JPH03206444A - 帯電防止層 - Google Patents

帯電防止層

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JPH03206444A
JPH03206444A JP178990A JP178990A JPH03206444A JP H03206444 A JPH03206444 A JP H03206444A JP 178990 A JP178990 A JP 178990A JP 178990 A JP178990 A JP 178990A JP H03206444 A JPH03206444 A JP H03206444A
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denotes
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antistatic layer
layer
polymer
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JP178990A
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Noriki Tachibana
範幾 立花
Yoichi Saito
洋一 斎藤
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Konica Minolta Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、プラスチックフィルム用の帯電防止層に関し
、特に帯電防止能の優れたハロゲン化銀写真感光材料に
関する。
〔発明の背景〕
一般にプラスチイツクフィルムは帯電性が強く、これが
使用上多くの制約を与えている例は多い。
例えばハロゲン化銀写真感光材料においてはポリエチレ
ンテレ7タレートのような支持体が一般に使用されるが
、特に冬季の如き低湿度において帯電し易い。最近のよ
うに高感度写真乳剤を高速度で塗布したり、高感度の感
光材料を自動プリンターを通して露光処理をする場合、
特に帯電防止対策が重要である。
感光材料が帯電すると、その放電によりスタチックマー
クがでたり、またはゴミ等の異物を付着し、これにより
ピンホールを発生させたりして著しく品質を劣化し、そ
の修正のため非常に作業性をおとしてしまう。このため
、一般に感光材料では帯電防止剤が使用され、最近では
、含フッ素界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面
活性剤、ポリエチレンオキサイド基を含有する界面活性
剤ないし高分子化合物、スルホン酸又はリン酸基を分子
内に有するポリマー等が用いられている。
特にフッ素系界面活性剤による帯電列調整、あるいは導
電性ポリマーによる導電性向上が多く使用されてきてお
り、例えば特開昭49−91165号および同49−1
21523号にはポリマー主鎖中に解離基を有するイオ
ン型ポリマーを適用する例が開示されている。
しかしながら、これらの従来技術では、現像処理により
、帯電防止能が大幅に劣化してしまう。
これはアルカリを用いる現像工程、酸性の定着工程、水
洗等の工程を経ることにより帯電防止能が失われるもの
と思われる。し!二がって印刷感光材料等のように、処
理済み7イルムをさらに用いてプリントするような場合
に、ゴミの付着によるピンホール発生等の問題を生ずる
。このため例えば特開昭55−84658号、同61−
174542号ではカルボキシル基を有する水溶性導電
性ポリマー カルボキシル基を有する疎水性ポリマー及
び多官能アジリジンからなる帯電防止層が提案されてい
る。この方法によれば処理後にも帯電防止能を残すこと
ができるが、疎水性ポリマー粒子の分散安定佳が悪く、
膜中で凝集を起こし、帯電防止層の透明性を損なうとい
う欠点を有していた。
〔発明の目的〕
上記のような問題に対し、本発明の目的は、透明性の優
れたヘーズの無いグラスチックフイルム用の帯電防止層
を提供することであり、別の目的としては、帯電防止に
優れたハロゲン化銀写真感光材料を提供することである
〔発明の構戒〕
本発明の上記目的は、水溶性導電性ポリマー及びエポキ
シ系硬化剤の反応生戊物からなる帯電防止層を有するプ
ラスチックフィルムにおいて、該水溶性ポリマーが下記
一般式CI〕で表される化合物であることを特徴とする
プラスチックフィルム用帯電防止層により達戊される。
一般式(1) ? −{−CI.−C+■八九 (L大 (Q), X 式中、Rは炭素数l〜4のアルキル基、水素原ばれる少
なくとも1つの基を有し、炭素数1〜6の2価基、Qは
炭素数1−12のアルキレン基、アルケニレン基、アリ
ーレン基を表し、aは0またはl,bはOまたはlを表
す。Xは−So,M,−OSO.M,を表し、旧よ水素
原子、カチオン、Aは共重合可能なエチレン性不飽和七
ノマーを表す。Xは1〜100モル%,yは99〜Oモ
ル%ヲ表ス。
以下、本発明の詳細について説明する。
本発明の水溶性導電性ポリマーの導電性基Xはポリマー
1分子当たり1モル%以上を必要とする。
水溶性の導電性ポリマー中には、ヒドロキシ基、アミノ
基、エポキシ基、アジリジン基、活性メチレン基、.ス
ル7イン酸基、アルデヒド基、ビニルスルホン基を含ん
でいてもよい。Aは共重合可能なエチレン性不飽和モノ
マーを表すが1種以上であってもよい。
導電性基Xを有する七ノマーの具体例を以下に挙げる。
■. CH2=CH I SO.H 2 . CH2=CH So . Na 3 CH,=CH 誓 COOC!H.SO,Na 4 CH. CH.=C COOC 3H a So s Na 5 CH, 6 (IH, 9 10. ポリマーの分子量は、3000〜ioooooであり、
好ましくは3500〜50000である。
以下、本発明に用いられる水溶性導電性ポリマーの化合
物例を挙げるがこれに限定されるものではない。
p−1 P 一 4 P ー 5 しH, P − 6 じH3 P−7 CH. P 8 P−9 P−10 じH, P−11 P−12 P l3 P−14 P −15 しH3 Mn弓コυυυ P 16 P −17 Mn#lO000 尚、上記P−1−P−17において、X,!,2はそれ
ぞれ単量体或分のモル%を、又Mflli平均分子量(
本明細書中、平均分子量とは数平均分子量を示す。)を
表す。
次に本発明の水溶性導電性ポリマー層中は、疎水性ポリ
マー粒子を含有させてもよい。この疎水性ポリマー粒子
は、実質的に水に溶解しない、いわゆるラテックスで構
威されている。この疎水性ポリマーは、スチレン、スチ
レン誘導体、アルキルアクリレート、アルキルメタクリ
レート、オレフィン誘導体、ハロゲン化エチレン誘導体
、アクリルアミド誘導体、メタクリルアミド誘導体、ビ
ニルエステル誘導体、アクリロニトリル等の中から任意
の組み合わせで選ばれたモノマーを重合して得られる。
特にスチレン誘導体、アルキルアクリレート、アルキル
メタクリレートが少なくとも30モル%含有されている
のが好ましい。特に50モル%以上が好ましい。
疎水性ポリマーをラテックス状にするには乳化重合をす
る、固体状のポリマーを低沸点溶媒に溶かして微分散後
、溶媒を留去するという2つの方法があるが粒径が細か
く、しかもそろったものができるという点で乳化重合す
ることが好ましい。
疎水性ポリマーの分子量は3000以上であれば良く、
分子量による透明性の差はほとんどない。
本発明の疎水性ポリマーの具体例を挙げる。
L−1 L−2 L ー 4 L 5 CH, L 8 L 9 L−10 L−11 CH. L l2 L−13 CH. L−14 本発明では導電性層が透明支持体上に塗設される。透明
支持体は写真用のもの全てが使えるが好ましくは、可視
光を90%以上透過するように作られたポリエチレンテ
レフタレート又はセルローストリアセテートである。
これらの透明支持体は、当業者に良く知られた方法で作
威されるものであるが、場合によっては光透過を実質的
に阻害しないように染料を若干添加して青味付けしたり
しても良い。
本発明の支持体は、コロナ放電処理をした後ラテンクス
ポリマーを含有する下引層が塗設されていてもよい。コ
ロナ放電処理は、エネルギー値として1 mW− 1 
3[W/*2minが特に好ましく適用される。
又特に好ましくは、ラテックス下引層塗布後導電性層を
塗設する前にコロナ放電処理を再度行うと良い。また、
乾燥温度は60℃、好ましくは90℃以上である。
本発明の導電性層を硬化するエポキシ化合物としては、
ヒドロキシ基又はエーテル結合を含有するものが好まし
い。特にエポキシ当量が100〜300のものが好まし
い。
本発明のエポキシ化合物の具体例を挙げる。
ゝ0′ E−2 E 5 E−5 Io! E 7 E−3 E−9 E−10 77CH・一〇−(CH・0H・0)・0H・▼乾燥は
、平行流乾燥、垂直流乾燥等による乾燥、さらに赤外乾
燥、マイクロウエーブ乾燥等を併用してもよいが、生産
効率上、総括伝熱係数が20Kcal/1hr0c!以
上の条件で乾燥することが好ましい。
本発明の導電性層は感光性層より支持体側にあってもよ
いし、感光層に対し支持体の反対側、いわゆる背面にあ
ってもよい。
本発明は、支持体上に形或される感光材料全てに応用す
ることができる。例えばハロゲン化銀カラー感光材料、
レントゲン用感光材料、製版用感光材料等である。
本発明の感光材料に用いるハロゲン化銀乳剤には、ハロ
ゲン化銀として、臭化銀、塩化銀、沃臭化銀、塩臭化銀
、塩沃臭化銀等の通常のハロゲン化銀乳剤に使用される
任意のものを用いる事ができ、ハロゲン化銀粒子は、酸
性法、中性法及びアンモニア法のいずれで得られたもの
でもよい。
ハロゲン化銀粒子は、粒子内において均一なハロゲン化
銀組成分布を有するものでも、粒子の内部と表面層とで
ハロゲン化銀組戊が異なるコア/シェル粒子であっても
よく、潜像が主として表面に形戊されるような粒子であ
っても、又主として粒子内部に形威されるような粒子で
もよい。
本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は、例えば米国特
許第2.444.607号、同第2,716,062号
、同第3,512.982号、西独国出願公告第1.1
89.380号、同第2,058,626号、同第2.
118.411号、特公昭43一4l33号、米国特許
第3.342.596号、特公昭47−4417号、西
独国出願公告第2,149,789号、特公昭39−2
825号、特公昭49−13566号等の各明細書又は
公報に記載されている化合物、好ましくは、例えば5,
6−トリメチレン−7−ヒドロキシーS−トリアゾロ 
(1.5−a)ピリミジン、5.6−テトラメチレン−
7−ヒドロキシ−S一トリアゾロ (1.5−a).ピ
リミジン、5−メチル−7ヒドロキシーS一トリアゾロ
 (1.5−a)ビリミジン、5−メチル−7−ヒドロ
キシーS−}リアゾロ (1.5−a)ピリミジン、7
−ヒドロキシ−S一トリアゾロン(1.5−8)ピリミ
ジン、5−メチル−6−ブロ七〜7−ヒドロキシーS一
トリアゾロ(1.5−a)ビリミジン、没食子酸エステ
ル(例えば没食子酸イソアミル、没食子酸ドデシル、没
食子酸プロビル、没食子酸ナトリウム)、メルカブタン
類(l−7エニルー5−メルヵブトテトラゾール、2−
メルカプトベンツチアゾール)、ペンゾトリアゾール類
(5−プロムベンットリアゾール、5−メチルベンット
リアゾール)、ベンツィミダゾール類(6−ニトロペン
ツィミダゾール)等を用いて安定化することができる。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料及び/又は現像
液中には、アミノ化合物を含有することができる。
又現像性を高めるために、フェニドンやハイドロキノン
のような現像主薬、ペンゾトリアゾールのような抑制剤
を乳剤側に含有せしめることができる。或いは処理液の
処理能カを上げるために、パッキング層に現像主薬や抑
制剤を含有せしめることができる。
本発明に特に有利に用いられる親水性コロイドはゼラチ
ンである。
本発明に用いられるゼラチンは、アルカリ処理、酸処理
いずれも用いることが出来る。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料の現像に用いら
れる現像主薬としてはT.H.ジェームス著ザ・セ才リ
イ・オブ・ザ・ホトグラフィック・プロセス第4版(T
he Theory of The Photogra
phicProcess Fourth Editio
n)第291− 334頁及びジャーナル・オブ・ジ・
アメリカン・ケミカル・ソサエ テ 4  (Jour
nal  or  the  lserican  C
hemical  Society)第73巻、第3,
100頁( 1951)に記載されているごとき現像剤
が本発明に有効に使用し得るものである。これらの現像
剤は単独で使用しても2種以上組み合わせてもよいが、
2種以上を組み合わせて用いる方が好ましい。又本発明
にかかる感光材料の現像に使用する現像液には保恒剤と
して、例えば亜硫酸ソーダ、亜硫酸カリ、等の亜硫酸塩
を用いても、本発明の効果が損なわれることはない。
また保恒剤として、ヒドロキシルアミン、ヒドラジド化
合物を用いることができ、この場合その使用量は現像液
lQ当たり5〜500gが好ましく、より好ましくは2
0〜200gである。
又現像液には有機溶媒としてグリコール類を含有させて
もよく、そのようなグリコール類としてはエチレングリ
コーノレ、ジエチレングリ’s − )レ、グロピレン
グリコール、トリエチレングリコール、1.4−ブタン
ジオーノレ、1.5−ペンタンジオール等があるが、ジ
エチレングリコールが好ましく用いられる。そしてこれ
らグリコール類の好ましい使用量は現像液IQ当t;り
5〜500gで、より好ましくは20〜200gである
。これらの有機溶媒は単独でも併用しても用いることが
できる。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料は、上記のごと
き現像抑制剤を含んだ現像液を用いて現像処理すること
により極めて保存安定性に優れた感光材料を得ることが
できる。
上記の組戊になる現像液のpH値は好ましくは9〜l3
であるが、保恒性及び写真特性上からpH値はlO〜l
2の範囲が更に好ましい。現像液中の陽イオンについて
は、ナトリウムよりカリウムイオンの比率が高い程現像
液の活性度を高めることができるので好ましい。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料は、種々の条件
で処理することができる。処理温度は、例えば現像温度
は50゜C以下が好ましく、特に25・C〜40゜C前
後が好ましく、又現像時間は2分以内に終了することが
一般的であるが、特に好ましくはlO秒〜50秒が好効
果をもたらすことが多い。又現像以外の処理工程、例え
ば水洗、停止、安定、定着、更に必要に応じて前硬膜、
中和等の工程を採用することは任意であり、これらは適
宜省略することもできる。更に又、これらの処理は皿現
像、枠現像などいわゆる手現像処理でも、ローラー現像
、ハンガー現像など機械現像であってもよい。
〔実施例〕
以下実施例によって本発明を具体的に説明する。
尚、当然のことではあるが、本発明は以下述べる実施例
に限定されるものではない。
実施例l コロナ放電した後、下引き処理したポリエチレンテレフ
タレートに再びコロナ放電した後、下記構戊の帯電防止
液を、IQ/1になる様に50m/winの速さでロー
ルフィットコーティングバン及び工アーナインを使用し
て塗布した。
本発明の水溶性導電性ポリマー(P)・6 g/(2ラ
テックス         ( L )  4 gIQ
硬化剤(H)           表1に示すポリエ
チレングリコール       0.6g/Q乾燥風温
90℃、総括伝熱係数25Kg/a”hr’oの垂直流
乾燥条件で、30秒間乾燥しさらにその後、140℃、
90秒間熱処理した。この帯電防止層の上にゼラチンを
2.0g/m”になる様に塗布し接着力試験を行った。
ゼラチンの硬膜剤としては、ホルマリン、2.4−ジク
ロロー6−ヒドロキシーS−トリアジンナトリウムH−
2を用いた。
その結果を表−1に示した。
硬化剤H−2 α)CM冨CH, 表1 (a)特開昭55−84658記載 実施例2 pH 3.0の酸性雰囲気下でコントロールダブルジェ
ット法によりロジウムを銀1モル当たり10−’モル含
有する粒子を作成した。粒子の戒長は、ペンジルアデニ
ンを1%のゼラチン水溶液Iff当たり30mg含有す
る系で行った。銀とハライドの混合後6ーメチル−4−
ヒドロキシ−1.3.3a,7テトラザインデンをハロ
ゲン化銀1モル当たり600mg加え、その後水洗、脱
塩した。
次いで、ハロゲン化銀1モル当たり60+sgの6−メ
チル−4−ヒドロキシ−1.3,3a.7−テトラザイ
ンデンを加えた後、イオウ増感をした。イオウ増感後安
定剤として6−メチル−4−ヒドロキシ−1.3,3a
.7−テトラザインデンを加えた。
(ハロゲン化銀乳剤層) 前記各乳剤に添加剤を下記の付量に−なるよう調整添加
し、ポリ(プチルアクリレートースチレンーグリシルメ
タクリレート)ラテックス下引処理した (100μm
厚さ)ポリエチレンテレフタレート支持体上に塗布した
ラテックスポリマー:スチレンーブチルアクリレートー
アクリルI!13元共重合ポリマー         
1.0 g/va”テトラ7エニルホスホニウムクロラ
イド30  mg/m” サポニン           200  tsg/m
”ポリエチレングリコーノ’     100  mg
/++”ハイドロキノン 7エニドン スチレンスノレホン酸ナト 重合体(My−25万) 没食子酸ブチルエステル トラゾリウム化合物 トテシルベンゼンスルホン酸ナ トリウム 100  ■g/■2 200  wIg7m” 100  mg/m” リウムーマレイン酸 200  tag’m” 500  tag/tm” 30  mg/s” 5−メチルベンゾトリアゾール   30  mg/a
”2−メルカプトベンツイミダゾールー5−スルホン酸
                30  誼g/+”
イナートオセインゼラチン (等電点4.9)1.5 
 gets” 1− (p−アセチルアミド7エニル)−5メルカプト
テトラゾール         30  mg/m”銀
量             2.8 g/m”(乳剤
層保護膜) 乳剤層保護膜として、下記の付量になるよう調製塗布し
た。
弗素化ジオクチルスルホコハク酸エステル300mg/
s” マット剤:ポリメタクリル酸メチル(平均粒径3.5/
J +s)            100  B/1
硝酸リチウム塩         30  鴨g/+a
”酸処理ゼラチン(等電点7.0)    1.2 g
/s”コロイダルシリ力        50  mg
/1スチレンスルホン酸ナトリウムーマレイン酸共重合
体           IO0 11g/m”媒染剤
             30mg/m”染料 30論g/*” (パッキング層) 乳剤層とは反対側の支持体に、あらかじめ30W/1a
+inのパワーでコロナ放電しt;後、ポリ(グリシジ
ルメタクリレートースチレン−t−プチルアクリレート
ーグリシジルエーテル)ラテックスポリマーをヘキサメ
チレンアジりジン硬膜剤の存在下で塗布し更に本発明の
帯電防止層を実施例lと同様に塗設し、ついでこの層上
に下記!1gのパッキング染料を含有するパッキング層
を塗布した。ゼラチン層はグリオキザール、ホルマリン
及びE−5で硬暎した。
(パッキング層) ハイドロキノン         100  口g/鵬
27エニドン           30  ■g/m
”ラテックスポリマー:プチルアクリレートスチレン共
重合体       0.3g/m”スチレンーマレイ
ンrll 共! e 体100  +lg/ +1”ク
エン酸            40  mg/ m”
べ冫ゾトリアゾーノレ      100  mg/t
a”スチレンスノレホン酸ンーダーマレイン酸共重合体
           200  sg/s”硝酸リチ
ウム塩         30  ■g/−8パッキン
グ染料(a ). (b ). (c )オセインゼラ
チン        2.0  g/a”(a) CH,SO.H SO.K So,K (c) S0 3 Na 以上のようにして得・られた試料を全面露光し下記に示
す現像液、定着液を使用して現像処理した後表面比抵抗
を測定した。
く現像液処方〉 ハイドロキノン         25  gl−7エ
ニルー4.4ジメチル−3− ビラゾリドン          0.4g臭化ナトリ
ウム         3g5−メチルベンゾトリアゾ
ール   0.3・g5−ニトロインダゾール    
  0.05gジエチルアミノプロパン−1.2−ジオ
ール10  g 亜硫酸カリウム        90  g5−スルホ
サリチル酸ナトリウム 75  gエチレンジアミン四
酢酸ナトリウム 2g 水でIQに仕上げた。
pHは、苛性ソーダでl1.5と く定着液処方〉 (組或A) チオ硫酸アンモニウム(72.5v% し tこ 。
亜硫酸ナトリウム 酢酸ナトリウム・3水塩 硼酸 クエン酸ナトリウム・2水塩 酢酸(90w%水溶液) 水溶液) 240  tmQ 17  g 6.5g 6g 2g 13.6ml2 (組成B) 純水(イオン交換水)       17  IaQ硫
酸(50w%の水溶液)      3.0g硫酸アル
ミニウム(AQ.o,換算含量が8.1v%の水溶液)
20g 定着液の使用時に水50〇一中に上記組或A1組成Bの
順に溶かし、lQに仕上げて用いた。この定着液のpH
は約5.6であった。
〈現像処理条件〉 (工程)   (温度)    (時間)現像    
40゜C8秒 定着     35゜C8秒 水洗    常温     lO秒 評価は以下のようにして行い、結果を表2に示しtこ。
表面比抵抗の測定 川口電気腎製テラオームメーターモデルWE−30表中
ポリマー及びラテックスの添加量はg/1で表す。
表2の結果から、本発明の試料は現像処理後の帯電防止
性能の劣化が少なくヘーズにも優れ、比較に比べ著しく
改善されていることが分かる。
また、乳剤層中のテトラゾリウム化合物を下記ヒドラジ
ン化合物に代えても同様な効果があった。
ヒドラジン化合物 〔発明の効果〕 本発明により、現像等の処理後も帯電防止性能が劣化せ
ず、しかもヘーズに優れたl\ロゲン化銀写真感光材料
を提供することができた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 水溶性導電性ポリマー及びエポキシ系硬化剤の反応生成
    物からなる帯電防止層を有するプラスチックフィルムに
    おいて、該水溶性ポリマーが下記一般式〔 I 〕で表さ
    れる化合物であることを特徴とするプラスチックフィル
    ム用帯電防止層。 一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Rは炭素数1〜4のアルキル基、水素原子を表
    す。Lは、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式
    、化学式、表等があります▼、−O−なる結合基から選
    ばれる少なくとも1つの基を有し、炭素数1〜6の2価
    基、Qは炭素数1〜12のアルキレン基、アルケニレン
    基、アリーレン基を表し、aは0または1、bは0また
    は1を表す。xは−SO_3M、−OSO_3M、を表
    し、Mは水素原子、カチオン、Aは共重合可能なエチレ
    ン性不飽和モノマーを表す。xは1〜100モル%、y
    は99〜0モル%を表す。〕
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JP (1) JPH03206444A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5238706A (en) * 1992-06-26 1993-08-24 Minnesota Mining And Manufacturing Company Antistatic film bases and their process of manufacturing

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US5238706A (en) * 1992-06-26 1993-08-24 Minnesota Mining And Manufacturing Company Antistatic film bases and their process of manufacturing

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