JPH03256039A - 帯電防止層 - Google Patents
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- 229920001600 hydrophobic polymer Polymers 0.000 claims abstract description 18
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 12
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 claims abstract description 11
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 claims abstract description 8
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims abstract description 3
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical group C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 14
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 6
- -1 silver halide Chemical class 0.000 abstract description 27
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 14
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract description 13
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 abstract description 13
- 239000004332 silver Substances 0.000 abstract description 13
- 238000011161 development Methods 0.000 abstract description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 4
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 abstract description 2
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 abstract 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 12
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 9
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 9
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 9
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 9
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 9
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 8
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 7
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Polymers 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 3
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 3
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1H-benzotriazole Chemical compound C1=C(C)C=CC2=NNN=C21 LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Natural products CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002307 Dextran Polymers 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N glyoxal Chemical compound O=CC=O LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 2
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- OXLXSOPFNVKUMU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dioctoxy-1,4-dioxobutane-2-sulfonic acid Chemical class CCCCCCCCOC(=O)CC(S(O)(=O)=O)C(=O)OCCCCCCCC OXLXSOPFNVKUMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXJYONBSFGLSSF-UHFFFAOYSA-N 1-(diethylamino)propane-1,2-diol Chemical compound CCN(CC)C(O)C(C)O TXJYONBSFGLSSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZZBNLYBHUDSHF-DHLKQENFSA-N 1-[(3s,4s)-4-[8-(2-chloro-4-pyrimidin-2-yloxyphenyl)-7-fluoro-2-methylimidazo[4,5-c]quinolin-1-yl]-3-fluoropiperidin-1-yl]-2-hydroxyethanone Chemical compound CC1=NC2=CN=C3C=C(F)C(C=4C(=CC(OC=5N=CC=CN=5)=CC=4)Cl)=CC3=C2N1[C@H]1CCN(C(=O)CO)C[C@@H]1F WZZBNLYBHUDSHF-DHLKQENFSA-N 0.000 description 1
- IQMGXSMKUXLLER-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-5-sulfobenzoic acid;sodium Chemical compound [Na].OC(=O)C1=CC(S(O)(=O)=O)=CC=C1O IQMGXSMKUXLLER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJSJAWHHGDPBOC-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(C)(C)CN1C1=CC=CC=C1 SJSJAWHHGDPBOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSGURAYTCUVDQL-UHFFFAOYSA-N 5-nitro-1h-indazole Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C2NN=CC2=C1 WSGURAYTCUVDQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 102100025597 Caspase-4 Human genes 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical class C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100273284 Homo sapiens CASP4 gene Proteins 0.000 description 1
- NWBJYWHLCVSVIJ-UHFFFAOYSA-N N-benzyladenine Chemical compound N=1C=NC=2NC=NC=2C=1NCC1=CC=CC=C1 NWBJYWHLCVSVIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DWDDCROEBRKXIF-UHFFFAOYSA-N O.O.O.B(O)(O)O Chemical compound O.O.O.B(O)(O)O DWDDCROEBRKXIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 125000003172 aldehyde group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H aluminium sulfate (anhydrous) Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N ammonium sulfate Chemical compound N.N.OS(O)(=O)=O BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052921 ammonium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011130 ammonium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N ammonium thiosulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])(=O)=S XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000004069 aziridinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- XOPOEBVTQYAOSV-UHFFFAOYSA-N butyl 3,4,5-trihydroxybenzoate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 XOPOEBVTQYAOSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- ZUIVNYGZFPOXFW-UHFFFAOYSA-N chembl1717603 Chemical compound N1=C(C)C=C(O)N2N=CN=C21 ZUIVNYGZFPOXFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 238000011033 desalting Methods 0.000 description 1
- KHAIRHLKBKSNHK-UHFFFAOYSA-L disodium hydrogen sulfite acetate Chemical compound C(C)(=O)O.S(=O)([O-])[O-].[Na+].[Na+] KHAIRHLKBKSNHK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- AFOSIXZFDONLBT-UHFFFAOYSA-N divinyl sulfone Chemical group C=CS(=O)(=O)C=C AFOSIXZFDONLBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Chemical group CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940015043 glyoxal Drugs 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N hydrazine Substances NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 229920000831 ionic polymer Polymers 0.000 description 1
- IIPYXGDZVMZOAP-UHFFFAOYSA-N lithium nitrate Chemical compound [Li+].[O-][N+]([O-])=O IIPYXGDZVMZOAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- SNVLJLYUUXKWOJ-UHFFFAOYSA-N methylidenecarbene Chemical compound C=[C] SNVLJLYUUXKWOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000983 mordant dye Substances 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N phenidone Chemical compound N1C(=O)CCN1C1=CC=CC=C1 CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L potassium sulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])=O BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019252 potassium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000001397 quillaja saponaria molina bark Substances 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930182490 saponin Natural products 0.000 description 1
- 150000007949 saponins Chemical class 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K sodium citrate Chemical compound O.O.[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- OZSMDXCTZNLHPP-FJOGWHKWSA-M sodium;(z)-but-2-enedioic acid;2-phenylethenesulfonate Chemical compound [Na+].OC(=O)\C=C/C(O)=O.[O-]S(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 OZSMDXCTZNLHPP-FJOGWHKWSA-M 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 125000000626 sulfinic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003866 tertiary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- WAGFXJQAIZNSEQ-UHFFFAOYSA-M tetraphenylphosphonium chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC=CC=C1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WAGFXJQAIZNSEQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UEUXEKPTXMALOB-UHFFFAOYSA-J tetrasodium;2-[2-[bis(carboxylatomethyl)amino]ethyl-(carboxylatomethyl)amino]acetate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC([O-])=O)CC([O-])=O UEUXEKPTXMALOB-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 125000003831 tetrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Chemical class 0.000 description 1
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
[0001]
本発明は、プラスチックフィルム用の帯電防止層に関し
、特に帯電防止能の優れたハロゲン化銀写真感光材料に
関する。 [0002]
、特に帯電防止能の優れたハロゲン化銀写真感光材料に
関する。 [0002]
一般にプラスチイックフィルムは帯電性が強く、これが
使用上多くの制約を与えている例は多い。例えばハロゲ
ン化銀写真感光材料においてはポリエチレンテレフタレ
ートのような支持体が一般に使用されるが、特に冬季の
如き低湿度において帯電し易い。最近のように高感度写
真乳剤を高速度で塗布したり、高感度の感光材料を自動
プリンターを通して露光処理をする場合、特に帯電防止
対策が重要である。 [0003] 感光材料が帯電すると、その放電によりスタチックマー
クがでたり、またはゴミ等の異物を付着し、これにより
ピンホールを発生させたりして著しく品質を劣化し、そ
の修正のため非常に作業性をおとしてしまう。このため
、一般に感光材料では帯電防止剤が使用され、最近では
、含フツ素界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面
活性剤、ポリアルキレンオキサイド基を含有する界面活
性剤ないし高分子化合物、スルホン酸又はリン酸基を分
子内に有するポリマー等が用いられている。 [0004] 特にフッ素系界面活性剤による帯電列調整、あるいは導
電性ポリマーによる導電性向上が多く使用されてきてお
り、例えば特開昭49−91165号および同49−1
21523号にはポリマー主鎖中に解離基を有するイオ
ン型ポリマーを適用する例が開示されている。 [0005] しかしながら、これらの従来技術では、現像処理により
、帯電防止能が大幅に劣化してしまう。これはアルカリ
を用いる現像工程、酸性の定着工程、水洗等の工程を経
ることにより帯電防止能が失われるものと思われる。し
たがって印刷感光材料等のように、処理済みフィルムを
さらに用いてプリントするような場合にゴミの付着によ
るピンホール発生等の問題を生ずる。このため例えば特
開昭55−84658号、同61−174542号では
カルボキシル基を有する水溶性導電性ポリマーカルボキ
シル基を有する疎水性ポリマー及び多官能アジリジンか
らなる帯電防止層が提案されている。この方法によれば
処理後にも帯電防止能を残すことができるが、塗布膜の
透明性乾燥速度に負うところが大きいためゆっくり乾燥
すれば透明でも、生産効率向上のため急速乾燥すると全
く使用に堪えないレベルまで透明性がおちてしまうとい
う欠点があった。 [0006]
使用上多くの制約を与えている例は多い。例えばハロゲ
ン化銀写真感光材料においてはポリエチレンテレフタレ
ートのような支持体が一般に使用されるが、特に冬季の
如き低湿度において帯電し易い。最近のように高感度写
真乳剤を高速度で塗布したり、高感度の感光材料を自動
プリンターを通して露光処理をする場合、特に帯電防止
対策が重要である。 [0003] 感光材料が帯電すると、その放電によりスタチックマー
クがでたり、またはゴミ等の異物を付着し、これにより
ピンホールを発生させたりして著しく品質を劣化し、そ
の修正のため非常に作業性をおとしてしまう。このため
、一般に感光材料では帯電防止剤が使用され、最近では
、含フツ素界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面
活性剤、ポリアルキレンオキサイド基を含有する界面活
性剤ないし高分子化合物、スルホン酸又はリン酸基を分
子内に有するポリマー等が用いられている。 [0004] 特にフッ素系界面活性剤による帯電列調整、あるいは導
電性ポリマーによる導電性向上が多く使用されてきてお
り、例えば特開昭49−91165号および同49−1
21523号にはポリマー主鎖中に解離基を有するイオ
ン型ポリマーを適用する例が開示されている。 [0005] しかしながら、これらの従来技術では、現像処理により
、帯電防止能が大幅に劣化してしまう。これはアルカリ
を用いる現像工程、酸性の定着工程、水洗等の工程を経
ることにより帯電防止能が失われるものと思われる。し
たがって印刷感光材料等のように、処理済みフィルムを
さらに用いてプリントするような場合にゴミの付着によ
るピンホール発生等の問題を生ずる。このため例えば特
開昭55−84658号、同61−174542号では
カルボキシル基を有する水溶性導電性ポリマーカルボキ
シル基を有する疎水性ポリマー及び多官能アジリジンか
らなる帯電防止層が提案されている。この方法によれば
処理後にも帯電防止能を残すことができるが、塗布膜の
透明性乾燥速度に負うところが大きいためゆっくり乾燥
すれば透明でも、生産効率向上のため急速乾燥すると全
く使用に堪えないレベルまで透明性がおちてしまうとい
う欠点があった。 [0006]
上記のような問題に対し、本発明の目的は、急速乾燥し
ても透明性に優れ、ヘーズのないプラスチックフィルム
用帯電防止層を提供することであり、現像処理等の処理
後も帯電防止能の劣化が起こらず、別の目的としては、
帯電防止に優れたハロゲン化銀写真感光材料を提供する
ことである。 [0007]
ても透明性に優れ、ヘーズのないプラスチックフィルム
用帯電防止層を提供することであり、現像処理等の処理
後も帯電防止能の劣化が起こらず、別の目的としては、
帯電防止に優れたハロゲン化銀写真感光材料を提供する
ことである。 [0007]
本発明の上記目的は、水溶性導電性ポリマー 疎水性ポ
リマー粒子及びエポキシ系硬化剤の反応生成物からなる
帯電防止層を有してなるプラスチックフィルムにおいて
、該疎水性ポリマーカ飄エチレンオキシド鎖及び/又は
アミド基を有することを特徴とする帯電防止層により達
成される。 [0008] 以下、本発明の詳細について説明する。 [0009] 本発明の水溶性導電性ポリマー(ここで水溶性とは0.
5%以上水に溶解可能のものをいう)については、スル
ホン酸基、硫酸エステル基、4級アンモニウム塩3級ア
ンモニウム塩、カルボキシル基、から選ばれる少なくと
も1つの導電性基を有するポリマーが挙げられる。導電
性基はポリマー1分子当たり5重量%以上を必要とする
。水溶性の導電性ポリマー中には、ヒドロキシ基、アミ
ノ基、エポキシ基、アジリジン基、活性メチレン基、ス
ルフィン酸基、アルデヒド基、ビニルスルホン基を含ん
でいてもよい。 [0010] ポリマーの数分子量は、3000〜100000であり
、好ましくは3500〜50000である[0011] 以下、本発明に用いられる水溶性導電性ポリマーの化合
物例を挙げるがこれに限定されるものではない。 [0012]
リマー粒子及びエポキシ系硬化剤の反応生成物からなる
帯電防止層を有してなるプラスチックフィルムにおいて
、該疎水性ポリマーカ飄エチレンオキシド鎖及び/又は
アミド基を有することを特徴とする帯電防止層により達
成される。 [0008] 以下、本発明の詳細について説明する。 [0009] 本発明の水溶性導電性ポリマー(ここで水溶性とは0.
5%以上水に溶解可能のものをいう)については、スル
ホン酸基、硫酸エステル基、4級アンモニウム塩3級ア
ンモニウム塩、カルボキシル基、から選ばれる少なくと
も1つの導電性基を有するポリマーが挙げられる。導電
性基はポリマー1分子当たり5重量%以上を必要とする
。水溶性の導電性ポリマー中には、ヒドロキシ基、アミ
ノ基、エポキシ基、アジリジン基、活性メチレン基、ス
ルフィン酸基、アルデヒド基、ビニルスルホン基を含ん
でいてもよい。 [0010] ポリマーの数分子量は、3000〜100000であり
、好ましくは3500〜50000である[0011] 以下、本発明に用いられる水溶性導電性ポリマーの化合
物例を挙げるがこれに限定されるものではない。 [0012]
【化1】
[0013]
【化2】
A −5
[0014]
【化3】
0
デキストランサルフエイ
ト
置換度
3.0
Mn= 500000
1
2
[0015]
【化4】
3
4
So 3 Na
6
特開平3−256039 (9)
[0016]
【化5】
7
8
9
0
デキストランサルフェイ
ト
置換度
2.0
Mn=
00000
269−
[0017]
【化6】
1
[0018]
【外1】
尚、上記A −1〜A−21において、Mnは平均分子
量(本明細書中、平均分子量とは数平均分子量を示す。 )を表し、ポリエチレングリコール換算で表したGPC
による測定値によるものである。 [0019] 本発明の帯電防止層中に含有させる疎水性ポリマー粒子
は、実質的に水に溶解しない所謂ラテックスで構成され
ている。この疎水性ポリマーは、スチレン、スチレン誘
導体、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート
、オレフィン誘導体、ハロゲン化エチレン誘導体、ビニ
ルエステル誘導体、アクリルニトリル等の中から任意の
組み合わせで選ばれるモノマーを重合して得られる。特
にスチレン誘導体、アルキルアクリレート、アルキルメ
タクリレートが少なくとも30モル%含有されているの
が好ましい。特に50モル%以上、100モル%以下が
好ましい[0020] 本発明の疎水性ポリマー粒子に含有させるアミド基を有
するモノマーとしては下記一般式〔■〕で表されるもの
が好ましい。 [0021]
量(本明細書中、平均分子量とは数平均分子量を示す。 )を表し、ポリエチレングリコール換算で表したGPC
による測定値によるものである。 [0019] 本発明の帯電防止層中に含有させる疎水性ポリマー粒子
は、実質的に水に溶解しない所謂ラテックスで構成され
ている。この疎水性ポリマーは、スチレン、スチレン誘
導体、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート
、オレフィン誘導体、ハロゲン化エチレン誘導体、ビニ
ルエステル誘導体、アクリルニトリル等の中から任意の
組み合わせで選ばれるモノマーを重合して得られる。特
にスチレン誘導体、アルキルアクリレート、アルキルメ
タクリレートが少なくとも30モル%含有されているの
が好ましい。特に50モル%以上、100モル%以下が
好ましい[0020] 本発明の疎水性ポリマー粒子に含有させるアミド基を有
するモノマーとしては下記一般式〔■〕で表されるもの
が好ましい。 [0021]
【化7】
一般式
%式%]
〔式中、Rは水素原子、炭素数1〜4の低級アルキル基
を表す。Lは2価の基例えば炭素数1〜6のアルキレン
、フェニレン等が好ましい。aはO又は1を表す。R1
,R2は水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基を表
す。〕本発明のモノマーの具体例を挙げる。 [0023]
を表す。Lは2価の基例えば炭素数1〜6のアルキレン
、フェニレン等が好ましい。aはO又は1を表す。R1
,R2は水素原子、炭素数1〜6の低級アルキル基を表
す。〕本発明のモノマーの具体例を挙げる。 [0023]
【化8】
CH2=CH
C0NHつ
CH3
CH2=C
C0NH。
CH,、=CH
〇〇NHCH。
[0024]
本発明の疎水性ポリマー粒子にポリアルキレンオキシド
鎖を導入する方法としでは、 ポリアルキレンオキシド鎖を有するモノマーを共重合さ
せることによる方法が好ましい。 [0025] 本発明の疎水性ポリマー粒子に含有させるポリアルキレ
ンオキシドモノマーとしては下記一般式〔M〕で表され
るものが好ましい。
鎖を導入する方法としでは、 ポリアルキレンオキシド鎖を有するモノマーを共重合さ
せることによる方法が好ましい。 [0025] 本発明の疎水性ポリマー粒子に含有させるポリアルキレ
ンオキシドモノマーとしては下記一般式〔M〕で表され
るものが好ましい。
【化9】
[0026]
一般式
)
[0027]
【外2】
ここでRは、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基
、−CH2−L−Xを表し、Lは、−COO−1 、−CON−1又は炭素数6から12のアリール基を表
す。R1は、水素原子、アリール基、低級アルキル基t
Xt を表し、Xは、fR2−0すnR5を表す。 R2は−CH2CH2−1 CHs CH3
−Cl2CH2CH2CH2−1−CH,C)ICH2
−から選ばれるH 少なくとも1種からなり R3は水素原子、低級アルキ
ル基、スルホン酸又はその塩、アルキルスルホン酸又は
その塩、カルボン酸又はその塩、アルキルカルボン酸基
又はその塩を表す。nは2以上で70以下の整数である
。 [0028] 次にこれらモノマー具体例を挙げる。 [0029]
、−CH2−L−Xを表し、Lは、−COO−1 、−CON−1又は炭素数6から12のアリール基を表
す。R1は、水素原子、アリール基、低級アルキル基t
Xt を表し、Xは、fR2−0すnR5を表す。 R2は−CH2CH2−1 CHs CH3
−Cl2CH2CH2CH2−1−CH,C)ICH2
−から選ばれるH 少なくとも1種からなり R3は水素原子、低級アルキ
ル基、スルホン酸又はその塩、アルキルスルホン酸又は
その塩、カルボン酸又はその塩、アルキルカルボン酸基
又はその塩を表す。nは2以上で70以下の整数である
。 [0028] 次にこれらモノマー具体例を挙げる。 [0029]
【化101
−9
−11
(J12=CH
−10
[00301
【化11】
−12
17
−18
[0031]
【化12】
−19
−23
[0032]
【化13】
−29
[0033]
以下に本発明の疎水性ポリマー粒子の具体例を挙げる。
[0034]
【化14】
[0035]
【化15】
[0036]
【化16】
OH3
薯
OH3
1
COOCH。
C00C2H,OH
0NH2
COO(C2H,0−)−i、H
2
[0037]
【化17】
3
4
5
6
[0038]
【化18】
7
8
9
0
CH。
C00(C2H,O) 5sO3Na
量
[0039]
【化19】
1
CH。
2
3
4
C)T、z−0−(C2H4吃503NO3Na
[0040]
【化20】
5
6
[0041]
疎水性ポリマーをラテックス状にするには乳化重合をす
る、固体状のポリマーを低沸点溶媒に溶かして微分散後
、溶媒を溜去するという2つの方法があるが、粒径が細
かくしかもそろったものができるという点で乳化重合す
ることが好ましい。 [0042] 疎水性ポリマーの数分子量は3000以上であれば良く
、分子量による透明性の差はほとんどない。 [0043] 本発明の硬化剤として用いられるエポキシ化合物として
は、ヒドロキシ基又はエーテル結合を含有するものが好
ましい。 [0044] 本発明のエポキシ化合物の具体例を挙げる。 [0045]
る、固体状のポリマーを低沸点溶媒に溶かして微分散後
、溶媒を溜去するという2つの方法があるが、粒径が細
かくしかもそろったものができるという点で乳化重合す
ることが好ましい。 [0042] 疎水性ポリマーの数分子量は3000以上であれば良く
、分子量による透明性の差はほとんどない。 [0043] 本発明の硬化剤として用いられるエポキシ化合物として
は、ヒドロキシ基又はエーテル結合を含有するものが好
ましい。 [0044] 本発明のエポキシ化合物の具体例を挙げる。 [0045]
【化21】
[0046]
【化22】
[0047]
本発明において、水溶性導電性ポリマー 疎水性ポリマ
ー粒子及び架橋剤の構成比(重量%)は、40〜95%
:5〜50%:1〜45%であり、好ましくは50〜9
0%:10〜45%:5〜30%である。 [0048] 本発明の塗布膜厚は、乾燥状態で0.4〜2.5μm、
特に0.5〜2.0μmが好ましい。 0.4μm以下では現像処理後の十分な導電性が得られ
にくく、また2、5μm以上では塗布加工が難しいため
、平面性の良い製造が困難である。 [0049] 本発明の帯電防止層の膜面pHとしては、8.0以下が
好ましいが、低すぎても膜の安定性から好ましくない。 特に好ましくは3.0〜7.5である。 [00501 本発明の帯電防止層は感光性層より支持体側にあっても
よいし、感光性層に対し支持体の反対側、いわゆる背面
にあってもよい。本発明では帯電防止層がプラスチック
支持体上に塗設される。プラスチッ支持体は写真用のも
の全てが使えるカミ好ましくは、透明なもの、特に可視
光を90%以上透過するように作られたポリエチレンテ
レフタレート又セルローストリアセテートである。 [0051] これらの透明支持体は、当業者に良く知られた方法で作
成されるものであるが場合によっては光透過を実質的に
阻害しないように染料を若干添加して青味付げしたりし
ても良い。 [0052] 本発明の支持体は、コロナ放電処理をした後ラテックス
ポリマーを含有する下引層が塗設されていてもよい。コ
ロナ放電処理は、エネルギー値として1 mW〜IKW
/ (m2・m1n)が特に好ましく適用される。又特
に好ましくは、ラテックス下引層塗布後導電性層を塗設
する前にコロナ放電処理を再度行うとよい。 [0053] 本発明は、プラスチックフィルム上に形成される感光材
料金てに応用することができる。例えばハロゲン化銀カ
ラー感光材料、レントゲン用感光材料、製版用感光材料
等である。 [0054] 本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料及び/又は現像
液中には、アミノ化合物を含有することができる。又現
像性を高めるために、フェニドンやハイドロキノンのよ
うな現像主薬、ベンゾトリアゾールのような抑制剤を乳
剤側に含有せしめることができる。あるいは処理液の処
理能力を上げるために、バッキング層に現像主薬や抑制
剤を含有せしめることができる。 [0055] 本発明に特に有利に用いられる親水性コロイドはゼラチ
ンである。 [0056] 来るが、オセインゼラチンを用いる場合にはカルシウム
あるいは鉄分を取り除くことが好ましい。好ましい含有
量としてカルシウム分は1〜2000ppmであるが、
更に好ましくは1〜1500ppmであり、鉄分は0.
01〜50ppmが好ましく、更に好ましくは0.1〜
10ppmである。このようにカルシウム分や鉄分の量
を調節する方法は、ゼラチン水溶液をイオン交換装置に
通すことにより達成することができる。 [0057] 本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料の現像に用いら
れる現像主薬としてはT、 H,ジェームス著ザ・セオ
リイ・オブ・ザ・ホトグラフィック・プロセス第4ヤー
ナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサエティ(
Journal of the American C
hemical 5ociety)第73巻、第3.1
00頁(1951)に記載されているごとき現像2種以
上組み合わせてもよいが、2種以上を組み合わせて用い
る方が好ましい。 さらに現像処理には写真業界公知の各種処方及び条件を
使用することができる。 [0058]
ー粒子及び架橋剤の構成比(重量%)は、40〜95%
:5〜50%:1〜45%であり、好ましくは50〜9
0%:10〜45%:5〜30%である。 [0048] 本発明の塗布膜厚は、乾燥状態で0.4〜2.5μm、
特に0.5〜2.0μmが好ましい。 0.4μm以下では現像処理後の十分な導電性が得られ
にくく、また2、5μm以上では塗布加工が難しいため
、平面性の良い製造が困難である。 [0049] 本発明の帯電防止層の膜面pHとしては、8.0以下が
好ましいが、低すぎても膜の安定性から好ましくない。 特に好ましくは3.0〜7.5である。 [00501 本発明の帯電防止層は感光性層より支持体側にあっても
よいし、感光性層に対し支持体の反対側、いわゆる背面
にあってもよい。本発明では帯電防止層がプラスチック
支持体上に塗設される。プラスチッ支持体は写真用のも
の全てが使えるカミ好ましくは、透明なもの、特に可視
光を90%以上透過するように作られたポリエチレンテ
レフタレート又セルローストリアセテートである。 [0051] これらの透明支持体は、当業者に良く知られた方法で作
成されるものであるが場合によっては光透過を実質的に
阻害しないように染料を若干添加して青味付げしたりし
ても良い。 [0052] 本発明の支持体は、コロナ放電処理をした後ラテックス
ポリマーを含有する下引層が塗設されていてもよい。コ
ロナ放電処理は、エネルギー値として1 mW〜IKW
/ (m2・m1n)が特に好ましく適用される。又特
に好ましくは、ラテックス下引層塗布後導電性層を塗設
する前にコロナ放電処理を再度行うとよい。 [0053] 本発明は、プラスチックフィルム上に形成される感光材
料金てに応用することができる。例えばハロゲン化銀カ
ラー感光材料、レントゲン用感光材料、製版用感光材料
等である。 [0054] 本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料及び/又は現像
液中には、アミノ化合物を含有することができる。又現
像性を高めるために、フェニドンやハイドロキノンのよ
うな現像主薬、ベンゾトリアゾールのような抑制剤を乳
剤側に含有せしめることができる。あるいは処理液の処
理能力を上げるために、バッキング層に現像主薬や抑制
剤を含有せしめることができる。 [0055] 本発明に特に有利に用いられる親水性コロイドはゼラチ
ンである。 [0056] 来るが、オセインゼラチンを用いる場合にはカルシウム
あるいは鉄分を取り除くことが好ましい。好ましい含有
量としてカルシウム分は1〜2000ppmであるが、
更に好ましくは1〜1500ppmであり、鉄分は0.
01〜50ppmが好ましく、更に好ましくは0.1〜
10ppmである。このようにカルシウム分や鉄分の量
を調節する方法は、ゼラチン水溶液をイオン交換装置に
通すことにより達成することができる。 [0057] 本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料の現像に用いら
れる現像主薬としてはT、 H,ジェームス著ザ・セオ
リイ・オブ・ザ・ホトグラフィック・プロセス第4ヤー
ナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサエティ(
Journal of the American C
hemical 5ociety)第73巻、第3.1
00頁(1951)に記載されているごとき現像2種以
上組み合わせてもよいが、2種以上を組み合わせて用い
る方が好ましい。 さらに現像処理には写真業界公知の各種処方及び条件を
使用することができる。 [0058]
以下実施例によって本発明を具体的に説明する。なお、
当然のことではあるが[0059] 実施例1 コロナ放電した後、下引処理した二軸延伸済みのポリエ
チレンテレフタレートに再びコロナ放電した後、下記組
成の帯電防止液に表1に示すエポキシ系硬化剤(E)を
添加し、この帯電防止液を10m l /m2になるよ
うに添加し、50m/minの速さでエアーナイフコー
ターにより塗布した。 [0060] 水溶性導電性ポリマー(A) 60g/l疎
水性ポリマー粒子 (B) 40g/l硫酸
アンモニウム 0.5g/ 1硬化剤
(E) 12g/l上記組成
で11とする。 [0061] 帯電防止層の乾燥後の厚さは140μmとした。 [0062] 乾燥風温90℃、総括伝熱係数25Kcal/ (m2
・hr・℃)の平行流乾燥条件で、30秒間乾燥し、さ
らにその後、140℃、90秒間熱処理した。この帯電
防止層の上にゼラチンを2.0g/m2になるように塗
布し、乾燥しヘーズ試験を行った。ゼラチンの硬膜剤と
しては下記(H)を用いた。 [0063]
当然のことではあるが[0059] 実施例1 コロナ放電した後、下引処理した二軸延伸済みのポリエ
チレンテレフタレートに再びコロナ放電した後、下記組
成の帯電防止液に表1に示すエポキシ系硬化剤(E)を
添加し、この帯電防止液を10m l /m2になるよ
うに添加し、50m/minの速さでエアーナイフコー
ターにより塗布した。 [0060] 水溶性導電性ポリマー(A) 60g/l疎
水性ポリマー粒子 (B) 40g/l硫酸
アンモニウム 0.5g/ 1硬化剤
(E) 12g/l上記組成
で11とする。 [0061] 帯電防止層の乾燥後の厚さは140μmとした。 [0062] 乾燥風温90℃、総括伝熱係数25Kcal/ (m2
・hr・℃)の平行流乾燥条件で、30秒間乾燥し、さ
らにその後、140℃、90秒間熱処理した。この帯電
防止層の上にゼラチンを2.0g/m2になるように塗
布し、乾燥しヘーズ試験を行った。ゼラチンの硬膜剤と
しては下記(H)を用いた。 [0063]
【化23】
硬膜剤(H)
COCH” CH2
[0064]
下記方法でヘーズ試験を行い、結果を表1に示す。
[0065]
ムニ区試験
東京電色株式会社製濁度計Mode1−t−2600D
Aを用い、フィルム支持体を測定し て透過率を3表示しな。 [0066]
Aを用い、フィルム支持体を測定し て透過率を3表示しな。 [0066]
【表1】
[0067]
【化24】
(
)特開昭55−84658記載
M :
000
[0068]
*2
(A)
(B)
(、E)
=70g:30g:12g
*
(A)
(B)
(E)
=55g:45g:12g
*
硬化剤として特開昭55−8465号詑載のアジリジン
化合物(A) (B) (E) =60g:40g:12g [0069]
化合物(A) (B) (E) =60g:40g:12g [0069]
【化25】
(b
)
[0070]
表1の結果から本発明の試料はヘーズが優れていること
がわかる。 [0071] 実施例2 pH3,0の酸性雰囲気下でコントロールダブルジェッ
ト法によりロジウムを銀1モル当たり10−5モル含有
する粒子を作成した。粒子の成長は、ベンジルアデニン
を1%のゼラチン水溶液11当たり30mg含有する系
で行った。銀とハライドの混合後6−メチルー4−ヒド
ロキシ−1,3,3a、 7テトラザインデンをハロゲ
ン化銀1モル当たり600mg加え、その後水洗、脱塩
した。 [0072] 次いで、ハロゲン化銀1モル当たり60mgの6−メチ
ル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、 7−チトラザイ
ンデンを加えた後、イオウ増感をした。イオウ増感後安
定剤として6−メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3a
、 7−チトラザインデンを加えた。 [0073] (ハロゲン化銀乳剤層) 前記各乳剤に添加剤を下記の付量になるよう調整添加し
、ポリ(スチレン−ブチルアクリレート−グリシジルメ
タクリレート)ラテックス下引処理した(100μm厚
さ)ポリエチレンテレフタレート支持体上に塗布した。 [0074] ラテックスポリマー:スチレン−ブチルアクリレート−
アクリル93元共重合 ポリマー 1.0g/m2テト
ラフェニルホスホニウムクロライド30mg/m2 サポニン 200mg/m2ポ
リエチレングリコール 100mg/m2ドデ
シルベンゼンスルホン酸ナトリウム100mg/m2 ハイ・ドロキノン 200mg/m
2フェニドン 100mg/m
2スチレンスルホン酸ナトリウム−マレイン酸重合体(
Mw=25万) 200mg/m2没食
子酸ブチルエステル 500mg/m2テトラ
ゾリウム化合物 20mg/m25−メチ
ルベンゾトリアゾール 30mg/m22−メルカ
プトベンツイミダゾール−5−スルホン酸
30mg/m2イナートオセインゼラチン(
等電点4.9)1.5g/m” 1− (p−アセチルアミドフェニル)−5メルカプト
テトラゾール 銀量 [0075]
がわかる。 [0071] 実施例2 pH3,0の酸性雰囲気下でコントロールダブルジェッ
ト法によりロジウムを銀1モル当たり10−5モル含有
する粒子を作成した。粒子の成長は、ベンジルアデニン
を1%のゼラチン水溶液11当たり30mg含有する系
で行った。銀とハライドの混合後6−メチルー4−ヒド
ロキシ−1,3,3a、 7テトラザインデンをハロゲ
ン化銀1モル当たり600mg加え、その後水洗、脱塩
した。 [0072] 次いで、ハロゲン化銀1モル当たり60mgの6−メチ
ル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、 7−チトラザイ
ンデンを加えた後、イオウ増感をした。イオウ増感後安
定剤として6−メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3a
、 7−チトラザインデンを加えた。 [0073] (ハロゲン化銀乳剤層) 前記各乳剤に添加剤を下記の付量になるよう調整添加し
、ポリ(スチレン−ブチルアクリレート−グリシジルメ
タクリレート)ラテックス下引処理した(100μm厚
さ)ポリエチレンテレフタレート支持体上に塗布した。 [0074] ラテックスポリマー:スチレン−ブチルアクリレート−
アクリル93元共重合 ポリマー 1.0g/m2テト
ラフェニルホスホニウムクロライド30mg/m2 サポニン 200mg/m2ポ
リエチレングリコール 100mg/m2ドデ
シルベンゼンスルホン酸ナトリウム100mg/m2 ハイ・ドロキノン 200mg/m
2フェニドン 100mg/m
2スチレンスルホン酸ナトリウム−マレイン酸重合体(
Mw=25万) 200mg/m2没食
子酸ブチルエステル 500mg/m2テトラ
ゾリウム化合物 20mg/m25−メチ
ルベンゾトリアゾール 30mg/m22−メルカ
プトベンツイミダゾール−5−スルホン酸
30mg/m2イナートオセインゼラチン(
等電点4.9)1.5g/m” 1− (p−アセチルアミドフェニル)−5メルカプト
テトラゾール 銀量 [0075]
【化26】
テトラゾリウム化合物
30mg/m2
2.8g/m2
[0076]
(乳剤層保護膜)
乳剤層保護膜として、下記の付量になるよう調製塗布し
た。 [0077] 弗素化ジオクチルスルホコハク酸エステル300mg/
m2 マット剤:ポリメタクリル酸メチル (平均粒径3.5 p m) 10
0mg/m2硝酸リチウム塩 酸処理ゼラチン(等電点7.0) コロイダルシリカ スチレンスルホン酸ナトリウム− マレイン酸共重合体 [0078]
た。 [0077] 弗素化ジオクチルスルホコハク酸エステル300mg/
m2 マット剤:ポリメタクリル酸メチル (平均粒径3.5 p m) 10
0mg/m2硝酸リチウム塩 酸処理ゼラチン(等電点7.0) コロイダルシリカ スチレンスルホン酸ナトリウム− マレイン酸共重合体 [0078]
【化27】
30mg/m2
1、2g/m2
50mg/m2
100mg/m2
媒染剤
染料
[0079]
した後、ポリ (スチレン−ブチルアクリレート−グリ
シジルメタクリレート)ラテっクスポリマーをヘキサメ
チレンアジリジン硬膜剤の存在下で塗布し、さらに本発
明の帯電防止層を実施例1と同様に10時間にわたって
塗設し、ついでこの層の上に下記組成のバッキング染料
を含有するバッキング層を塗布した。ゼラチン層はグリ
オキザール及び1−オキシ−3,5−ジクロロ−8−ト
リアジンナトリウム塩及びヒドロキシ含有エポキシ化合
物であるE−5で硬膜した。 [0080] (バッキング層) ハイドロキノン 100mg/m2
フーニドン 30mg/m2ラ
テックスポリマー:ブチルアクリレート−スチレン共重
合体 0.5g/m2スチレンーマレイン
酸共重合体 100mg/m2クエン酸
40mg/m2ベンゾトリアゾール
100mg/m2スチレンスルホン酸− マレイ、ン酸共重合体 100mg/m2
硝酸リチウム塩 30mg/m2バッ
キング染料(a)(b)(c) [0081]
シジルメタクリレート)ラテっクスポリマーをヘキサメ
チレンアジリジン硬膜剤の存在下で塗布し、さらに本発
明の帯電防止層を実施例1と同様に10時間にわたって
塗設し、ついでこの層の上に下記組成のバッキング染料
を含有するバッキング層を塗布した。ゼラチン層はグリ
オキザール及び1−オキシ−3,5−ジクロロ−8−ト
リアジンナトリウム塩及びヒドロキシ含有エポキシ化合
物であるE−5で硬膜した。 [0080] (バッキング層) ハイドロキノン 100mg/m2
フーニドン 30mg/m2ラ
テックスポリマー:ブチルアクリレート−スチレン共重
合体 0.5g/m2スチレンーマレイン
酸共重合体 100mg/m2クエン酸
40mg/m2ベンゾトリアゾール
100mg/m2スチレンスルホン酸− マレイ、ン酸共重合体 100mg/m2
硝酸リチウム塩 30mg/m2バッ
キング染料(a)(b)(c) [0081]
【化28】
(a)
(b)
(c)
[0082]
使用して現像処理した後、表面比抵抗試験、ヘーズ試験
を行った。 [0083] く現像液処方〉 ハイドロキノン 25g1−フ
ェニル−4,4ジメチル−3− ピラゾリドン 0.4g臭化
ナトリウム 3g5−メチルベ
ンゾトリアゾール 0.3g5−ニトロインダ
ゾール 0.05gジエチルアミノプロパ
ン−1,2−ジオール 10g亜硫酸カリウム
90g5−スルホサリチル酸ナトリウ
ム 75gエチレンジアミン四酢酸ナトリウム
2g水で11に仕上げた。 [0084] pHは、苛性ソーダで11.5とした。 [0085] く定着液処方〉 (組成A) チオ硫酸アンモニウム(72,5w%水溶液)亜硫酸ナ
トリウム 酢酸ナトリウム・3水塩 硼酸 クエン酸ナトリウム・2水塩 酢酸(90w%水溶液) (組成り) 純水(イオン交換水) 硫酸(50M−%の水溶液) 40m 1 7g 6.5g g g 13、6m 1 7m1 3.0g 硫酸アルミニウム(A l 2O3換算含量が8.1W
%の水溶液)20g 定着液の使用時に水500m l中に上2組成A、組成
りの順に溶かし、11に仕上げて用いた。この定着液の
pHは約5.6であった。 [0086] 〈現像処理条件〉 (工程) (温度) (時間)現像
40℃ 8秒 定着 35℃ 8秒 水洗 常温 10秒 ヘーズ及び表面比抵抗を測定し、結果を表2に示しな。 [0087] なお表面非抵抗は川口電気(株)製テラオームメーター
モデルVE30と用いて、23℃、55%RHで測定し
た。 [0088]
を行った。 [0083] く現像液処方〉 ハイドロキノン 25g1−フ
ェニル−4,4ジメチル−3− ピラゾリドン 0.4g臭化
ナトリウム 3g5−メチルベ
ンゾトリアゾール 0.3g5−ニトロインダ
ゾール 0.05gジエチルアミノプロパ
ン−1,2−ジオール 10g亜硫酸カリウム
90g5−スルホサリチル酸ナトリウ
ム 75gエチレンジアミン四酢酸ナトリウム
2g水で11に仕上げた。 [0084] pHは、苛性ソーダで11.5とした。 [0085] く定着液処方〉 (組成A) チオ硫酸アンモニウム(72,5w%水溶液)亜硫酸ナ
トリウム 酢酸ナトリウム・3水塩 硼酸 クエン酸ナトリウム・2水塩 酢酸(90w%水溶液) (組成り) 純水(イオン交換水) 硫酸(50M−%の水溶液) 40m 1 7g 6.5g g g 13、6m 1 7m1 3.0g 硫酸アルミニウム(A l 2O3換算含量が8.1W
%の水溶液)20g 定着液の使用時に水500m l中に上2組成A、組成
りの順に溶かし、11に仕上げて用いた。この定着液の
pHは約5.6であった。 [0086] 〈現像処理条件〉 (工程) (温度) (時間)現像
40℃ 8秒 定着 35℃ 8秒 水洗 常温 10秒 ヘーズ及び表面比抵抗を測定し、結果を表2に示しな。 [0087] なお表面非抵抗は川口電気(株)製テラオームメーター
モデルVE30と用いて、23℃、55%RHで測定し
た。 [0088]
【表2】
[0089]
*
(A)
(b)
(C)
= 70g : 30g : 12g
*
(A)
(B)
(C)
=55g:45g:12g
*3
硬化剤として特開昭55−8465号記載のアジリジン
化合物=55g:45g:12g [00901
化合物=55g:45g:12g [00901
【化29】
[0091]
表2の結果から本発明の方法によれば、現像処理後でも
優れた帯電防止能を保持し、かつヘーズも良好であるこ
とが分かる。 [0092] また、乳剤層中のテトラゾリウム化合物を下記ヒドラジ
ン化合物に代えても同様な効果があった。 [0093]
優れた帯電防止能を保持し、かつヘーズも良好であるこ
とが分かる。 [0092] また、乳剤層中のテトラゾリウム化合物を下記ヒドラジ
ン化合物に代えても同様な効果があった。 [0093]
【化301
ヒ
ドラジ
ン化合物
[0094]
【発明の効果】
本発明により、
塗布後の透明性に優れ、
かつ現像処理後も帯電防止能の劣化の
Claims (1)
- 【請求項1】水溶性導電性ポリマー、疎水性ポリマー粒
子及びエポキシ系硬化剤の反応生成物からなる帯電防止
層を有してなるプラスチックフィルムにおいて、該疎水
性ポリマーがエチレンオキシド鎖及び/又はアミド基を
有することを特徴とするプラスチックフィルム用帯電防
止層。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP40198990A JPH03256039A (ja) | 1989-12-13 | 1990-12-13 | 帯電防止層 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32360789 | 1989-12-13 | ||
JP1-323607 | 1989-12-13 | ||
JP40198990A JPH03256039A (ja) | 1989-12-13 | 1990-12-13 | 帯電防止層 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03256039A true JPH03256039A (ja) | 1991-11-14 |
Family
ID=26571248
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP40198990A Pending JPH03256039A (ja) | 1989-12-13 | 1990-12-13 | 帯電防止層 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03256039A (ja) |
-
1990
- 1990-12-13 JP JP40198990A patent/JPH03256039A/ja active Pending
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