JP2829634B2 - 帯電防止処理をしたハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
帯電防止処理をしたハロゲン化銀写真感光材料Info
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- -1 Silver halide Chemical class 0.000 title claims description 102
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 title claims description 55
- 239000004332 silver Substances 0.000 title claims description 55
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 27
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims description 29
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 24
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 10
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 claims description 10
- 229920001600 hydrophobic polymer Polymers 0.000 claims description 10
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N hydrazine Substances NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 5
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 claims description 4
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L sulfate group Chemical group S(=O)(=O)([O-])[O-] QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 claims description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 55
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 19
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 17
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 17
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 17
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 17
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 17
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 17
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 10
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 10
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 9
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 9
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 8
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 8
- 238000011161 development Methods 0.000 description 8
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 7
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 150000003283 rhodium Chemical class 0.000 description 7
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 7
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 6
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 6
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 6
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 5
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 5
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 5
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 5
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 5
- KAMCBFNNGGVPPW-UHFFFAOYSA-N 1-(ethenylsulfonylmethoxymethylsulfonyl)ethene Chemical compound C=CS(=O)(=O)COCS(=O)(=O)C=C KAMCBFNNGGVPPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1H-benzotriazole Chemical compound C1=C(C)C=CC2=NNN=C21 LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZTHYODDOHIVTJV-UHFFFAOYSA-N Propyl gallate Chemical compound CCCOC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 ZTHYODDOHIVTJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N [Ag].BrCl Chemical compound [Ag].BrCl SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 4
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 4
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 4
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 4
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 4
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZGTMUACCHSMWAC-UHFFFAOYSA-L EDTA disodium salt (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].OC(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC(O)=O)CC([O-])=O ZGTMUACCHSMWAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XCFIVNQHHFZRNR-UHFFFAOYSA-N [Ag].Cl[IH]Br Chemical compound [Ag].Cl[IH]Br XCFIVNQHHFZRNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 3
- ZUIVNYGZFPOXFW-UHFFFAOYSA-N chembl1717603 Chemical compound N1=C(C)C=C(O)N2N=CN=C21 ZUIVNYGZFPOXFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 3
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 3
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 3
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 3
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L potassium sulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])=O BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 235000019252 potassium sulphite Nutrition 0.000 description 3
- 235000010388 propyl gallate Nutrition 0.000 description 3
- 239000000473 propyl gallate Substances 0.000 description 3
- 229940075579 propyl gallate Drugs 0.000 description 3
- 239000001397 quillaja saponaria molina bark Substances 0.000 description 3
- 229930182490 saponin Natural products 0.000 description 3
- 150000007949 saponins Chemical class 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea group Chemical group NC(=S)N UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GGZHVNZHFYCSEV-UHFFFAOYSA-N 1-Phenyl-5-mercaptotetrazole Chemical compound SC1=NN=NN1C1=CC=CC=C1 GGZHVNZHFYCSEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LPYUENQFPVNPHY-UHFFFAOYSA-N 3-methoxycatechol Chemical compound COC1=CC=CC(O)=C1O LPYUENQFPVNPHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJSJAWHHGDPBOC-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(C)(C)CN1C1=CC=CC=C1 SJSJAWHHGDPBOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 4-aminophenol Chemical compound NC1=CC=C(O)C=C1 PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INVVMIXYILXINW-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1h-[1,2,4]triazolo[1,5-a]pyrimidin-7-one Chemical compound CC1=CC(=O)N2NC=NC2=N1 INVVMIXYILXINW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical class C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 125000003172 aldehyde group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical class 0.000 description 2
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 2
- ZOJBYZNEUISWFT-UHFFFAOYSA-N allyl isothiocyanate Chemical compound C=CCN=C=S ZOJBYZNEUISWFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004069 aziridinyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical group N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 2
- IYCOKCJDXXJIIM-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;prop-2-enoic acid;styrene Chemical compound OC(=O)C=C.C=CC1=CC=CC=C1.CCCCOC(=O)C=C IYCOKCJDXXJIIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 2
- 229960000878 docusate sodium Drugs 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 150000002503 iridium Chemical class 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- IIPYXGDZVMZOAP-UHFFFAOYSA-N lithium nitrate Chemical compound [Li+].[O-][N+]([O-])=O IIPYXGDZVMZOAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N phenidone Chemical compound N1C(=O)CCN1C1=CC=CC=C1 CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 2
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K rhodium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Rh+3] SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- APSBXTVYXVQYAB-UHFFFAOYSA-M sodium docusate Chemical compound [Na+].CCCCC(CC)COC(=O)CC(S([O-])(=O)=O)C(=O)OCC(CC)CCCC APSBXTVYXVQYAB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 2
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 2
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 2
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 2
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 description 2
- CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N toluquinol Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1O CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N urea group Chemical group NC(=O)N XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N (1,10,13-trimethyl-3-oxo-4,5,6,7,8,9,11,12,14,15,16,17-dodecahydrocyclopenta[a]phenanthren-17-yl) heptanoate Chemical compound C1CC2CC(=O)C=C(C)C2(C)C2C1C1CCC(OC(=O)CCCCCC)C1(C)CC2 TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJVOHKFLBKQLIZ-UHFFFAOYSA-N (2-ethenylphenyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=CC=C1C=C NJVOHKFLBKQLIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDNPCYCBQFHNJC-UHFFFAOYSA-N 1,1'-biphenyl-3,4-diol Chemical compound C1=C(O)C(O)=CC=C1C1=CC=CC=C1 QDNPCYCBQFHNJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIGNCQCMONAWOL-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoselenazole Chemical group C1=CC=C2[se]C=NC2=C1 AIGNCQCMONAWOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000355 1,3-benzoxazolyl group Chemical group O1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- ODIRBFFBCSTPTO-UHFFFAOYSA-N 1,3-selenazole Chemical group C1=C[se]C=N1 ODIRBFFBCSTPTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXLXSOPFNVKUMU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dioctoxy-1,4-dioxobutane-2-sulfonic acid Chemical class CCCCCCCCOC(=O)CC(S(O)(=O)=O)C(=O)OCCCCCCCC OXLXSOPFNVKUMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVXJIYJPQXRIEM-UHFFFAOYSA-N 1-$l^{1}-selanyl-n,n-dimethylmethanimidamide Chemical compound CN(C)C([Se])=N RVXJIYJPQXRIEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXJYONBSFGLSSF-UHFFFAOYSA-N 1-(diethylamino)propane-1,2-diol Chemical compound CCN(CC)C(O)C(C)O TXJYONBSFGLSSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NXVHEHXRZVQDCR-UHFFFAOYSA-N 1-n,1-n-diethyl-2-methylbenzene-1,4-diamine Chemical compound CCN(CC)C1=CC=C(N)C=C1C NXVHEHXRZVQDCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHABMLPWPUZVOI-UHFFFAOYSA-N 1-n,1-n-diethylbenzene-1,2,4-triamine Chemical compound CCN(CC)C1=CC=C(N)C=C1N AHABMLPWPUZVOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJLQEYRSDBVSNU-UHFFFAOYSA-N 1-phenyl-3H-pyrazol-3-ide Chemical compound C1(=CC=CC=C1)N1N=[C-]C=C1 QJLQEYRSDBVSNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XIROXSOOOAZHLL-UHFFFAOYSA-N 2',3',4'-Trihydroxyacetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=C(O)C(O)=C1O XIROXSOOOAZHLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTTJWXVQRJUJQW-UHFFFAOYSA-N 2,2-dioctyl-3-sulfobutanedioic acid Chemical class CCCCCCCCC(C(O)=O)(C(C(O)=O)S(O)(=O)=O)CCCCCCCC CTTJWXVQRJUJQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XIWRQEFBSZWJTH-UHFFFAOYSA-N 2,3-dibromobenzene-1,4-diol Chemical compound OC1=CC=C(O)C(Br)=C1Br XIWRQEFBSZWJTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZDIUKPBJDYTOM-UHFFFAOYSA-N 2,5-diethylbenzene-1,4-diol Chemical compound CCC1=CC(O)=C(CC)C=C1O YZDIUKPBJDYTOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXCGIKGRPLMUDF-UHFFFAOYSA-N 2,6-dichloro-1h-1,3,5-triazin-4-one;sodium Chemical compound [Na].OC1=NC(Cl)=NC(Cl)=N1 AXCGIKGRPLMUDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDKLKNJTMLIAFE-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1,3-oxazole-4-carbaldehyde Chemical compound FC1=CC=CC(C=2OC=C(C=O)N=2)=C1 BDKLKNJTMLIAFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQHGAEQBYRZJIX-UHFFFAOYSA-N 2-amino-4-chloro-6-phenylphenol Chemical compound NC1=CC(Cl)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1O XQHGAEQBYRZJIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDVRKKAWBVVSAM-UHFFFAOYSA-N 2-amino-6-phenylphenol Chemical compound NC1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1O UDVRKKAWBVVSAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 2-aminophenol Chemical class NC1=CC=CC=C1O CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REFDOIWRJDGBHY-UHFFFAOYSA-N 2-bromobenzene-1,4-diol Chemical compound OC1=CC=C(O)C(Br)=C1 REFDOIWRJDGBHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZGJUJDQANIYVAL-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4-morpholin-4-ylaniline Chemical compound C1=C(N)C(C)=CC(N2CCOCC2)=C1 ZGJUJDQANIYVAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- YBMTWYWCLVMFFD-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutyl 3,4,5-trihydroxybenzoate Chemical compound CC(C)CCOC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 YBMTWYWCLVMFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSVIHYOAKPVFEH-UHFFFAOYSA-N 4-(hydroxymethyl)-4-methyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(C)(CO)CN1C1=CC=CC=C1 DSVIHYOAKPVFEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHHTFWECCZVRB-UHFFFAOYSA-N 4-amino-2-phenyl-4h-pyrazol-3-one Chemical compound O=C1C(N)C=NN1C1=CC=CC=C1 UIHHTFWECCZVRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006283 4-chlorobenzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1Cl)C([H])([H])* 0.000 description 1
- WWOBYPKUYODHDG-UHFFFAOYSA-N 4-chlorocatechol Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C=C1O WWOBYPKUYODHDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004860 4-ethylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- BQCIJWPKDPZNHD-UHFFFAOYSA-N 5-bromo-2h-benzotriazole Chemical compound C1=C(Br)C=CC2=NNN=C21 BQCIJWPKDPZNHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSGURAYTCUVDQL-UHFFFAOYSA-N 5-nitro-1h-indazole Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C2NN=CC2=C1 WSGURAYTCUVDQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001817 Agar Polymers 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 102000009027 Albumins Human genes 0.000 description 1
- 108010088751 Albumins Proteins 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXZZSHLNVABHEL-UHFFFAOYSA-N C(C)N(CC)CC(C)O.NC(C(C)O)O.C(CCCCCCCCCCC)NC(C)O.C(CCCCCCCCCCC)NC(CC)O.C(CCCCCCCCCCC)NC(C(C)O)O.C(CCCCCCC)N(CCCCCCCC)C(C(C)O)O.C(CCCCCCC)N(CCCCCCCC)C(C)O Chemical compound C(C)N(CC)CC(C)O.NC(C(C)O)O.C(CCCCCCCCCCC)NC(C)O.C(CCCCCCCCCCC)NC(CC)O.C(CCCCCCCCCCC)NC(C(C)O)O.C(CCCCCCC)N(CCCCCCCC)C(C(C)O)O.C(CCCCCCC)N(CCCCCCCC)C(C)O SXZZSHLNVABHEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIRZEMHVHMXCPA-UHFFFAOYSA-N C(CC)N(CCC)C(C(C)O)O.N(CCO)(CCO)CCO.C(C)N(CC)C(CC)O.N(CCO)CCO.CN(C)C(C(C)O)O.C(C)N(CC)C(C(C)O)O.C(C)N(CC)C(CCC)O.C(C)N(CC)C(C)O Chemical compound C(CC)N(CCC)C(C(C)O)O.N(CCO)(CCO)CCO.C(C)N(CC)C(CC)O.N(CCO)CCO.CN(C)C(C(C)O)O.C(C)N(CC)C(C(C)O)O.C(C)N(CC)C(CCC)O.C(C)N(CC)C(C)O UIRZEMHVHMXCPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUWBPTDPBVIOOI-UHFFFAOYSA-N Cc1nc2ncnn2c(O)c1Br Chemical compound Cc1nc2ncnn2c(O)c1Br IUWBPTDPBVIOOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K Citrate Chemical compound [O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPWFJAMTCNSJKK-UHFFFAOYSA-N Dodecyl gallate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 RPWFJAMTCNSJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical class C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 description 1
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWBJYWHLCVSVIJ-UHFFFAOYSA-N N-benzyladenine Chemical compound N=1C=NC=2NC=NC=2C=1NCC1=CC=CC=C1 NWBJYWHLCVSVIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N Pentane-1,5-diol Chemical compound OCCCCCO ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021604 Rhodium(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000978776 Senegalia senegal Species 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- JAWMENYCRQKKJY-UHFFFAOYSA-N [3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-ylmethyl)-1-oxa-2,8-diazaspiro[4.5]dec-2-en-8-yl]-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]methanone Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)CC1=NOC2(C1)CCN(CC2)C(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F JAWMENYCRQKKJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 description 1
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 1
- 125000000738 acetamido group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)N([H])[*] 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 1
- 239000008272 agar Substances 0.000 description 1
- 235000010419 agar Nutrition 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000000783 alginic acid Substances 0.000 description 1
- 235000010443 alginic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229920000615 alginic acid Polymers 0.000 description 1
- 229960001126 alginic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000004781 alginic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000016720 allyl isothiocyanate Nutrition 0.000 description 1
- HTKFORQRBXIQHD-UHFFFAOYSA-N allylthiourea Chemical compound NC(=S)NCC=C HTKFORQRBXIQHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H aluminium sulfate (anhydrous) Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N ammonium thiosulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])(=O)=S XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 1
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 1
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001864 baryta Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- AMTXUWGBSGZXCJ-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzoselenazole Chemical group C1=CC=C2C(N=C[se]3)=C3C=CC2=C1 AMTXUWGBSGZXCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXNQKOAQSGJCQU-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzothiazole Chemical group C1=CC=C2C(N=CS3)=C3C=CC2=C1 KXNQKOAQSGJCQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMUIZUWOEIQJEH-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzoxazole Chemical group C1=CC=C2C(N=CO3)=C3C=CC2=C1 WMUIZUWOEIQJEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical group C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- DNSISZSEWVHGLH-UHFFFAOYSA-N butanamide Chemical compound CCCC(N)=O DNSISZSEWVHGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCWXXRAWRPTQQL-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;oxiran-2-ylmethyl 2-methylprop-2-enoate;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCCCOC(=O)C=C.CC(=C)C(=O)OCC1CO1 YCWXXRAWRPTQQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N chloro(114C)methane Chemical compound [14CH3]Cl NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- AJPXTSMULZANCB-UHFFFAOYSA-N chlorohydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C(Cl)=C1 AJPXTSMULZANCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004106 citric acid Drugs 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 150000001868 cobalt Chemical class 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- AFOSIXZFDONLBT-UHFFFAOYSA-N divinyl sulfone Chemical group C=CS(=O)(=O)C=C AFOSIXZFDONLBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010386 dodecyl gallate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000555 dodecyl gallate Substances 0.000 description 1
- 229940080643 dodecyl gallate Drugs 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N hydroquinone methyl ether Natural products COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000831 ionic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- INHCSSUBVCNVSK-UHFFFAOYSA-L lithium sulfate Inorganic materials [Li+].[Li+].[O-]S([O-])(=O)=O INHCSSUBVCNVSK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical class CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 239000008267 milk Substances 0.000 description 1
- 210000004080 milk Anatomy 0.000 description 1
- 235000013336 milk Nutrition 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Chemical class CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 125000004115 pentoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 1
- 150000003057 platinum Chemical class 0.000 description 1
- 229920006289 polycarbonate film Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 230000008092 positive effect Effects 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001414 potassium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000004321 preservation Methods 0.000 description 1
- 230000002335 preservative effect Effects 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 125000001422 pyrrolinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005070 ripening Effects 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 125000003748 selenium group Chemical group *[Se]* 0.000 description 1
- IYKVLICPFCEZOF-UHFFFAOYSA-N selenourea Chemical compound NC(N)=[Se] IYKVLICPFCEZOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 229940087562 sodium acetate trihydrate Drugs 0.000 description 1
- PPASLZSBLFJQEF-RKJRWTFHSA-M sodium ascorbate Substances [Na+].OC[C@@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1[O-] PPASLZSBLFJQEF-RKJRWTFHSA-M 0.000 description 1
- 235000010378 sodium ascorbate Nutrition 0.000 description 1
- 229960005055 sodium ascorbate Drugs 0.000 description 1
- NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K sodium citrate Chemical compound O.O.[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229960000999 sodium citrate dihydrate Drugs 0.000 description 1
- FZHLWVUAICIIPW-UHFFFAOYSA-M sodium gallate Chemical compound [Na+].OC1=CC(C([O-])=O)=CC(O)=C1O FZHLWVUAICIIPW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PPASLZSBLFJQEF-RXSVEWSESA-M sodium-L-ascorbate Chemical compound [Na+].OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1[O-] PPASLZSBLFJQEF-RXSVEWSESA-M 0.000 description 1
- SDKPSXWGRWWLKR-UHFFFAOYSA-M sodium;9,10-dioxoanthracene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2S(=O)(=O)[O-] SDKPSXWGRWWLKR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000001119 stannous chloride Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000626 sulfinic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- RBTVSNLYYIMMKS-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 3-aminoazetidine-1-carboxylate;hydrochloride Chemical compound Cl.CC(C)(C)OC(=O)N1CC(N)C1 RBTVSNLYYIMMKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAGFXJQAIZNSEQ-UHFFFAOYSA-M tetraphenylphosphonium chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC=CC=C1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WAGFXJQAIZNSEQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003475 thallium Chemical class 0.000 description 1
- 125000002769 thiazolinyl group Chemical group 0.000 description 1
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylene diamine Substances C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Chemical class 0.000 description 1
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、プラスチツクフィルム支持体用の帯電防止
層に関し、特に帯電防止能の優れたハロゲン化銀写真感
光材料に関する。
層に関し、特に帯電防止能の優れたハロゲン化銀写真感
光材料に関する。
一般にプラスチィツクフィルム支持体は、帯電性が強
く、これが使用上多くの制約を与えている例は多い。例
えばハロゲン化銀写真感光材料においてはポリエチレン
テレフタレートのような支持体が一般に使用される
が、、特に冬季の如き低湿度において帯電し易い。最近
のように高感度写真乳剤を高速度で塗布したり、高感度
の感光材料を自動プリンターを通して露光処理をする場
合、特に帯電防止対策が重要である。
く、これが使用上多くの制約を与えている例は多い。例
えばハロゲン化銀写真感光材料においてはポリエチレン
テレフタレートのような支持体が一般に使用される
が、、特に冬季の如き低湿度において帯電し易い。最近
のように高感度写真乳剤を高速度で塗布したり、高感度
の感光材料を自動プリンターを通して露光処理をする場
合、特に帯電防止対策が重要である。
感光材料が帯電すると、その放電によりスタチックマ
ークがでたり、またはゴミ等の異物を付着し、これによ
りピンホールを発生させたりして著しく品質を劣化し、
その修正のため非常に作業性をおとしてしまう。このた
め、一般に感光材料では帯電防止剤が使用され、最近で
は、含フッ素界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界
面活性剤、ポリエチレンオキサイド基を含有する界面活
性剤ないし高分子化合物、スルホン酸又はリン酸基を分
子内に有するポリマー等が用いられている。
ークがでたり、またはゴミ等の異物を付着し、これによ
りピンホールを発生させたりして著しく品質を劣化し、
その修正のため非常に作業性をおとしてしまう。このた
め、一般に感光材料では帯電防止剤が使用され、最近で
は、含フッ素界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界
面活性剤、ポリエチレンオキサイド基を含有する界面活
性剤ないし高分子化合物、スルホン酸又はリン酸基を分
子内に有するポリマー等が用いられている。
特にフッ素系界面活性剤による帯電列調整、あるいは
導電性ポリマーによる導電性向上が多く使用されてきて
おり、例えば特開昭49−91165号および同49−121523号
にはポリマー主鎖中に解離基を有するイオン型ポリマー
を適用する例が開示されている。
導電性ポリマーによる導電性向上が多く使用されてきて
おり、例えば特開昭49−91165号および同49−121523号
にはポリマー主鎖中に解離基を有するイオン型ポリマー
を適用する例が開示されている。
しかしながら、これらの従来技術では、現像処理によ
り、帯電防止能が大幅に劣化してしまう。これはアルカ
リを用いる現像工程、酸性の定着工程、水洗等の工程を
経ることにより帯電防止能が失われるものと思われる。
したがって印刷感光材料等のように、処理済みフィルム
をさらに用いてプリントするような場合に、ゴミの付着
によるピンホール発生等の問題を生ずる。このため例え
ば特開昭55−84658号、同61−174542号ではカルボキシ
ル基を有する水溶性導電性ポリマー、カルボキシル基を
有する疎水性ポリマー及び多官能アジリジンからなる帯
電防止層が提案されている。この方法によれば処理後に
も帯電防止能を残すことができるが、この帯電防止層
は、この層の上にハレーション防止層などの親水性コロ
イド層を設けた場合、経時保存中にひび割れを生じ、商
品価値を大きく損なうことが分かった。さらに、この帯
電防止層を有するプラスチックフィルム支持体に、テト
ラゾリウム化合物またはヒドラジン化合物を使った超硬
調化乳剤を適用した場合、経時保存で減感する欠点を有
することが分かった。
り、帯電防止能が大幅に劣化してしまう。これはアルカ
リを用いる現像工程、酸性の定着工程、水洗等の工程を
経ることにより帯電防止能が失われるものと思われる。
したがって印刷感光材料等のように、処理済みフィルム
をさらに用いてプリントするような場合に、ゴミの付着
によるピンホール発生等の問題を生ずる。このため例え
ば特開昭55−84658号、同61−174542号ではカルボキシ
ル基を有する水溶性導電性ポリマー、カルボキシル基を
有する疎水性ポリマー及び多官能アジリジンからなる帯
電防止層が提案されている。この方法によれば処理後に
も帯電防止能を残すことができるが、この帯電防止層
は、この層の上にハレーション防止層などの親水性コロ
イド層を設けた場合、経時保存中にひび割れを生じ、商
品価値を大きく損なうことが分かった。さらに、この帯
電防止層を有するプラスチックフィルム支持体に、テト
ラゾリウム化合物またはヒドラジン化合物を使った超硬
調化乳剤を適用した場合、経時保存で減感する欠点を有
することが分かった。
上記のような問題に対し、本発明の目的は、現像処理
等の処理後も帯電防止能の劣化が起こらず、経時保存中
にひび割れを生じないハロゲン化銀写真感光材料を提供
することであり、別の目的としては、テトラゾリウム化
合物またはヒドラジン化合物を使った超硬調化乳剤を適
用した場合経時で減感せず安定性の高いハロゲン化銀写
真感光材料を提供することである。
等の処理後も帯電防止能の劣化が起こらず、経時保存中
にひび割れを生じないハロゲン化銀写真感光材料を提供
することであり、別の目的としては、テトラゾリウム化
合物またはヒドラジン化合物を使った超硬調化乳剤を適
用した場合経時で減感せず安定性の高いハロゲン化銀写
真感光材料を提供することである。
本発明の上記目的は、少くともスルホン酸基、硫酸
エステル基又は4級アンモニウム塩基を有する水溶性導
電性ポリマー疎水性ポリマー粒子硬化剤より形成さ
れた帯電防止層を有するハロゲン化銀写真感光材料にお
いて、該硬化剤が一般式〔C〕で表わされる二官能エチ
レンオキサイド型硬化剤であり、帯電防止層を電子線ま
たはX線照射により硬化させたことを特徴とするハロゲ
ン化銀写真感光材料により達成された。
エステル基又は4級アンモニウム塩基を有する水溶性導
電性ポリマー疎水性ポリマー粒子硬化剤より形成さ
れた帯電防止層を有するハロゲン化銀写真感光材料にお
いて、該硬化剤が一般式〔C〕で表わされる二官能エチ
レンオキサイド型硬化剤であり、帯電防止層を電子線ま
たはX線照射により硬化させたことを特徴とするハロゲ
ン化銀写真感光材料により達成された。
尚、上記感光性乳剤層中には、ヒドラジン化合物また
はテトラゾリウム化合物を含有することが望ましい。
はテトラゾリウム化合物を含有することが望ましい。
以下、本発明の詳細について説明する。
本発明の水溶性導電性ポリマーは、単独で使用するこ
とによっても透明な層を形成し得るが、少しの乾燥条件
のブレによって層のひび割れを引き起こしてしまう。本
発明の構成ではそのひび割れを防ぐために疎水性ポリマ
ー粒子を含有しているが、その効果は大きい。
とによっても透明な層を形成し得るが、少しの乾燥条件
のブレによって層のひび割れを引き起こしてしまう。本
発明の構成ではそのひび割れを防ぐために疎水性ポリマ
ー粒子を含有しているが、その効果は大きい。
本発明の請求項1記載の水溶性導電性ポリマーについ
ては、スルホン酸基、硫酸エステル基又は4級アンモニ
ウム塩基を有する。導電性基はポリマー1分子当たり5
重量%以上を必要とする。水溶性の導電性ポリマー中に
含まれるカルボキシ基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポ
キシ基、アジリジン基、活性メチレン基、スルフィン酸
基、アルデヒド基、ビニルスルホン基の中いずれか、特
にカルボキシ基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ
基、アジリジン基、アルデヒド基が好ましい。これらの
基はポリマー1分子当たり5重量%以上必要とする。ポ
リマーの分子量は、3000〜100000であり、好ましくは35
00〜50000である。
ては、スルホン酸基、硫酸エステル基又は4級アンモニ
ウム塩基を有する。導電性基はポリマー1分子当たり5
重量%以上を必要とする。水溶性の導電性ポリマー中に
含まれるカルボキシ基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポ
キシ基、アジリジン基、活性メチレン基、スルフィン酸
基、アルデヒド基、ビニルスルホン基の中いずれか、特
にカルボキシ基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ
基、アジリジン基、アルデヒド基が好ましい。これらの
基はポリマー1分子当たり5重量%以上必要とする。ポ
リマーの分子量は、3000〜100000であり、好ましくは35
00〜50000である。
以下、本発明に用いられる水溶性導電性ポリマーの化
合物例を挙げるがこれに限定されるものではない。
合物例を挙げるがこれに限定されるものではない。
尚、上記(1)〜(50)において、x,y,zはそれぞれ
単量体成分のモル%を、又は平均分子量(本明細書
中、平均分子量とは数平均分子量を示す。)を表す。
単量体成分のモル%を、又は平均分子量(本明細書
中、平均分子量とは数平均分子量を示す。)を表す。
これらのポリマーは市販又は常法によって得られるモ
ノマーを重合することにより合成することが出来る。こ
れらの化合物の添加量は0.01g〜10g/m2が好ましく、特
に好ましくは0.1g〜5g/m2である。
ノマーを重合することにより合成することが出来る。こ
れらの化合物の添加量は0.01g〜10g/m2が好ましく、特
に好ましくは0.1g〜5g/m2である。
次に本発明の水溶性導電性ポリマー層中に含有させる
疎水性ポリマー粒子は、実質的に水に溶解しない所謂ラ
テックス状で含有されている。この疎水性ポリマーは、
スチレン、スチレン誘導体、アルキルアクリレート、ア
ルキルメタクリレート、オレフィン誘導体、ハロゲン化
エチレン誘導体、アクリルアミド誘導体、メタクリルア
ミド誘導体、ビニルエステル誘導体、アクリロニトリル
等の中から任意の組み合わせで選ばれたモノマーを重合
して得られる。特にスチレン誘導体、アルキルアクリレ
ート、アルキルメタクリレートが少なくとも30モル%含
有されているのが好ましい。特に50モル%以上が好まし
い。
疎水性ポリマー粒子は、実質的に水に溶解しない所謂ラ
テックス状で含有されている。この疎水性ポリマーは、
スチレン、スチレン誘導体、アルキルアクリレート、ア
ルキルメタクリレート、オレフィン誘導体、ハロゲン化
エチレン誘導体、アクリルアミド誘導体、メタクリルア
ミド誘導体、ビニルエステル誘導体、アクリロニトリル
等の中から任意の組み合わせで選ばれたモノマーを重合
して得られる。特にスチレン誘導体、アルキルアクリレ
ート、アルキルメタクリレートが少なくとも30モル%含
有されているのが好ましい。特に50モル%以上が好まし
い。
疎水性ポリマーをラテックス状にするには乳化重合を
する、固体状のポリマーを低沸点溶媒に溶かして微分散
後、溶媒を留去するという2つの方法があるが粒径が細
かく、しかもそろったものができるという点で乳化重合
することが好ましい。
する、固体状のポリマーを低沸点溶媒に溶かして微分散
後、溶媒を留去するという2つの方法があるが粒径が細
かく、しかもそろったものができるという点で乳化重合
することが好ましい。
乳化重合の際に用いる界面活性剤としては、アニオン
性、ノニオン性を用いるのが好ましく、モノマーに対し
10重量%以下が好ましい。多量の界面活性剤は導電性層
をくもらせる原因となる。
性、ノニオン性を用いるのが好ましく、モノマーに対し
10重量%以下が好ましい。多量の界面活性剤は導電性層
をくもらせる原因となる。
疎水性ポリマーの分子量は3000以上であれば良く、分
子量による透明性の差はほとんどない。
子量による透明性の差はほとんどない。
本発明の疎水性ポリマーの具体例を挙げる。
次に、本発明に用いられる二官能エチレンオキサイド
系化合物は下記一般式で表される。
系化合物は下記一般式で表される。
一般式〔C〕 CH2=CHCO−L−OCOCH=CH2 〔式中、Lは置換、非置換のアルキレンオキサイド鎖基
を表す。〕 以下、具体例を示すが、これに限定されるものではな
い。
を表す。〕 以下、具体例を示すが、これに限定されるものではな
い。
尚、従来二官能エチレンオキサイド系化合物を硬化す
るのに加熱方法により架橋させていたが、この方法では
反応がおそくかつ架橋が不充分で効率が低いため、本発
明では電子線またはX線照射により硬化させることを特
徴としている。
るのに加熱方法により架橋させていたが、この方法では
反応がおそくかつ架橋が不充分で効率が低いため、本発
明では電子線またはX線照射により硬化させることを特
徴としている。
硬化に必要な電子線及びX線の強度は下記の通りであ
る。
る。
電子線の強度:10-2〜106KW/m2(50KW/m2が特に好まし
い。) X線の強度 :10-2〜106KW/m2(300KW/m2が特に好ま
しい。) 本発明に用いられるヒドラジン化合物は、好ましくは
下記一般式〔H〕で表される化合物である。
い。) X線の強度 :10-2〜106KW/m2(300KW/m2が特に好ま
しい。) 本発明に用いられるヒドラジン化合物は、好ましくは
下記一般式〔H〕で表される化合物である。
式中、R1は1価の有機残基を表し、R2は水素原子また
は1価の有機残基を表し、Q1及びQ2は水素原子、アルキ
ルスルホニル基(置換基を有するものも含む)、アリー
ルスルホニル基(置換基を有するものも含む)を表し、
X1は酸素原子またはイオウ原子を表す。一般式〔I〕で
表される化合物のうち、X1が酸素原子であり、かつR2が
水素原子である化合物が更に好ましい。
は1価の有機残基を表し、Q1及びQ2は水素原子、アルキ
ルスルホニル基(置換基を有するものも含む)、アリー
ルスルホニル基(置換基を有するものも含む)を表し、
X1は酸素原子またはイオウ原子を表す。一般式〔I〕で
表される化合物のうち、X1が酸素原子であり、かつR2が
水素原子である化合物が更に好ましい。
上記R1及びR2の1価の有機残基としては、芳香族残
基、複素環残基及び脂肪族残基が包含される。
基、複素環残基及び脂肪族残基が包含される。
芳香族残基としては、フェニル基、ナフチル基及びこ
れらに置換基(例えばアルキル基、アルコキシ基、アシ
ルヒドラジノ基、ジアルキルアミノ基、アルコキシカル
ボニル基、シアノ基、カルボキシ基、ニトロ基、アルキ
ルチオ基、ヒドロキシ基、スルホニル基、カルバモイル
基、ハロゲン原子、アシルアミノ基、スルホンアミド
基、ウレア基、チオウレア基など)のついたものを含
む。置換基のついたものの具体例として、例えば、4−
メチルフェチル基、4−エチルフェニル基、4−オキシ
エチルフェニル基、4−ドデシルフェニル基、4−カル
ボキシフェニル基、4−ジエチルアミノフェニル基、4
−オクチルアミノフェニル基、4−ベンジルアミノフェ
ニル基、4−アセトアミド−2−メチルフェニル基、4
−(3−エチルチオウレイド)フェニル基、4−[2−
(2,4−ジ−tert−ブチルフェノキシ)ブチルアミド]
フェニル基、4−[2−(2,4−ジ−tert−ブチルフェ
ノキシ)ブチルアミド]フェニル基などを挙げることが
できる。
れらに置換基(例えばアルキル基、アルコキシ基、アシ
ルヒドラジノ基、ジアルキルアミノ基、アルコキシカル
ボニル基、シアノ基、カルボキシ基、ニトロ基、アルキ
ルチオ基、ヒドロキシ基、スルホニル基、カルバモイル
基、ハロゲン原子、アシルアミノ基、スルホンアミド
基、ウレア基、チオウレア基など)のついたものを含
む。置換基のついたものの具体例として、例えば、4−
メチルフェチル基、4−エチルフェニル基、4−オキシ
エチルフェニル基、4−ドデシルフェニル基、4−カル
ボキシフェニル基、4−ジエチルアミノフェニル基、4
−オクチルアミノフェニル基、4−ベンジルアミノフェ
ニル基、4−アセトアミド−2−メチルフェニル基、4
−(3−エチルチオウレイド)フェニル基、4−[2−
(2,4−ジ−tert−ブチルフェノキシ)ブチルアミド]
フェニル基、4−[2−(2,4−ジ−tert−ブチルフェ
ノキシ)ブチルアミド]フェニル基などを挙げることが
できる。
複素環残基としては、酸素、窒素、硫黄、またはセレ
ン原子のうち少なくとも一つを有する五員もしくは六員
の単環または縮合環で、これらに置換基がついてもよ
い。具体的には例えば、ピロリン環、ピリジン環、キノ
リン環、インドール環、オキサゾール環、ベンゾオキサ
ゾール環、ナフトオキサゾール環、イミダゾール環、ベ
ンゾイミダゾール環、チアゾリン環、チアゾール環、ベ
ンゾチアゾール環、ナフトチアゾール環、セレナゾール
環、ベンゾセレナゾール環、ナフトセレナゾール環など
の残基を挙げることが出来る。
ン原子のうち少なくとも一つを有する五員もしくは六員
の単環または縮合環で、これらに置換基がついてもよ
い。具体的には例えば、ピロリン環、ピリジン環、キノ
リン環、インドール環、オキサゾール環、ベンゾオキサ
ゾール環、ナフトオキサゾール環、イミダゾール環、ベ
ンゾイミダゾール環、チアゾリン環、チアゾール環、ベ
ンゾチアゾール環、ナフトチアゾール環、セレナゾール
環、ベンゾセレナゾール環、ナフトセレナゾール環など
の残基を挙げることが出来る。
これらの複素環は、メチル基、エチル基等炭素数1〜
4のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等炭素数1〜
4のアルコキシ基、フェニル基等の炭素数6〜18のアリ
ール基や、クロル、ブロム等のハロゲン原子、アルコキ
シカルボニル基、シアノ基、アミノ基等で置換されてい
てもよい。
4のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等炭素数1〜
4のアルコキシ基、フェニル基等の炭素数6〜18のアリ
ール基や、クロル、ブロム等のハロゲン原子、アルコキ
シカルボニル基、シアノ基、アミノ基等で置換されてい
てもよい。
脂肪族残基としては、直鎖及び分岐のアルキル基、シ
クロアルキル基及びこれらに置換基のついたもの、並び
にアルケニル基及びアルキニル基を含む。
クロアルキル基及びこれらに置換基のついたもの、並び
にアルケニル基及びアルキニル基を含む。
直鎖及び分岐のアルキル基としては、例えば炭素数1
〜18、好ましくは1〜8のアルキル基であって、具体的
には例えばメチル基、エチル基、イソブチル基、1−オ
クチル基等である。
〜18、好ましくは1〜8のアルキル基であって、具体的
には例えばメチル基、エチル基、イソブチル基、1−オ
クチル基等である。
シクロアルキル基としては、例えば炭素数3〜10のも
ので、具体的には例えばシクロプロピル基、シクロヘキ
シル基、アダマンチル基等である。アルキル基やシクロ
アルキル基に対する置換基としてはアルコキシ基(例え
ばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基
等)、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、ヒド
ロキシ基、アルキルチオ基、アミド基、アシロキシ基、
シアノ基、スルホニル基、ハロゲン原子(例えば塩素、
臭素、弗素、沃素など)、アリール基(例えばフェニル
基、ハロゲン置換フェニル基、アルキル置換フェニル
基)等であり、置換されたものの具体例としては例えば
3−メトキシプロピル基、エトキシカルボニルメチル
基、4−クロロシクロヘキシル基、ベンジル基、p−メ
チルベンジル基、p−クロロベンジル基などを挙げるこ
とができる。また、アルケニル基としては例えばアリル
(allyl)基、アルキニル基としては例えばプロパルギ
ル基を挙げることができる。
ので、具体的には例えばシクロプロピル基、シクロヘキ
シル基、アダマンチル基等である。アルキル基やシクロ
アルキル基に対する置換基としてはアルコキシ基(例え
ばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基
等)、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、ヒド
ロキシ基、アルキルチオ基、アミド基、アシロキシ基、
シアノ基、スルホニル基、ハロゲン原子(例えば塩素、
臭素、弗素、沃素など)、アリール基(例えばフェニル
基、ハロゲン置換フェニル基、アルキル置換フェニル
基)等であり、置換されたものの具体例としては例えば
3−メトキシプロピル基、エトキシカルボニルメチル
基、4−クロロシクロヘキシル基、ベンジル基、p−メ
チルベンジル基、p−クロロベンジル基などを挙げるこ
とができる。また、アルケニル基としては例えばアリル
(allyl)基、アルキニル基としては例えばプロパルギ
ル基を挙げることができる。
本発明のヒドラジン化合物の好ましい具体例を以下に
示すが、本発明は何等これによって限定されるものでは
ない。
示すが、本発明は何等これによって限定されるものでは
ない。
一般式〔H〕で表わされるヒドラジン化合物の添加位
置はハロゲン化銀乳剤層及び/または支持体上のハロゲ
ン化銀乳化層側にある非感光層であるが、好ましくは、
ハロゲン化銀乳剤層及び/またはその下層である。添加
量は、10-5〜10-1モル/銀1モルが好ましく、更に好ま
しくは10-4〜10-2モル/銀1モルである。
置はハロゲン化銀乳剤層及び/または支持体上のハロゲ
ン化銀乳化層側にある非感光層であるが、好ましくは、
ハロゲン化銀乳剤層及び/またはその下層である。添加
量は、10-5〜10-1モル/銀1モルが好ましく、更に好ま
しくは10-4〜10-2モル/銀1モルである。
次に本発明に用いられるテトラゾリウム化合物につい
て説明する。
て説明する。
テトラゾリウム化合物は下記一般式で示すことができ
る。
る。
本発明において、上記一般式〔T〕で示されるトリフ
ェニルテトラゾリウム化合物のフェニル基の置換基R1、
R2、R3は水素原子もしくは電子吸引性度を示すハメット
のシグマ値(σP)が負又は正のものが好ましい。特に
負のものが好ましい。
ェニルテトラゾリウム化合物のフェニル基の置換基R1、
R2、R3は水素原子もしくは電子吸引性度を示すハメット
のシグマ値(σP)が負又は正のものが好ましい。特に
負のものが好ましい。
フェニル置換におけるハメットのシグマ値は多くの文
献、例えばジャーナル・オブ・メディカルケミストリー
(Journal of Medical Chemistry)第20巻、304頁、197
7年、記載のC.ハンシュ(C.Hansch)等の報文等に見る
ことが出来、とくに好ましい負のシグマ値を有する基と
しては、例えばメチル基(σP=−0.17以下いずれもσ
P値)エチル基(−0.15)、シクロプロピル基(−0.2
1)、n−プロピル基(−0.13)、isoプロピル基(−0.
15)、シクロブチル基(−0.15)、n−ブチル基(−0.
16)、iso−ブチル基(−0.20)、n−ペンチル基(−
0.15)、シクロヘキシル基(−0.22)、アミノ基(−0.
66)、アセチルアミノ基(−0.15)、ヒドロキシル基
(−0.37)、メトキシ基(−0.27)、エトキシ基(−0.
24)、プロポキシ基(−0.25)、ブトキシ基(−0.3
2)、ペントキシ基(−0.34)等が挙げられ、これらは
いずれも本発明の一般式〔T〕の化合物の置換基として
有用である。
献、例えばジャーナル・オブ・メディカルケミストリー
(Journal of Medical Chemistry)第20巻、304頁、197
7年、記載のC.ハンシュ(C.Hansch)等の報文等に見る
ことが出来、とくに好ましい負のシグマ値を有する基と
しては、例えばメチル基(σP=−0.17以下いずれもσ
P値)エチル基(−0.15)、シクロプロピル基(−0.2
1)、n−プロピル基(−0.13)、isoプロピル基(−0.
15)、シクロブチル基(−0.15)、n−ブチル基(−0.
16)、iso−ブチル基(−0.20)、n−ペンチル基(−
0.15)、シクロヘキシル基(−0.22)、アミノ基(−0.
66)、アセチルアミノ基(−0.15)、ヒドロキシル基
(−0.37)、メトキシ基(−0.27)、エトキシ基(−0.
24)、プロポキシ基(−0.25)、ブトキシ基(−0.3
2)、ペントキシ基(−0.34)等が挙げられ、これらは
いずれも本発明の一般式〔T〕の化合物の置換基として
有用である。
以下本発明に用いられる一般式〔T〕の化合物の具体
例を挙げるが、本発明の化合物はこれに限定されるもの
では無い。
例を挙げるが、本発明の化合物はこれに限定されるもの
では無い。
本発明に用いられるテトラゾリウム化合物は、例えば
ケミカル・レビュー(Chemical Reviews)第55巻、第33
5頁〜483頁に記載の方法に従って容易に合成することが
できる。
ケミカル・レビュー(Chemical Reviews)第55巻、第33
5頁〜483頁に記載の方法に従って容易に合成することが
できる。
本発明のテトラゾリウム化合物は、本発明のハロゲン
化銀写真感光材料中に含有されるハロゲン化銀1モル当
り約1mg以上10gまで、好ましくは約10mg以上約2gまでの
範囲で用いられるのが好ましい。
化銀写真感光材料中に含有されるハロゲン化銀1モル当
り約1mg以上10gまで、好ましくは約10mg以上約2gまでの
範囲で用いられるのが好ましい。
本発明に使用するテトラゾリウム化合物は、単独でも
ちいることにより好ましい特性を得ることができるが、
複数をいかなる比率で組み合わせても好ましい特性を劣
化させることはない。
ちいることにより好ましい特性を得ることができるが、
複数をいかなる比率で組み合わせても好ましい特性を劣
化させることはない。
本発明の好ましい一つの実施態様として、本発明に係
わるテトラゾリウム化合物をハロゲン化銀乳剤層中に添
加することが挙げられる。又本発明の別の好ましい実施
態様においては、ハロゲン化銀乳剤層に直接隣接する親
水性コロイド層、又は中間層を介して隣接する親水性コ
ロイド層に添加される。
わるテトラゾリウム化合物をハロゲン化銀乳剤層中に添
加することが挙げられる。又本発明の別の好ましい実施
態様においては、ハロゲン化銀乳剤層に直接隣接する親
水性コロイド層、又は中間層を介して隣接する親水性コ
ロイド層に添加される。
又別の態様としては、本発明に係わるテトラゾリウム
化合物を適当な有機溶媒、例えばメタノール、エタノー
ル等のアルコール類やエーテル類、エステル類等に溶解
してオーバーコート法等によりハロゲン化銀写真感光材
料のハロゲン化銀乳剤層側の最外層になる部分に直接塗
布してハロゲン化銀写真感光材料に含有せしめてもよ
い。
化合物を適当な有機溶媒、例えばメタノール、エタノー
ル等のアルコール類やエーテル類、エステル類等に溶解
してオーバーコート法等によりハロゲン化銀写真感光材
料のハロゲン化銀乳剤層側の最外層になる部分に直接塗
布してハロゲン化銀写真感光材料に含有せしめてもよ
い。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料に用いるハロ
ゲン化銀は、任意の組成の塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化
銀等で少なくとも50モル%の塩化銀を含有することが好
ましい。ハロゲン化銀粒子の平均粒径は0.025〜0.5μm
の範囲のものが好ましく用いられるが0.05〜0.30μmが
より好ましい。
ゲン化銀は、任意の組成の塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化
銀等で少なくとも50モル%の塩化銀を含有することが好
ましい。ハロゲン化銀粒子の平均粒径は0.025〜0.5μm
の範囲のものが好ましく用いられるが0.05〜0.30μmが
より好ましい。
本発明に係るハロゲン化銀粒子の単分散度は、下記式
(1)で定義され、その値は5〜60が好ましく、より好
ましくは8〜30となるよう調製する。本発明に係るハロ
ゲン化銀粒子の粒径は、便宜的に立方晶粒子の稜長で表
し、単分散度は粒径の標準偏差を平均粒径で割った値を
100倍した数値で表す。
(1)で定義され、その値は5〜60が好ましく、より好
ましくは8〜30となるよう調製する。本発明に係るハロ
ゲン化銀粒子の粒径は、便宜的に立方晶粒子の稜長で表
し、単分散度は粒径の標準偏差を平均粒径で割った値を
100倍した数値で表す。
又、本発明で用い得るハロゲン化銀としては、少なく
とも2層の多層積層構造を有するタイプのものを好まし
く用いることができる。たとえばコア部に塩化銀、シェ
ル部に臭化銀、逆にコア部を臭化銀、シェル部を塩化銀
である塩臭化銀粒子であってもよい。このときヨードは
任意の層に5%モル以内で含有させることができる。
とも2層の多層積層構造を有するタイプのものを好まし
く用いることができる。たとえばコア部に塩化銀、シェ
ル部に臭化銀、逆にコア部を臭化銀、シェル部を塩化銀
である塩臭化銀粒子であってもよい。このときヨードは
任意の層に5%モル以内で含有させることができる。
又、少なくとも2種類の粒子を混合して用いることも
できる。例えば主乳粒子は10モル%以下の塩化銀及び5
モル%以下のヨードを含有する立方晶、八面体又は平板
状の塩沃臭化銀粒子であり、副粒子はヨード5モル%以
下で塩化銀50モル%以上含有する立方晶、八面体又は平
板状塩沃臭化銀粒子からなる混合粒子とすることができ
る。このように粒子を混合して用いる場合は、主・副粒
子の化学増感は任意であるが、副粒子は主粒子より化学
増感(イオウ増感や金増感)を控えることにより感度を
低くしてもよいし、粒子径や内部にドーブするロジウム
などの貴金属の量を調節して感度を低下させてもよい。
また副粒子の内部を金でカブらせてもよいし、コア/シ
ェル法でコアとシェルの組成を変化させてカブらせても
よい。主粒子と副粒子は小粒子程よいが、例えば0.025
μm〜1.0μmの任意の値をとることができる。
できる。例えば主乳粒子は10モル%以下の塩化銀及び5
モル%以下のヨードを含有する立方晶、八面体又は平板
状の塩沃臭化銀粒子であり、副粒子はヨード5モル%以
下で塩化銀50モル%以上含有する立方晶、八面体又は平
板状塩沃臭化銀粒子からなる混合粒子とすることができ
る。このように粒子を混合して用いる場合は、主・副粒
子の化学増感は任意であるが、副粒子は主粒子より化学
増感(イオウ増感や金増感)を控えることにより感度を
低くしてもよいし、粒子径や内部にドーブするロジウム
などの貴金属の量を調節して感度を低下させてもよい。
また副粒子の内部を金でカブらせてもよいし、コア/シ
ェル法でコアとシェルの組成を変化させてカブらせても
よい。主粒子と副粒子は小粒子程よいが、例えば0.025
μm〜1.0μmの任意の値をとることができる。
本発明に用いるハロゲン化銀乳剤調製時には、ロジウ
ム塩を添加して感度または階調をコントロールする事が
できる。ロジウム塩の添加は一般には粒子形成時が好ま
しいが、化学熟成時、乳剤塗布液調製時でも良い。
ム塩を添加して感度または階調をコントロールする事が
できる。ロジウム塩の添加は一般には粒子形成時が好ま
しいが、化学熟成時、乳剤塗布液調製時でも良い。
本発明に用いるハロゲン化銀乳剤に添加されるロジウ
ム塩は、単純な塩の他に複塩でも良い。代表的には、ロ
ジウムクロライド、ロジウムトリクロライド、ロジウム
アンモニウムクロライドなどが用いられる。
ム塩は、単純な塩の他に複塩でも良い。代表的には、ロ
ジウムクロライド、ロジウムトリクロライド、ロジウム
アンモニウムクロライドなどが用いられる。
ロジウム塩の添加量は、必要とする感度、階調により
自由に変えられるが銀1モルに対して10-9モルから10-4
モルの範囲が特に有用である。
自由に変えられるが銀1モルに対して10-9モルから10-4
モルの範囲が特に有用である。
またロジウム塩を使用するときに、他の無機化合物例
えばイリジウム塩、白金塩、タリウム塩、コバルト塩、
金塩などを併用しても良い。イリジウム塩はしばしば高
照度特性の改良の目的で、銀1モル当り10-9モルから10
-4モルの範囲まで好ましく用いることができる。
えばイリジウム塩、白金塩、タリウム塩、コバルト塩、
金塩などを併用しても良い。イリジウム塩はしばしば高
照度特性の改良の目的で、銀1モル当り10-9モルから10
-4モルの範囲まで好ましく用いることができる。
本発明において用いられるハロゲン化銀は種々の化学
増感剤によって増感することができる。増感剤として
は、例えば活性ゼラチン、硫黄増感剤(チオ硫酸ソー
ダ、アリルチオカルバミド、チオ尿素、アリルイソチオ
シアネート等)、セレン増感剤(N,N−ジメチルセレノ
尿素、セレノ尿素等)、還元増感剤(トリエチレンテト
ラミン、塩化第1スズ等)、例えばカリウムクロロオー
ライト、カリウムオーリチオシアネート、カリウムクロ
ロオーレート、2−オーロスルホベンゾチアゾールメチ
ルクロライド、アンモニウムクロロパラデート、カリウ
ムクロロプラチネート、ナトリウムクロロパラダイト等
で代表される各種貴金属増感剤等をそれぞれ単独で、あ
るいは2種以上併用して用いることができる。なお金増
感剤を使用する場合は助剤的にロダンアンモンを使用す
ることもできる。
増感剤によって増感することができる。増感剤として
は、例えば活性ゼラチン、硫黄増感剤(チオ硫酸ソー
ダ、アリルチオカルバミド、チオ尿素、アリルイソチオ
シアネート等)、セレン増感剤(N,N−ジメチルセレノ
尿素、セレノ尿素等)、還元増感剤(トリエチレンテト
ラミン、塩化第1スズ等)、例えばカリウムクロロオー
ライト、カリウムオーリチオシアネート、カリウムクロ
ロオーレート、2−オーロスルホベンゾチアゾールメチ
ルクロライド、アンモニウムクロロパラデート、カリウ
ムクロロプラチネート、ナトリウムクロロパラダイト等
で代表される各種貴金属増感剤等をそれぞれ単独で、あ
るいは2種以上併用して用いることができる。なお金増
感剤を使用する場合は助剤的にロダンアンモンを使用す
ることもできる。
また本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は、例えば
米国特許第3,567,456号、同3,615,639、同3,579,345、
同3,615,608、同3,598,596、同3,598,955、同3,592,65
3、同3,582,343号、特公昭40−26751、同40−27332、同
43−13167、同45−8833、同47−8746号等の明細書に記
載されている減感色素及び/又は紫外線吸収剤を用いる
ことができる。
米国特許第3,567,456号、同3,615,639、同3,579,345、
同3,615,608、同3,598,596、同3,598,955、同3,592,65
3、同3,582,343号、特公昭40−26751、同40−27332、同
43−13167、同45−8833、同47−8746号等の明細書に記
載されている減感色素及び/又は紫外線吸収剤を用いる
ことができる。
さらに本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は、例え
ば米国特許第2,444,607号、同第2,716,062号、同第3,51
2,982号、西独国出願公告第1,189,380号、同第2,058,62
6号、同第2,118,411号、特公昭43−4133号、米国特許第
3,342,596号、特公昭47−4417号、西独国出願公告第2,1
49,789号、特公昭39−2825号、特開昭49−13566号等に
記載されている化合物、好ましくは、例えば5,6−トリ
メチレン−7−ヒドロキシン−S−トリアゾロ(1,5−
a)ピリミジン、5,6−テトラメチレン−7−ヒドロキ
シ−S−トリアゾロ(1,5−a)ピリミジン、5−メチ
ル−7−ヒドロキシ−S−トリアゾロ(1,5−a)ピリ
ミジン、5−メチル−7−ヒドロキシ−S−トリアゾロ
(1,5−a)ピリミジン、7−ヒドロキシン−S−トリ
アゾロン(1,5−a)ピリミジン、5−メチル−6−ブ
ロモ−7−ヒドロキシ−S−トリアゾロ(1,5−a)ピ
リミジン、没食子酸エステル(例えば没食子酸イソアミ
ル、没食子酸ドデシル、没食子酸プロピル、没食子酸ナ
トリウム)、メルカプタン類(1−フェニル−5−メル
カプトテトラゾール、2−メルカプトベンツチアゾー
ル)、ベンゾトリアゾール類(5−ブロムベンツトリア
ゾール、5−メチルベンツトリアゾール)、ベンツイミ
ダゾール類(6−ニトロベンツイミダゾール)等を用い
て安定化することができる。
ば米国特許第2,444,607号、同第2,716,062号、同第3,51
2,982号、西独国出願公告第1,189,380号、同第2,058,62
6号、同第2,118,411号、特公昭43−4133号、米国特許第
3,342,596号、特公昭47−4417号、西独国出願公告第2,1
49,789号、特公昭39−2825号、特開昭49−13566号等に
記載されている化合物、好ましくは、例えば5,6−トリ
メチレン−7−ヒドロキシン−S−トリアゾロ(1,5−
a)ピリミジン、5,6−テトラメチレン−7−ヒドロキ
シ−S−トリアゾロ(1,5−a)ピリミジン、5−メチ
ル−7−ヒドロキシ−S−トリアゾロ(1,5−a)ピリ
ミジン、5−メチル−7−ヒドロキシ−S−トリアゾロ
(1,5−a)ピリミジン、7−ヒドロキシン−S−トリ
アゾロン(1,5−a)ピリミジン、5−メチル−6−ブ
ロモ−7−ヒドロキシ−S−トリアゾロ(1,5−a)ピ
リミジン、没食子酸エステル(例えば没食子酸イソアミ
ル、没食子酸ドデシル、没食子酸プロピル、没食子酸ナ
トリウム)、メルカプタン類(1−フェニル−5−メル
カプトテトラゾール、2−メルカプトベンツチアゾー
ル)、ベンゾトリアゾール類(5−ブロムベンツトリア
ゾール、5−メチルベンツトリアゾール)、ベンツイミ
ダゾール類(6−ニトロベンツイミダゾール)等を用い
て安定化することができる。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料及び/又は現
像液中には、アミノ化合物を含有することが好ましい。
像液中には、アミノ化合物を含有することが好ましい。
本発明に好ましく用いられるアミノ化合物は、第1級
〜第4級アミンすべてを包含する。好ましいアミノ化合
物の例としてアルカノールアミン類が挙げられる。以
下、好ましい具体例を列挙するが、これらに限定される
ものでない。
〜第4級アミンすべてを包含する。好ましいアミノ化合
物の例としてアルカノールアミン類が挙げられる。以
下、好ましい具体例を列挙するが、これらに限定される
ものでない。
ジエチルアミノエタノール ジエチルアミノブタノール ジエチルアミノプロパン−1,2−ジオール ジメチルアミノプロパン−1,2−ジオール ジエタノールアミン ジエチルアミノ−1−プロパノール トリエタノールアミン ジプロピルアミノプロパン−1,2−ジオール ジオクチルアミノ−1−エタノール ジオクチルアミノプロパン−1,2−ジオール ドデシルアミノプロパン−1,2−ジオール ドデシルアミノ−1−プロパノール ドデシルアミノ−1−エタノール アミノプロパン−1,2−ジオール ジエチルアミノ−2−プロパノール ジプロパノールアミン グリシン トリエチルアミン トリエチレンジアミン アミノ化合物はハロゲン化銀写真感光材料の感光層側
の塗設層(例えばハロゲン化銀乳剤層、保護層、下引層
の親水性コロイド層)の少なくとも1層及び/又は現像
液中に含有させればよく、好ましい実施態様は現像液中
に含有する態様である。アミノ化合物の含有量は含有さ
せる対象、アミノ化合物の種類等によって異なるが、コ
ントラスト促進量が必要である。
の塗設層(例えばハロゲン化銀乳剤層、保護層、下引層
の親水性コロイド層)の少なくとも1層及び/又は現像
液中に含有させればよく、好ましい実施態様は現像液中
に含有する態様である。アミノ化合物の含有量は含有さ
せる対象、アミノ化合物の種類等によって異なるが、コ
ントラスト促進量が必要である。
又現像性を高めるために、フェニドンやハイドロキノ
ンのような現像主薬、ベンゾトリアゾールのような抑制
剤を乳剤側に含有せしめることができる。あるいは処理
液の処理能力を上げるために、バッキング層に現像主薬
や抑制剤を含有せしめることができる。
ンのような現像主薬、ベンゾトリアゾールのような抑制
剤を乳剤側に含有せしめることができる。あるいは処理
液の処理能力を上げるために、バッキング層に現像主薬
や抑制剤を含有せしめることができる。
本発明に特に有利に用いられる親水性コロイドはゼラ
チンであるが、ゼラチン以外の親水性コロイドとして
は、例えばコロイド状アルブミン、寒天、アラビアゴ
ム、アルギン酸、加水分解されたセルロースアセテー
ト、アクリルアミド、イミド化ポリアミド、ポリビニル
アルコール、加水分解されたポリビニルアセテート、ゼ
ラチン誘導体、例えば米国特許第2,614,928号、同第2,5
25,753号に記載されている如きフェニルカルバミルゼラ
チン、アシル化ゼラチン、フタル化ゼラチン、あるいは
米国特許第2,548,520号、同第2,831,767号に記載されて
いる如きアクリル酸スチレン、アクリル酸エステル、メ
タクリル酸、メタクリル酸エステル等のエチレン基を持
つ重合可能な単量体をゼラチンにグラフト重合したもの
等を挙げることができ、これらの親水性コロイドはハロ
ゲン化銀を含有しない層、例えばハレーション防止層、
保護層、中間層等にも適用できる。
チンであるが、ゼラチン以外の親水性コロイドとして
は、例えばコロイド状アルブミン、寒天、アラビアゴ
ム、アルギン酸、加水分解されたセルロースアセテー
ト、アクリルアミド、イミド化ポリアミド、ポリビニル
アルコール、加水分解されたポリビニルアセテート、ゼ
ラチン誘導体、例えば米国特許第2,614,928号、同第2,5
25,753号に記載されている如きフェニルカルバミルゼラ
チン、アシル化ゼラチン、フタル化ゼラチン、あるいは
米国特許第2,548,520号、同第2,831,767号に記載されて
いる如きアクリル酸スチレン、アクリル酸エステル、メ
タクリル酸、メタクリル酸エステル等のエチレン基を持
つ重合可能な単量体をゼラチンにグラフト重合したもの
等を挙げることができ、これらの親水性コロイドはハロ
ゲン化銀を含有しない層、例えばハレーション防止層、
保護層、中間層等にも適用できる。
本発明に用いる支持体としては、例えばバライタ紙、
ポリエチレン被覆紙、ポリプロピレン合成紙、ガラス
板、セルロースアセテート、セルロースナイトレート、
例えばポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフ
ィルム、ポリアミドフィルム、ポリプロピレンフィル
ム、ポリカーボネートフィルム、ポリスチレンフィルム
等が代表的なものとして包含される。これらの支持体
は、それぞれハロゲン化銀写真感光材料の使用目的に応
じて適宜選択される。
ポリエチレン被覆紙、ポリプロピレン合成紙、ガラス
板、セルロースアセテート、セルロースナイトレート、
例えばポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフ
ィルム、ポリアミドフィルム、ポリプロピレンフィル
ム、ポリカーボネートフィルム、ポリスチレンフィルム
等が代表的なものとして包含される。これらの支持体
は、それぞれハロゲン化銀写真感光材料の使用目的に応
じて適宜選択される。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料の現像に用い
られる現像主薬としては次のものが挙げられる。HO−
(CH=CH)n−OH型現像主薬の代表的なものとしては、
ハイドロキノンがあり、その他にカテコール、ピロガロ
ール及びその誘導体ならびにアスコルビン酸、クロロハ
イドロキノン、ブロモハイドロキノン、メチルハイドロ
キノン、2,3−ジブロモハイドロキノン、2,5−ジエチル
ハイドロキノン、カテコール、4−クロロカテコール、
4−フェニル−カテコール、3−メトキシ−カテコー
ル、4−アセチル−ピロガロール、アスコルビン酸ソー
ダ等がある。
られる現像主薬としては次のものが挙げられる。HO−
(CH=CH)n−OH型現像主薬の代表的なものとしては、
ハイドロキノンがあり、その他にカテコール、ピロガロ
ール及びその誘導体ならびにアスコルビン酸、クロロハ
イドロキノン、ブロモハイドロキノン、メチルハイドロ
キノン、2,3−ジブロモハイドロキノン、2,5−ジエチル
ハイドロキノン、カテコール、4−クロロカテコール、
4−フェニル−カテコール、3−メトキシ−カテコー
ル、4−アセチル−ピロガロール、アスコルビン酸ソー
ダ等がある。
また、HO−(CH=CH)n−NH2型現像剤としては、オ
ルト及びパラのアミノフェノールが代表的なもので、4
−アミノフェノール、2−アミノ−6−フェニルフェノ
ール、2−アミノ−4−クロロ−6−フェニルフェノー
ル、N−メチル−p−アミノフェニール等がある。
ルト及びパラのアミノフェノールが代表的なもので、4
−アミノフェノール、2−アミノ−6−フェニルフェノ
ール、2−アミノ−4−クロロ−6−フェニルフェノー
ル、N−メチル−p−アミノフェニール等がある。
更に、H2N−(CH=CH)n−NH2型現像剤としては例え
ば4−アミノ−2−メチル−N,N−ジエチルアニリン、
2,4−ジアミノ−N,N−ジエチルアニリン、N−(4−ア
ミノ−3−メチルフェニル)−モルホリン、p−フェニ
レンジアミン等がある。
ば4−アミノ−2−メチル−N,N−ジエチルアニリン、
2,4−ジアミノ−N,N−ジエチルアニリン、N−(4−ア
ミノ−3−メチルフェニル)−モルホリン、p−フェニ
レンジアミン等がある。
ヘテロ環型現像剤としては、1−フェニル−3−ピラ
ゾリドン、1−フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾ
リドン、1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメ
チル−3−ピラゾリドンのような3−ピラゾリドン類、
1−フェニル−4−アミノ−5−ピラゾロン、5−アミ
ノラウシル等を挙げることができる。
ゾリドン、1−フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾ
リドン、1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメ
チル−3−ピラゾリドンのような3−ピラゾリドン類、
1−フェニル−4−アミノ−5−ピラゾロン、5−アミ
ノラウシル等を挙げることができる。
その他、T.H.ジェームス著ザ・セオリィ・オブ・ザ・
ホトグラフィック・プロセス第4版(The Theory of Ph
otographic Process Fourth Edition)第291〜334頁及
びジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサ
エティ(Journal of the American Chemical Society)
第73巻、第3,100頁(1951)に記載されているごとき現
像剤が本発明に有効に使用し得るものである。これらの
現像剤は単独で使用しても2種以上組み合わせてもよい
が、2種以上を組み合わせて用いる方が好ましい。また
本発明にかかる感光材料の現像に使用する現像液には保
恒剤として、例えば亜硫酸ソーダ、亜硫酸カリ、等の亜
硫酸塩を用いても、本発明の効果が損なわれることはな
い。又保恒剤としてヒドロキシルアミン、ヒドラジド化
合物を用いることができ、この場合その使用量は現像液
1当たり5〜500gが好ましく、より好ましくは20〜20
0gである。
ホトグラフィック・プロセス第4版(The Theory of Ph
otographic Process Fourth Edition)第291〜334頁及
びジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサ
エティ(Journal of the American Chemical Society)
第73巻、第3,100頁(1951)に記載されているごとき現
像剤が本発明に有効に使用し得るものである。これらの
現像剤は単独で使用しても2種以上組み合わせてもよい
が、2種以上を組み合わせて用いる方が好ましい。また
本発明にかかる感光材料の現像に使用する現像液には保
恒剤として、例えば亜硫酸ソーダ、亜硫酸カリ、等の亜
硫酸塩を用いても、本発明の効果が損なわれることはな
い。又保恒剤としてヒドロキシルアミン、ヒドラジド化
合物を用いることができ、この場合その使用量は現像液
1当たり5〜500gが好ましく、より好ましくは20〜20
0gである。
また現像液には有機溶媒としてグリコール類を含有さ
せてもよく、そのようなグリコール類としてはエチレン
グリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコ
ール、トリエチレングリコール、1,4−ブタンジオー
ル、1,5−ペンタンジオール等があるが、ジエチレング
リコールが好ましく用いられる。そしてこれらグリコー
ル類の好ましい使用量は現像液1当たり5〜500gで、
より好ましくは20〜200gである。これらの有機溶媒は単
独でも併用しても用いることができる。
せてもよく、そのようなグリコール類としてはエチレン
グリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコ
ール、トリエチレングリコール、1,4−ブタンジオー
ル、1,5−ペンタンジオール等があるが、ジエチレング
リコールが好ましく用いられる。そしてこれらグリコー
ル類の好ましい使用量は現像液1当たり5〜500gで、
より好ましくは20〜200gである。これらの有機溶媒は単
独でも併用しても用いることができる。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料は、上記の如
き現像抑制剤を含んだ現像液を用いて現像処理すること
により極めて保存安定性に優れた感光材料を得ることが
できる。
き現像抑制剤を含んだ現像液を用いて現像処理すること
により極めて保存安定性に優れた感光材料を得ることが
できる。
上記の組成になる現像液のpH値は好ましくは9〜13で
あるが、保恒性及び写真特性上からpH値は10〜12の範囲
が更に好ましい。現像液中の陽イオンについては、ナト
リウムよりカリウムイオンの比率が高い程現像液の活性
度を高めることができるので好ましい。
あるが、保恒性及び写真特性上からpH値は10〜12の範囲
が更に好ましい。現像液中の陽イオンについては、ナト
リウムよりカリウムイオンの比率が高い程現像液の活性
度を高めることができるので好ましい。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料は、種々の条
件で処理することができる。処理温度は、例えば現像温
度は50℃以下が好ましく、特に25℃〜40℃前後が好まし
く、又現像時間は2分以内に終了することが一般的であ
るが、特に好ましくは10秒〜50秒が好効果をもたらすこ
とが多い。又現像以外の処理工程、例えば水洗、停止、
安定、定着、更に必要に応じて前硬膜、中和等の工程を
採用することは任意であり、これらは適宜省略すること
もできる。更にまた、これらの処理は皿現像、枠現像な
どいわゆる手現像処理でも、ローラー現像、ハンガー現
像など機械現像であってもよい。
件で処理することができる。処理温度は、例えば現像温
度は50℃以下が好ましく、特に25℃〜40℃前後が好まし
く、又現像時間は2分以内に終了することが一般的であ
るが、特に好ましくは10秒〜50秒が好効果をもたらすこ
とが多い。又現像以外の処理工程、例えば水洗、停止、
安定、定着、更に必要に応じて前硬膜、中和等の工程を
採用することは任意であり、これらは適宜省略すること
もできる。更にまた、これらの処理は皿現像、枠現像な
どいわゆる手現像処理でも、ローラー現像、ハンガー現
像など機械現像であってもよい。
以下実施例によって本発明を具体的に説明する。尚、
当然のことではあるが、本発明は以下述べる実施例に限
定されるものではない。
当然のことではあるが、本発明は以下述べる実施例に限
定されるものではない。
実施例1 下引き処理したポリエチレンテレフタレートに8W/m2
−minのエネルギーでコロナ放電した後下記構成の帯電
防止液を、下記の付量になる様に30m/minの速さでロー
ルフィットコーティングパン及びエアーナイフを使用し
て塗布した。
−minのエネルギーでコロナ放電した後下記構成の帯電
防止液を、下記の付量になる様に30m/minの速さでロー
ルフィットコーティングパン及びエアーナイフを使用し
て塗布した。
(帯電防止層) 水溶性導電性ポリマー(A)表−1に示す 0.6g/m2 疎水性ポリマー粒子(B)表−1に示す 0.4g/m2 硬膜剤(C) 0.1g/m2 90℃、2分間乾燥し140℃、90秒間熱処理した後、表
−1に示す照射条件により電子線又はX線をあてて硬化
を完了した。この帯電防止層の上にゼラチンを2.0g/m2
になる様に塗布しヒビワレ試験を行った。ゼラチンの硬
膜剤としては、ホルマリン、2,4−ジクロロ−6−ヒド
ロキシ−S−トリアジンナトリウムを用いた。結果を表
−1に示す。
−1に示す照射条件により電子線又はX線をあてて硬化
を完了した。この帯電防止層の上にゼラチンを2.0g/m2
になる様に塗布しヒビワレ試験を行った。ゼラチンの硬
膜剤としては、ホルマリン、2,4−ジクロロ−6−ヒド
ロキシ−S−トリアジンナトリウムを用いた。結果を表
−1に示す。
<ヒビワレ試験> 試験片を乾燥したシリカゲルで相対湿度がほぼ0%に
なった容器に入れ密封し、40℃で3日保存する。保存後
試験片を容器から取り出し、ヒビワレの程度を目視でラ
ンク付けした。
なった容器に入れ密封し、40℃で3日保存する。保存後
試験片を容器から取り出し、ヒビワレの程度を目視でラ
ンク付けした。
○:ヒビワレナシ △:ヒビワレは若干生じるが実用上
可 ×:ヒビワレ多く実用上不可 表−1の結果より本発明の試料はヒビワレに対して優
れた効果を有することが明らかである。
可 ×:ヒビワレ多く実用上不可 表−1の結果より本発明の試料はヒビワレに対して優
れた効果を有することが明らかである。
実施例2 (乳剤の調製) pH3.0の酸性雰囲気下でコントロールドダブルジェッ
ト法によりロジウム塩を、銀1モル当たり10-5モル含有
する平均粒径0.11μm、ハロゲン化銀組成単分散度15、
臭化銀を5モル%含む塩臭化銀粒子を作成した。粒子の
成長は、ベンジルアデニンを1%のゼラチン水溶液1
当たり30mg含有する系で行った。銀とハライドの混合
後、6−メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3a,7テトラザイ
ンデンをハロゲン化銀1モル当たり600mg加え、その後
水洗、脱塩した。
ト法によりロジウム塩を、銀1モル当たり10-5モル含有
する平均粒径0.11μm、ハロゲン化銀組成単分散度15、
臭化銀を5モル%含む塩臭化銀粒子を作成した。粒子の
成長は、ベンジルアデニンを1%のゼラチン水溶液1
当たり30mg含有する系で行った。銀とハライドの混合
後、6−メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3a,7テトラザイ
ンデンをハロゲン化銀1モル当たり600mg加え、その後
水洗、脱塩した。
次いで、ハロゲン化銀1モル当たり60mgの6−メチル
−4−ヒドロキシ−1,3,3a,7−テトラザインデンを加え
た後、ハロゲン化銀1モル当たり15mgのチオ硫酸ナトリ
ウムを加え、60℃でイオウ増感をした。イオウ増感後安
定剤として6−メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3a,7−テ
トラザインデンをハロゲン化銀1モル当たり600mg加え
た。
−4−ヒドロキシ−1,3,3a,7−テトラザインデンを加え
た後、ハロゲン化銀1モル当たり15mgのチオ硫酸ナトリ
ウムを加え、60℃でイオウ増感をした。イオウ増感後安
定剤として6−メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3a,7−テ
トラザインデンをハロゲン化銀1モル当たり600mg加え
た。
得られた乳剤に添加剤を下記の付量になるように調製
添加し、特開昭59−19941号の実施例−1によりラテッ
クス下引処理した厚さ100μmのポリエチレンテレフタ
レート支持体上に塗布した。
添加し、特開昭59−19941号の実施例−1によりラテッ
クス下引処理した厚さ100μmのポリエチレンテレフタ
レート支持体上に塗布した。
ラテックスポリマー:スチレン−ブチルアクリレート
−アクリル酸3元共重合ポリマー 1.0 g/m2 テトラフェニルホスホニウムクロライド 30 mg/m2 サポニン 200 mg/m2 ポリエチレングリコール 100 mg/m2 ハイドロキノン 200 mg/m2 スチレン−マレイン酸共重合体 20 mg/m2 ヒドラジン化合物(表−2に示す) 50 mg/m2 5−メチルベンゾトリアゾール 30 mg/m2 減感色素(M) 20 mg/m2 アルカリ処理ゼラチン(等電点4.9) 1.5 g/m2 ビス(ビニルスルホニルメチル)エーテル 15 mg/m2 銀量 2.8 g/m2 (乳剤層保護膜) 乳剤層保護膜として、下記の付量になるよう調製し、
乳剤とともに同時重層塗布した。
−アクリル酸3元共重合ポリマー 1.0 g/m2 テトラフェニルホスホニウムクロライド 30 mg/m2 サポニン 200 mg/m2 ポリエチレングリコール 100 mg/m2 ハイドロキノン 200 mg/m2 スチレン−マレイン酸共重合体 20 mg/m2 ヒドラジン化合物(表−2に示す) 50 mg/m2 5−メチルベンゾトリアゾール 30 mg/m2 減感色素(M) 20 mg/m2 アルカリ処理ゼラチン(等電点4.9) 1.5 g/m2 ビス(ビニルスルホニルメチル)エーテル 15 mg/m2 銀量 2.8 g/m2 (乳剤層保護膜) 乳剤層保護膜として、下記の付量になるよう調製し、
乳剤とともに同時重層塗布した。
弗素化ジオクチルスルホコハク酸エステル200 mg/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 100 mg/m2 マット剤:ポリメタクリル酸メチル(平均粒径3.5μ
m) 100 mg/m2 硫酸リチウム塩 30 mg/m2 没食子酸プロピルエステル 300 mg/m2 2−メルカプトベンツイミダゾール−5−スルホン酸
ナトリウム 30 mg/m2 アルカリ処理ゼラチン(等電点4.9) 1.3 g/m2 コロイダルシリカ 30 mg/m2 スチレン−マレイン酸共重合体 100 mg/m2 ビス(ビニルスルホニルメチル)エーテル 15 mg/m2 つぎに、乳剤層と反対側の支持体上に、あらかじめ30
W/m2minのパワーでコロナ放電した後、ポリ(スチレン
−ブチルアクリレート−グリシジルメタクリレート)ラ
テックスポリマーをヘキサメチレンアジリジン硬膜剤の
存在下で塗布し、さらに帯電防止層を実施例1と同様に
塗布し、ついで下記組成のバッキング層を添加剤が下記
付量になるように調製し、塗布した。
m) 100 mg/m2 硫酸リチウム塩 30 mg/m2 没食子酸プロピルエステル 300 mg/m2 2−メルカプトベンツイミダゾール−5−スルホン酸
ナトリウム 30 mg/m2 アルカリ処理ゼラチン(等電点4.9) 1.3 g/m2 コロイダルシリカ 30 mg/m2 スチレン−マレイン酸共重合体 100 mg/m2 ビス(ビニルスルホニルメチル)エーテル 15 mg/m2 つぎに、乳剤層と反対側の支持体上に、あらかじめ30
W/m2minのパワーでコロナ放電した後、ポリ(スチレン
−ブチルアクリレート−グリシジルメタクリレート)ラ
テックスポリマーをヘキサメチレンアジリジン硬膜剤の
存在下で塗布し、さらに帯電防止層を実施例1と同様に
塗布し、ついで下記組成のバッキング層を添加剤が下記
付量になるように調製し、塗布した。
(バッキング層) ラテックスポリマー:ブチルアクリレート−スチレン
共重合体 0.5 g/m2 スチレン−マレイン酸共重合体 100 mg/m2 クエン酸(塗布後pH5.4に調製) 40 mg/m2 サポニン 200 mg/m2 硝酸リチウム塩 30 mg/m2 アルカリ処理ゼラチン 2.0 g/m2 ビス(ビニルスルホニルメチル)エーテル 15 mg/m2 (バッキング層保護膜) 添加剤を下記付量になるよう調製し、バッキング層上
部に同時重層塗布した。
共重合体 0.5 g/m2 スチレン−マレイン酸共重合体 100 mg/m2 クエン酸(塗布後pH5.4に調製) 40 mg/m2 サポニン 200 mg/m2 硝酸リチウム塩 30 mg/m2 アルカリ処理ゼラチン 2.0 g/m2 ビス(ビニルスルホニルメチル)エーテル 15 mg/m2 (バッキング層保護膜) 添加剤を下記付量になるよう調製し、バッキング層上
部に同時重層塗布した。
ジオクチルスルホコハク酸エステル 200 mg/m2 マット剤:ポリメタクリル酸メチル(平均粒径4.0μ
m) 50 mg/m2 アルカリ処理ゼラチン(等電点4.9) 1.0 g/m2 弗素化ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 50 mg/m2 ビス(ビニルスルホニルメチル)エーテル 20 mg/m2 なお、上記塗布液のpHはあらかじめ5.4に調製してか
ら塗布した。
m) 50 mg/m2 アルカリ処理ゼラチン(等電点4.9) 1.0 g/m2 弗素化ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 50 mg/m2 ビス(ビニルスルホニルメチル)エーテル 20 mg/m2 なお、上記塗布液のpHはあらかじめ5.4に調製してか
ら塗布した。
以上のようにして得られた試料をそれぞれ2つに分
け、一方は23℃相対湿度55%で3日間保存した。残りの
一方は23℃相対湿度55%で3時間調湿し後、重ねた状態
で防湿袋に封入し、55℃で3日間保存して強制劣化させ
経時代用試料を作成した。両方の試料を、ステップウェ
ッジを通して露光後、下記に示す現像液、定着液を使用
して現像処理した後、感度及び表面比抵抗を求めた。な
お感度は光学濃度で1.0になる露光量とし、相対感度で
表した。結果を表2に示した。
け、一方は23℃相対湿度55%で3日間保存した。残りの
一方は23℃相対湿度55%で3時間調湿し後、重ねた状態
で防湿袋に封入し、55℃で3日間保存して強制劣化させ
経時代用試料を作成した。両方の試料を、ステップウェ
ッジを通して露光後、下記に示す現像液、定着液を使用
して現像処理した後、感度及び表面比抵抗を求めた。な
お感度は光学濃度で1.0になる露光量とし、相対感度で
表した。結果を表2に示した。
現像処理条件 工程 温度 時間 現像 34℃ 15秒 定着 32℃ 10秒 水洗 常温 10秒 現像液処方 ハイドロキノン 25 g 1−フェニル−4,4ジメチル−3−ピラゾリドン0.4 g 臭化ナトリウム 3 g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.3 g 5−ニトロインダゾール 0.05g ジエチルアミノプロパン−1,2−ジオール 10 g 亜硫酸カリウム 90 g 5−スルホサリチル酸ナトリウム 75 g エチレンジアミン四酢酸ナトリウム 2 g 水で1に仕上げた。
pHは、苛性ソーダで11.5とした。
定着液処方 (組成A) チオ硫酸アンモニウム(72.5w%水溶液) 240ml 亜硫酸ナトリウム 17g 酢酸ナトリウム・3水塩 6.5g 硼酸 6g クエン酸ナトリウム・2水塩 2g 酢酸(90w%水溶液) 13.6ml (組成B) 純水(イオン交換水) 17ml 硫酸(50w%の水溶液) 4.7g 硫酸アルミニウム(Al2O3換算含量が8.1w%の水溶
液) 26.5g 定着液の使用時に水500ml中に上記組成A、組成Bの
順に溶かし、1に仕上げて用いた。この定着液のpHは
約4.3であった。
液) 26.5g 定着液の使用時に水500ml中に上記組成A、組成Bの
順に溶かし、1に仕上げて用いた。この定着液のpHは
約4.3であった。
表2の結果から本発明の試料は、経時保存による感度
低下が少なく、また処理後の帯電防止能の劣化も少ない
ことが分かる。
低下が少なく、また処理後の帯電防止能の劣化も少ない
ことが分かる。
実施例3 実施例2と同様にして、ロジウム塩を銀1モル当たり
10-5モルを含有し、平均粒径0.20μm、単分散度20の臭
化銀を2モル%含む塩臭化銀粒子を作成した。これを実
施例2と同様に処理、水洗、脱塩後イオウ増感を施し
た。
10-5モルを含有し、平均粒径0.20μm、単分散度20の臭
化銀を2モル%含む塩臭化銀粒子を作成した。これを実
施例2と同様に処理、水洗、脱塩後イオウ増感を施し
た。
得られた乳剤に添加剤を下記の付量になるように調製
添加し、実施例1で用いた下引加工済ポリエチレンテレ
フタレート支持体上に塗布した。
添加し、実施例1で用いた下引加工済ポリエチレンテレ
フタレート支持体上に塗布した。
ラテックスポリマー: スチレン−ブチルアクリレートアクリル酸3元共重合
ポリマー 1.0g/m2 フェノール 1mg/m2 サポニン 200mg/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 50mg/m2 テトラゾリウム化合物(表−3に示す) 50mg/m2 化合物(N) 40mg/m2 化合物(O) 50mg/m2 スチレン−マレイン酸共重合体 20mg/m2 アルカリ処理ゼラチン(等電点4.9) 2.0g/m2 銀量 3.5g/m2 ホルマリン 10mg/m2 尚、塗布液はあらかじめ水酸化ナトリウムpH6.5に調
整したのち塗布した。乳剤保護膜として、添加剤を下記
の付量になるように調製し、乳剤塗布液とともに同時重
層塗布した。
ポリマー 1.0g/m2 フェノール 1mg/m2 サポニン 200mg/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 50mg/m2 テトラゾリウム化合物(表−3に示す) 50mg/m2 化合物(N) 40mg/m2 化合物(O) 50mg/m2 スチレン−マレイン酸共重合体 20mg/m2 アルカリ処理ゼラチン(等電点4.9) 2.0g/m2 銀量 3.5g/m2 ホルマリン 10mg/m2 尚、塗布液はあらかじめ水酸化ナトリウムpH6.5に調
整したのち塗布した。乳剤保護膜として、添加剤を下記
の付量になるように調製し、乳剤塗布液とともに同時重
層塗布した。
弗素化ジオクチルスルホコハク酸エステル 100mg/m2 ジオクチルスルホコハク酸エステル 100mg/m2 マット剤:不定型シリカ 50mg/m2 化合物(O) 30mg/m2 5−メチルベンゾトリアゾール 20mg/m2 化合物(P) 500mg/m2 没食子酸プロピルエステル 300mg/m2 スチレン−マレイン酸共重合体 100mg/m2 アルカリ処理ゼラチン(等電点4.9) 1.0g/m2 ホルマリン 10mg/m2 尚、あらかじめクエン酸でpH5.4に調整したのち塗布
した。
した。
次に乳剤層とは、反対側の支持体上に、実施例2と全
く同様にして帯電防止層、バッキング層を設けた。ただ
しこの時のバッキング層の硬膜剤はホルマリンを使用し
た。
く同様にして帯電防止層、バッキング層を設けた。ただ
しこの時のバッキング層の硬膜剤はホルマリンを使用し
た。
実施例2と同様に処理し、評価した。
ただし、現像液は下記のものを用いた。得られた結果
を表−3に示す。
を表−3に示す。
(組成A) 純水(イオン交換水) 150ml エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 2g ジエチレングリコール 50g 亜硫酸カリウム(55%w/v水溶液) 100ml 炭酸カリウム 50g ハイドロキノン 15g 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 30mg 水酸化カリウム 使用液のpHを10.4にする量 臭化カリウム 4.5g (組成B) 純水(イオン交換水) 3mg ジエチレングリコール 50g エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 25mg 酢酸(90%水溶液) 0.3ml 1−フェニル−3−ピラゾリド 500mg 現像液の使用時に水500ml中に上記組成A、組成Bの
順に溶かし、1に仕上げて用いた。
順に溶かし、1に仕上げて用いた。
表3の結果からも実施例2のヒドラジン化合物の場合
と同様に本発明の試料は経時保存による感度低下が少な
く、処理後の帯電防止能の劣化も少ない。
と同様に本発明の試料は経時保存による感度低下が少な
く、処理後の帯電防止能の劣化も少ない。
〔発明の効果〕 本発明により、処理後も帯電防止能の劣化がおこら
ず、しかも親水性コロイド層を上層に設けた場合のひび
われを生じないプラスティックフィルム支持体用の帯電
防止層及びこの帯電防止層を超硬調乳剤に適用した場
合、経時で減感しない安定性の高いハロゲン化銀写真感
光材料を提供することができた。
ず、しかも親水性コロイド層を上層に設けた場合のひび
われを生じないプラスティックフィルム支持体用の帯電
防止層及びこの帯電防止層を超硬調乳剤に適用した場
合、経時で減感しない安定性の高いハロゲン化銀写真感
光材料を提供することができた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−174542(JP,A) 特開 昭59−214849(JP,A) 特開 昭60−69648(JP,A) 特開 昭61−252547(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G03C 1/85 G03C 1/06
Claims (2)
- 【請求項1】少くともスルホン酸基、硫酸エステル基
又は4級アンモニウム塩基を有する水溶性導電性ポリマ
ー、疎水性ポリマー粒子、硬化剤より形成された帯
電防止層を有するハロゲン化銀写真感光材料において、
該硬化剤が一般式〔C〕で表わされる二官能エチレンオ
キサイド型硬化剤であり、帯電防止層を電子線またはX
線照射により硬化させたことを特徴とするハロゲン化銀
写真感光材料。 一般式〔C〕 CH2=CHCO−L−OCOCH=CH2 〔式中、Lは置換、非置換のアルキレンオキサイド鎖を
表わす。〕 - 【請求項2】ハロゲン化銀写真感光材料の感光性乳剤層
中にヒドラジン化合物またはテトラゾリウム化合物を含
有することを特徴とする請求項1記載のハロゲン化銀写
真感光材料。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1197193A JP2829634B2 (ja) | 1989-07-28 | 1989-07-28 | 帯電防止処理をしたハロゲン化銀写真感光材料 |
| US07/558,577 US5135843A (en) | 1989-07-28 | 1990-07-27 | Silver halide photographic element |
| EP90308376A EP0410820B1 (en) | 1989-07-28 | 1990-07-30 | Silver halide photographic material |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1197193A JP2829634B2 (ja) | 1989-07-28 | 1989-07-28 | 帯電防止処理をしたハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0359651A JPH0359651A (ja) | 1991-03-14 |
| JP2829634B2 true JP2829634B2 (ja) | 1998-11-25 |
Family
ID=16370358
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1197193A Expired - Lifetime JP2829634B2 (ja) | 1989-07-28 | 1989-07-28 | 帯電防止処理をしたハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2829634B2 (ja) |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5863933A (ja) * | 1981-10-14 | 1983-04-16 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 画像形成方法 |
| JPS59214849A (ja) * | 1983-05-21 | 1984-12-04 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | ハロゲン化銀写真材料およびその現像処理方法 |
| JPS6069648A (ja) * | 1983-09-26 | 1985-04-20 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| US4585730A (en) * | 1985-01-16 | 1986-04-29 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Antistatic backing layer with auxiliary layer for a silver halide element |
| JPS61242547A (ja) * | 1985-04-19 | 1986-10-28 | Nippon Nousan Kogyo Kk | アゲハチヨウ幼虫用飼料 |
| JPS63314541A (ja) * | 1988-01-06 | 1988-12-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成方法 |
-
1989
- 1989-07-28 JP JP1197193A patent/JP2829634B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0359651A (ja) | 1991-03-14 |
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