JPH03227583A - パルスレーザ装置 - Google Patents
パルスレーザ装置Info
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- JPH03227583A JPH03227583A JP2047290A JP2047290A JPH03227583A JP H03227583 A JPH03227583 A JP H03227583A JP 2047290 A JP2047290 A JP 2047290A JP 2047290 A JP2047290 A JP 2047290A JP H03227583 A JPH03227583 A JP H03227583A
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 3
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 2
- 206010039740 Screaming Diseases 0.000 description 1
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- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
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- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/0975—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser using inductive or capacitive excitation
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- Electromagnetism (AREA)
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- Optics & Photonics (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は、安定したグロー放電を得ることができるよう
に改良を施したパルスレーザ装置に関するものである。
に改良を施したパルスレーザ装置に関するものである。
(従来の技術)
従来、ガスを媒介としたレーザにおいて、良好なレーザ
発振を得るためには、レーザガス中で空間的に均一な放
電を必要とするが、TEMA−CO2レーザやエキシマ
[フープなどの叫パルスレーザ光を発生させるパルスレ
ーザ発振装置においては、その動作ガス圧力が数気圧も
の高圧力であるため、上記の放電が集束し、アーク放電
になりやすい。これを防止するため、主放電に先立って
予備電離を行うのが一般的である。
発振を得るためには、レーザガス中で空間的に均一な放
電を必要とするが、TEMA−CO2レーザやエキシマ
[フープなどの叫パルスレーザ光を発生させるパルスレ
ーザ発振装置においては、その動作ガス圧力が数気圧も
の高圧力であるため、上記の放電が集束し、アーク放電
になりやすい。これを防止するため、主放電に先立って
予備電離を行うのが一般的である。
第3図及び第4図は、従来のパルスレーザ装置の一例を
示す概略図である。即ち、第3図においては、第1の主
電極1と第2の主電極2がレーザガス中に対向して配設
されている。また、これらの主電極1.2の両側部には
、スパーク放電による紫外光を主放電部の側面から照射
して、主放電部を予備電離するための予備電離電極3が
複数個配設され、また、この予備電離電極3には、予備
電離電極3に急激なパルス電圧を供給するためのピーキ
ングコンデンサ4が接続されている。さらに、前記主電
極1,2にはパルス電源5が接続されている。
示す概略図である。即ち、第3図においては、第1の主
電極1と第2の主電極2がレーザガス中に対向して配設
されている。また、これらの主電極1.2の両側部には
、スパーク放電による紫外光を主放電部の側面から照射
して、主放電部を予備電離するための予備電離電極3が
複数個配設され、また、この予備電離電極3には、予備
電離電極3に急激なパルス電圧を供給するためのピーキ
ングコンデンサ4が接続されている。さらに、前記主電
極1,2にはパルス電源5が接続されている。
この様に構成された従来のパルスレーザ装置は、以下に
述べるように動作する。即ち、主放電空間の放電に先立
ち、ピーキングコンデンサ4から急激なパルス電圧が7
−1電離電極3に印加され、この急激な電圧により」−
Tm対の予備電離電極3間に設けられたギャップにスパ
ーク放電が発生し、側面から主放電空間に紫外線が照射
される。この紫外光により主放電空間が千1ii電離さ
れ、その後、主放電空間にパルス電圧が印加された時、
主放電空間にグロー状の放電がつき、レーザガスが励起
され、1有望のレーザ光出力を得ることができる。
述べるように動作する。即ち、主放電空間の放電に先立
ち、ピーキングコンデンサ4から急激なパルス電圧が7
−1電離電極3に印加され、この急激な電圧により」−
Tm対の予備電離電極3間に設けられたギャップにスパ
ーク放電が発生し、側面から主放電空間に紫外線が照射
される。この紫外光により主放電空間が千1ii電離さ
れ、その後、主放電空間にパルス電圧が印加された時、
主放電空間にグロー状の放電がつき、レーザガスが励起
され、1有望のレーザ光出力を得ることができる。
また、第3図に示した従来型に改Qを施した第4図のパ
ルスレーザ装置においては、陰極に相当する第2の主電
極10が複数個の孔をaするよ・)に構成され、また、
第2の主電極10の背面側には、誘電体11を介して予
備電離用の高周波電極12が配設され、電圧供給用の高
周波電源13に接続されている。
ルスレーザ装置においては、陰極に相当する第2の主電
極10が複数個の孔をaするよ・)に構成され、また、
第2の主電極10の背面側には、誘電体11を介して予
備電離用の高周波電極12が配設され、電圧供給用の高
周波電源13に接続されている。
この様に構成された従来のパルスレーザ装置は、以下に
述べるように動作する。即し、主放電空間の放電に先立
ち、高周波電源13から高周波電圧が高周波電極12に
印加されると、複数孔を有する第2の主電極10と高周
波電極12に接した誘電体11との間に高周波放電14
が点弧し、電子が発生する。そして、高周波電界により
第2の主電極10の表面に電子をドリフトさせる。その
後、第1の主電極1に正の電圧を印加すると、第2の主
電極10の近傍に発生した電子が第1の主電極1側にド
リフトし、主放電空間が工・備電離される。
述べるように動作する。即し、主放電空間の放電に先立
ち、高周波電源13から高周波電圧が高周波電極12に
印加されると、複数孔を有する第2の主電極10と高周
波電極12に接した誘電体11との間に高周波放電14
が点弧し、電子が発生する。そして、高周波電界により
第2の主電極10の表面に電子をドリフトさせる。その
後、第1の主電極1に正の電圧を印加すると、第2の主
電極10の近傍に発生した電子が第1の主電極1側にド
リフトし、主放電空間が工・備電離される。
その後、主放電空間にパルス電圧が印加された時、主放
電空間にグロー状の放電がつき、レーザガスが励起され
、所望のレーザ出力を得ることができる。
電空間にグロー状の放電がつき、レーザガスが励起され
、所望のレーザ出力を得ることができる。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、上記の様に構成された従来のパルスレー
ザ装置においては、以下に述べる様な解決すべき課題が
あった。
ザ装置においては、以下に述べる様な解決すべき課題が
あった。
即ち、第3図に示した従来型においては、予備電離スパ
ークにより発生する紫外光は、特にTEMA−Co2レ
ーザに代表されるような高気圧媒質中では減衰が大きく
、主放電部が一様に予備電離されないという欠点があっ
た。また、主放電空間にパルス電圧が印加されてから放
電が点弧するまでの期間に、陰極付近の電子が欠乏し、
アーク状の放電が形成される可能性があるという欠点が
あった。
ークにより発生する紫外光は、特にTEMA−Co2レ
ーザに代表されるような高気圧媒質中では減衰が大きく
、主放電部が一様に予備電離されないという欠点があっ
た。また、主放電空間にパルス電圧が印加されてから放
電が点弧するまでの期間に、陰極付近の電子が欠乏し、
アーク状の放電が形成される可能性があるという欠点が
あった。
また、第4図に示した従来型においても、高周波放電1
4によって発生する電子を、高周波電界によって第2の
主電極】0の表面にドリフトさせ、さらに、第2の主電
極10の孔を通過させて第1の主電極1側にドリフトさ
せることができるのは、高周波電極12に対して第2の
主電極10の電位が高い時のみであるため、主放電空間
の電子密度に粗密が生じ、主放電空間が均一にr−備電
離されず、アーク状の放電が形成される可能性があると
いった欠点があった。
4によって発生する電子を、高周波電界によって第2の
主電極】0の表面にドリフトさせ、さらに、第2の主電
極10の孔を通過させて第1の主電極1側にドリフトさ
せることができるのは、高周波電極12に対して第2の
主電極10の電位が高い時のみであるため、主放電空間
の電子密度に粗密が生じ、主放電空間が均一にr−備電
離されず、アーク状の放電が形成される可能性があると
いった欠点があった。
さらに、放電励起式レーザにおいては、放電によってレ
ーザガスが分解するため、一般に、レーザガスを送風機
を用いて循環させることによって、主放電空間のレーザ
ガスの入れ換えを常時行っている。しかし、第4図に示
した様な従来型においては、高周波放電14が発生する
部分と、第2の主電極10の孔の部分に存在するレーザ
ガスの入れ換えが行われにくいといった欠点があった。
ーザガスが分解するため、一般に、レーザガスを送風機
を用いて循環させることによって、主放電空間のレーザ
ガスの入れ換えを常時行っている。しかし、第4図に示
した様な従来型においては、高周波放電14が発生する
部分と、第2の主電極10の孔の部分に存在するレーザ
ガスの入れ換えが行われにくいといった欠点があった。
本発明は、以上の欠点を解消するためにIJ1案された
もので、そのO的は、主放電空間における電子密度を均
一化し、安定したグロー放電を得ることのできるパルス
レーザ装置を提供することにある。
もので、そのO的は、主放電空間における電子密度を均
一化し、安定したグロー放電を得ることのできるパルス
レーザ装置を提供することにある。
[発明の構成]
(課題を解決するための手段)
請求項1記載の発明は、複数個の孔を1するように構成
された主電極の背面側に、第1の高周波電源に接続され
た複数個の第1の高9a波電極と、第2の高周波電源に
接続された複数個の第2の高周波電極とを交互に配置し
、また、前記第1の高周波電源と第2の高周波電源の位
相を180度ずらして設定したことを特徴とするもので
ある。
された主電極の背面側に、第1の高周波電源に接続され
た複数個の第1の高9a波電極と、第2の高周波電源に
接続された複数個の第2の高周波電極とを交互に配置し
、また、前記第1の高周波電源と第2の高周波電源の位
相を180度ずらして設定したことを特徴とするもので
ある。
請求項2記載の発明は、前記高周波電極をn組の高周波
電源に接続された複数個の高周波電極から構成し、各高
周波電源の位相を(360/n)度ずらして設定したこ
とを特徴とするものである。
電源に接続された複数個の高周波電極から構成し、各高
周波電源の位相を(360/n)度ずらして設定したこ
とを特徴とするものである。
請求項3記載の発明は、高周波放電部のレーザガス流の
下流側に、ガスフローガイドを配設したことを特徴とす
るものである。
下流側に、ガスフローガイドを配設したことを特徴とす
るものである。
(作用)
請求項1及び2に記載のパルスレーザ装置によれば、位
相をずらした11圧を予備電離用の高周波電極に印加す
ることによって、複数孔を1する主電極の背面側で発生
した電子を定常的に主放電空間に供給することができる
ので、主放電空間における電子密度が均一になり、安定
したグロー放電が得られる。
相をずらした11圧を予備電離用の高周波電極に印加す
ることによって、複数孔を1する主電極の背面側で発生
した電子を定常的に主放電空間に供給することができる
ので、主放電空間における電子密度が均一になり、安定
したグロー放電が得られる。
また、請求項3記載のパルスレーザ装置によれば、高周
波放電部に流入したレーザガスが、複数孔を口する主電
極から主放電空間に導かれ、高周波放電によって得られ
た電子も同様に主放電空間に誘導されるので、主放電空
間における電子密度が均一になり、安定したグロー放電
が得られる。
波放電部に流入したレーザガスが、複数孔を口する主電
極から主放電空間に導かれ、高周波放電によって得られ
た電子も同様に主放電空間に誘導されるので、主放電空
間における電子密度が均一になり、安定したグロー放電
が得られる。
さらに、分解したレーザガスの停留を防止することがで
きるので、常に分解する前のレーザガスによって放電で
きる。
きるので、常に分解する前のレーザガスによって放電で
きる。
(実施例)
以下、本発明の実施例を第1図及び第2図に基づいて具
体的に説明する。なお、第3図及び第11図に示した従
来型と同一の部材には同一の符号を付して、説明は省略
する。
体的に説明する。なお、第3図及び第11図に示した従
来型と同一の部材には同一の符号を付して、説明は省略
する。
■第1実施例
本実施例においては、第1図に示した様に、第2の主電
極10が複数個の孔を有するように構成され、第1の主
電極1と第2の主電極10とがパルス電源5に接続され
ている。また、前記第2の主電極10の背面側には、第
1の高周波電源20に接続された複数個の第1の高周波
電極21と、第2の高周波電源22に接続された複数個
の第2の高周波電極23が交互に配置され、それぞれ誘
電体11が取付けられている。さらに、前記第1の高周
波電源20と第S≧の高周波電源22の位相が180度
ずらして設定されている。
極10が複数個の孔を有するように構成され、第1の主
電極1と第2の主電極10とがパルス電源5に接続され
ている。また、前記第2の主電極10の背面側には、第
1の高周波電源20に接続された複数個の第1の高周波
電極21と、第2の高周波電源22に接続された複数個
の第2の高周波電極23が交互に配置され、それぞれ誘
電体11が取付けられている。さらに、前記第1の高周
波電源20と第S≧の高周波電源22の位相が180度
ずらして設定されている。
この様な構成を6する本実施例のパルスレーザ装置にお
いては、以下に述べる様にして安定したグロー放電が得
られる。即ち、主放電空間の放電に先立ち、第1及び第
S≧の高周波電源20.22から第1及び第2の高周波
電極21.23にそれぞれ高周波電圧が印加されると、
複数孔を有する第2の主電極10と第1及び第2の高周
波電極21.23に接したy、電体11との間に高周波
放電24が点弧し、電子が発生する。
いては、以下に述べる様にして安定したグロー放電が得
られる。即ち、主放電空間の放電に先立ち、第1及び第
S≧の高周波電源20.22から第1及び第2の高周波
電極21.23にそれぞれ高周波電圧が印加されると、
複数孔を有する第2の主電極10と第1及び第2の高周
波電極21.23に接したy、電体11との間に高周波
放電24が点弧し、電子が発生する。
この時、第1の高周波電源20と第2の高周波電源22
の位相が180度ずらして設定されているため、第1の
高周波電極21に対して第2の主電極10の電位が高い
場合には、第1の高周波電極21に接している誘電体1
1の表面で発生した高周波放電24によって生じた電r
は、第2の主電極10の孔を通過して主放電空間ヘトリ
フトする。一方、第2の高周波電極23に対して第2の
主電極10の電位は低くなっているため、第2の高周波
電極23に接している誘電体11の表面で発生した高周
波数7[!24によって生じた電子は、第2の主電極1
0の孔を通過することはできない。
の位相が180度ずらして設定されているため、第1の
高周波電極21に対して第2の主電極10の電位が高い
場合には、第1の高周波電極21に接している誘電体1
1の表面で発生した高周波放電24によって生じた電r
は、第2の主電極10の孔を通過して主放電空間ヘトリ
フトする。一方、第2の高周波電極23に対して第2の
主電極10の電位は低くなっているため、第2の高周波
電極23に接している誘電体11の表面で発生した高周
波数7[!24によって生じた電子は、第2の主電極1
0の孔を通過することはできない。
次に、位相が180度進んで、第1の高周波電極21に
対して第2の主電極10の電位が低くなり、第1の高周
波電極21に接している誘電体11の表面での高周波数
fli24によって生じた電子が、第2の主電極10の
孔を通過することができない場合でも、第2の第2の高
周波電極23に対して第2の主電極10の電位が高くな
るため、第2の高周波型I!Vi23に接している誘電
体11の表面で発生した高周波数7ti 24によって
生じた電子は、第2の主電極10の孔を通過して主放電
空間ヘトリフトすることができる。
対して第2の主電極10の電位が低くなり、第1の高周
波電極21に接している誘電体11の表面での高周波数
fli24によって生じた電子が、第2の主電極10の
孔を通過することができない場合でも、第2の第2の高
周波電極23に対して第2の主電極10の電位が高くな
るため、第2の高周波型I!Vi23に接している誘電
体11の表面で発生した高周波数7ti 24によって
生じた電子は、第2の主電極10の孔を通過して主放電
空間ヘトリフトすることができる。
この様に、本実施例によれば、第1の高周波電極21ま
たは第2の高周波電極23のいずれかに接している誘電
体11の表面で発生した高周波放電24によって、複数
個の孔を何する第2の主電極10から主放電空間に定常
的に電rを供給することができるので、主放電空間を均
一に予備電離することができ、安定したグロー放電を点
弧させることができる。
たは第2の高周波電極23のいずれかに接している誘電
体11の表面で発生した高周波放電24によって、複数
個の孔を何する第2の主電極10から主放電空間に定常
的に電rを供給することができるので、主放電空間を均
一に予備電離することができ、安定したグロー放電を点
弧させることができる。
なお、本発明は」二連【7た実施例に限定されるもので
はなく、位相を180度ずらした2組の高周波電源の代
わりに、位相を(360/ n )度ずらしたn組の高
周波電源(n=3.4・・・)を使用することにより、
隣合う高周波電極間の距離を縮めることができ、複数孔
を口する第2の主電極から連続的に、且つ、より均一に
電子を供給することができる。
はなく、位相を180度ずらした2組の高周波電源の代
わりに、位相を(360/ n )度ずらしたn組の高
周波電源(n=3.4・・・)を使用することにより、
隣合う高周波電極間の距離を縮めることができ、複数孔
を口する第2の主電極から連続的に、且つ、より均一に
電子を供給することができる。
■第2実施例
本実施例においては、第2図に示した様に、第1の主電
極1と複数孔を打する第2の主電極10とが、レーザガ
ス中に対向して配設されている。
極1と複数孔を打する第2の主電極10とが、レーザガ
ス中に対向して配設されている。
また、第2の主電極10の背面側には、所定の間隔をお
いて誘電体11を取付けた予備電離用の高周波電極12
が配設され、電圧供給用の高周波電源13に接続されて
いる。そして、前記誘電体11と第2の主電極10との
間には、レーザガス流の下流側にレーザガスの方向を変
えるためのガスフローガイド30が配設されている。
いて誘電体11を取付けた予備電離用の高周波電極12
が配設され、電圧供給用の高周波電源13に接続されて
いる。そして、前記誘電体11と第2の主電極10との
間には、レーザガス流の下流側にレーザガスの方向を変
えるためのガスフローガイド30が配設されている。
この様な構成を有する本実施例のパルスレーザ装置にお
いては、以下に述べる様にして安定したグロー放電が得
られる。即ち、主放電空間の放電に先立ち、高周波電源
13から高周波電圧が高周波電極12に印加されると、
複数孔を1する第2の主電極10と高周波型tft12
に接した誘電体11との間に高周波放電が点弧し、電r
が発生する。
いては、以下に述べる様にして安定したグロー放電が得
られる。即ち、主放電空間の放電に先立ち、高周波電源
13から高周波電圧が高周波電極12に印加されると、
複数孔を1する第2の主電極10と高周波型tft12
に接した誘電体11との間に高周波放電が点弧し、電r
が発生する。
この時、高周波放電が発生した部分を流れるレーザガス
流31は、ガスフローガイド30によってその流路が変
えられ、第2図中矢印で示した様に、第2の主電極10
の孔から主放電空間へ導かれる。
流31は、ガスフローガイド30によってその流路が変
えられ、第2図中矢印で示した様に、第2の主電極10
の孔から主放電空間へ導かれる。
その結果、高周波放電によって発生した電子が、第2の
主電極10の孔を通り、主放電空間に常時誘導されるの
で、主放電空間を均一にT−備電離することができ、安
定したグロー放電を点弧することができる。さらに、高
周波放電部ばかりでなく、第2の主電極10の孔の部分
に存在する分解したレーザガスの停留を防止することが
できるので、常に分解する前のレーザガスによって放電
できるため、より安定したグ[1−放電を点弧すること
ができる。
主電極10の孔を通り、主放電空間に常時誘導されるの
で、主放電空間を均一にT−備電離することができ、安
定したグロー放電を点弧することができる。さらに、高
周波放電部ばかりでなく、第2の主電極10の孔の部分
に存在する分解したレーザガスの停留を防止することが
できるので、常に分解する前のレーザガスによって放電
できるため、より安定したグ[1−放電を点弧すること
ができる。
[発明の効果]
以]1述べた様に、本発明によれば、複数孔をTNする
主電極の背面で位相をずらした高周波放電を行うことに
より、または、高周波放電部におけるレーザガス流を制
御することにより、主放電空間における電子密度を均一
化し、安定したグロー放電を得ることのできるパルスレ
ーザ装置を提供することができる。
主電極の背面で位相をずらした高周波放電を行うことに
より、または、高周波放電部におけるレーザガス流を制
御することにより、主放電空間における電子密度を均一
化し、安定したグロー放電を得ることのできるパルスレ
ーザ装置を提供することができる。
第1図は本発明のパルスレーザ装置の第1実施例を示す
概略図、第2図は本発明の75ルスレーザ装置の第2実
施例を示す概略図、第3図及び第4図は従来のパルスレ
ーザ装置の一例を示す概略図である。 ■・・・第1の主電極、2・・・第2の主電極、3・・
・予備電離電極、4・・・ビーギングコンデンサ、5・
・・7ずルス電源、10・・・第2の主電極、11・・
・誘電体、12・・・高周波電極、13・・・高周波電
源、14・・・高周波放電、2o・・・第1の高周波電
源、21川第1の高周波電極、22・・・第2の高周波
電源、23・・・11’!2の高周波電極、24・・・
高周波放電、3o・・・ガスフローガイド。
概略図、第2図は本発明の75ルスレーザ装置の第2実
施例を示す概略図、第3図及び第4図は従来のパルスレ
ーザ装置の一例を示す概略図である。 ■・・・第1の主電極、2・・・第2の主電極、3・・
・予備電離電極、4・・・ビーギングコンデンサ、5・
・・7ずルス電源、10・・・第2の主電極、11・・
・誘電体、12・・・高周波電極、13・・・高周波電
源、14・・・高周波放電、2o・・・第1の高周波電
源、21川第1の高周波電極、22・・・第2の高周波
電源、23・・・11’!2の高周波電極、24・・・
高周波放電、3o・・・ガスフローガイド。
Claims (3)
- (1)密閉容器内に所定圧力で封入されたレーザガス媒
質と、このレーザガス媒質中に対向配置された一対の主
電極と、これらの主電極の背面で高周波放電することで
電子を発生し、その電子を前記主電極間に供給させる予
備電離用の高周波電極を備え、また、前記主電極の内、
陰極に相当する主電極が複数個の孔を有するように構成
されたパルスレーザ装置において、 前記高周波電極が、第1の高周波電源に接続された複数
個の第1の高周波電極と、第2の高周波電源に接続され
た複数個の第2の高周波電極とから構成され、それらが
前記複数個の孔を有するように構成された主電極の背面
に交互に配置され、また、前記第1の高周波電源と第2
の高周波電源の位相が180度ずらして設定されている
ことを特徴とするパルスレーザ装置。 - (2)前記高周波電極が、n組の高周波電源に接続され
た複数個の高周波電極から構成され、各高周波電源の位
相が(360/n)度ずらして設定されていることを特
徴とするパルスレーザ装置。 - (3)密閉容器内に所定圧力で封入されたレーザガス媒
質と、このレーザガス媒質中に対向配置された一対の主
電極と、これらの主電極の背面で高周波放電することで
電子を発生し、その電子を前記主電極間に供給させる予
備電離用の高周波電極を備え、また、前記主電極の内、
陰極に相当する主電極が複数個の孔を有するように構成
されたパルスレーザ装置において、 前記高周波放電部のレーザガス流の下流側に、ガスフロ
ーガイドを配設したことを特徴とするパルスレーザ装置
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2047290A JPH03227583A (ja) | 1990-02-01 | 1990-02-01 | パルスレーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2047290A JPH03227583A (ja) | 1990-02-01 | 1990-02-01 | パルスレーザ装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03227583A true JPH03227583A (ja) | 1991-10-08 |
Family
ID=12028046
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2047290A Pending JPH03227583A (ja) | 1990-02-01 | 1990-02-01 | パルスレーザ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03227583A (ja) |
-
1990
- 1990-02-01 JP JP2047290A patent/JPH03227583A/ja active Pending
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