JPH03238823A - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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JPH03238823A
JPH03238823A JP3543690A JP3543690A JPH03238823A JP H03238823 A JPH03238823 A JP H03238823A JP 3543690 A JP3543690 A JP 3543690A JP 3543690 A JP3543690 A JP 3543690A JP H03238823 A JPH03238823 A JP H03238823A
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JP
Japan
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capacitance
circuit
semiconductor integrated
integrated circuit
wires
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Pending
Application number
JP3543690A
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English (en)
Inventor
Megumi Sato
恵 佐藤
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は同一配線層内で、接近して平行に配置された2
木の配線を有する半導体集積回路に関する。
〔従来の技術〕
アナログLSI又は、アナログ・ディジタル混載LSI
等で多く用いられるスイッチトキャパシタ回路(以下、
SC回路と呼ぶ)等において使用する容量は高比精度が
要求される。それは、たとえばSC回路では、容量と容
量の比によって回路の利得が設定されるためである。こ
のような容量は通常、単位容量のCOを用意し、たとえ
ばGoの3倍の容量が必要な場合には、COの単位容量
を3個並列に接続することにより比精度を確保するよう
に配慮している。
′!J2図はこの種の半導体集積回路の従来例を示す平
面図、第3図は第2図のX−X、断面拡大図である。
上部電極10と下部電極20とは容量COを形成し、上
部電極111.112.113と下部電極21とは容量
3Coを形成している。配線30.40はそれぞれ上部
電極lO1下部電極20に接続されている。配線31゜
41はそれぞれ上部電極111.112.113 、下
部電極21に接続されている。
配線30.40は、半導体基板1上のシリコン酸化膜2
、層間絶縁膜3の上に形成され、カバー膜7に覆われて
おり、アルミ等を材料としている。
通常上部電極10.111.112.113 、下部電
極20、211.212.213とも多結晶シリコンで
形成する場合が多いが、これは上部及び下部電極を同一
材料で形成することにより容量のバイアス依存性をなく
すためである。ここで、上部電極及び下部電極からは、
アルミ等の配線材料による引き出し配線により所望の回
路に接続されるが、配線が密にレイアウトされた部分で
は、上記上部電極の引き出し配線と、下部電極の引き出
し配線がA領域のごとく接近して配置されることが多い
。この場合矢印で示した電気力線SSは、広がりを持ち
、配線間容量は配線30.40を平行平板として計算し
た容量の約1.5倍にもなってしまう。
(発明が解決しようとする課題〕 上述した従来の半導体集積回路は、引き出し配線が接近
して配置されると、配線間の寄生容量が所望の容量Co
に加算されてしまい、例えば本来Co:3Coであるべ
き容量比が(Go十a): 3Goとなり、比精度を悪
化させる欠点があり、これを避けるために引き出し配線
を接近させないようにすると、レイアウト面積を増大さ
せてしまうという欠点がある。
本発明は上記欠点に鑑み、比精度を確保するとともに、
レイアウト面積を増大させない半導体集積回路を提供す
ることを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の半導体集積回路は、同一配線層内の2本の配線
と同一配線層内で、前記2本の配線の間に配置された低
インピーダンス配線を有する。
〔作用〕
低インピーダンス配線が、低インピーダンス配線を挟ん
で平行に配置された2本の配線の電気的結合を弱める。
(実施例) 次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
第1図は本発明の半導体集積回路の一実施例を示す断面
図である。
本実施例は第3図で示される従来例の配線30゜40間
に低インピーダンス配線6を付加したものである。
接近したアルミ等を材料とする配線30.40間に、接
地電位に接続されたアルミ等を材料とする低インピーダ
ンス配線6が配置されている。矢印で示される電気力線
Sは配線6に向かうので、配線30.40の間の容量は
、減少する。もちろんこの場合、対接地電位の容量は増
大するが、SC回路では、対接地電位への容量は影響の
ない回路構成が可能なことはよく知られたところである
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、接近した配線間に低イン
ピーダンス配線を配置することにより、容量部の引き出
し配線間の寄生容量による容量間の比精度の悪化を低減
でき、所望の特性のSC回路を得ることができるという
効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の半導体集積回路の一実施例を示す断面
図、第2図は従来例を示す平面図、第3図は第2図のx
−x拡大断面図である。 1・・・・半導体基板、 2・・・・シリコン酸化膜、
3・・・・層間絶縁膜、 6・・・・低インピーダンス配線、 7・・・・カバー膜、  30.40・・・配線。 第1図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、同一配線層内で、接近して平行に配置された2本の
    配線を有する半導体集積回路において、前記2本の配線
    と同一配線層内で、前記2本の配線の間に配置された低
    インピーダンス配線を有することを特徴とする半導体集
    積回路。
JP3543690A 1990-02-15 1990-02-15 半導体集積回路 Pending JPH03238823A (ja)

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JP3543690A JPH03238823A (ja) 1990-02-15 1990-02-15 半導体集積回路
BR909003771A BR9003771A (pt) 1990-02-15 1990-08-01 Composicao e metodo para reparacao e prevencao de tecido lesional fibrotico

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BR (1) BR9003771A (ja)

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