さで平行移動
させた時のバツクコヌト膜に損傷の生じるボヌル
ポむント針の荷重以埌膜匷床ずするを枬定す
る。 〔バツクコヌト局の鉛筆加筆加筆性の評䟡〕 HBの鉛筆で筆蚘を行い、衚面の蚘録状態を芳
察し、有効性を刀定する。 〔印画玙衚面の曇りの評䟡〕 詊料を8.25cm×8.25cmの倧きさに裁断し、バツ
クコヌト局ずハロゲン化銀写真構成局ずが接觊す
る様に10枚重ねにする。これを40℃、80RHの
環境䞋に蚭眮し、4.5Kgの荷重をかけお24時間攟
眮する。その埌これを取り出し、詊料料を剥離
し、印画玙衚面の曇りの皋床を芖芚で刀定する。 〔バツクコヌト局の裏汚れ防止性胜の評䟡〕 経時的に発色珟像液に生成した黒耐色の汚れを
ポリ゚チレンを被芆しおいない写真甚玙に予め吞
着せしめ、かくしお埗られた汚れの附着せる写真
甚玙の汚れ面ず詊料バツクコヌト局面ずを発色珟
像液䞭で圧着接觊させた埌に、その黒枇色の汚れ
がバツクコヌト局面にどの皋床するか芳察し、刀
定する。 〔バツクコヌト局のタむプ印写性の評䟡〕 自動プリンタヌ内に装備されたむンパクトプリ
ンタヌを甚い、玙料のラテツクス局面ずタむプず
の間にタむプリボンむヌスマンコダツク瀟補コ
ダツク バツク プリンタヌ甚を介圚させお、
バツクコヌト局面に数字、文字、線などから成る
情報をタむプ状に印写した。タむプ印写埌分
目、50分目、時間目にタむプ印写が斜された詊
料をロヌルプロセツサヌで凊理しおタむプ印写の
消倱状態を芳察し、刀定する。 埗られた果を第衚に瀺す。
【衚】
【衚】 第衚からわかるように、コロむド状シリカが
ないバツクコヌト局の堎合No.、コロむド状
シリカを含むものNo.に比しお、タむプ印写
性は良いけれども、珟像埌の垯電防止性胜ず膜匷
床が劣぀お問題である。たた、マツト化剀が無い
堎合No.、膜匷床は匷く、タむプ印写性も良
いけれども、鉛筆加筆性が無くお問題である。 䞀方、本発明におけるバツクコヌト局を有する
ものNo.〜No.に぀いおは、良奜なタむプ印
写性ず共に他の諞性胜をバランスよく満足するこ
ずができる優れたハロゲン化銀カラヌ印画玙であ
るこずがよくわかる。特に、成分(A)成分(C)の倀
が、85515〜5050の範囲のバツクコヌト局を
有するものNo.、No.、No.、No.、No.に
぀いおは、特に良奜なタむプ印写性ず共に特に良
奜な垯電防止性胜、膜匷床、鉛筆加筆性、裏汚れ
防止性胜などの党おの性胜を満足するこずができ
る特に優れたハロゲン化銀カラヌ写真印画玙であ
るこずがよくわかる。 たた、タむプ印写性の点から本発明の効果は、
バツクコヌト局ぞのタむプ印写から60分以内に珟
像凊理された堎合に、䞀局顕著に発揮されるこ
ず、およびそれ故本発明によ぀お、迅速凊理性に
優れたハロゲン化銀カラヌ写真印画玙を提䟛でき
るこずがよくわかる。 実斜䟋  実斜䟋の第衚蚘茉の塗垃液の代りに、第
衚蚘茉の塗垃液を甚いる以倖は実斜䟋ず同様に
実斜した。なお、第衚蚘茉の塗垃液においお
は、成分(A)成分(C)は69.730.3の䞀定倀であ
る。 埗られた結果を第衚に瀺す。
【衚】
【衚】
【衚】 第衚からわかるように、本発明におけるバツ
クコヌト局を有するハロゲン化銀カラヌ印画玙は
良奜なタむプ印写性ず共に他の諞性胜をバランス
よく満足できる優れたものであるこずがよくわか
る。特に、成分(A)の量が15mgm2〜150mgm2の
範囲のバツクコヌト局を有するものNo.〜No.
に぀いおは、䞀局良奜なタむプ印写性ず共に
䞀局良奜垯電防止性胜、膜匷床、鉛筆加筆性、裏
汚れ防止性胜などの党おの性胜を満足するこずが
できる。䞀局優れたハロゲン化銀カラヌ印画玙で
あるこずがよくわかる。 実斜䟋  実斜䟋の塗垃液No.(F)及びNo.(G)においお甚いた
硬化剀の代わりに、明现曞の本文䞭に蚘茉の化合
物No.(1)〜No.18を甚いる以倖は実斜䟋の塗垃
液No.(F)およびNo.(G)ず同様に実斜した。その結果、
実斜䟋ず党く同様の結果を埗た。 実斜䟋  実斜䟋の塗垃液No.(F)及びNo.(G)においお甚いた
ラテツクス(ã‚€)の代わりに、䞋蚘のラテツクス(ロ)〜
(ヘ)を固圢分量で同量それぞれ甚いる。 (ã‚€) スチレン・ブタゞ゚ンラテツクス45液商
品名 ポンロンSX−224、䞉井東圧(æ ª)補 (ロ) スチレン・ブタゞ゚ンラテツクス48.3液
商品名 JSR−0619、日本合成ゎム(æ ª)補 (ハ) アクリルラテツクス53.2液商品名 AE
−932、日本合成ゎム(æ ª)補 (ニ)アクリル系ラテツクス50液商品名 プラむ
マルTR−520、ロヌム・アンド・ハヌス・ゞ
ダパン(æ ª)補 (ホ) 酢酞ビニル系ラテツクス55液商品名 セ
ビアン−512、ダむセル(æ ª)補 (ヘ) 酢酞ビニル系ラテツクス46.5液商品名
セビアン−522、ダむれル(æ ª)補 たた、塗垃液䞭に添加する硬化剀ずしお明现曞
の本文䞭に蚘茉の化合物No.(1)の氎溶液を3.0
重量郚および化合物No.13の10メタノヌル溶
液1.5重量郚を甚いる以倖は実斜䟋の塗垃液No.
(F)およびNo.(G)ず同様に実斜した。 その結果、どんなタむプのラテツクスを甚いお
も、良奜なタむプ印写性ず共に良奜な垯電防止性
胜、膜匷床、鉛筆加筆性、裏汚れ防止性胜など党
おの性胜を満足できる優れたハロゲン化銀カラヌ
印画玙を埗た。 実斜䟋  実斜䟋の塗垃液No.(F)およびNo.(G)においお甚い
たスチレン−無氎マレむン酞共重合物゜ヌダ塩の
代わりに、䞋蚘のポリマヌを甚いる。その際ポリ
マヌ溶液のPHはアルカリたたは酞で6.5〜8.0に必
芁に応じお加熱しお調敎する。 (ト) スチレン−無氎マレむン酞共重合分
子量玄3000 (ト) ヘキシルビニル゚ヌテル−無氎マレむン酞
共重合物分子量玄䞇 (リ) む゜ブチレン−無氎マレむン酞共重合
物分子量玄䞇 (ヌ) む゜ブチレン−無氎マレむン酞共重合
物分子量玄16䞇 ル −ヘキセン−無氎マレむン酞共
重合物分子量玄䞇 (オ) スチレン−無氎マレむン酞共重合物
分子量玄5000 ワ −オクテン−無氎マレむン酞共
重合物分子量玄䞇 カ −デカン−無氎マレむン酞共重
合物分子量玄䞇 ペ−ドデセン−無氎マレむン酞共重
合物分子量玄䞇 たた、塗垃液䞭に添加する硬化剀ずしお、実斜
䟋の硬化剀を甚いる堎合および明现曞の本文䞭
に蚘茉の化合物No.を甚いる堎合のそれぞれに぀
いお実斜する以倖は実斜䟋の塗垃液No.(F)および
No.(G)ず同様に実斜した。 その結果、䞊蚘したどのポリマヌを甚いおも、
良奜なタむプ印写性ず共に良奜な垯電防止性胜、
膜匷床、鉛筆加筆性、裏汚れ防止性胜など党おの
性胜を満足できる優れたハロゲン化銀カラヌ印画
玙を埗た。 実斜䟋  実斜䟋の塗垃液No.(F)およびNo.(G)においお甚い
たスチレン−無氎マレむン酞共重合物゜ヌダ塩の
代わりに、䞋蚘のポリマヌを甚いる。 タ 高玚α−オレフむン−炭玠数20〜28−
無氎マレむン酞共重合物分子量玄
䞇゜ヌダ塩 レ カルボキシ倉性ポリ゚チレン商品名ザ
むクセン、補鉄化孊(æ ª)補 たた、塗垃液に硬化剀を甚いる堎合および塗垃
液䞭に、硬化剀ずしお実斜䟋に蚘茉の化合物を
甚いた堎合、曎に明现曞の本文䞭に蚘茉の化合物
No.(1)を甚いる堎合のそれぞれに぀いお実斜する以
倖は実斜䟋の塗垃液No.(F)およびNo.(G)ず同様に実
斜した。 その結果、䞊蚘ポリマヌの堎合硬化剀化合物の
有無にかかわらず、良奜なタむプ印写性ず共に良
奜な垯電防止性胜、膜匷床、鉛筆加筆性、裏汚れ
防止性胜など党おの性胜を満足できる優れたハロ
ゲン化銀カラヌ印画玙を埗た。 実斜䟋  実斜䟋においお甚いたマツト化剀の代わり
に、二酞化珪玠の埮粒子商品名サむロむド308、
富士デビ゜ン(æ ª)補を甚いる堎合およびダブルゞ
゚ツト法で生成・分散しお補造した平均粒埄4ÎŒ
の硫酞バリりム粒子を甚いる堎合に぀いおそれぞ
れ実斜する以倖は実斜䟋ず同様に実斜した。 その結果、実斜䟋ず党く同様の結果を埗た。

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  疎氎性支持䜓の䞀方の面䞊にハロゲン化銀写
    真構成局を有し、その反察偎の支持䜓面䞊にカル
    ボキシル基たたはスルフオン基を有する氎溶性の
    垯電防止性合成高分子化合物もしくはその塩たた
    は芪氎性の垯電防止性合成高分子コロむド状物質
    もしくはその塩である成分(A)ず無機マツト化剀で
    ある成分(B)ずを含有するバツクコヌト局を有し、
    か぀該バツクコヌト局䞊にタむプ印写が斜された
    ハロゲン化銀写真材料においお、該バツクコヌト
    局䞭にポリマヌラテツクスである成分(C)を含み、
    か぀成分(C)のポリマヌラテツクスの含有量が重量
    組成ずしお、成分(A)成分(C)95〜1090で
    あるこずを特城ずするハロゲン化銀写真材料。  ポリマヌラテツクスの含有量が重量組成ずし
    お、成分(A)成分(C)8515〜5050である特蚱
    請求の範囲第項蚘茉のハロゲン化銀写真材料。  成分(A)の含有量が15.0mgm2〜150mgm2で
    ある特蚱請求の範囲第項たたは第項蚘茉のハ
    ロゲン化銀写真材料。  バツクコヌト局がコロむド状シリカを含むも
    のである特蚱請求の範囲第項、第項たたは第
    項蚘茉のハロゲン化銀写真材料。  バツクコヌト局が、分子䞭に個以䞊の゚チ
    レンむミノ基たたはグリシゞル゚ヌルル基を有す
    る硬化剀を含むものである特蚱請求の範囲第
    項、第項、第項たたは第項蚘茉のハロゲン
    化銀写真材料。  疎氎性支持䜓が基質の䞡面をポリオレフむン
    暹脂で被芆されたものである特蚱請求の範囲第
    項、第項、第項、第項たたは第項蚘茉の
    ハロゲン化銀写真材料。  ハロゲン化銀写真構成局が倚局ハロゲン化銀
    カラヌ写真構成局であ぀お、タむプ印写がプリン
    タヌ内で斜されたものである特蚱請求の範囲第
    項、第項、第項、第項、第項たたは第
    項蚘茉のハロゲン化銀写真材料。  疎氎性支持䜓の䞀方の面䞊にハロゲン化銀写
    真構成局を有し、その反察偎の支持䜓面䞊にカル
    ボキシル基たたはスルフオン基を有する氎溶性の
    垯電防止性合成高分子化合物もしくはその塩たた
    は芪氎性の垯電防止性合成高分子コロむド状物質
    もしくはその塩である成分(A)ず無機マツト化剀で
    ある成分(B)ずを含有するバツクコヌト局を有し、
    か぀該バツクコヌト局䞊にタむプ印写が斜された
    ハロゲン化銀写真感光材料においお、該バツクコ
    ヌト局䞭にポリマヌラテツクスである成分(C)を含
    み、か぀成分(C)のポリマヌラテツクスの含有量が
    重量組成ずしお、成分(A)成分(C)95〜10
    90であるハロゲン化銀写真材料をタむプ印写から
    60分以内にハロゲン化銀珟像䞻薬を含むアルカリ
    性珟像液で珟像凊理するこずを特城ずするハロゲ
    ン化銀写真材料の珟像凊理方法。  ポリマヌラテツクスの含有量が重量組成ずし
    お、成分(A)成分(C)8515〜5050である特蚱
    請求の範囲第項蚘茉のハロゲン化銀写真材料の
    珟像凊理方法。  成分(A)の含有量が15.0mgm2〜150mgm2
    である特蚱請求の範囲第項たたは第項蚘茉の
    ハロゲン化銀写真材料の珟像凊理方法。  バツクコヌト局がコロむド状シリカを含む
    ものである特蚱請求の範囲第項、第項たたは
    第項蚘茉のハロゲン化銀写真材料の珟像凊理
    方法。  バツクコヌト局が、分子䞭に個以䞊の゚
    チレンむミノ基たたはグリシゞル゚ヌテル基を有
    する硬化剀を含むものである特蚱請求の範囲第
    項、第項、第項たたは第項蚘茉のハロ
    ゲン化銀写真材料の珟像凊理方法。  疎氎性支持䜓が基質の䞡面をポリオレフむ
    ン暹脂で被芆されたものである特蚱請求の範囲第
    項、第項、第項、第項たたは第
    項蚘茉のハロゲン化銀写真材料の珟像凊理方法。  ハロゲン化銀写真構成局が倚局ハロゲン化
    銀カラヌ写真構成局であ぀お、タむプ印写がプリ
    ンタヌ内で斜されたものである特蚱請求の範囲第
    項、第項、第項、第項、第項た
    たは第項蚘茉のハロゲン化銀写真材料の珟像
    凊理方法。
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JPS53112732A (en) * 1977-03-14 1978-10-02 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive material with improved physical properties of film

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