JPH03206444A - 帯電防止層 - Google Patents
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- FZHLWVUAICIIPW-UHFFFAOYSA-M sodium gallate Chemical compound [Na+].OC1=CC(C([O-])=O)=CC(O)=C1O FZHLWVUAICIIPW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
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- UEUXEKPTXMALOB-UHFFFAOYSA-J tetrasodium;2-[2-[bis(carboxylatomethyl)amino]ethyl-(carboxylatomethyl)amino]acetate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC([O-])=O)CC([O-])=O UEUXEKPTXMALOB-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、プラスチックフィルム用の帯電防止層に関し
、特に帯電防止能の優れたハロゲン化銀写真感光材料に
関する。
、特に帯電防止能の優れたハロゲン化銀写真感光材料に
関する。
一般にプラスチイツクフィルムは帯電性が強く、これが
使用上多くの制約を与えている例は多い。
使用上多くの制約を与えている例は多い。
例えばハロゲン化銀写真感光材料においてはポリエチレ
ンテレ7タレートのような支持体が一般に使用されるが
、特に冬季の如き低湿度において帯電し易い。最近のよ
うに高感度写真乳剤を高速度で塗布したり、高感度の感
光材料を自動プリンターを通して露光処理をする場合、
特に帯電防止対策が重要である。
ンテレ7タレートのような支持体が一般に使用されるが
、特に冬季の如き低湿度において帯電し易い。最近のよ
うに高感度写真乳剤を高速度で塗布したり、高感度の感
光材料を自動プリンターを通して露光処理をする場合、
特に帯電防止対策が重要である。
感光材料が帯電すると、その放電によりスタチックマー
クがでたり、またはゴミ等の異物を付着し、これにより
ピンホールを発生させたりして著しく品質を劣化し、そ
の修正のため非常に作業性をおとしてしまう。このため
、一般に感光材料では帯電防止剤が使用され、最近では
、含フッ素界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面
活性剤、ポリエチレンオキサイド基を含有する界面活性
剤ないし高分子化合物、スルホン酸又はリン酸基を分子
内に有するポリマー等が用いられている。
クがでたり、またはゴミ等の異物を付着し、これにより
ピンホールを発生させたりして著しく品質を劣化し、そ
の修正のため非常に作業性をおとしてしまう。このため
、一般に感光材料では帯電防止剤が使用され、最近では
、含フッ素界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面
活性剤、ポリエチレンオキサイド基を含有する界面活性
剤ないし高分子化合物、スルホン酸又はリン酸基を分子
内に有するポリマー等が用いられている。
特にフッ素系界面活性剤による帯電列調整、あるいは導
電性ポリマーによる導電性向上が多く使用されてきてお
り、例えば特開昭49−91165号および同49−1
21523号にはポリマー主鎖中に解離基を有するイオ
ン型ポリマーを適用する例が開示されている。
電性ポリマーによる導電性向上が多く使用されてきてお
り、例えば特開昭49−91165号および同49−1
21523号にはポリマー主鎖中に解離基を有するイオ
ン型ポリマーを適用する例が開示されている。
しかしながら、これらの従来技術では、現像処理により
、帯電防止能が大幅に劣化してしまう。
、帯電防止能が大幅に劣化してしまう。
これはアルカリを用いる現像工程、酸性の定着工程、水
洗等の工程を経ることにより帯電防止能が失われるもの
と思われる。し!二がって印刷感光材料等のように、処
理済み7イルムをさらに用いてプリントするような場合
に、ゴミの付着によるピンホール発生等の問題を生ずる
。このため例えば特開昭55−84658号、同61−
174542号ではカルボキシル基を有する水溶性導電
性ポリマー カルボキシル基を有する疎水性ポリマー及
び多官能アジリジンからなる帯電防止層が提案されてい
る。この方法によれば処理後にも帯電防止能を残すこと
ができるが、疎水性ポリマー粒子の分散安定佳が悪く、
膜中で凝集を起こし、帯電防止層の透明性を損なうとい
う欠点を有していた。
洗等の工程を経ることにより帯電防止能が失われるもの
と思われる。し!二がって印刷感光材料等のように、処
理済み7イルムをさらに用いてプリントするような場合
に、ゴミの付着によるピンホール発生等の問題を生ずる
。このため例えば特開昭55−84658号、同61−
174542号ではカルボキシル基を有する水溶性導電
性ポリマー カルボキシル基を有する疎水性ポリマー及
び多官能アジリジンからなる帯電防止層が提案されてい
る。この方法によれば処理後にも帯電防止能を残すこと
ができるが、疎水性ポリマー粒子の分散安定佳が悪く、
膜中で凝集を起こし、帯電防止層の透明性を損なうとい
う欠点を有していた。
上記のような問題に対し、本発明の目的は、透明性の優
れたヘーズの無いグラスチックフイルム用の帯電防止層
を提供することであり、別の目的としては、帯電防止に
優れたハロゲン化銀写真感光材料を提供することである
。
れたヘーズの無いグラスチックフイルム用の帯電防止層
を提供することであり、別の目的としては、帯電防止に
優れたハロゲン化銀写真感光材料を提供することである
。
本発明の上記目的は、水溶性導電性ポリマー及びエポキ
シ系硬化剤の反応生戊物からなる帯電防止層を有するプ
ラスチックフィルムにおいて、該水溶性ポリマーが下記
一般式CI〕で表される化合物であることを特徴とする
プラスチックフィルム用帯電防止層により達戊される。
シ系硬化剤の反応生戊物からなる帯電防止層を有するプ
ラスチックフィルムにおいて、該水溶性ポリマーが下記
一般式CI〕で表される化合物であることを特徴とする
プラスチックフィルム用帯電防止層により達戊される。
一般式(1)
?
−{−CI.−C+■八九
(L大
(Q),
X
式中、Rは炭素数l〜4のアルキル基、水素原ばれる少
なくとも1つの基を有し、炭素数1〜6の2価基、Qは
炭素数1−12のアルキレン基、アルケニレン基、アリ
ーレン基を表し、aは0またはl,bはOまたはlを表
す。Xは−So,M,−OSO.M,を表し、旧よ水素
原子、カチオン、Aは共重合可能なエチレン性不飽和七
ノマーを表す。Xは1〜100モル%,yは99〜Oモ
ル%ヲ表ス。
なくとも1つの基を有し、炭素数1〜6の2価基、Qは
炭素数1−12のアルキレン基、アルケニレン基、アリ
ーレン基を表し、aは0またはl,bはOまたはlを表
す。Xは−So,M,−OSO.M,を表し、旧よ水素
原子、カチオン、Aは共重合可能なエチレン性不飽和七
ノマーを表す。Xは1〜100モル%,yは99〜Oモ
ル%ヲ表ス。
以下、本発明の詳細について説明する。
本発明の水溶性導電性ポリマーの導電性基Xはポリマー
1分子当たり1モル%以上を必要とする。
1分子当たり1モル%以上を必要とする。
水溶性の導電性ポリマー中には、ヒドロキシ基、アミノ
基、エポキシ基、アジリジン基、活性メチレン基、.ス
ル7イン酸基、アルデヒド基、ビニルスルホン基を含ん
でいてもよい。Aは共重合可能なエチレン性不飽和モノ
マーを表すが1種以上であってもよい。
基、エポキシ基、アジリジン基、活性メチレン基、.ス
ル7イン酸基、アルデヒド基、ビニルスルホン基を含ん
でいてもよい。Aは共重合可能なエチレン性不飽和モノ
マーを表すが1種以上であってもよい。
導電性基Xを有する七ノマーの具体例を以下に挙げる。
■.
CH2=CH
I
SO.H
2 .
CH2=CH
So . Na
3
CH,=CH
誓
COOC!H.SO,Na
4
CH.
CH.=C
COOC 3H a So s Na
5
CH,
6
(IH,
9
10.
ポリマーの分子量は、3000〜ioooooであり、
好ましくは3500〜50000である。
好ましくは3500〜50000である。
以下、本発明に用いられる水溶性導電性ポリマーの化合
物例を挙げるがこれに限定されるものではない。
物例を挙げるがこれに限定されるものではない。
p−1
P 一
4
P ー
5
しH,
P −
6
じH3
P−7
CH.
P
8
P−9
P−10
じH,
P−11
P−12
P
l3
P−14
P −15
しH3
Mn弓コυυυ
P
16
P −17
Mn#lO000
尚、上記P−1−P−17において、X,!,2はそれ
ぞれ単量体或分のモル%を、又Mflli平均分子量(
本明細書中、平均分子量とは数平均分子量を示す。)を
表す。
ぞれ単量体或分のモル%を、又Mflli平均分子量(
本明細書中、平均分子量とは数平均分子量を示す。)を
表す。
次に本発明の水溶性導電性ポリマー層中は、疎水性ポリ
マー粒子を含有させてもよい。この疎水性ポリマー粒子
は、実質的に水に溶解しない、いわゆるラテックスで構
威されている。この疎水性ポリマーは、スチレン、スチ
レン誘導体、アルキルアクリレート、アルキルメタクリ
レート、オレフィン誘導体、ハロゲン化エチレン誘導体
、アクリルアミド誘導体、メタクリルアミド誘導体、ビ
ニルエステル誘導体、アクリロニトリル等の中から任意
の組み合わせで選ばれたモノマーを重合して得られる。
マー粒子を含有させてもよい。この疎水性ポリマー粒子
は、実質的に水に溶解しない、いわゆるラテックスで構
威されている。この疎水性ポリマーは、スチレン、スチ
レン誘導体、アルキルアクリレート、アルキルメタクリ
レート、オレフィン誘導体、ハロゲン化エチレン誘導体
、アクリルアミド誘導体、メタクリルアミド誘導体、ビ
ニルエステル誘導体、アクリロニトリル等の中から任意
の組み合わせで選ばれたモノマーを重合して得られる。
特にスチレン誘導体、アルキルアクリレート、アルキル
メタクリレートが少なくとも30モル%含有されている
のが好ましい。特に50モル%以上が好ましい。
メタクリレートが少なくとも30モル%含有されている
のが好ましい。特に50モル%以上が好ましい。
疎水性ポリマーをラテックス状にするには乳化重合をす
る、固体状のポリマーを低沸点溶媒に溶かして微分散後
、溶媒を留去するという2つの方法があるが粒径が細か
く、しかもそろったものができるという点で乳化重合す
ることが好ましい。
る、固体状のポリマーを低沸点溶媒に溶かして微分散後
、溶媒を留去するという2つの方法があるが粒径が細か
く、しかもそろったものができるという点で乳化重合す
ることが好ましい。
疎水性ポリマーの分子量は3000以上であれば良く、
分子量による透明性の差はほとんどない。
分子量による透明性の差はほとんどない。
本発明の疎水性ポリマーの具体例を挙げる。
L−1
L−2
L ー
4
L
5
CH,
L
8
L
9
L−10
L−11
CH.
L
l2
L−13
CH.
L−14
本発明では導電性層が透明支持体上に塗設される。透明
支持体は写真用のもの全てが使えるが好ましくは、可視
光を90%以上透過するように作られたポリエチレンテ
レフタレート又はセルローストリアセテートである。
支持体は写真用のもの全てが使えるが好ましくは、可視
光を90%以上透過するように作られたポリエチレンテ
レフタレート又はセルローストリアセテートである。
これらの透明支持体は、当業者に良く知られた方法で作
威されるものであるが、場合によっては光透過を実質的
に阻害しないように染料を若干添加して青味付けしたり
しても良い。
威されるものであるが、場合によっては光透過を実質的
に阻害しないように染料を若干添加して青味付けしたり
しても良い。
本発明の支持体は、コロナ放電処理をした後ラテンクス
ポリマーを含有する下引層が塗設されていてもよい。コ
ロナ放電処理は、エネルギー値として1 mW− 1
3[W/*2minが特に好ましく適用される。
ポリマーを含有する下引層が塗設されていてもよい。コ
ロナ放電処理は、エネルギー値として1 mW− 1
3[W/*2minが特に好ましく適用される。
又特に好ましくは、ラテックス下引層塗布後導電性層を
塗設する前にコロナ放電処理を再度行うと良い。また、
乾燥温度は60℃、好ましくは90℃以上である。
塗設する前にコロナ放電処理を再度行うと良い。また、
乾燥温度は60℃、好ましくは90℃以上である。
本発明の導電性層を硬化するエポキシ化合物としては、
ヒドロキシ基又はエーテル結合を含有するものが好まし
い。特にエポキシ当量が100〜300のものが好まし
い。
ヒドロキシ基又はエーテル結合を含有するものが好まし
い。特にエポキシ当量が100〜300のものが好まし
い。
本発明のエポキシ化合物の具体例を挙げる。
ゝ0′
E−2
E
5
E−5
Io!
E
7
E−3
E−9
E−10
77CH・一〇−(CH・0H・0)・0H・▼乾燥は
、平行流乾燥、垂直流乾燥等による乾燥、さらに赤外乾
燥、マイクロウエーブ乾燥等を併用してもよいが、生産
効率上、総括伝熱係数が20Kcal/1hr0c!以
上の条件で乾燥することが好ましい。
、平行流乾燥、垂直流乾燥等による乾燥、さらに赤外乾
燥、マイクロウエーブ乾燥等を併用してもよいが、生産
効率上、総括伝熱係数が20Kcal/1hr0c!以
上の条件で乾燥することが好ましい。
本発明の導電性層は感光性層より支持体側にあってもよ
いし、感光層に対し支持体の反対側、いわゆる背面にあ
ってもよい。
いし、感光層に対し支持体の反対側、いわゆる背面にあ
ってもよい。
本発明は、支持体上に形或される感光材料全てに応用す
ることができる。例えばハロゲン化銀カラー感光材料、
レントゲン用感光材料、製版用感光材料等である。
ることができる。例えばハロゲン化銀カラー感光材料、
レントゲン用感光材料、製版用感光材料等である。
本発明の感光材料に用いるハロゲン化銀乳剤には、ハロ
ゲン化銀として、臭化銀、塩化銀、沃臭化銀、塩臭化銀
、塩沃臭化銀等の通常のハロゲン化銀乳剤に使用される
任意のものを用いる事ができ、ハロゲン化銀粒子は、酸
性法、中性法及びアンモニア法のいずれで得られたもの
でもよい。
ゲン化銀として、臭化銀、塩化銀、沃臭化銀、塩臭化銀
、塩沃臭化銀等の通常のハロゲン化銀乳剤に使用される
任意のものを用いる事ができ、ハロゲン化銀粒子は、酸
性法、中性法及びアンモニア法のいずれで得られたもの
でもよい。
ハロゲン化銀粒子は、粒子内において均一なハロゲン化
銀組成分布を有するものでも、粒子の内部と表面層とで
ハロゲン化銀組戊が異なるコア/シェル粒子であっても
よく、潜像が主として表面に形戊されるような粒子であ
っても、又主として粒子内部に形威されるような粒子で
もよい。
銀組成分布を有するものでも、粒子の内部と表面層とで
ハロゲン化銀組戊が異なるコア/シェル粒子であっても
よく、潜像が主として表面に形戊されるような粒子であ
っても、又主として粒子内部に形威されるような粒子で
もよい。
本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は、例えば米国特
許第2.444.607号、同第2,716,062号
、同第3,512.982号、西独国出願公告第1.1
89.380号、同第2,058,626号、同第2.
118.411号、特公昭43一4l33号、米国特許
第3.342.596号、特公昭47−4417号、西
独国出願公告第2,149,789号、特公昭39−2
825号、特公昭49−13566号等の各明細書又は
公報に記載されている化合物、好ましくは、例えば5,
6−トリメチレン−7−ヒドロキシーS−トリアゾロ
(1.5−a)ピリミジン、5.6−テトラメチレン−
7−ヒドロキシ−S一トリアゾロ (1.5−a).ピ
リミジン、5−メチル−7ヒドロキシーS一トリアゾロ
(1.5−a)ビリミジン、5−メチル−7−ヒドロ
キシーS−}リアゾロ (1.5−a)ピリミジン、7
−ヒドロキシ−S一トリアゾロン(1.5−8)ピリミ
ジン、5−メチル−6−ブロ七〜7−ヒドロキシーS一
トリアゾロ(1.5−a)ビリミジン、没食子酸エステ
ル(例えば没食子酸イソアミル、没食子酸ドデシル、没
食子酸プロビル、没食子酸ナトリウム)、メルカブタン
類(l−7エニルー5−メルヵブトテトラゾール、2−
メルカプトベンツチアゾール)、ペンゾトリアゾール類
(5−プロムベンットリアゾール、5−メチルベンット
リアゾール)、ベンツィミダゾール類(6−ニトロペン
ツィミダゾール)等を用いて安定化することができる。
許第2.444.607号、同第2,716,062号
、同第3,512.982号、西独国出願公告第1.1
89.380号、同第2,058,626号、同第2.
118.411号、特公昭43一4l33号、米国特許
第3.342.596号、特公昭47−4417号、西
独国出願公告第2,149,789号、特公昭39−2
825号、特公昭49−13566号等の各明細書又は
公報に記載されている化合物、好ましくは、例えば5,
6−トリメチレン−7−ヒドロキシーS−トリアゾロ
(1.5−a)ピリミジン、5.6−テトラメチレン−
7−ヒドロキシ−S一トリアゾロ (1.5−a).ピ
リミジン、5−メチル−7ヒドロキシーS一トリアゾロ
(1.5−a)ビリミジン、5−メチル−7−ヒドロ
キシーS−}リアゾロ (1.5−a)ピリミジン、7
−ヒドロキシ−S一トリアゾロン(1.5−8)ピリミ
ジン、5−メチル−6−ブロ七〜7−ヒドロキシーS一
トリアゾロ(1.5−a)ビリミジン、没食子酸エステ
ル(例えば没食子酸イソアミル、没食子酸ドデシル、没
食子酸プロビル、没食子酸ナトリウム)、メルカブタン
類(l−7エニルー5−メルヵブトテトラゾール、2−
メルカプトベンツチアゾール)、ペンゾトリアゾール類
(5−プロムベンットリアゾール、5−メチルベンット
リアゾール)、ベンツィミダゾール類(6−ニトロペン
ツィミダゾール)等を用いて安定化することができる。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料及び/又は現像
液中には、アミノ化合物を含有することができる。
液中には、アミノ化合物を含有することができる。
又現像性を高めるために、フェニドンやハイドロキノン
のような現像主薬、ペンゾトリアゾールのような抑制剤
を乳剤側に含有せしめることができる。或いは処理液の
処理能カを上げるために、パッキング層に現像主薬や抑
制剤を含有せしめることができる。
のような現像主薬、ペンゾトリアゾールのような抑制剤
を乳剤側に含有せしめることができる。或いは処理液の
処理能カを上げるために、パッキング層に現像主薬や抑
制剤を含有せしめることができる。
本発明に特に有利に用いられる親水性コロイドはゼラチ
ンである。
ンである。
本発明に用いられるゼラチンは、アルカリ処理、酸処理
いずれも用いることが出来る。
いずれも用いることが出来る。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料の現像に用いら
れる現像主薬としてはT.H.ジェームス著ザ・セ才リ
イ・オブ・ザ・ホトグラフィック・プロセス第4版(T
he Theory of The Photogra
phicProcess Fourth Editio
n)第291− 334頁及びジャーナル・オブ・ジ・
アメリカン・ケミカル・ソサエ テ 4 (Jour
nal or the lserican C
hemical Society)第73巻、第3,
100頁( 1951)に記載されているごとき現像剤
が本発明に有効に使用し得るものである。これらの現像
剤は単独で使用しても2種以上組み合わせてもよいが、
2種以上を組み合わせて用いる方が好ましい。又本発明
にかかる感光材料の現像に使用する現像液には保恒剤と
して、例えば亜硫酸ソーダ、亜硫酸カリ、等の亜硫酸塩
を用いても、本発明の効果が損なわれることはない。
れる現像主薬としてはT.H.ジェームス著ザ・セ才リ
イ・オブ・ザ・ホトグラフィック・プロセス第4版(T
he Theory of The Photogra
phicProcess Fourth Editio
n)第291− 334頁及びジャーナル・オブ・ジ・
アメリカン・ケミカル・ソサエ テ 4 (Jour
nal or the lserican C
hemical Society)第73巻、第3,
100頁( 1951)に記載されているごとき現像剤
が本発明に有効に使用し得るものである。これらの現像
剤は単独で使用しても2種以上組み合わせてもよいが、
2種以上を組み合わせて用いる方が好ましい。又本発明
にかかる感光材料の現像に使用する現像液には保恒剤と
して、例えば亜硫酸ソーダ、亜硫酸カリ、等の亜硫酸塩
を用いても、本発明の効果が損なわれることはない。
また保恒剤として、ヒドロキシルアミン、ヒドラジド化
合物を用いることができ、この場合その使用量は現像液
lQ当たり5〜500gが好ましく、より好ましくは2
0〜200gである。
合物を用いることができ、この場合その使用量は現像液
lQ当たり5〜500gが好ましく、より好ましくは2
0〜200gである。
又現像液には有機溶媒としてグリコール類を含有させて
もよく、そのようなグリコール類としてはエチレングリ
コーノレ、ジエチレングリ’s − )レ、グロピレン
グリコール、トリエチレングリコール、1.4−ブタン
ジオーノレ、1.5−ペンタンジオール等があるが、ジ
エチレングリコールが好ましく用いられる。そしてこれ
らグリコール類の好ましい使用量は現像液IQ当t;り
5〜500gで、より好ましくは20〜200gである
。これらの有機溶媒は単独でも併用しても用いることが
できる。
もよく、そのようなグリコール類としてはエチレングリ
コーノレ、ジエチレングリ’s − )レ、グロピレン
グリコール、トリエチレングリコール、1.4−ブタン
ジオーノレ、1.5−ペンタンジオール等があるが、ジ
エチレングリコールが好ましく用いられる。そしてこれ
らグリコール類の好ましい使用量は現像液IQ当t;り
5〜500gで、より好ましくは20〜200gである
。これらの有機溶媒は単独でも併用しても用いることが
できる。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料は、上記のごと
き現像抑制剤を含んだ現像液を用いて現像処理すること
により極めて保存安定性に優れた感光材料を得ることが
できる。
き現像抑制剤を含んだ現像液を用いて現像処理すること
により極めて保存安定性に優れた感光材料を得ることが
できる。
上記の組戊になる現像液のpH値は好ましくは9〜l3
であるが、保恒性及び写真特性上からpH値はlO〜l
2の範囲が更に好ましい。現像液中の陽イオンについて
は、ナトリウムよりカリウムイオンの比率が高い程現像
液の活性度を高めることができるので好ましい。
であるが、保恒性及び写真特性上からpH値はlO〜l
2の範囲が更に好ましい。現像液中の陽イオンについて
は、ナトリウムよりカリウムイオンの比率が高い程現像
液の活性度を高めることができるので好ましい。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料は、種々の条件
で処理することができる。処理温度は、例えば現像温度
は50゜C以下が好ましく、特に25・C〜40゜C前
後が好ましく、又現像時間は2分以内に終了することが
一般的であるが、特に好ましくはlO秒〜50秒が好効
果をもたらすことが多い。又現像以外の処理工程、例え
ば水洗、停止、安定、定着、更に必要に応じて前硬膜、
中和等の工程を採用することは任意であり、これらは適
宜省略することもできる。更に又、これらの処理は皿現
像、枠現像などいわゆる手現像処理でも、ローラー現像
、ハンガー現像など機械現像であってもよい。
で処理することができる。処理温度は、例えば現像温度
は50゜C以下が好ましく、特に25・C〜40゜C前
後が好ましく、又現像時間は2分以内に終了することが
一般的であるが、特に好ましくはlO秒〜50秒が好効
果をもたらすことが多い。又現像以外の処理工程、例え
ば水洗、停止、安定、定着、更に必要に応じて前硬膜、
中和等の工程を採用することは任意であり、これらは適
宜省略することもできる。更に又、これらの処理は皿現
像、枠現像などいわゆる手現像処理でも、ローラー現像
、ハンガー現像など機械現像であってもよい。
以下実施例によって本発明を具体的に説明する。
尚、当然のことではあるが、本発明は以下述べる実施例
に限定されるものではない。
に限定されるものではない。
実施例l
コロナ放電した後、下引き処理したポリエチレンテレフ
タレートに再びコロナ放電した後、下記構戊の帯電防止
液を、IQ/1になる様に50m/winの速さでロー
ルフィットコーティングバン及び工アーナインを使用し
て塗布した。
タレートに再びコロナ放電した後、下記構戊の帯電防止
液を、IQ/1になる様に50m/winの速さでロー
ルフィットコーティングバン及び工アーナインを使用し
て塗布した。
本発明の水溶性導電性ポリマー(P)・6 g/(2ラ
テックス ( L ) 4 gIQ
硬化剤(H) 表1に示すポリエ
チレングリコール 0.6g/Q乾燥風温
90℃、総括伝熱係数25Kg/a”hr’oの垂直流
乾燥条件で、30秒間乾燥しさらにその後、140℃、
90秒間熱処理した。この帯電防止層の上にゼラチンを
2.0g/m”になる様に塗布し接着力試験を行った。
テックス ( L ) 4 gIQ
硬化剤(H) 表1に示すポリエ
チレングリコール 0.6g/Q乾燥風温
90℃、総括伝熱係数25Kg/a”hr’oの垂直流
乾燥条件で、30秒間乾燥しさらにその後、140℃、
90秒間熱処理した。この帯電防止層の上にゼラチンを
2.0g/m”になる様に塗布し接着力試験を行った。
ゼラチンの硬膜剤としては、ホルマリン、2.4−ジク
ロロー6−ヒドロキシーS−トリアジンナトリウムH−
2を用いた。
ロロー6−ヒドロキシーS−トリアジンナトリウムH−
2を用いた。
その結果を表−1に示した。
硬化剤H−2
α)CM冨CH,
表1
(a)特開昭55−84658記載
実施例2
pH 3.0の酸性雰囲気下でコントロールダブルジェ
ット法によりロジウムを銀1モル当たり10−’モル含
有する粒子を作成した。粒子の戒長は、ペンジルアデニ
ンを1%のゼラチン水溶液Iff当たり30mg含有す
る系で行った。銀とハライドの混合後6ーメチル−4−
ヒドロキシ−1.3.3a,7テトラザインデンをハロ
ゲン化銀1モル当たり600mg加え、その後水洗、脱
塩した。
ット法によりロジウムを銀1モル当たり10−’モル含
有する粒子を作成した。粒子の戒長は、ペンジルアデニ
ンを1%のゼラチン水溶液Iff当たり30mg含有す
る系で行った。銀とハライドの混合後6ーメチル−4−
ヒドロキシ−1.3.3a,7テトラザインデンをハロ
ゲン化銀1モル当たり600mg加え、その後水洗、脱
塩した。
次いで、ハロゲン化銀1モル当たり60+sgの6−メ
チル−4−ヒドロキシ−1.3,3a.7−テトラザイ
ンデンを加えた後、イオウ増感をした。イオウ増感後安
定剤として6−メチル−4−ヒドロキシ−1.3,3a
.7−テトラザインデンを加えた。
チル−4−ヒドロキシ−1.3,3a.7−テトラザイ
ンデンを加えた後、イオウ増感をした。イオウ増感後安
定剤として6−メチル−4−ヒドロキシ−1.3,3a
.7−テトラザインデンを加えた。
(ハロゲン化銀乳剤層)
前記各乳剤に添加剤を下記の付量に−なるよう調整添加
し、ポリ(プチルアクリレートースチレンーグリシルメ
タクリレート)ラテックス下引処理した (100μm
厚さ)ポリエチレンテレフタレート支持体上に塗布した
。
し、ポリ(プチルアクリレートースチレンーグリシルメ
タクリレート)ラテックス下引処理した (100μm
厚さ)ポリエチレンテレフタレート支持体上に塗布した
。
ラテックスポリマー:スチレンーブチルアクリレートー
アクリルI!13元共重合ポリマー
1.0 g/va”テトラ7エニルホスホニウムクロラ
イド30 mg/m” サポニン 200 tsg/m
”ポリエチレングリコーノ’ 100 mg
/++”ハイドロキノン 7エニドン スチレンスノレホン酸ナト 重合体(My−25万) 没食子酸ブチルエステル トラゾリウム化合物 トテシルベンゼンスルホン酸ナ トリウム 100 ■g/■2 200 wIg7m” 100 mg/m” リウムーマレイン酸 200 tag’m” 500 tag/tm” 30 mg/s” 5−メチルベンゾトリアゾール 30 mg/a
”2−メルカプトベンツイミダゾールー5−スルホン酸
30 誼g/+”
イナートオセインゼラチン (等電点4.9)1.5
gets” 1− (p−アセチルアミド7エニル)−5メルカプト
テトラゾール 30 mg/m”銀
量 2.8 g/m”(乳剤
層保護膜) 乳剤層保護膜として、下記の付量になるよう調製塗布し
た。
アクリルI!13元共重合ポリマー
1.0 g/va”テトラ7エニルホスホニウムクロラ
イド30 mg/m” サポニン 200 tsg/m
”ポリエチレングリコーノ’ 100 mg
/++”ハイドロキノン 7エニドン スチレンスノレホン酸ナト 重合体(My−25万) 没食子酸ブチルエステル トラゾリウム化合物 トテシルベンゼンスルホン酸ナ トリウム 100 ■g/■2 200 wIg7m” 100 mg/m” リウムーマレイン酸 200 tag’m” 500 tag/tm” 30 mg/s” 5−メチルベンゾトリアゾール 30 mg/a
”2−メルカプトベンツイミダゾールー5−スルホン酸
30 誼g/+”
イナートオセインゼラチン (等電点4.9)1.5
gets” 1− (p−アセチルアミド7エニル)−5メルカプト
テトラゾール 30 mg/m”銀
量 2.8 g/m”(乳剤
層保護膜) 乳剤層保護膜として、下記の付量になるよう調製塗布し
た。
弗素化ジオクチルスルホコハク酸エステル300mg/
s” マット剤:ポリメタクリル酸メチル(平均粒径3.5/
J +s) 100 B/1
硝酸リチウム塩 30 鴨g/+a
”酸処理ゼラチン(等電点7.0) 1.2 g
/s”コロイダルシリ力 50 mg
/1スチレンスルホン酸ナトリウムーマレイン酸共重合
体 IO0 11g/m”媒染剤
30mg/m”染料 30論g/*” (パッキング層) 乳剤層とは反対側の支持体に、あらかじめ30W/1a
+inのパワーでコロナ放電しt;後、ポリ(グリシジ
ルメタクリレートースチレン−t−プチルアクリレート
ーグリシジルエーテル)ラテックスポリマーをヘキサメ
チレンアジりジン硬膜剤の存在下で塗布し更に本発明の
帯電防止層を実施例lと同様に塗設し、ついでこの層上
に下記!1gのパッキング染料を含有するパッキング層
を塗布した。ゼラチン層はグリオキザール、ホルマリン
及びE−5で硬暎した。
s” マット剤:ポリメタクリル酸メチル(平均粒径3.5/
J +s) 100 B/1
硝酸リチウム塩 30 鴨g/+a
”酸処理ゼラチン(等電点7.0) 1.2 g
/s”コロイダルシリ力 50 mg
/1スチレンスルホン酸ナトリウムーマレイン酸共重合
体 IO0 11g/m”媒染剤
30mg/m”染料 30論g/*” (パッキング層) 乳剤層とは反対側の支持体に、あらかじめ30W/1a
+inのパワーでコロナ放電しt;後、ポリ(グリシジ
ルメタクリレートースチレン−t−プチルアクリレート
ーグリシジルエーテル)ラテックスポリマーをヘキサメ
チレンアジりジン硬膜剤の存在下で塗布し更に本発明の
帯電防止層を実施例lと同様に塗設し、ついでこの層上
に下記!1gのパッキング染料を含有するパッキング層
を塗布した。ゼラチン層はグリオキザール、ホルマリン
及びE−5で硬暎した。
(パッキング層)
ハイドロキノン 100 口g/鵬
27エニドン 30 ■g/m
”ラテックスポリマー:プチルアクリレートスチレン共
重合体 0.3g/m”スチレンーマレイ
ンrll 共! e 体100 +lg/ +1”ク
エン酸 40 mg/ m”
べ冫ゾトリアゾーノレ 100 mg/t
a”スチレンスノレホン酸ンーダーマレイン酸共重合体
200 sg/s”硝酸リチ
ウム塩 30 ■g/−8パッキン
グ染料(a ). (b ). (c )オセインゼラ
チン 2.0 g/a”(a) CH,SO.H SO.K So,K (c) S0 3 Na 以上のようにして得・られた試料を全面露光し下記に示
す現像液、定着液を使用して現像処理した後表面比抵抗
を測定した。
27エニドン 30 ■g/m
”ラテックスポリマー:プチルアクリレートスチレン共
重合体 0.3g/m”スチレンーマレイ
ンrll 共! e 体100 +lg/ +1”ク
エン酸 40 mg/ m”
べ冫ゾトリアゾーノレ 100 mg/t
a”スチレンスノレホン酸ンーダーマレイン酸共重合体
200 sg/s”硝酸リチ
ウム塩 30 ■g/−8パッキン
グ染料(a ). (b ). (c )オセインゼラ
チン 2.0 g/a”(a) CH,SO.H SO.K So,K (c) S0 3 Na 以上のようにして得・られた試料を全面露光し下記に示
す現像液、定着液を使用して現像処理した後表面比抵抗
を測定した。
く現像液処方〉
ハイドロキノン 25 gl−7エ
ニルー4.4ジメチル−3− ビラゾリドン 0.4g臭化ナトリ
ウム 3g5−メチルベンゾトリアゾ
ール 0.3・g5−ニトロインダゾール
0.05gジエチルアミノプロパン−1.2−ジオ
ール10 g 亜硫酸カリウム 90 g5−スルホ
サリチル酸ナトリウム 75 gエチレンジアミン四
酢酸ナトリウム 2g 水でIQに仕上げた。
ニルー4.4ジメチル−3− ビラゾリドン 0.4g臭化ナトリ
ウム 3g5−メチルベンゾトリアゾ
ール 0.3・g5−ニトロインダゾール
0.05gジエチルアミノプロパン−1.2−ジオ
ール10 g 亜硫酸カリウム 90 g5−スルホ
サリチル酸ナトリウム 75 gエチレンジアミン四
酢酸ナトリウム 2g 水でIQに仕上げた。
pHは、苛性ソーダでl1.5と
く定着液処方〉
(組或A)
チオ硫酸アンモニウム(72.5v%
し tこ 。
亜硫酸ナトリウム
酢酸ナトリウム・3水塩
硼酸
クエン酸ナトリウム・2水塩
酢酸(90w%水溶液)
水溶液)
240 tmQ
17 g
6.5g
6g
2g
13.6ml2
(組成B)
純水(イオン交換水) 17 IaQ硫
酸(50w%の水溶液) 3.0g硫酸アル
ミニウム(AQ.o,換算含量が8.1v%の水溶液)
20g 定着液の使用時に水50〇一中に上記組或A1組成Bの
順に溶かし、lQに仕上げて用いた。この定着液のpH
は約5.6であった。
酸(50w%の水溶液) 3.0g硫酸アル
ミニウム(AQ.o,換算含量が8.1v%の水溶液)
20g 定着液の使用時に水50〇一中に上記組或A1組成Bの
順に溶かし、lQに仕上げて用いた。この定着液のpH
は約5.6であった。
〈現像処理条件〉
(工程) (温度) (時間)現像
40゜C8秒 定着 35゜C8秒 水洗 常温 lO秒 評価は以下のようにして行い、結果を表2に示しtこ。
40゜C8秒 定着 35゜C8秒 水洗 常温 lO秒 評価は以下のようにして行い、結果を表2に示しtこ。
表面比抵抗の測定
川口電気腎製テラオームメーターモデルWE−30表中
ポリマー及びラテックスの添加量はg/1で表す。
ポリマー及びラテックスの添加量はg/1で表す。
表2の結果から、本発明の試料は現像処理後の帯電防止
性能の劣化が少なくヘーズにも優れ、比較に比べ著しく
改善されていることが分かる。
性能の劣化が少なくヘーズにも優れ、比較に比べ著しく
改善されていることが分かる。
また、乳剤層中のテトラゾリウム化合物を下記ヒドラジ
ン化合物に代えても同様な効果があった。
ン化合物に代えても同様な効果があった。
ヒドラジン化合物
〔発明の効果〕
本発明により、現像等の処理後も帯電防止性能が劣化せ
ず、しかもヘーズに優れたl\ロゲン化銀写真感光材料
を提供することができた。
ず、しかもヘーズに優れたl\ロゲン化銀写真感光材料
を提供することができた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 水溶性導電性ポリマー及びエポキシ系硬化剤の反応生成
物からなる帯電防止層を有するプラスチックフィルムに
おいて、該水溶性ポリマーが下記一般式〔 I 〕で表さ
れる化合物であることを特徴とするプラスチックフィル
ム用帯電防止層。 一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Rは炭素数1〜4のアルキル基、水素原子を表
す。Lは、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式
、化学式、表等があります▼、−O−なる結合基から選
ばれる少なくとも1つの基を有し、炭素数1〜6の2価
基、Qは炭素数1〜12のアルキレン基、アルケニレン
基、アリーレン基を表し、aは0または1、bは0また
は1を表す。xは−SO_3M、−OSO_3M、を表
し、Mは水素原子、カチオン、Aは共重合可能なエチレ
ン性不飽和モノマーを表す。xは1〜100モル%、y
は99〜0モル%を表す。〕
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP178990A JPH03206444A (ja) | 1990-01-09 | 1990-01-09 | 帯電防止層 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP178990A JPH03206444A (ja) | 1990-01-09 | 1990-01-09 | 帯電防止層 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03206444A true JPH03206444A (ja) | 1991-09-09 |
Family
ID=11511342
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP178990A Pending JPH03206444A (ja) | 1990-01-09 | 1990-01-09 | 帯電防止層 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03206444A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5238706A (en) * | 1992-06-26 | 1993-08-24 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Antistatic film bases and their process of manufacturing |
-
1990
- 1990-01-09 JP JP178990A patent/JPH03206444A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5238706A (en) * | 1992-06-26 | 1993-08-24 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Antistatic film bases and their process of manufacturing |
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