JP3190084B2 - ガスレーザ装置 - Google Patents
ガスレーザ装置Info
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- JP3190084B2 JP3190084B2 JP711292A JP711292A JP3190084B2 JP 3190084 B2 JP3190084 B2 JP 3190084B2 JP 711292 A JP711292 A JP 711292A JP 711292 A JP711292 A JP 711292A JP 3190084 B2 JP3190084 B2 JP 3190084B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明はガスレーザ媒質を予備
電離してから主放電を点弧してレーザ光を発生させるガ
スレーザ装置に関する。
電離してから主放電を点弧してレーザ光を発生させるガ
スレーザ装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＣＯ2 レ−ザやエキシマレ−ザといっ
た、いわゆる高ガス圧下で動作させる横励起方式のガス
レ−ザ装置では、放電空間部においてガスレ−ザ媒質を
励起するための主放電を安定に点弧させるために、陰極
と陽極とからなる一対の主電極間で点弧される主放電に
先立って上記放電空間部を予備電離する予備電離手段が
備えられている。
た、いわゆる高ガス圧下で動作させる横励起方式のガス
レ−ザ装置では、放電空間部においてガスレ−ザ媒質を
励起するための主放電を安定に点弧させるために、陰極
と陽極とからなる一対の主電極間で点弧される主放電に
先立って上記放電空間部を予備電離する予備電離手段が
備えられている。
【０００３】予備電離手段としてはＵＶ（紫外線）、コ
ロナ放電、Ｘ線などがあるが、ＵＶ方式が最も高繰り返
し動作が可能であるとされている。ＵＶ方式は主放電に
先立ってピン電極にスパ−ク放電を点弧させ、それによ
って発生した紫外線で、主にガスレ−ザ媒質中の不純物
（低電離電圧のもの）を電離すると考えられている。
ロナ放電、Ｘ線などがあるが、ＵＶ方式が最も高繰り返
し動作が可能であるとされている。ＵＶ方式は主放電に
先立ってピン電極にスパ−ク放電を点弧させ、それによ
って発生した紫外線で、主にガスレ−ザ媒質中の不純物
（低電離電圧のもの）を電離すると考えられている。
【０００４】しかしながら、ＵＶ方式において繰り返し
動作を高くすると、つぎのようなことが生じる。まず、
繰り返し動作を高くすることで、予備電離放電の破壊電
圧が低下することが実験により確認されている。予備電
離放電の電圧が低下すると、予備電離の強度が低下する
ことが考えられ、その結果として主放電が不均一にな
り、レ−ザ出力が低下する。つぎに、繰り返し動作を高
くすることで、予備電離放電によって生じる生成物の発
生量が多くなり、それによってレ−ザ出力が低下する。
また、ピン電極から音響波が発生したり、スパ−ク放電
によるガスレ−ザ媒質の劣化が早くなり、動作時間が短
くなるなどのことが生じる。
動作を高くすると、つぎのようなことが生じる。まず、
繰り返し動作を高くすることで、予備電離放電の破壊電
圧が低下することが実験により確認されている。予備電
離放電の電圧が低下すると、予備電離の強度が低下する
ことが考えられ、その結果として主放電が不均一にな
り、レ−ザ出力が低下する。つぎに、繰り返し動作を高
くすることで、予備電離放電によって生じる生成物の発
生量が多くなり、それによってレ−ザ出力が低下する。
また、ピン電極から音響波が発生したり、スパ−ク放電
によるガスレ−ザ媒質の劣化が早くなり、動作時間が短
くなるなどのことが生じる。
【０００５】一方、Ｘ線方式ではＵＶ方式の場合に生じ
る問題をなくすことができると考えられる。しかしなが
ら、Ｘ線管によってＸ線を発生する場合、その構造上、
繰り返し動作が最高で１ｋＨz 程度で、高繰り返し動作
が困難である。
る問題をなくすことができると考えられる。しかしなが
ら、Ｘ線管によってＸ線を発生する場合、その構造上、
繰り返し動作が最高で１ｋＨz 程度で、高繰り返し動作
が困難である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】このように、ガスレ−
ザ装置によって高繰り返し動作を行わせようとすると、
予備電離強度が十分に得られず、出力が安定しなかった
り、ガスレ−ザ媒質の劣化が早く、動作時間が短くなる
などのことがあった。
ザ装置によって高繰り返し動作を行わせようとすると、
予備電離強度が十分に得られず、出力が安定しなかった
り、ガスレ−ザ媒質の劣化が早く、動作時間が短くなる
などのことがあった。
【０００７】この発明は上記事情にもとづきなされたも
ので、その目的とするところは、高繰り返し動作におい
ても、レーザ出力を長い寿命で安定して出力することが
できるようにしたガスレーザ装置を提供することにあ
る。
ので、その目的とするところは、高繰り返し動作におい
ても、レーザ出力を長い寿命で安定して出力することが
できるようにしたガスレーザ装置を提供することにあ
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に第１の発明は、ガスレーザ媒質を封入するためのレー
ザチャンバと、このレーザチャンバ内に対向して配置さ
れた陰極と陽極とを備える主電極と、この陽極と陰極と
の間の放電空間部を放電させる第１の予備電離手段と、
前記放電空間部にＸ線を照射する第２の予備電離手段
と、この第２の予備電離手段を制御する制御手段とを備
えるガスレーザ装置において、 前記第２の予備電離手段
は、前記放電空間部の長手方向に沿って配設される複数
個のＸ線発生装置を備え、かつ、前記制御手段は、前記
各Ｘ線発生装置を個別に制御可能に構成されていること
を特徴とする。
に第１の発明は、ガスレーザ媒質を封入するためのレー
ザチャンバと、このレーザチャンバ内に対向して配置さ
れた陰極と陽極とを備える主電極と、この陽極と陰極と
の間の放電空間部を放電させる第１の予備電離手段と、
前記放電空間部にＸ線を照射する第２の予備電離手段
と、この第２の予備電離手段を制御する制御手段とを備
えるガスレーザ装置において、 前記第２の予備電離手段
は、前記放電空間部の長手方向に沿って配設される複数
個のＸ線発生装置を備え、かつ、前記制御手段は、前記
各Ｘ線発生装置を個別に制御可能に構成されていること
を特徴とする。
【０００９】
【００１０】
【００１１】
【作用】この発明によれば、Ｘ線による予備電離によ
り、放電による予備電離をアシストすることで、高繰り
返し動作においても、放電空間部を十分な強度で予備電
離することができ、さらにＸ線による予備電離で、放電
空間部の長手方向における予備電離の不均一を是正する
ことができる。
り、放電による予備電離をアシストすることで、高繰り
返し動作においても、放電空間部を十分な強度で予備電
離することができ、さらにＸ線による予備電離で、放電
空間部の長手方向における予備電離の不均一を是正する
ことができる。
【００１２】
【００１３】以下、この発明の一実施例を図面を参照し
て説明する。図１に示すガスレーザ装置はガスレーザ媒
質が封入されたレーザチャンバ１を備えている。このレ
ーザチャンバ１内にはそれぞれ上部取付板２ａと下部取
付板２ｂに保持された主電極を構成する陰極３と陽極４
とが離間対向して配置されている。上部取付板２ａの陰
極３の両側には、基端を固定した複数の上部ピン電極５
が長手方向に所定間隔で設けられている。上記下部取付
板２ｂの陽極４の両側には複数の下部ピン電極６がそれ
ぞれピーキングコンデンサ７を介して上記上部ピン電極
５と同じ間隔で設けられている。それによって、上記上
部ピン電極５と下部ピン電極６とはスパークギャップを
形成する間隔を介して先端を離間対向させている。
て説明する。図１に示すガスレーザ装置はガスレーザ媒
質が封入されたレーザチャンバ１を備えている。このレ
ーザチャンバ１内にはそれぞれ上部取付板２ａと下部取
付板２ｂに保持された主電極を構成する陰極３と陽極４
とが離間対向して配置されている。上部取付板２ａの陰
極３の両側には、基端を固定した複数の上部ピン電極５
が長手方向に所定間隔で設けられている。上記下部取付
板２ｂの陽極４の両側には複数の下部ピン電極６がそれ
ぞれピーキングコンデンサ７を介して上記上部ピン電極
５と同じ間隔で設けられている。それによって、上記上
部ピン電極５と下部ピン電極６とはスパークギャップを
形成する間隔を介して先端を離間対向させている。
【００１４】上記レ−ザチャンバ１内には送風機８と熱
交換器９とが配置されている。上記送風機８によって上
記レ−ザチャンバ１内のガスレ−ザ媒質は図中矢印で示
すように陰極３と陽極４との間の放電空間部１１を通っ
て循環させられる。上記放電空間部１１において、ガス
レ−ザ媒質は後述するごとく上記陰極３と陽極４との間
で発生する主放電によって励起される。励起されること
で温度上昇したガスレ−ザ媒質は、上記熱交換器９によ
って冷却されて循環する。
交換器９とが配置されている。上記送風機８によって上
記レ−ザチャンバ１内のガスレ−ザ媒質は図中矢印で示
すように陰極３と陽極４との間の放電空間部１１を通っ
て循環させられる。上記放電空間部１１において、ガス
レ−ザ媒質は後述するごとく上記陰極３と陽極４との間
で発生する主放電によって励起される。励起されること
で温度上昇したガスレ−ザ媒質は、上記熱交換器９によ
って冷却されて循環する。
【００１５】上記陽極４には、薄肉部４ａを形成する凹
部１２がその背面側に開放し、かつ長手方向ほぼ全長に
わたって形成されている。上記レ−ザチャンバ１と上部
取付板２ｃの上記凹部１２と対向する部分にはそれぞれ
開口部１ａ、２ｃが形成されている。この開口部１ａ、
２ｃと対応するレ−ザチャンバ１の外面にはたとえば５
つのＸ線管１３が上記陽極４の長手方向に沿って所定間
隔で配置されている。したがって、各Ｘ線管１３から出
射したＸ線は上記陽極４の薄肉部４ａを透過して放電空
間部１１へ至る。これらＸ線管１３はＸ線用高圧電源１
４から供給される高電圧が印加されることでＸ線を発生
するようになっている。
部１２がその背面側に開放し、かつ長手方向ほぼ全長に
わたって形成されている。上記レ−ザチャンバ１と上部
取付板２ｃの上記凹部１２と対向する部分にはそれぞれ
開口部１ａ、２ｃが形成されている。この開口部１ａ、
２ｃと対応するレ−ザチャンバ１の外面にはたとえば５
つのＸ線管１３が上記陽極４の長手方向に沿って所定間
隔で配置されている。したがって、各Ｘ線管１３から出
射したＸ線は上記陽極４の薄肉部４ａを透過して放電空
間部１１へ至る。これらＸ線管１３はＸ線用高圧電源１
４から供給される高電圧が印加されることでＸ線を発生
するようになっている。
【００１６】上記上部ピン電極５は上部取付板２ａ、レ
−ザチャンバ１およびサイラトロン１５を介して直流高
圧電源１６に接続されている。上記下部ピン電極６はピ
−キングコンデンサ７、下部取付板２ｂおよび主コンデ
ンサ１７を介して上記直流高圧電源１６に接続されてい
る。なお、上記レ−ザチャンバ１はア−スされている。
−ザチャンバ１およびサイラトロン１５を介して直流高
圧電源１６に接続されている。上記下部ピン電極６はピ
−キングコンデンサ７、下部取付板２ｂおよび主コンデ
ンサ１７を介して上記直流高圧電源１６に接続されてい
る。なお、上記レ−ザチャンバ１はア−スされている。
【００１７】上記サイラトロン１５と上記Ｘ線用高圧電
源１４は制御装置１８からのパルス信号によって駆動さ
れるようになっている。上記パルス信号の繰り返し数は
上記制御装置１８によって設定することができ、また５
つのＸ線管１３には上記制御装置１８によって選択的に
高電圧を供給できるようになっている。
源１４は制御装置１８からのパルス信号によって駆動さ
れるようになっている。上記パルス信号の繰り返し数は
上記制御装置１８によって設定することができ、また５
つのＸ線管１３には上記制御装置１８によって選択的に
高電圧を供給できるようになっている。
【００１８】つぎに、上記構成のガスレ−ザ装置によっ
てレ−ザ光を発生させる動作について説明する。繰り返
し数があまり高くない状態でガスレ−ザ装置を運転する
場合には、制御装置１８から上記繰り返し数に応じたパ
ルス信号を出力してサイラトロン１５を開閉制御する。
サイラトロン１５が閉成されれば、主コンデンサ１７に
蓄えられた電荷がピ−キングコンデンサ７に移行するか
ら、上部ピン電極５と下部ピン電極６との先端間のギャ
ップでスパ−ク放電が発生し、その放電による紫外線で
陰極３と陽極４との間の放電空間部１１が予備電離され
る。放電空間部１１の予備電離が進むと、上記陰極３と
陽極４との間に主放電が点弧されるから、その主放電に
よってガスレ−ザ媒質が励起されてレ−ザ光Ｌが発生す
る。
てレ−ザ光を発生させる動作について説明する。繰り返
し数があまり高くない状態でガスレ−ザ装置を運転する
場合には、制御装置１８から上記繰り返し数に応じたパ
ルス信号を出力してサイラトロン１５を開閉制御する。
サイラトロン１５が閉成されれば、主コンデンサ１７に
蓄えられた電荷がピ−キングコンデンサ７に移行するか
ら、上部ピン電極５と下部ピン電極６との先端間のギャ
ップでスパ−ク放電が発生し、その放電による紫外線で
陰極３と陽極４との間の放電空間部１１が予備電離され
る。放電空間部１１の予備電離が進むと、上記陰極３と
陽極４との間に主放電が点弧されるから、その主放電に
よってガスレ−ザ媒質が励起されてレ−ザ光Ｌが発生す
る。
【００１９】なお、主放電の繰り返し数があまり高くな
い場合の予備電離は、ピン電極５、６間の放電に代わ
り、Ｘ線によってだけ行なうようにしてもよい。投入エ
ネルギを考慮すると、通常はＵＶ放電だけの方がよい
が、放電体積を大きくして大出力化するときには、Ｘ線
を使用した方が効果がある。
い場合の予備電離は、ピン電極５、６間の放電に代わ
り、Ｘ線によってだけ行なうようにしてもよい。投入エ
ネルギを考慮すると、通常はＵＶ放電だけの方がよい
が、放電体積を大きくして大出力化するときには、Ｘ線
を使用した方が効果がある。
【００２０】レ−ザ光のパルス発振（主放電）を高繰り
返し数で行う場合、ピン電極５、６間の放電だけによっ
て放電空間部１１を予備電離（この予備電離をＵＶ放電
という）すると、予備電離強度の不足により陰極３と陽
極４との間に点弧される主放電が不安定になる。そのた
め、主放電の繰り返し数を上げる場合には、上記放電空
間部１１の予備電離をＸ線によってアシストする。図３
（ａ）にＵＶ放電（主放電と同じパルス数となる）とＸ
線発生とのパルス列の一例を示す。たとえば、主放電の
繰り返し数を３ｋＨz に上げた場合、Ｘ線による予備電
離、つまりＸ線の発生繰り返し数を１ｋＨz とする。Ｘ
線を発生させれば、上記放電空間部１１がＸ線によって
も予備電離される。そのため、主放電の繰り返し数を上
げることで、ＵＶ放電による予備電離強度が不足して
も、その不足はＸ線による予備電離で補えるから、陰極
３と陽極４との間に発生する主放電を安定させることが
できる。
返し数で行う場合、ピン電極５、６間の放電だけによっ
て放電空間部１１を予備電離（この予備電離をＵＶ放電
という）すると、予備電離強度の不足により陰極３と陽
極４との間に点弧される主放電が不安定になる。そのた
め、主放電の繰り返し数を上げる場合には、上記放電空
間部１１の予備電離をＸ線によってアシストする。図３
（ａ）にＵＶ放電（主放電と同じパルス数となる）とＸ
線発生とのパルス列の一例を示す。たとえば、主放電の
繰り返し数を３ｋＨz に上げた場合、Ｘ線による予備電
離、つまりＸ線の発生繰り返し数を１ｋＨz とする。Ｘ
線を発生させれば、上記放電空間部１１がＸ線によって
も予備電離される。そのため、主放電の繰り返し数を上
げることで、ＵＶ放電による予備電離強度が不足して
も、その不足はＸ線による予備電離で補えるから、陰極
３と陽極４との間に発生する主放電を安定させることが
できる。
【００２１】図３（ｂ）に示すように上記ＵＶ放電とＸ
線の発生とは同時であってもよく、図３（ｃ）に示すよ
うにＵＶ放電による予備電離に先立ってＸ線による予備
電離を行うようにしてもよい。つまり、Ｘ線によりガス
レ−ザ媒質の構成粒子をエネルギの高い状態にしてお
き、ＵＶ放電により効率よく初期電子を生成する。その
場合のＵＶ放電の遅延時間ｔは数百nsオ−ダであり、こ
れらの制御はガスレ−ザ媒質の種類（ＸｅＣｌ、Ｋｒ
Ｆ、ＡｒＦ）やガスレ−ザ媒質を構成するＸｅ、Ｋｒ、
Ａｒ、ＨＣｌ、Ｆ2 などの混合比によって使い分けるよ
うにすればよい。たとえば、電子付着の大きいＦ2 をハ
ロゲントナ−として用いる場合には図３（ｂ）で示すよ
うにＵＶ放電とＸ線発生とのタイミングを一致させ、付
着の小さいＨＣｌの場合は図３（ｃ）のようにタイミン
グをずらした方がよい。
線の発生とは同時であってもよく、図３（ｃ）に示すよ
うにＵＶ放電による予備電離に先立ってＸ線による予備
電離を行うようにしてもよい。つまり、Ｘ線によりガス
レ−ザ媒質の構成粒子をエネルギの高い状態にしてお
き、ＵＶ放電により効率よく初期電子を生成する。その
場合のＵＶ放電の遅延時間ｔは数百nsオ−ダであり、こ
れらの制御はガスレ−ザ媒質の種類（ＸｅＣｌ、Ｋｒ
Ｆ、ＡｒＦ）やガスレ−ザ媒質を構成するＸｅ、Ｋｒ、
Ａｒ、ＨＣｌ、Ｆ2 などの混合比によって使い分けるよ
うにすればよい。たとえば、電子付着の大きいＦ2 をハ
ロゲントナ−として用いる場合には図３（ｂ）で示すよ
うにＵＶ放電とＸ線発生とのタイミングを一致させ、付
着の小さいＨＣｌの場合は図３（ｃ）のようにタイミン
グをずらした方がよい。
【００２２】ガスレ−ザ媒質の寿命を長くする場合に
は、ＵＶ放電のエネルギを小さくし、Ｘ線による予備電
離を主体にした方がよい。ＵＶ放電のエネルギを小さく
するには、上部ピン電極５と下部ピン電極６とのギャッ
プ間隔を小さくしたり、上部ピン電極５と下部ピン電極
６とを部分的に短絡するなどの方法がある。
は、ＵＶ放電のエネルギを小さくし、Ｘ線による予備電
離を主体にした方がよい。ＵＶ放電のエネルギを小さく
するには、上部ピン電極５と下部ピン電極６とのギャッ
プ間隔を小さくしたり、上部ピン電極５と下部ピン電極
６とを部分的に短絡するなどの方法がある。
【００２３】５つのＸ線管１３は制御装置１８によって
個別に制御することができる。そのため、ＵＶ放電によ
って放電空間部１１を予備電離して主放電を点弧させる
場合、部分的に予備電離を強化することができる。たと
えば、放電空間部１１の両端に位置するＸ線管１３を作
動させ、放電空間部１１の陰極３と陽極４との長手方向
両端部に対応する部分にＸ線を照射する。陰極３と陽極
４との長手方向両端部は電流が集中してア−ク放電とな
りやすいが、その部分にＸ線を照射することで予備電離
が十分になされるから、その部分でのア−ク放電の発生
を防ぎ、陰極３と陽極４との間に均一なグロ−放電を発
生させ、レ−ザ出力の増大を計ることができる。
個別に制御することができる。そのため、ＵＶ放電によ
って放電空間部１１を予備電離して主放電を点弧させる
場合、部分的に予備電離を強化することができる。たと
えば、放電空間部１１の両端に位置するＸ線管１３を作
動させ、放電空間部１１の陰極３と陽極４との長手方向
両端部に対応する部分にＸ線を照射する。陰極３と陽極
４との長手方向両端部は電流が集中してア−ク放電とな
りやすいが、その部分にＸ線を照射することで予備電離
が十分になされるから、その部分でのア−ク放電の発生
を防ぎ、陰極３と陽極４との間に均一なグロ−放電を発
生させ、レ−ザ出力の増大を計ることができる。
【００２４】なお、上記一実施例では放電による予備電
離手段としてＵＶ放電を挙げたが、ＵＶ放電に代わり、
コロナ電極によるコロナ放電で予備電離するようにして
もよい。また、ピン電極は主電極の幅方向両側に設け
ず、放電空間部に対するガスレ−ザ媒質の流入側であ
る、上流側のピン電極を除去し、下流側だけに設けるよ
うにしてもよい。上流側のピン電極をなくせば、予備電
離放電によって発生する放電生成物が放電空間部に流入
しずらくなるから、レ−ザ出力が低下するのを防止する
ことができる。
離手段としてＵＶ放電を挙げたが、ＵＶ放電に代わり、
コロナ電極によるコロナ放電で予備電離するようにして
もよい。また、ピン電極は主電極の幅方向両側に設け
ず、放電空間部に対するガスレ−ザ媒質の流入側であ
る、上流側のピン電極を除去し、下流側だけに設けるよ
うにしてもよい。上流側のピン電極をなくせば、予備電
離放電によって発生する放電生成物が放電空間部に流入
しずらくなるから、レ−ザ出力が低下するのを防止する
ことができる。
【００２５】
【発明の効果】以上述べたようにこの発明は、放電空間
部を予備電離する予備電離手段として、放電による第１
の予備電離手段と、Ｘ線による第２の予備電離手段とを
設けるようにした。したがって、主放電の繰り返し数を
増大させるような場合、放電空間部の予備電離強度を向
上させることができるから、レ−ザ出力の安定化や平均
出力の増大を計ることができる。
部を予備電離する予備電離手段として、放電による第１
の予備電離手段と、Ｘ線による第２の予備電離手段とを
設けるようにした。したがって、主放電の繰り返し数を
増大させるような場合、放電空間部の予備電離強度を向
上させることができるから、レ−ザ出力の安定化や平均
出力の増大を計ることができる。
【００２６】また、放電空間部を放電により予備電離す
る場合、放電空間部を部分的にＸ線による予備電離でア
シストできるようにした。そのため、放電空間部の主電
極の両端部に対応する部分の予備電離が強化できるか
ら、主電極の端部でのア−ク放電の発生を防止すること
ができる。
る場合、放電空間部を部分的にＸ線による予備電離でア
シストできるようにした。そのため、放電空間部の主電
極の両端部に対応する部分の予備電離が強化できるか
ら、主電極の端部でのア−ク放電の発生を防止すること
ができる。
【図１】この発明の一実施例の全体構成図。
【図２】同じく図１のＡ−Ａ線に沿う側面図。
【図３】（ａ）はＵＶ放電とＸ線発生とのパルス列の説
明図、（ｂ）はＵＶ放電とＸ線発生とのタイミングを同
じにした場合の説明図、（ｃ）はＵＶ放電とＸ線発生と
のタイミングをずらした場合の説明図。
明図、（ｂ）はＵＶ放電とＸ線発生とのタイミングを同
じにした場合の説明図、（ｃ）はＵＶ放電とＸ線発生と
のタイミングをずらした場合の説明図。
【符号の説明】 １…レ−ザチャンバ、３…陰極、４…陽極、５、６…ピ
ン電極（第１の予備電離手段）、１１…放電空間部、１
３…Ｘ線管（第２の予備電離手段）、１８…制御装置
（制御手段）。
ン電極（第１の予備電離手段）、１１…放電空間部、１
３…Ｘ線管（第２の予備電離手段）、１８…制御装置
（制御手段）。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01S 3/00 - 3/041 H01S 3/097 - 3/0979 H01S 3/104,3/134 H01S 3/22 - 3/227
Claims (1)
- 【請求項１】 ガスレーザ媒質を封入するためのレーザ
チャンバと、 このレーザチャンバ内に対向して配置された陰極と陽極
とを備える主電極と、 この陽極と陰極との間の放電空間部を放電させる第１の
予備電離手段と、 前記放電空間部にＸ線を照射する第２の予備電離手段
と、 この第２の予備電離手段を制御する制御手段とを備える
ガスレーザ装置において、 前記第２の予備電離手段は、前記放電空間部の長手方向
に沿って配設される複数個のＸ線発生装置を備え、か
つ、 前記制御手段は、前記各Ｘ線発生装置を個別に制御可能
に構成されていることを特徴とするガスレーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP711292A JP3190084B2 (ja) | 1992-01-20 | 1992-01-20 | ガスレーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP711292A JP3190084B2 (ja) | 1992-01-20 | 1992-01-20 | ガスレーザ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05198872A JPH05198872A (ja) | 1993-08-06 |
| JP3190084B2 true JP3190084B2 (ja) | 2001-07-16 |
Family
ID=11657009
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP711292A Expired - Fee Related JP3190084B2 (ja) | 1992-01-20 | 1992-01-20 | ガスレーザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3190084B2 (ja) |
-
1992
- 1992-01-20 JP JP711292A patent/JP3190084B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05198872A (ja) | 1993-08-06 |
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