JPH0322720Y2 - - Google Patents
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- JPH0322720Y2 JPH0322720Y2 JP1987122160U JP12216087U JPH0322720Y2 JP H0322720 Y2 JPH0322720 Y2 JP H0322720Y2 JP 1987122160 U JP1987122160 U JP 1987122160U JP 12216087 U JP12216087 U JP 12216087U JP H0322720 Y2 JPH0322720 Y2 JP H0322720Y2
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Landscapes
- Thermistors And Varistors (AREA)
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Description
（産業上の利用分野）
この考案は、酸化亜鉛を主成分とする電圧非直
線抵抗体を製造する際、とくに焼成工程における
作業性の改善を図るのに有利な焼成台の改良に関
するものである。 （従来の技術） 電圧非直線抵抗体は、主成分である酸化亜鉛粉
末に各種添加物を加えて混合した後、造粒、加圧
成形、焼成の各工程を経て製造されるが、とくに
焼成工程は電圧非直線抵抗体の諸特性を大きく左
右する要因として重要であり、なかでも最適な焼
成雰囲気を作り出すことは安定した諸特性を得る
上でとくに重要な条件となる。 従来、加圧成形後の成形体又はその仮焼体の如
き被処理物を焼成するにあたつては、アルミナお
よびシリカ等よりなるふた付きの焼成容器が使用
され、その内部には、被処理物と同組成よりなり
焼成中の容器内の雰囲気調整に役立つ敷板又は敷
粉が配置されるようになつていた。 （考案が解決しようとする問題点） ところで、従来の焼成容器は、焼成すべき被処
理物を、上記敷板又は敷粉の上に直接載置して焼
成していたので、得られた焼成体は、その接触面
が敷板に固着したり、敷粉の付着が不可避であつ
て、取り出しに時間がかかつたり、敷粉を取り除
くための余計な作業を必要とし、製品品質に影響
を与えるだけでなく、生産性の著しい低下を余儀
なくされた。 焼成工程における従来の問題を解消し製品品質
の劣化を招くことなしに、生産性の向上を図るの
に有利な焼成台を提供することがこの考案の目的
である。 （問題点を解決するための手段） この考案はマグネシアを少なくとも50wt％含
有した本体部分を有し、電圧非直線抵抗体用の加
圧成形体又はその仮焼体を載置して、この本体部
分を上記加圧成形体又はその仮焼体とともに焼成
容器内に装てんする形式の焼成台であつて、 上記焼成台は、焼成雰囲気の調整に役立つ敷粉
を配しかつ上記加圧成形体又はその仮焼体の載置
面における接触面積率を10〜70％に規制する区画
凹所を有することを特徴とする電圧非直線抵抗体
の焼成に用いる焼成台である。 以下図面に基づいてこの考案を詳細に説明す
る。 第１図に、この考案に従う焼成台を焼成容器内
に装てんした状態の斜視図を、また第２図ａ，ｂ
に、そのＡ−Ａ断面および平面図それぞれ示し
た。同図における番号１は、蓋１ａを有する焼成
容器本体、２は被処理物である成形体又は仮焼
体、３は焼成容器本体１内に装てんされた焼成台
で、この焼成台３は被処理物２を載置する面３ａ
に、被処理物２の端面における接触面積率を10〜
70％に規制する区画凹所３ｂを有し、この区画凹
所には敷粉４を配してある。 （作 用） この考案の焼成台は、マグネシア質からなり、
被処理物２を載置する面３ａに、該被処理物２の
端面の接触面積率を10〜70％に規制する区画凹所
３ｂを設けて、ここに敷粉４を配するようにして
あるので、被処理物２の焼成中、焼成容器１内は
最適な雰囲気に保持され、しかも被処理物２は敷
粉４に直接接触することはないので、製品品質の
劣化や作業工程の増加原因となる敷粉の付着など
は全くない。 なお、この考案の焼成台３はマグネシアを少な
くとも50wt％以上含有するものとしたが、その
理由は、マグネシアの含有量が50wt％未満では
被処理物と焼成台とが反応し付着するため取出し
が困難となるとともに被処理物の電気特性が低下
するためであり、その他の成分としてAl2O3を０
〜10wt％、SiO2を０〜35wt％の範囲で含むこと
ができる。 また、被処理物２の端面における接触面積率を
10〜70％に規制する理由は、被処理物２を全面に
わたり均一に焼成するためであり、より好ましく
は20〜40％とするのがよい。 敷粉４としては、焼成容器内の雰囲気を調整し
た被処理物２の組成変動の防止を図るために、酸
化ビスマス又は酸化アンチモンを含有する粉体も
しくは被処理物２と同組成よりなるものを用いる
のが好ましい。 さて、ここに、酸化亜鉛を主成分とする電圧非
直線抵抗体の製造要領の概略を説明する。 まず所定の粒度に調整した酸化亜鉛原料と所定
の粒度に調整したBi2O3，Co2O3，MnO2，
Sb2O3，Cr2O3，SiO2，NiO等よりなる添加物の
所定量を混合する。この際、これらの原料粉末に
対して所定量のポリビニルアルコール水溶液等を
加え、好ましくはデイスパーミルにより混合した
後、好ましくはスプレードライヤにより造粒す
る。次に得られた造粒物を成形圧力800〜1000
Kg／cm2の下で所定の形状に成形する。その成形体
を昇降温速度50〜70℃／hrで800〜1000℃、保持
時間１〜５時間という条件で仮焼成して結合剤を
飛散除去する。 次に、仮焼成した仮焼体の側面に絶縁被覆層を
形成する。絶縁被覆層は、Bi2O3，Sb2O3，SiO2
等の所定量に有機結合剤としてエチルセルロー
ス、ブチルカルビトール、酢酸ｎブチル等を加え
た酸化物ペーストよりなるものとし、このペース
トを60〜300μmの厚さに仮焼体の側面に塗布す
る。 次に、上記仮焼体を上掲第１図に示した焼成容
器１内に収容して密閉状態で本焼成する。 本焼成は、昇温速度40〜60℃／hrで昇温し、
1000〜1300℃好ましくは1100〜1250℃で３〜７時
間保持した後、降温速度30〜60℃／hrにて降温す
るのが好ましい。 なお、上述の説明では、仮焼体の側面に酸化ペ
ーストを塗布したのち本焼成を行う場合について
説明したが、成形体の側面に塗布したのち本焼成
を行つてもよい。また本焼成後、ガラス粉末に有
機結合剤としてエチルセルロース、ブチルカルビ
トール、酢酸ｎブチル等を加えたガラスペースト
を焼結体の絶縁被覆層上に100〜300μmの厚さに
塗布し、空気中で昇降温速度100〜200℃／hr、保
持温度400〜600℃、保持時間0.5〜２時間熱処理
してガラス層を形成するのはさらに好適である。 なお、この考案における焼成台は、本焼成のみ
ならず、脱脂さらには仮焼工程にも適用できるこ
とはいうまでもない。また載置面に形成する区画
凹所３ｂは、溝状のものに限定されることはな
く、被処理物の端面における接触面積率を上記の
範囲に規制できれば、例えば第３図に示すような
形状でもかまわない。 次に、得られた電圧非直線抵抗体の両端面を
SiC，Al2O3、ダイヤモンド等の＃400〜2000相当
の研磨剤により水好ましくは油を使用して、表面
粗さ２〜30μm好ましくは10〜20μmで、かつ両端
面の平行度を0.1mm以下好ましくは0.05mm以下に
研磨する。そして最後に、研磨面を洗浄し、研磨
した両端面全面に例えばアルミニウムメタリコン
等によつてアルミニウム電極を設ける。 （実施例） 実施例 １ 上述した要領で作成した直径47mm、厚さ20mmの
電圧非直線抵抗体におてい、種々の組成範囲から
なる焼成台を使用して焼成した試料No.１〜４と、
敷板のみまたは敷板上に敷粉を配して焼成した比
較例５，６を準備し、焼成後の取り出し作業性、
電圧非直線指数のおよび雷サージ後の△V1mA
について比較検討した。その結果を表−１に示
す。 なお、焼成条件はすべての試料に対して同一と
した。 焼成条件： 脱脂仮焼：900℃×2hr、昇降温速度：50℃／
hr、本焼成：1200℃×5hr、昇降温速度：50℃／
hr、接触面積率（No.１〜No.４）：30％
線抵抗体を製造する際、とくに焼成工程における
作業性の改善を図るのに有利な焼成台の改良に関
するものである。 （従来の技術） 電圧非直線抵抗体は、主成分である酸化亜鉛粉
末に各種添加物を加えて混合した後、造粒、加圧
成形、焼成の各工程を経て製造されるが、とくに
焼成工程は電圧非直線抵抗体の諸特性を大きく左
右する要因として重要であり、なかでも最適な焼
成雰囲気を作り出すことは安定した諸特性を得る
上でとくに重要な条件となる。 従来、加圧成形後の成形体又はその仮焼体の如
き被処理物を焼成するにあたつては、アルミナお
よびシリカ等よりなるふた付きの焼成容器が使用
され、その内部には、被処理物と同組成よりなり
焼成中の容器内の雰囲気調整に役立つ敷板又は敷
粉が配置されるようになつていた。 （考案が解決しようとする問題点） ところで、従来の焼成容器は、焼成すべき被処
理物を、上記敷板又は敷粉の上に直接載置して焼
成していたので、得られた焼成体は、その接触面
が敷板に固着したり、敷粉の付着が不可避であつ
て、取り出しに時間がかかつたり、敷粉を取り除
くための余計な作業を必要とし、製品品質に影響
を与えるだけでなく、生産性の著しい低下を余儀
なくされた。 焼成工程における従来の問題を解消し製品品質
の劣化を招くことなしに、生産性の向上を図るの
に有利な焼成台を提供することがこの考案の目的
である。 （問題点を解決するための手段） この考案はマグネシアを少なくとも50wt％含
有した本体部分を有し、電圧非直線抵抗体用の加
圧成形体又はその仮焼体を載置して、この本体部
分を上記加圧成形体又はその仮焼体とともに焼成
容器内に装てんする形式の焼成台であつて、 上記焼成台は、焼成雰囲気の調整に役立つ敷粉
を配しかつ上記加圧成形体又はその仮焼体の載置
面における接触面積率を10〜70％に規制する区画
凹所を有することを特徴とする電圧非直線抵抗体
の焼成に用いる焼成台である。 以下図面に基づいてこの考案を詳細に説明す
る。 第１図に、この考案に従う焼成台を焼成容器内
に装てんした状態の斜視図を、また第２図ａ，ｂ
に、そのＡ−Ａ断面および平面図それぞれ示し
た。同図における番号１は、蓋１ａを有する焼成
容器本体、２は被処理物である成形体又は仮焼
体、３は焼成容器本体１内に装てんされた焼成台
で、この焼成台３は被処理物２を載置する面３ａ
に、被処理物２の端面における接触面積率を10〜
70％に規制する区画凹所３ｂを有し、この区画凹
所には敷粉４を配してある。 （作 用） この考案の焼成台は、マグネシア質からなり、
被処理物２を載置する面３ａに、該被処理物２の
端面の接触面積率を10〜70％に規制する区画凹所
３ｂを設けて、ここに敷粉４を配するようにして
あるので、被処理物２の焼成中、焼成容器１内は
最適な雰囲気に保持され、しかも被処理物２は敷
粉４に直接接触することはないので、製品品質の
劣化や作業工程の増加原因となる敷粉の付着など
は全くない。 なお、この考案の焼成台３はマグネシアを少な
くとも50wt％以上含有するものとしたが、その
理由は、マグネシアの含有量が50wt％未満では
被処理物と焼成台とが反応し付着するため取出し
が困難となるとともに被処理物の電気特性が低下
するためであり、その他の成分としてAl2O3を０
〜10wt％、SiO2を０〜35wt％の範囲で含むこと
ができる。 また、被処理物２の端面における接触面積率を
10〜70％に規制する理由は、被処理物２を全面に
わたり均一に焼成するためであり、より好ましく
は20〜40％とするのがよい。 敷粉４としては、焼成容器内の雰囲気を調整し
た被処理物２の組成変動の防止を図るために、酸
化ビスマス又は酸化アンチモンを含有する粉体も
しくは被処理物２と同組成よりなるものを用いる
のが好ましい。 さて、ここに、酸化亜鉛を主成分とする電圧非
直線抵抗体の製造要領の概略を説明する。 まず所定の粒度に調整した酸化亜鉛原料と所定
の粒度に調整したBi2O3，Co2O3，MnO2，
Sb2O3，Cr2O3，SiO2，NiO等よりなる添加物の
所定量を混合する。この際、これらの原料粉末に
対して所定量のポリビニルアルコール水溶液等を
加え、好ましくはデイスパーミルにより混合した
後、好ましくはスプレードライヤにより造粒す
る。次に得られた造粒物を成形圧力800〜1000
Kg／cm2の下で所定の形状に成形する。その成形体
を昇降温速度50〜70℃／hrで800〜1000℃、保持
時間１〜５時間という条件で仮焼成して結合剤を
飛散除去する。 次に、仮焼成した仮焼体の側面に絶縁被覆層を
形成する。絶縁被覆層は、Bi2O3，Sb2O3，SiO2
等の所定量に有機結合剤としてエチルセルロー
ス、ブチルカルビトール、酢酸ｎブチル等を加え
た酸化物ペーストよりなるものとし、このペース
トを60〜300μmの厚さに仮焼体の側面に塗布す
る。 次に、上記仮焼体を上掲第１図に示した焼成容
器１内に収容して密閉状態で本焼成する。 本焼成は、昇温速度40〜60℃／hrで昇温し、
1000〜1300℃好ましくは1100〜1250℃で３〜７時
間保持した後、降温速度30〜60℃／hrにて降温す
るのが好ましい。 なお、上述の説明では、仮焼体の側面に酸化ペ
ーストを塗布したのち本焼成を行う場合について
説明したが、成形体の側面に塗布したのち本焼成
を行つてもよい。また本焼成後、ガラス粉末に有
機結合剤としてエチルセルロース、ブチルカルビ
トール、酢酸ｎブチル等を加えたガラスペースト
を焼結体の絶縁被覆層上に100〜300μmの厚さに
塗布し、空気中で昇降温速度100〜200℃／hr、保
持温度400〜600℃、保持時間0.5〜２時間熱処理
してガラス層を形成するのはさらに好適である。 なお、この考案における焼成台は、本焼成のみ
ならず、脱脂さらには仮焼工程にも適用できるこ
とはいうまでもない。また載置面に形成する区画
凹所３ｂは、溝状のものに限定されることはな
く、被処理物の端面における接触面積率を上記の
範囲に規制できれば、例えば第３図に示すような
形状でもかまわない。 次に、得られた電圧非直線抵抗体の両端面を
SiC，Al2O3、ダイヤモンド等の＃400〜2000相当
の研磨剤により水好ましくは油を使用して、表面
粗さ２〜30μm好ましくは10〜20μmで、かつ両端
面の平行度を0.1mm以下好ましくは0.05mm以下に
研磨する。そして最後に、研磨面を洗浄し、研磨
した両端面全面に例えばアルミニウムメタリコン
等によつてアルミニウム電極を設ける。 （実施例） 実施例 １ 上述した要領で作成した直径47mm、厚さ20mmの
電圧非直線抵抗体におてい、種々の組成範囲から
なる焼成台を使用して焼成した試料No.１〜４と、
敷板のみまたは敷板上に敷粉を配して焼成した比
較例５，６を準備し、焼成後の取り出し作業性、
電圧非直線指数のおよび雷サージ後の△V1mA
について比較検討した。その結果を表−１に示
す。 なお、焼成条件はすべての試料に対して同一と
した。 焼成条件： 脱脂仮焼：900℃×2hr、昇降温速度：50℃／
hr、本焼成：1200℃×5hr、昇降温速度：50℃／
hr、接触面積率（No.１〜No.４）：30％
【表】
表−１中電圧非直線指数αは、Ｉ＝KV〓
（Ｉ：電流、Ｖ：電圧、Ｋ：比例定数）に基づい
てV1nAとV100μAとの値から求めた。また雷サー
ジ後の△V1nAは４×10μsの電流波形で40KAの電
流を10回印加した後のV1nAの低下率を示す。 表−１から明らかなように、この考案の焼成台
を適用した試料No.１〜３は比較例に比べ、焼成容
器からの取り出し作業性が良好であり、また、電
圧非直線抵抗体の特性も良好であることが確かめ
られた。 実施例 ２ 実施例１で使用した試料No.１〜３と４，５，６
に対して、焼成後の取り出し作業性を定量的に比
較するため、それぞれの焼成後の厚みを測定して
から所定の厚みにするまでの研磨時間および研磨
後の平行度を比較検討した。その結果を表２に示
す。
てV1nAとV100μAとの値から求めた。また雷サー
ジ後の△V1nAは４×10μsの電流波形で40KAの電
流を10回印加した後のV1nAの低下率を示す。 表−１から明らかなように、この考案の焼成台
を適用した試料No.１〜３は比較例に比べ、焼成容
器からの取り出し作業性が良好であり、また、電
圧非直線抵抗体の特性も良好であることが確かめ
られた。 実施例 ２ 実施例１で使用した試料No.１〜３と４，５，６
に対して、焼成後の取り出し作業性を定量的に比
較するため、それぞれの焼成後の厚みを測定して
から所定の厚みにするまでの研磨時間および研磨
後の平行度を比較検討した。その結果を表２に示
す。
【表】
なお表−２において、研磨時間は所望の厚さ
（20mm）になるまでに片面を研磨するのに必要な
時間として求めた。 また焼成後の厚みは測定した最大値と最小値を
示す。 表２から明らかなように、この考案の焼成台を
使用した試料１〜３は比較例No.４，５，６に比べ
て、所望の厚みにするまでの研磨時間が短くて済
むとともに、研磨後の平行度も良好であることが
確かめられた。 実施例 ３ 実施例１と同様の要領で作成した直径47mm、厚
さ20mmの電圧非直線抵抗体において、該抵抗体の
端面における接触面積率を種々変更した焼成台を
使用して焼成した試料を準備し、各試料の焼成後
の取り出し作業性、電圧非直線指数αおよび雷サ
ージ後の△V1nAにつき調査した。 なお、焼成条件はすべての試料に対して同一と
した。 焼成条件： 脱脂仮焼：900℃×2hr 本焼成：1200℃×5hr 焼成台：マグネシア質（MgO99wt％含有）
（20mm）になるまでに片面を研磨するのに必要な
時間として求めた。 また焼成後の厚みは測定した最大値と最小値を
示す。 表２から明らかなように、この考案の焼成台を
使用した試料１〜３は比較例No.４，５，６に比べ
て、所望の厚みにするまでの研磨時間が短くて済
むとともに、研磨後の平行度も良好であることが
確かめられた。 実施例 ３ 実施例１と同様の要領で作成した直径47mm、厚
さ20mmの電圧非直線抵抗体において、該抵抗体の
端面における接触面積率を種々変更した焼成台を
使用して焼成した試料を準備し、各試料の焼成後
の取り出し作業性、電圧非直線指数αおよび雷サ
ージ後の△V1nAにつき調査した。 なお、焼成条件はすべての試料に対して同一と
した。 焼成条件： 脱脂仮焼：900℃×2hr 本焼成：1200℃×5hr 焼成台：マグネシア質（MgO99wt％含有）
【表】
表−３から明らかなように、この考案に従う焼
成台を用いた試料No.７〜11は、比較例に比べ焼成
体が焼成台に固着することなくはなく取り出しが
容易であり、また電圧非直線抵抗体の特性につい
ても良好であることが確かめられた。 実施例 ４ 実施例−３で使用した試料No.７〜11、と12，13
に対して、焼成後の取り出し作業性を定量的に比
較するため、それぞれの焼成後の厚みを測定して
から所定の厚みにするまでの研磨時間および研磨
後の平行度を比較検討した。その結果を表−４に
示す。
成台を用いた試料No.７〜11は、比較例に比べ焼成
体が焼成台に固着することなくはなく取り出しが
容易であり、また電圧非直線抵抗体の特性につい
ても良好であることが確かめられた。 実施例 ４ 実施例−３で使用した試料No.７〜11、と12，13
に対して、焼成後の取り出し作業性を定量的に比
較するため、それぞれの焼成後の厚みを測定して
から所定の厚みにするまでの研磨時間および研磨
後の平行度を比較検討した。その結果を表−４に
示す。
【表】
なお、表−４において、研磨時間は所望の厚さ
（20mm）になるまでに片面を研磨するのに必要な
時間として求めた。 また焼成後の厚みは測定した最大値を最小値を
示した。 表−４から明らかなように、この考案に従う焼
成台を用いて焼成した試料は、所望の厚みにする
までの研磨時間が短くて済むとともに、研磨後の
平行度も良好であることが確かめられた。 （考案の効果） この考案によれば、とくに焼成工程において不
可避であつた敷粉の付着や敷板への固着を完全に
防止することが可能で、製品品質の劣化を招くこ
となしに生産性の大幅な向上を図ることができ、
その工業的価値は大きい。
（20mm）になるまでに片面を研磨するのに必要な
時間として求めた。 また焼成後の厚みは測定した最大値を最小値を
示した。 表−４から明らかなように、この考案に従う焼
成台を用いて焼成した試料は、所望の厚みにする
までの研磨時間が短くて済むとともに、研磨後の
平行度も良好であることが確かめられた。 （考案の効果） この考案によれば、とくに焼成工程において不
可避であつた敷粉の付着や敷板への固着を完全に
防止することが可能で、製品品質の劣化を招くこ
となしに生産性の大幅な向上を図ることができ、
その工業的価値は大きい。
第１図はこの考案の実施例の模式図、第２図
ａ，ｂは第１図のＡ−Ａ断面および平面を示す
図、第３図は、この考案の他の実施例を示す図で
ある。 １……焼成容器本体、２……被処理物、３……
焼成台、３ａ……被処理物の載置面、３ｂ……区
画凹所、４……敷粉。
ａ，ｂは第１図のＡ−Ａ断面および平面を示す
図、第３図は、この考案の他の実施例を示す図で
ある。 １……焼成容器本体、２……被処理物、３……
焼成台、３ａ……被処理物の載置面、３ｂ……区
画凹所、４……敷粉。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 マグネシアを少なくとも50wt％含有した本体
部分を有し、電圧非直線抵抗体用の加圧成形体又
はその仮焼体を載置して、この本体部分を上記加
圧成形体又はその仮焼体とともに焼成容器内に装
てんする形式の焼成台であつて、 上記焼成台は、焼成雰囲気の調整に役立つ敷粉
を配しかつ上記加圧成形体又はその仮焼体の載置
面における接触面積率を10〜70％に規制する区画
凹所を有することを特徴とする電圧非直線抵抗体
の焼成に用いる焼成台。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987122160U JPH0322720Y2 (ja) | 1987-08-11 | 1987-08-11 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987122160U JPH0322720Y2 (ja) | 1987-08-11 | 1987-08-11 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6428800U JPS6428800U (ja) | 1989-02-20 |
| JPH0322720Y2 true JPH0322720Y2 (ja) | 1991-05-17 |
Family
ID=31369826
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1987122160U Expired JPH0322720Y2 (ja) | 1987-08-11 | 1987-08-11 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0322720Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2512610Y2 (ja) * | 1990-03-23 | 1996-10-02 | 良幸 小林 | 衣服仕上げ装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52148402A (en) * | 1976-06-04 | 1977-12-09 | Sony Corp | Preparation of fused salt electrolytic bath |
-
1987
- 1987-08-11 JP JP1987122160U patent/JPH0322720Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52148402A (en) * | 1976-06-04 | 1977-12-09 | Sony Corp | Preparation of fused salt electrolytic bath |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6428800U (ja) | 1989-02-20 |
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