JPH03233445A - 帯電防止層の塗設方法 - Google Patents
帯電防止層の塗設方法Info
- Publication number
- JPH03233445A JPH03233445A JP2309222A JP30922290A JPH03233445A JP H03233445 A JPH03233445 A JP H03233445A JP 2309222 A JP2309222 A JP 2309222A JP 30922290 A JP30922290 A JP 30922290A JP H03233445 A JPH03233445 A JP H03233445A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- present
- antistatic layer
- layer
- antistatic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 20
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 claims abstract description 16
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 13
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 8
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 10
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 claims description 4
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 claims description 4
- 229920001600 hydrophobic polymer Polymers 0.000 abstract description 10
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 8
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 abstract description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 6
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- -1 silver halide Chemical class 0.000 description 32
- 239000000463 material Substances 0.000 description 17
- 238000011161 development Methods 0.000 description 15
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 14
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 12
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 9
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 9
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 9
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 9
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 7
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 7
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 7
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 7
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N ammonium sulfate Chemical compound N.N.OS(O)(=O)=O BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052921 ammonium sulfate Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000011130 ammonium sulphate Nutrition 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 3
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 3
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N phenidone Chemical compound N1C(=O)CCN1C1=CC=CC=C1 CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 3
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LPYUENQFPVNPHY-UHFFFAOYSA-N 3-methoxycatechol Chemical compound COC1=CC=CC(O)=C1O LPYUENQFPVNPHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJSJAWHHGDPBOC-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(C)(C)CN1C1=CC=CC=C1 SJSJAWHHGDPBOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 4-aminophenol Chemical compound NC1=CC=C(O)C=C1 PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1H-benzotriazole Chemical compound C1=C(C)C=CC2=NNN=C21 LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 2
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- ZTHYODDOHIVTJV-UHFFFAOYSA-N Propyl gallate Chemical compound CCCOC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 ZTHYODDOHIVTJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 2
- LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N anhydrous gallic acid Natural products OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 2
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Natural products OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N diammonium hydrogen phosphate Chemical compound [NH4+].[NH4+].OP([O-])([O-])=O MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 2
- 229940074391 gallic acid Drugs 0.000 description 2
- 235000004515 gallic acid Nutrition 0.000 description 2
- LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N glyoxal Chemical compound O=CC=O LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N hydrazine Substances NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 2
- BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L potassium sulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])=O BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 235000019252 potassium sulphite Nutrition 0.000 description 2
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 2
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N toluquinol Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1O CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QDNPCYCBQFHNJC-UHFFFAOYSA-N 1,1'-biphenyl-3,4-diol Chemical compound C1=C(O)C(O)=CC=C1C1=CC=CC=C1 QDNPCYCBQFHNJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJIUUIBVVQGWJR-UHFFFAOYSA-N 1,2-dihydrotetrazole-5-thione;silver Chemical compound [Ag].S=C1N=NNN1 GJIUUIBVVQGWJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXJYONBSFGLSSF-UHFFFAOYSA-N 1-(diethylamino)propane-1,2-diol Chemical compound CCN(CC)C(O)C(C)O TXJYONBSFGLSSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NXVHEHXRZVQDCR-UHFFFAOYSA-N 1-n,1-n-diethyl-2-methylbenzene-1,4-diamine Chemical compound CCN(CC)C1=CC=C(N)C=C1C NXVHEHXRZVQDCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHABMLPWPUZVOI-UHFFFAOYSA-N 1-n,1-n-diethylbenzene-1,2,4-triamine Chemical compound CCN(CC)C1=CC=C(N)C=C1N AHABMLPWPUZVOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XIROXSOOOAZHLL-UHFFFAOYSA-N 2',3',4'-Trihydroxyacetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=C(O)C(O)=C1O XIROXSOOOAZHLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDKLKNJTMLIAFE-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1,3-oxazole-4-carbaldehyde Chemical compound FC1=CC=CC(C=2OC=C(C=O)N=2)=C1 BDKLKNJTMLIAFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQHGAEQBYRZJIX-UHFFFAOYSA-N 2-amino-4-chloro-6-phenylphenol Chemical compound NC1=CC(Cl)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1O XQHGAEQBYRZJIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDVRKKAWBVVSAM-UHFFFAOYSA-N 2-amino-6-phenylphenol Chemical compound NC1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1O UDVRKKAWBVVSAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 2-aminophenol Chemical class NC1=CC=CC=C1O CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REFDOIWRJDGBHY-UHFFFAOYSA-N 2-bromobenzene-1,4-diol Chemical compound OC1=CC=C(O)C(Br)=C1 REFDOIWRJDGBHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQMGXSMKUXLLER-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-5-sulfobenzoic acid;sodium Chemical compound [Na].OC(=O)C1=CC(S(O)(=O)=O)=CC=C1O IQMGXSMKUXLLER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLOAINVMNYBDNR-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylidene-1,3-dihydrobenzimidazole-5-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=C2NC(=S)NC2=C1 LLOAINVMNYBDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBMTWYWCLVMFFD-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutyl 3,4,5-trihydroxybenzoate Chemical compound CC(C)CCOC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 YBMTWYWCLVMFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWXFTBJDOGGQIC-UHFFFAOYSA-N 4-amino-5-phenylpyrazol-3-one Chemical compound N1=NC(=O)C(N)=C1C1=CC=CC=C1 GWXFTBJDOGGQIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WWOBYPKUYODHDG-UHFFFAOYSA-N 4-chlorocatechol Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C=C1O WWOBYPKUYODHDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXRKCOCTEMYUEG-UHFFFAOYSA-N 5-aminoisoindole-1,3-dione Chemical compound NC1=CC=C2C(=O)NC(=O)C2=C1 PXRKCOCTEMYUEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCIJWPKDPZNHD-UHFFFAOYSA-N 5-bromo-2h-benzotriazole Chemical compound C1=C(Br)C=CC2=NNN=C21 BQCIJWPKDPZNHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSGURAYTCUVDQL-UHFFFAOYSA-N 5-nitro-1h-indazole Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C2NN=CC2=C1 WSGURAYTCUVDQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004251 Ammonium lactate Substances 0.000 description 1
- 239000004254 Ammonium phosphate Substances 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 102100025597 Caspase-4 Human genes 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPWFJAMTCNSJKK-UHFFFAOYSA-N Dodecyl gallate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 RPWFJAMTCNSJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical class C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100273284 Homo sapiens CASP4 gene Proteins 0.000 description 1
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- NWBJYWHLCVSVIJ-UHFFFAOYSA-N N-benzyladenine Chemical compound N=1C=NC=2NC=NC=2C=1NCC1=CC=CC=C1 NWBJYWHLCVSVIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISLYUUGUJKSGDZ-UHFFFAOYSA-N OC1=CC=NC2=NC=NN12 Chemical compound OC1=CC=NC2=NC=NN12 ISLYUUGUJKSGDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical class OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 125000003172 aldehyde group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H aluminium sulfate (anhydrous) Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- LFVGISIMTYGQHF-UHFFFAOYSA-N ammonium dihydrogen phosphate Chemical compound [NH4+].OP(O)([O-])=O LFVGISIMTYGQHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000387 ammonium dihydrogen phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940059265 ammonium lactate Drugs 0.000 description 1
- 235000019286 ammonium lactate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000148 ammonium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019289 ammonium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N ammonium thiosulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])(=O)=S XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 1
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- RZOBLYBZQXQGFY-HSHFZTNMSA-N azanium;(2r)-2-hydroxypropanoate Chemical compound [NH4+].C[C@@H](O)C([O-])=O RZOBLYBZQXQGFY-HSHFZTNMSA-N 0.000 description 1
- 150000001541 aziridines Chemical class 0.000 description 1
- 125000004069 aziridinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- ZUIVNYGZFPOXFW-UHFFFAOYSA-N chembl1717603 Chemical compound N1=C(C)C=C(O)N2N=CN=C21 ZUIVNYGZFPOXFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- AJPXTSMULZANCB-UHFFFAOYSA-N chlorohydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C(Cl)=C1 AJPXTSMULZANCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004106 citric acid Drugs 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 238000011033 desalting Methods 0.000 description 1
- 229960000633 dextran sulfate Drugs 0.000 description 1
- AFOSIXZFDONLBT-UHFFFAOYSA-N divinyl sulfone Chemical group C=CS(=O)(=O)C=C AFOSIXZFDONLBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000555 dodecyl gallate Substances 0.000 description 1
- 235000010386 dodecyl gallate Nutrition 0.000 description 1
- 229940080643 dodecyl gallate Drugs 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 229940015043 glyoxal Drugs 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N hydroquinone methyl ether Natural products COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229920000831 ionic polymer Polymers 0.000 description 1
- IIPYXGDZVMZOAP-UHFFFAOYSA-N lithium nitrate Chemical class [Li+].[O-][N+]([O-])=O IIPYXGDZVMZOAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical class CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 235000019837 monoammonium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 239000000983 mordant dye Substances 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AICOOMRHRUFYCM-ZRRPKQBOSA-N oxazine, 1 Chemical compound C([C@@H]1[C@H](C(C[C@]2(C)[C@@H]([C@H](C)N(C)C)[C@H](O)C[C@]21C)=O)CC1=CC2)C[C@H]1[C@@]1(C)[C@H]2N=C(C(C)C)OC1 AICOOMRHRUFYCM-ZRRPKQBOSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 238000010094 polymer processing Methods 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229910001414 potassium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002335 preservative effect Effects 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000000473 propyl gallate Substances 0.000 description 1
- 235000010388 propyl gallate Nutrition 0.000 description 1
- 229940075579 propyl gallate Drugs 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N pyrazolidin-3-one Chemical compound O=C1CCNN1 NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000001397 quillaja saponaria molina bark Substances 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930182490 saponin Natural products 0.000 description 1
- 150000007949 saponins Chemical class 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 229940087562 sodium acetate trihydrate Drugs 0.000 description 1
- PPASLZSBLFJQEF-RKJRWTFHSA-M sodium ascorbate Substances [Na+].OC[C@@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1[O-] PPASLZSBLFJQEF-RKJRWTFHSA-M 0.000 description 1
- 235000010378 sodium ascorbate Nutrition 0.000 description 1
- 229960005055 sodium ascorbate Drugs 0.000 description 1
- NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K sodium citrate Chemical compound O.O.[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229960000999 sodium citrate dihydrate Drugs 0.000 description 1
- APSBXTVYXVQYAB-UHFFFAOYSA-M sodium docusate Chemical group [Na+].CCCCC(CC)COC(=O)CC(S([O-])(=O)=O)C(=O)OCC(CC)CCCC APSBXTVYXVQYAB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- FZHLWVUAICIIPW-UHFFFAOYSA-M sodium gallate Chemical compound [Na+].OC1=CC(C([O-])=O)=CC(O)=C1O FZHLWVUAICIIPW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- PPASLZSBLFJQEF-RXSVEWSESA-M sodium-L-ascorbate Chemical compound [Na+].OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1[O-] PPASLZSBLFJQEF-RXSVEWSESA-M 0.000 description 1
- OZSMDXCTZNLHPP-FJOGWHKWSA-M sodium;(z)-but-2-enedioic acid;2-phenylethenesulfonate Chemical compound [Na+].OC(=O)\C=C/C(O)=O.[O-]S(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 OZSMDXCTZNLHPP-FJOGWHKWSA-M 0.000 description 1
- MNCGMVDMOKPCSQ-UHFFFAOYSA-M sodium;2-phenylethenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 MNCGMVDMOKPCSQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 210000002784 stomach Anatomy 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000000626 sulfinic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 229920006027 ternary co-polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000003866 tertiary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- WAGFXJQAIZNSEQ-UHFFFAOYSA-M tetraphenylphosphonium chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC=CC=C1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WAGFXJQAIZNSEQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UEUXEKPTXMALOB-UHFFFAOYSA-J tetrasodium;2-[2-[bis(carboxylatomethyl)amino]ethyl-(carboxylatomethyl)amino]acetate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC([O-])=O)CC([O-])=O UEUXEKPTXMALOB-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 125000003831 tetrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- YWYZEGXAUVWDED-UHFFFAOYSA-N triammonium citrate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[NH4+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O YWYZEGXAUVWDED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Chemical class 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
Landscapes
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、プラスチックフィルム用の帯電防止層の塗設
方法に関し、特に帯電防止能の優れたハロゲン化銀写真
感光材料の製造方法に関する。
方法に関し、特に帯電防止能の優れたハロゲン化銀写真
感光材料の製造方法に関する。
一般にプラスチイックフィルムは帯電性が強く、これが
使用上多くの制約を与えている例は多い。
使用上多くの制約を与えている例は多い。
例えばハロゲン化銀写真感光材料においてはポリエチレ
ンテレフタレートのような支持体が一般に使用されるか
、特に冬季の如き低湿度において帯電し易い。最近のよ
うに高感度写真乳剤を高速度で塗布したり、高感度の感
光材料を自動プリンターを通して露光処理をする場合、
特に帯電防止対策が重要である。
ンテレフタレートのような支持体が一般に使用されるか
、特に冬季の如き低湿度において帯電し易い。最近のよ
うに高感度写真乳剤を高速度で塗布したり、高感度の感
光材料を自動プリンターを通して露光処理をする場合、
特に帯電防止対策が重要である。
感光材料が帯電すると、その放電によりスタチックマー
クがでたり、またはゴミ等の異物を付着し、これにより
ピンホールを発生させたりして著しく品質を劣化し、そ
の修正のため非常に作業性をおとしてしまう。このため
、一般に感光材料では帯電防止剤が使用され、最近では
、含フツ票券面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面
活性剤、ポリエチレンオキサイド基を含有する界面活性
剤ないし高分子化合物、スルホン酸又はリン酸基を分子
内に有するポリマー等が用いられている。
クがでたり、またはゴミ等の異物を付着し、これにより
ピンホールを発生させたりして著しく品質を劣化し、そ
の修正のため非常に作業性をおとしてしまう。このため
、一般に感光材料では帯電防止剤が使用され、最近では
、含フツ票券面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面
活性剤、ポリエチレンオキサイド基を含有する界面活性
剤ないし高分子化合物、スルホン酸又はリン酸基を分子
内に有するポリマー等が用いられている。
特にフッ素系界面活性剤による帯電列調整、あるいは導
電性ポリマーによる導電性向上が多く使用されてきてお
り、例えば特開昭49−91165号および同49−1
21523号にはポリマー主鎖中に解離基を有するイオ
ン型ポリマーを適用する例が開示されている。
電性ポリマーによる導電性向上が多く使用されてきてお
り、例えば特開昭49−91165号および同49−1
21523号にはポリマー主鎖中に解離基を有するイオ
ン型ポリマーを適用する例が開示されている。
しかしながら、これらの従来技術では、現像処理により
、帯電防止能が大幅に劣化してしまう。
、帯電防止能が大幅に劣化してしまう。
これはアルカリを用いる現像工程、酸性の定着工程、水
洗等の工程を経ることにより帯電防止能が失われるもの
と思われる。したがって印刷感光材料等のように、処理
済みフィルムをさらに用いてプリントするような場合に
、ゴミの付着によるピンホール発生等の問題を生ずる。
洗等の工程を経ることにより帯電防止能が失われるもの
と思われる。したがって印刷感光材料等のように、処理
済みフィルムをさらに用いてプリントするような場合に
、ゴミの付着によるピンホール発生等の問題を生ずる。
このため例えば特開昭55−84658号、同61−1
74542号ではカルボキシル基を有する水溶性導電性
ポリマー カルボキシル基を有する疎水性ポリマー及び
多官能アジリジンを含有する帯電防止層が提案されてい
る。この方法によれば処理後にも帯電防止能を残すこと
ができるが、硬化剤である多官能アジリジンによる硬化
が充分に進んでいないと帯電防止性能はでないという問
題がある。
74542号ではカルボキシル基を有する水溶性導電性
ポリマー カルボキシル基を有する疎水性ポリマー及び
多官能アジリジンを含有する帯電防止層が提案されてい
る。この方法によれば処理後にも帯電防止能を残すこと
ができるが、硬化剤である多官能アジリジンによる硬化
が充分に進んでいないと帯電防止性能はでないという問
題がある。
〔発明の目的〕
上記のような問題に対し、本発明の目的は、帯電防止層
の塗布乾燥後に硬化剤の反応を進行させることにより、
充分な帯電防止能を有する帯電防止層の塗設方法を提供
することである。
の塗布乾燥後に硬化剤の反応を進行させることにより、
充分な帯電防止能を有する帯電防止層の塗設方法を提供
することである。
本発明の上記目的は、水溶性導電性ポリマー及び硬化剤
を含有する帯電防止層をプラスチックフィルム上に塗設
する方法において、該水溶性導電性ポリマーの水性加工
液を塗布乾燥後、膜面pHが8.5以下になるように塗
布することを特徴とする帯電防止層の塗設方法により達
成される。
を含有する帯電防止層をプラスチックフィルム上に塗設
する方法において、該水溶性導電性ポリマーの水性加工
液を塗布乾燥後、膜面pHが8.5以下になるように塗
布することを特徴とする帯電防止層の塗設方法により達
成される。
以下、本発明の詳細について説明する。
本発明の水溶性導電性ポリマーは単独で使用することに
よっても透明な層を形威し得るが、はんの少し乾燥条件
のブレによって層のひび割れを引き起こしてしまう。本
発明の構成ではそのひび割れをなくすために疎水性ポリ
マー粒子を含有するのが好ましい。
よっても透明な層を形威し得るが、はんの少し乾燥条件
のブレによって層のひび割れを引き起こしてしまう。本
発明の構成ではそのひび割れをなくすために疎水性ポリ
マー粒子を含有するのが好ましい。
本発明の水溶性導電性ポリマーについては、スルホン酸
基、硫酸エステル基、4級アンモニウム塩、3級アンモ
ニウム塩、カルボキシル基およびそれらの塩、ポリエチ
レンオキシド基から選ばれる少なくとも1つの導電性基
を有するポリマーが挙げられる。これらの基のうちスル
ホン酸基、硫酸エステル基、4級アンモニウム塩基が好
ましい。
基、硫酸エステル基、4級アンモニウム塩、3級アンモ
ニウム塩、カルボキシル基およびそれらの塩、ポリエチ
レンオキシド基から選ばれる少なくとも1つの導電性基
を有するポリマーが挙げられる。これらの基のうちスル
ホン酸基、硫酸エステル基、4級アンモニウム塩基が好
ましい。
導電性基はポリマー1分子当たり5重量%以上を必要と
する。水溶性の導電性ポリマー中には、ヒドロキシ基、
アミノ基、エポキシ基、アジリジン基、活性メチレン基
、スルフィン酸基、アルデヒド基、ビニルスルホン基を
含んでいるのが好ましい。
する。水溶性の導電性ポリマー中には、ヒドロキシ基、
アミノ基、エポキシ基、アジリジン基、活性メチレン基
、スルフィン酸基、アルデヒド基、ビニルスルホン基を
含んでいるのが好ましい。
ポリマーの分子量は、3000〜100000であり、
好ましくは3500〜50000である。
好ましくは3500〜50000である。
以下、本発明に用いられる水溶性導電性ポリマーの化合
物例を挙げるがこれに限定されるものではない。
物例を挙げるがこれに限定されるものではない。
So 、 Na
5o、Na
5
八 −
CH。
CI(。
CH,C0OH
0
1
2
デキスト
ランサルフ
ィ
ド
置換度
3.0
Mn= 500000
3
−14
5
A −16
So、Na
A −17
CH。
03Na
9
−20
しtI3
So、I(
21
2
3
4
デキストランサルフエイト
置換度
2.0
Mn= 100000
−25
So 、 Na
Mn= 10000
尚、上記A−1−A−25において、Mnは平均分子量
(本明細書中、平均分子量とは数平均分子量を示す。)
を表し、ポリエチレングリコール換算で表したGPCに
よる測定値によるものである。
(本明細書中、平均分子量とは数平均分子量を示す。)
を表し、ポリエチレングリコール換算で表したGPCに
よる測定値によるものである。
本発明の帯電防止層層中に含有させる疎水性ポリマー粒
子は、実質的に水に溶解しない所謂ラテックスで構成さ
れている。この疎水性ポリマーは、スチレン、スチレン
誘導体、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレー
ト、オレフィン誘導体、ハロゲン化エチレン誘導体、ア
クリルアミド誘導体、メタクリルアミド誘導体、ビニル
エステル誘導体、アクリルニトリル等の中から任意の組
み合わせで選ばれるモノマーを重合して得られる。特に
スチレン、スチレン誘導体、アルキルアクリレート、ア
ルキルメタクリレートが少なくとも30モル%含有され
ているのが好ましい。特に50モル%以上が好ましい。
子は、実質的に水に溶解しない所謂ラテックスで構成さ
れている。この疎水性ポリマーは、スチレン、スチレン
誘導体、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレー
ト、オレフィン誘導体、ハロゲン化エチレン誘導体、ア
クリルアミド誘導体、メタクリルアミド誘導体、ビニル
エステル誘導体、アクリルニトリル等の中から任意の組
み合わせで選ばれるモノマーを重合して得られる。特に
スチレン、スチレン誘導体、アルキルアクリレート、ア
ルキルメタクリレートが少なくとも30モル%含有され
ているのが好ましい。特に50モル%以上が好ましい。
疎水性ポリマーをラテックス状にするには乳化重合をす
る、固体状のポリマーを低沸点溶媒に溶かして微分散後
、溶媒を溜去するという2つの方法があるが、粒径が細
かくしかもそろったものができるという点で乳化重合す
ることが好ましい。
る、固体状のポリマーを低沸点溶媒に溶かして微分散後
、溶媒を溜去するという2つの方法があるが、粒径が細
かくしかもそろったものができるという点で乳化重合す
ることが好ましい。
疎水性ポリマーの分子量は3000以上であれば良く、
分子量による透明性の差はほとんどない。
分子量による透明性の差はほとんどない。
Hs
6
CH。
CHl
CI(3
10
CH。
Q
−11
2
CH。
−13
CH3
CH3
イCH2C九。
イCH2CH力。
イCH2C汎
C00CH5
COOC2H50H
OOH
14
CI(。
15
イCHzCH’?is イCH2幡。 イCH2
い。
い。
CN C00C,H,−n C0OH
本発明において、水溶性導電性ポリマー、疎水性ポリマ
ー粒子及び架橋剤の構成比(を量%)は30〜95%:
5〜60%:1〜45%であり、特に好ましくは50〜
90%=lO〜50%=5〜30%である。
本発明において、水溶性導電性ポリマー、疎水性ポリマ
ー粒子及び架橋剤の構成比(を量%)は30〜95%:
5〜60%:1〜45%であり、特に好ましくは50〜
90%=lO〜50%=5〜30%である。
本発明の塗布膜厚は乾燥状態で0.4〜2.5μm特に
0.5〜2.0μmが好ましい。0.4μm以下では現
像処理後の十分な導電性が得られず、また2、5μm以
上にしようとすると塗布加工が非常に勉しく平面性の良
い塗布点が得られない。
0.5〜2.0μmが好ましい。0.4μm以下では現
像処理後の十分な導電性が得られず、また2、5μm以
上にしようとすると塗布加工が非常に勉しく平面性の良
い塗布点が得られない。
本発明の塗布乾燥後、膜面pHを2.5以上8.5以下
にする方法としては塩を水性加工液に添加したものを使
用して塗布することが好ましい。塩としでは、硫酸アン
モニウム、リン酸アンモニウム、リン酸水素アンモニウ
ム、リン酸二水素アンモニウム、塩化アンモニウム、乳
酸アンモニウム、クエン酸アンモニウム等の強酸と弱塩
基との塩が好ましい。弱塩基としては、特にアンモニア
が好ましい。
にする方法としては塩を水性加工液に添加したものを使
用して塗布することが好ましい。塩としでは、硫酸アン
モニウム、リン酸アンモニウム、リン酸水素アンモニウ
ム、リン酸二水素アンモニウム、塩化アンモニウム、乳
酸アンモニウム、クエン酸アンモニウム等の強酸と弱塩
基との塩が好ましい。弱塩基としては、特にアンモニア
が好ましい。
塩の添加量としては導電性ポリマーに対して0.1〜2
0重量%、好ましくは1−10重量%である。
0重量%、好ましくは1−10重量%である。
膜面pHとしては、8.0以下が好ましいが、低すぎて
も膜の安定性から好ましくない。pH2,5以下では、
水溶性ポリマーが析出しやすくなり、透明な膜ができな
くなる。特に好ましくは3.0〜7.5である。
も膜の安定性から好ましくない。pH2,5以下では、
水溶性ポリマーが析出しやすくなり、透明な膜ができな
くなる。特に好ましくは3.0〜7.5である。
本発明の導電性層を硬化する硬化剤としては、多官能の
アジリジン化合物、ヒドロキシ基含有エポキシ化合物が
好ましい。アジリジン化合物は2官能、3官能で分子量
が7000以下のものが好ましい。ヒドロキシ基含有エ
ポキシ化合物としては。
アジリジン化合物、ヒドロキシ基含有エポキシ化合物が
好ましい。アジリジン化合物は2官能、3官能で分子量
が7000以下のものが好ましい。ヒドロキシ基含有エ
ポキシ化合物としては。
ボリグリンドールのエピハロヒドリン付加物が好ましい
。
。
本発明の導電性層は感光性層より支持体側にあってもよ
いし、感光層に対し支持体の反対側、いわゆる背面にあ
ってもよい。
いし、感光層に対し支持体の反対側、いわゆる背面にあ
ってもよい。
本発明では導電性層が透明支持体上に塗設される。
透明支持体は写真用のもの全てが使えるが好ましくは、
可視光を90%以上透過するように作られたポリエチレ
ンテレフタレート又セルローストリアセテートである。
可視光を90%以上透過するように作られたポリエチレ
ンテレフタレート又セルローストリアセテートである。
これらの透明支持体は、当業者に良く知られた方法で作
成されるものであるが、場合によっては光透過を実質的
に阻害しないように染料を若干添加して青味付けしたり
しても良い。
成されるものであるが、場合によっては光透過を実質的
に阻害しないように染料を若干添加して青味付けしたり
しても良い。
本発明の支持体は、コロナ放電処理をした後ラテックス
ポリマーを含有する下引層か塗設されていてもよい。コ
ロナ放電処理は、エネルギー値として1 mW−I K
W/ (m2・m1n)が特に好ましく適用される。又
特に好ましくは、ラテックス下引層塗布後導電性層を塗
設する前にコロナ放電処理を再度行うとよい。
ポリマーを含有する下引層か塗設されていてもよい。コ
ロナ放電処理は、エネルギー値として1 mW−I K
W/ (m2・m1n)が特に好ましく適用される。又
特に好ましくは、ラテックス下引層塗布後導電性層を塗
設する前にコロナ放電処理を再度行うとよい。
本発明は、支持体上に形成される感光材料金てに応用す
ることができる。例えばハロゲン化銀カラー感光材料、
レントゲン用感光材料、製版用感光材料等である。
ることができる。例えばハロゲン化銀カラー感光材料、
レントゲン用感光材料、製版用感光材料等である。
本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は、例えば米国特
許率2.444.607号、同第2.716.062号
、同第3.512,982号、西独国出願公告第1.1
89.380号、同第2.058,626号、同第2.
118.411号、特公昭43−4133号、米国特許
率3,342.596号、特公昭47−4417号、西
独国出願公告第2,149.789号、特公昭39−2
825号、特公昭49−13566号等の各明細書また
は公報に記載されている化合物、好ましくは、例えば5
.6− トリメチレン−7−ヒドロキシ−s−トリアゾ
ロ(1,5−a)ピリミジン、5,6−チトラメチレン
ー7−ヒドロキシーSトリアゾロ(1,5−a)ピリミ
ジン、5−メチル−7−ヒドロキシ−3−トリアゾロ(
1,5−a)ピリミジン、7−ヒドロキシ−s−トリア
ゾロ(1,5−a)ピリミジン、5−メチル−6−プロ
モーフ−ヒドロキシ−S−トリアゾロ(1,5−a)ピ
リミジン、没食子酸エステル(例えば没食子酸イソアミ
ル、没食子酸ドデシル、没食子酸プロピル、没食子酸ナ
トリウム)、メルカプタン類(l−フェニル−5−メル
カプトテトラゾール、2−メルカプトベンツチアゾール
)、ベンゾトリアゾール類(5−ブロムベンツトリアゾ
ール、5−メチルベンツトリアゾール)、ヘンライミダ
ゾール類(6−ニドロペンツイミダゾール)等を用いて
安定化することができる。
許率2.444.607号、同第2.716.062号
、同第3.512,982号、西独国出願公告第1.1
89.380号、同第2.058,626号、同第2.
118.411号、特公昭43−4133号、米国特許
率3,342.596号、特公昭47−4417号、西
独国出願公告第2,149.789号、特公昭39−2
825号、特公昭49−13566号等の各明細書また
は公報に記載されている化合物、好ましくは、例えば5
.6− トリメチレン−7−ヒドロキシ−s−トリアゾ
ロ(1,5−a)ピリミジン、5,6−チトラメチレン
ー7−ヒドロキシーSトリアゾロ(1,5−a)ピリミ
ジン、5−メチル−7−ヒドロキシ−3−トリアゾロ(
1,5−a)ピリミジン、7−ヒドロキシ−s−トリア
ゾロ(1,5−a)ピリミジン、5−メチル−6−プロ
モーフ−ヒドロキシ−S−トリアゾロ(1,5−a)ピ
リミジン、没食子酸エステル(例えば没食子酸イソアミ
ル、没食子酸ドデシル、没食子酸プロピル、没食子酸ナ
トリウム)、メルカプタン類(l−フェニル−5−メル
カプトテトラゾール、2−メルカプトベンツチアゾール
)、ベンゾトリアゾール類(5−ブロムベンツトリアゾ
ール、5−メチルベンツトリアゾール)、ヘンライミダ
ゾール類(6−ニドロペンツイミダゾール)等を用いて
安定化することができる。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料及び/又は現像
液中には、アミノ化合物を含有することができる。
液中には、アミノ化合物を含有することができる。
又現像性を高めるために、フェニドンやハイドロキノン
のような現像主薬、ベンゾトリアゾールのような抑制剤
を乳剤側に含有せしめることができる。あるいは処理液
の処理能力を上げるために、バッキング層に現像主薬や
抑制剤を含有せしめることができる。
のような現像主薬、ベンゾトリアゾールのような抑制剤
を乳剤側に含有せしめることができる。あるいは処理液
の処理能力を上げるために、バッキング層に現像主薬や
抑制剤を含有せしめることができる。
本発明に特に有利に用いられる親水性コロイドはゼラチ
ンである。
ンである。
本発明に用いられるゼラチンは、アルカリ処理、酸処理
いずれも用いることが出来るが、オセインゼラチンを用
いる場合にはカルシウムあるいは鉄分を取り除くことが
好ましい。好ましい含有量としてカルシウム分は1〜9
99ppmであるが、更に好ましくは1〜50oppm
であり、鉄分は0.O1〜50pp■が好ましく、更に
好ましくは00−1=lOppである。このようにカル
シウム分や鉄分の量を調節する方法は、ゼラチン水溶液
をイオン交換装置に通すことにより達成することができ
る。
いずれも用いることが出来るが、オセインゼラチンを用
いる場合にはカルシウムあるいは鉄分を取り除くことが
好ましい。好ましい含有量としてカルシウム分は1〜9
99ppmであるが、更に好ましくは1〜50oppm
であり、鉄分は0.O1〜50pp■が好ましく、更に
好ましくは00−1=lOppである。このようにカル
シウム分や鉄分の量を調節する方法は、ゼラチン水溶液
をイオン交換装置に通すことにより達成することができ
る。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料の現像に用いら
れる現像主薬としてはカテコール、ピロガロール及びそ
の誘導体ならびにアスコルビン酸、クロロハイドロキノ
ン、ブロモハイドロキノン、メチルハイドロキノン、2
.3−ジブロモハイドロキノン、2.5−ジエチルハイ
ドロキノン、4−クロロカテコール、4−フェニル−カ
テコール、3−メトキシカテコール、4−アセチル−ピ
ロガロール、アスコルビン酸ソーダ等がある。
れる現像主薬としてはカテコール、ピロガロール及びそ
の誘導体ならびにアスコルビン酸、クロロハイドロキノ
ン、ブロモハイドロキノン、メチルハイドロキノン、2
.3−ジブロモハイドロキノン、2.5−ジエチルハイ
ドロキノン、4−クロロカテコール、4−フェニル−カ
テコール、3−メトキシカテコール、4−アセチル−ピ
ロガロール、アスコルビン酸ソーダ等がある。
又、HO−(CH= CH)、 −NH,型現像剤とし
ては、オルト及びパラのアミノフェノールが代表的なも
ので、4−アミノフェノール、2−アミノ−6−フェニ
ルフェノール、2−アミノ−4−クロロ−6−フェニル
フェノール、N−メチル−p−アミノフェニール等カす
る。
ては、オルト及びパラのアミノフェノールが代表的なも
ので、4−アミノフェノール、2−アミノ−6−フェニ
ルフェノール、2−アミノ−4−クロロ−6−フェニル
フェノール、N−メチル−p−アミノフェニール等カす
る。
更に、H2N−(CH−CH)、 −NH2型現像現像
剤ては例えば4−アミノ−2−メチル−N、N−ジエチ
ルアニリン、2.4−ジアミノ−N、N−ジエチルアニ
リン、N−(4−アミノ−3−メチルフェニル)−七ル
ホリン、p−7二二レンジアミン等がある。
剤ては例えば4−アミノ−2−メチル−N、N−ジエチ
ルアニリン、2.4−ジアミノ−N、N−ジエチルアニ
リン、N−(4−アミノ−3−メチルフェニル)−七ル
ホリン、p−7二二レンジアミン等がある。
ヘテロ環型現像剤としては、l−7エニルー3−ピラゾ
リドン、1−フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾ
リドン、l−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメ
チル−3−ピラゾリドンのような3−ピラゾリドン、類
、■フェニルー4−アミノー5−ピラゾロン、5−アミ
ノウラノル等を挙げることができる。
リドン、1−フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾ
リドン、l−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメ
チル−3−ピラゾリドンのような3−ピラゾリドン、類
、■フェニルー4−アミノー5−ピラゾロン、5−アミ
ノウラノル等を挙げることができる。
T、H,’;エームス著ザ・セオリイ・オブ・ザ・ホト
グラフィック・プロセス第4版(The Theory
of Photographic Process F
ourth Edition)第291〜334頁及び
ジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサエ
ティ(Journal of the America
nChemical 5ociety)第73巻、第3
,100頁(1951)に記載されているごとき現像剤
が本発明に有効に使用し得るものである。これらの現像
剤は単独で使用しても2種以上組み合わせてもよいが、
2種以上を組み合わせて用いる方が好ましい。また本発
明にかかる感光材料の現像に使用する現像液には保恒剤
として、例えば亜硫酸ソーダ、亜硫酸カリ、等の亜硫酸
塩を用いても、本発明の効果が損なわれることはない。
グラフィック・プロセス第4版(The Theory
of Photographic Process F
ourth Edition)第291〜334頁及び
ジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサエ
ティ(Journal of the America
nChemical 5ociety)第73巻、第3
,100頁(1951)に記載されているごとき現像剤
が本発明に有効に使用し得るものである。これらの現像
剤は単独で使用しても2種以上組み合わせてもよいが、
2種以上を組み合わせて用いる方が好ましい。また本発
明にかかる感光材料の現像に使用する現像液には保恒剤
として、例えば亜硫酸ソーダ、亜硫酸カリ、等の亜硫酸
塩を用いても、本発明の効果が損なわれることはない。
又保恒剤としてヒドロキシルアミン、ヒドラジド化合物
を用いることができ、この場合その使用量は現像液14
当たり5〜500gが好ましく、より好ましくは20〜
200gである。
を用いることができ、この場合その使用量は現像液14
当たり5〜500gが好ましく、より好ましくは20〜
200gである。
又現像液には有機溶媒としてグリコール類を含有させて
もよく、そのようなグリコール類としてはエチレングリ
コール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール
、トリエチレングリコール、1.4−ブタンジオール、
■、5−ベンタンジオール等があるが、ジエチレングリ
コールが好ましく用いられる。そしてこれらグリコール
類の好ましい使用量は現像液IQ当たり5〜500gで
、より好ましくは20〜200gである。これらの有機
溶媒は単独でも併用しても用いることができる。
もよく、そのようなグリコール類としてはエチレングリ
コール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール
、トリエチレングリコール、1.4−ブタンジオール、
■、5−ベンタンジオール等があるが、ジエチレングリ
コールが好ましく用いられる。そしてこれらグリコール
類の好ましい使用量は現像液IQ当たり5〜500gで
、より好ましくは20〜200gである。これらの有機
溶媒は単独でも併用しても用いることができる。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料は、上記の如き
現像抑制剤を含んだ現像液を用いて現像処理することに
より極めて保存安定性に優れた感光材料を得ることがで
きる。
現像抑制剤を含んだ現像液を用いて現像処理することに
より極めて保存安定性に優れた感光材料を得ることがで
きる。
上記の組成になる現像液のpH値は好ましくは9〜13
であるが、保恒性及び写真特性上からpH値はlO〜1
2の範囲が更に好ましい。現像液中の陽イオンについて
は、ナトリウムよりカリウムイオンの比率が高い程現像
液の活性度を高めることができるので好ましい。
であるが、保恒性及び写真特性上からpH値はlO〜1
2の範囲が更に好ましい。現像液中の陽イオンについて
は、ナトリウムよりカリウムイオンの比率が高い程現像
液の活性度を高めることができるので好ましい。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料は、種々の条件
で処理することができる。処理温度は、例えば現像温度
は50℃以下が好ましく、特に25°C〜40°C前後
が好ましく、又現像時間は2分以内に終了することが一
般的であるが、特に好ましくは10秒〜50秒が好効果
をもたらすことが多い。又現像以外の処理工程、例えば
水洗、停止、安定、定着、更に必要に応じて前硬膜、中
和等の工程を採用することは任意であり、これらは適宜
省略することもできる。更にまた、これらの処理は皿現
像、枠環像などいわゆる手現像処理でも、ローラー現像
、ハンガー現像など機械現像であってもよい。
で処理することができる。処理温度は、例えば現像温度
は50℃以下が好ましく、特に25°C〜40°C前後
が好ましく、又現像時間は2分以内に終了することが一
般的であるが、特に好ましくは10秒〜50秒が好効果
をもたらすことが多い。又現像以外の処理工程、例えば
水洗、停止、安定、定着、更に必要に応じて前硬膜、中
和等の工程を採用することは任意であり、これらは適宜
省略することもできる。更にまた、これらの処理は皿現
像、枠環像などいわゆる手現像処理でも、ローラー現像
、ハンガー現像など機械現像であってもよい。
以下実施例によって本発明を具体的に説明する。
なお、当然のことではあるが、本発明は以下述べる実施
例に限定されるものではない。
例に限定されるものではない。
実施例1
コロナ放電した後、下引処理したポリエチレンテレフタ
レートに再びコロナ放電した後、下記組成の帯電防止液
を10mQ/m2になるように50m/winの早さで
エアーナインコーターにより塗布した。
レートに再びコロナ放電した後、下記組成の帯電防止液
を10mQ/m2になるように50m/winの早さで
エアーナインコーターにより塗布した。
水溶性導電性ポリマー(A ) 60gIQ
疎水性ポリマー粒子 (B ) 40g/(
1硫酸アンモニウム 0.5g/(2
硬化剤(H−1) CHxCH2C(CH20COCH2CHzN、])、
12 g/(1上記組成で172とする。
疎水性ポリマー粒子 (B ) 40g/(
1硫酸アンモニウム 0.5g/(2
硬化剤(H−1) CHxCH2C(CH20COCH2CHzN、])、
12 g/(1上記組成で172とする。
乾燥風温90°C1総括伝熱係数25Kg/m2・hr
・℃の平行流乾燥条件で、30秒間乾燥し、さらにその
後、140°C190秒間熱処理した。この帯電防止層
の上にゼラチンを2.0g/ffl”になるように塗布
し、乾燥した。ゼラチンの硬膜剤としては下記(H−2
)を用いた。
・℃の平行流乾燥条件で、30秒間乾燥し、さらにその
後、140°C190秒間熱処理した。この帯電防止層
の上にゼラチンを2.0g/ffl”になるように塗布
し、乾燥した。ゼラチンの硬膜剤としては下記(H−2
)を用いた。
硬膜剤(H−2)
COCH=CH。
尚、膜面pHは水溶性導電性ポリマー加工液を塗布乾燥
後東亜電波(株)製pHメーターと平面電極を用い、2
3℃で測定した。
後東亜電波(株)製pHメーターと平面電極を用い、2
3℃で測定した。
また表面比抵抗は川口電気(株)製テラオームメターモ
デルVE−30を用いて23℃、55%RHで測定し
l二 。
デルVE−30を用いて23℃、55%RHで測定し
l二 。
表1の結果から本発明の場合は、比較試料に比べて膜面
pHが低く、表面比抵抗が小さい。
pHが低く、表面比抵抗が小さい。
実施例2
pH3,0の酸性雰囲気下でコントロールダブルジェッ
ト法によりロジウムを銀1モル当たり10−6モル含有
する粒子を作成した。粒子の成長は、ベンジルアデニン
を1%のゼラチン水溶液lQ当たり30B含有する系で
行った。銀とハライドの混合後6−メチルー4−ヒドロ
キシ−1,3,3a、7テトラザインデンをハロゲン化
銀1モル当たり600mg加え、その後水洗、脱塩した
。
ト法によりロジウムを銀1モル当たり10−6モル含有
する粒子を作成した。粒子の成長は、ベンジルアデニン
を1%のゼラチン水溶液lQ当たり30B含有する系で
行った。銀とハライドの混合後6−メチルー4−ヒドロ
キシ−1,3,3a、7テトラザインデンをハロゲン化
銀1モル当たり600mg加え、その後水洗、脱塩した
。
次いで、ハロゲン化銀1モル当たり60IIIgの6−
メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、7−チトラザ
インデンを加えた後、イオウ増感をした。イオウ増感後
安定剤として6−メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3
a、7−チトラザインデンを加えた。
メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、7−チトラザ
インデンを加えた後、イオウ増感をした。イオウ増感後
安定剤として6−メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3
a、7−チトラザインデンを加えた。
(ハロゲン化銀乳剤層)
前記各乳剤に添加剤を下記の付量になるよう調整添加し
、ポリ(スチレン−ブチルアクリレートグリシジルメタ
クリレート)ラテックス下引処理した(100μm厚さ
)ポリエチレンテレフタレート支持体上に塗布した。
、ポリ(スチレン−ブチルアクリレートグリシジルメタ
クリレート)ラテックス下引処理した(100μm厚さ
)ポリエチレンテレフタレート支持体上に塗布した。
ラテンクスボリマー二スチレンーブチルアクリレートー
アクリル酸3元共重合 ポリマー 1.0g/lテト
ラフェニルホスホニウムクロライド30 m g /
Ill 2 サポニン 200+ag/+”
ポリエチレングリコール 100+ag/m”
ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム100mg/m
” ハイドロキノン 200mg/m”フ
ェニドン 100mg/m”スチ
レンスルホン酸ナトリウム−マレイン酸重合体(Mw=
25万) 200mg/m”没食子酸ブ
チルエステル 500mg/+”テトラゾリウ
ム化合物 20mg/15−メチルベンゾ
トリアゾール 2−メルカプトベンツイミダゾール−5スルホン酸 30og/l イ ナ トオセインゼラチン (等電点4.9) 1−(p−アセチルアミドフェニル) メルカプトテトラゾール 銀量 テトラゾリウム化合物 1、5g/m2 30a+g/+” 2、8g/m” 乳剤層保護膜として、下記の付量になるよう調製塗布し
た。
アクリル酸3元共重合 ポリマー 1.0g/lテト
ラフェニルホスホニウムクロライド30 m g /
Ill 2 サポニン 200+ag/+”
ポリエチレングリコール 100+ag/m”
ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム100mg/m
” ハイドロキノン 200mg/m”フ
ェニドン 100mg/m”スチ
レンスルホン酸ナトリウム−マレイン酸重合体(Mw=
25万) 200mg/m”没食子酸ブ
チルエステル 500mg/+”テトラゾリウ
ム化合物 20mg/15−メチルベンゾ
トリアゾール 2−メルカプトベンツイミダゾール−5スルホン酸 30og/l イ ナ トオセインゼラチン (等電点4.9) 1−(p−アセチルアミドフェニル) メルカプトテトラゾール 銀量 テトラゾリウム化合物 1、5g/m2 30a+g/+” 2、8g/m” 乳剤層保護膜として、下記の付量になるよう調製塗布し
た。
弗素化ジオクチルスルホコノ\り酸エステル300mg
/l マット剤:ポリメタクリル酸メチル (平均粒径3,5μm) 硝酸リチウム塩 酸処理ゼラチン(等電点7.0) コロイダルシリカ スチレンスルホン酸ナトリウム 100mg/m” 30+og/m” 1、2g/m” 50mg/+” マレイン酸共重合体 100mg/m” 媒染剤 染料 (バッキング層) 乳剤層とは反対側の支持体に、あらがじめ30w/(m
2・m1n)のパワーでコロナ放電した後、ポリ(スチ
レン−ブチルアクリレート−グリシジルメタクリレート
)ラテックスポリマーをヘキサメチレンアジリジン硬膜
剤の存在下で塗布し、さらに本発明の帯電防止層を実施
例1と同様にして塗設し、ついでこの層の上に下記!1
戊のバッキング染料を含有するバッキング層を塗布した
。ゼラチン層はグリオキザール及びl−オキシ−3,5
−ジクロロ−S−トリアジンナトリウム塩及びヒドロキ
シ含有エポキシ化合物である下記(H−3)で硬膜した
。
/l マット剤:ポリメタクリル酸メチル (平均粒径3,5μm) 硝酸リチウム塩 酸処理ゼラチン(等電点7.0) コロイダルシリカ スチレンスルホン酸ナトリウム 100mg/m” 30+og/m” 1、2g/m” 50mg/+” マレイン酸共重合体 100mg/m” 媒染剤 染料 (バッキング層) 乳剤層とは反対側の支持体に、あらがじめ30w/(m
2・m1n)のパワーでコロナ放電した後、ポリ(スチ
レン−ブチルアクリレート−グリシジルメタクリレート
)ラテックスポリマーをヘキサメチレンアジリジン硬膜
剤の存在下で塗布し、さらに本発明の帯電防止層を実施
例1と同様にして塗設し、ついでこの層の上に下記!1
戊のバッキング染料を含有するバッキング層を塗布した
。ゼラチン層はグリオキザール及びl−オキシ−3,5
−ジクロロ−S−トリアジンナトリウム塩及びヒドロキ
シ含有エポキシ化合物である下記(H−3)で硬膜した
。
H−3=ポリグリシトールとエピクロルヒドリンの反応
物 (バッキング層) ハイドロキノン 100mg/+”
フェニドン 30mg/m”ラ
テックスポリマー:ブチルアクリレートスチレン共重合
体 0.5g/m”スチレン−マレイン
酸共重合体100 m g / m ”クエン酸
40mg/m2ベンゾトリアゾー
ル 100mg/m2スチレンスルホン
酸 マレイン酸共重合体 100mg/m”硝
酸リチウム塩 30+ng/+a”
バッキング染料(a Xb )(c )オセインゼラチ
ン 2.0g/m2(b) (c) CI 、So 、 H So 3Na 以上のようにして得られた試料を全面露光し下記に示す
現像液、定着液を使用して現像処理した後、表面比抵抗
試験を行った。
物 (バッキング層) ハイドロキノン 100mg/+”
フェニドン 30mg/m”ラ
テックスポリマー:ブチルアクリレートスチレン共重合
体 0.5g/m”スチレン−マレイン
酸共重合体100 m g / m ”クエン酸
40mg/m2ベンゾトリアゾー
ル 100mg/m2スチレンスルホン
酸 マレイン酸共重合体 100mg/m”硝
酸リチウム塩 30+ng/+a”
バッキング染料(a Xb )(c )オセインゼラチ
ン 2.0g/m2(b) (c) CI 、So 、 H So 3Na 以上のようにして得られた試料を全面露光し下記に示す
現像液、定着液を使用して現像処理した後、表面比抵抗
試験を行った。
〈現像液処方〉
ハイドロキノン 25g1−フ
ェニル−4,4ジメチル−3− ピラゾリドン 0・4g臭化
ナトリウム 3g5−メチルベ
ンゾトリアゾール 0.3g5−ニトロインダ
ゾール 0.05gジエチルアミノプロ
パン−1,2−ジオール 10g亜硫酸カリウム
90g5−スルホサリチル酸ナトリウ
ム 75gエチレンジアミン四酢酸ナトリウム
2g水でlaに仕上げた。
ェニル−4,4ジメチル−3− ピラゾリドン 0・4g臭化
ナトリウム 3g5−メチルベ
ンゾトリアゾール 0.3g5−ニトロインダ
ゾール 0.05gジエチルアミノプロ
パン−1,2−ジオール 10g亜硫酸カリウム
90g5−スルホサリチル酸ナトリウ
ム 75gエチレンジアミン四酢酸ナトリウム
2g水でlaに仕上げた。
pHは、苛性ソーダで11.5とした。
く定着液処方〉
(組成A)
チオ硫酸アンモニウム(72,5w%水溶液)240+
s12 亜硫酸ナトリウム 17g酢酸ナ
トリウム・3水塩 6.5g硼酸
6gクエン酸ナトリウム
・2水塩 2g酢酸(90w%水溶液)
13.5m12(組成B) 純水(イオン交換水)17I1112 硫酸(50w%の水溶液) 3.0g
硫酸アルミニウム(AI220.換算含量が8.1w%
の水溶液)20g 定着液の使用時に水500mQ中に上記組成A1組JO
Bの順に溶かし、lQに仕上げて用いた。この定着液の
pHは約5.6であった。
s12 亜硫酸ナトリウム 17g酢酸ナ
トリウム・3水塩 6.5g硼酸
6gクエン酸ナトリウム
・2水塩 2g酢酸(90w%水溶液)
13.5m12(組成B) 純水(イオン交換水)17I1112 硫酸(50w%の水溶液) 3.0g
硫酸アルミニウム(AI220.換算含量が8.1w%
の水溶液)20g 定着液の使用時に水500mQ中に上記組成A1組JO
Bの順に溶かし、lQに仕上げて用いた。この定着液の
pHは約5.6であった。
く現像処理条件〉
(工程) (温度) (時間)現像
40°08秒 定着 35°08秒 水洗 常温 lO秒 尚、評価は以下のようにして行い、結果を表−2に示し
た。
40°08秒 定着 35°08秒 水洗 常温 lO秒 尚、評価は以下のようにして行い、結果を表−2に示し
た。
表2
(表面比抵抗Ω)
表2の結果から本発明の方法によれば、現像処理後でも
優れた帯電防止能を保持していることが分かる。
優れた帯電防止能を保持していることが分かる。
また、乳剤層中のテトラゾリウム化合物を下記ヒドラジ
ン化合物に代えても同様な効果があった。
ン化合物に代えても同様な効果があった。
ヒドラジン化合物
実施例3
硫酸アンモニウムの量と硫酸の量を変化させて膜面pH
を2.0.2.5.4.0.6.5.8.5.9.0と
し、1はすべて実施例2と同様にして作成した試料を実
施例2と同様な評価と行った。
を2.0.2.5.4.0.6.5.8.5.9.0と
し、1はすべて実施例2と同様にして作成した試料を実
施例2と同様な評価と行った。
尚、バッキング層の帯電防止層における導電性ポリマー
は、A−3 疎水性ポリマーは、B−5を用いた。
は、A−3 疎水性ポリマーは、B−5を用いた。
結果を表3に示す。
表3
〔発明の効果〕
本発明により、帯電防止性能の劣化がなく、かつ現像処
理後も帯電防止能の劣化のない優れたハロゲン化銀写真
感光材料の帯電防止層の塗設方法を提供することができ
た。
理後も帯電防止能の劣化のない優れたハロゲン化銀写真
感光材料の帯電防止層の塗設方法を提供することができ
た。
Claims (1)
- 水溶性導電性ポリマー及び硬化剤を含有する帯電防止層
をプラスチックフィルム上に塗設する方法において、該
水溶性導電性ポリマーの水性加工液を塗布乾燥後、膜面
pHが8.5以下2.5以上になるように塗布すること
を特徴とする帯電防止層の塗設方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2309222A JPH03233445A (ja) | 1989-11-29 | 1990-11-15 | 帯電防止層の塗設方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1-309574 | 1989-11-29 | ||
JP30957489 | 1989-11-29 | ||
JP2309222A JPH03233445A (ja) | 1989-11-29 | 1990-11-15 | 帯電防止層の塗設方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03233445A true JPH03233445A (ja) | 1991-10-17 |
Family
ID=26565879
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2309222A Pending JPH03233445A (ja) | 1989-11-29 | 1990-11-15 | 帯電防止層の塗設方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03233445A (ja) |
-
1990
- 1990-11-15 JP JP2309222A patent/JPH03233445A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5098822A (en) | Antistatic layer containing hydrophobic polymer particles and conductive polymer | |
JPH02266933A (ja) | 帯電防止層 | |
US5284741A (en) | Antistatic layer | |
US5286618A (en) | Method for providing antistatic layer | |
JP2787160B2 (ja) | 帯電防止層 | |
EP0430110B1 (en) | Method for providing antistatic layer | |
JP2940561B2 (ja) | 帯電防止層 | |
JPH03233445A (ja) | 帯電防止層の塗設方法 | |
JPH0310243A (ja) | 帯電防止層 | |
JPH0367249A (ja) | 帯電防止層 | |
JPH02266934A (ja) | 帯電防止層 | |
EP0432654B1 (en) | Antistatic layer | |
JPH02291552A (ja) | 帯電防止層 | |
JP2838552B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH037934A (ja) | 帯電防止層 | |
JPH0481837A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH037935A (ja) | 感光材料 | |
JPH03168740A (ja) | 帯電防止層の塗設方法 | |
JPH02256051A (ja) | 帯電防止層を有するポリエステルベース | |
JPH03146946A (ja) | 帯電防止層 | |
JPH036555A (ja) | 帯電防止層 | |
JPH049046A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH03256039A (ja) | 帯電防止層 | |
JPH02298941A (ja) | 帯電防止層 | |
JPH02298940A (ja) | 帯電防止層 |