JPH03223660A - ガスセンサ用金属酸化物系半導体素子 - Google Patents
ガスセンサ用金属酸化物系半導体素子Info
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- JPH03223660A JPH03223660A JP2003290A JP2003290A JPH03223660A JP H03223660 A JPH03223660 A JP H03223660A JP 2003290 A JP2003290 A JP 2003290A JP 2003290 A JP2003290 A JP 2003290A JP H03223660 A JPH03223660 A JP H03223660A
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Landscapes
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、高感度で安定性に優れた可燃性ガス用のガス
センサに関し、より詳しくは、ガスセンサ用金属酸化物
系半導体素子に関する。
センサに関し、より詳しくは、ガスセンサ用金属酸化物
系半導体素子に関する。
従来技術とその問題点
5n02などの金属酸化物系半導体素子を使用する可燃
性ガス(Co、H2、CHa 、C2Hb、C,H,、
(CH3)2 CHCH3など)用のセンサは、高感度
であることを第1の要件とする。
性ガス(Co、H2、CHa 、C2Hb、C,H,、
(CH3)2 CHCH3など)用のセンサは、高感度
であることを第1の要件とする。
従って、従来からも、可燃性ガスの検知感度改善のため
に種々の提案がなされてきた。
に種々の提案がなされてきた。
例えば、金属酸化物にPd、PtSAgなどの貴金属或
いはその塩化物を0.1〜1重量%程度添加し、これら
の触媒作用を利用してセンサの感度を向上させる方法が
ある。しかしながら、この場合には、可燃性ガス中に含
まれる硫黄化合物などの不純成分により貴金属成分が被
毒されたり、センサ製造時の焼成に際して或いはセンサ
の使用温度(100〜500℃程度)で貴金属成分のシ
ンタリング或いは結晶の再配列などを生じたりして、セ
ンサの感度が急速に低下するという問題点がある。
いはその塩化物を0.1〜1重量%程度添加し、これら
の触媒作用を利用してセンサの感度を向上させる方法が
ある。しかしながら、この場合には、可燃性ガス中に含
まれる硫黄化合物などの不純成分により貴金属成分が被
毒されたり、センサ製造時の焼成に際して或いはセンサ
の使用温度(100〜500℃程度)で貴金属成分のシ
ンタリング或いは結晶の再配列などを生じたりして、セ
ンサの感度が急速に低下するという問題点がある。
また、金属酸化物の粒子径を微細化することにより、貴
金属成分を使用することなくセンサの感度を向上させ得
ることが知られている。従って、PVD技術により金属
酸化物の超微粒子を形成させることにより、センサの感
度を改善する試みがなされている。しかしながら、この
方法では、超微粒子の粒子径をコントロールすることが
できないので、センサの性能が安定し難いという問題点
がある。さらに、この場合にも、半導体素子の焼結時或
いは使用時の金属酸化物のシンタリング或いは結晶の再
配列などを生じて、センサの感度が急速に低下するので
、やはり実用的なセンサは得られない。
金属成分を使用することなくセンサの感度を向上させ得
ることが知られている。従って、PVD技術により金属
酸化物の超微粒子を形成させることにより、センサの感
度を改善する試みがなされている。しかしながら、この
方法では、超微粒子の粒子径をコントロールすることが
できないので、センサの性能が安定し難いという問題点
がある。さらに、この場合にも、半導体素子の焼結時或
いは使用時の金属酸化物のシンタリング或いは結晶の再
配列などを生じて、センサの感度が急速に低下するので
、やはり実用的なセンサは得られない。
問題点を解決するだめの手段
本発明者は、上記の如き従来技術の問題点に鑑みて研究
を重ねた結果、ガスセンサ用金属酸化物系半導体素子を
製造するに際し、金属酸化物に特定の元素を配合してお
く場合には、半導体素子製造過程の焼成時における金属
酸化物粒子のシンタリングを抑制し得るとともに、ガス
センサとしての使用時における金属酸化物粒子の再結晶
をも抑制することができ、その結果、高感度で安定性に
優れたガスセンサが得られることを見出した。
を重ねた結果、ガスセンサ用金属酸化物系半導体素子を
製造するに際し、金属酸化物に特定の元素を配合してお
く場合には、半導体素子製造過程の焼成時における金属
酸化物粒子のシンタリングを抑制し得るとともに、ガス
センサとしての使用時における金属酸化物粒子の再結晶
をも抑制することができ、その結果、高感度で安定性に
優れたガスセンサが得られることを見出した。
すなわち、本発明は、下記のガスセンサ用金属酸化物系
半導体素子を提供するものである:[ガスセンサ用金属
酸化物系半導体素子において、金属酸化物の1〜10原
子%の割合で1A族元素、2A族元素、希土類、Ni、
WおよびZnの酸化物の少なくとも一種を含有すること
を特徴とするガスセンサ用金属酸化物系半導体素子。」
本発明半導体素子において使用する金属酸化物としては
、5n02 、TiO2、ZnO。
半導体素子を提供するものである:[ガスセンサ用金属
酸化物系半導体素子において、金属酸化物の1〜10原
子%の割合で1A族元素、2A族元素、希土類、Ni、
WおよびZnの酸化物の少なくとも一種を含有すること
を特徴とするガスセンサ用金属酸化物系半導体素子。」
本発明半導体素子において使用する金属酸化物としては
、5n02 、TiO2、ZnO。
In2O3などが例示され、この中でも5n02がより
好ましい。
好ましい。
本発明においてセンサの製造に際し金属酸化物中に酸化
物の形態で配合される元素は、下記のものである。なお
、本願明細書において、“1A族″および“2A族”と
あるのは、「岩波理化学辞典第4版」第1427頁に記
載の短周期型元素周期表による。
物の形態で配合される元素は、下記のものである。なお
、本願明細書において、“1A族″および“2A族”と
あるのは、「岩波理化学辞典第4版」第1427頁に記
載の短周期型元素周期表による。
*1A族元素−Na、に、Rb、Ceなど。
*2A2A族−MgSCaSS r、Baなど。
*希土類・・・原子番号57〜71のランタノイド並び
にイツトリウムおよびスカンジウム。
にイツトリウムおよびスカンジウム。
*Ni、WおよびZn0
上記の金属酸化物に他の元素を配合する場合には、セン
サとしてのガス識別能が大幅に変化するのがこれまでの
通例であるが、これら特定の元素を添加する場合には、
センサとしてのガス識別能は実質的に変化せず、ガス検
知感度のみが改善される。このことから、本発明におけ
る添加元素は、触媒としての機能を発揮するのではなく
、主に金属酸化物微粒子のシンタリング抑制効果を発揮
するものと推測される。事実、触媒成分としてpt、P
dなどを添加する公知技術において認められるイオウな
どによる被毒に起因するガス検知感度の劣化は、極めて
少ない。金属酸化物に対する上記の添加元素としては、
Zn、Ca5Ba、Srなどがより好ましい。金属酸化
物に対する元素の添加割合は、通常1〜10原子%(以
下単に“%”とする)程度であり、より好ましくは2〜
7%程度である。元素の添加割合が1%未満の場合には
、物性改善の効果が十分に達成されないのに対し、10
%を上回る場合には、素子抵抗の増大、素子強度の低下
などを生ずることがある。
サとしてのガス識別能が大幅に変化するのがこれまでの
通例であるが、これら特定の元素を添加する場合には、
センサとしてのガス識別能は実質的に変化せず、ガス検
知感度のみが改善される。このことから、本発明におけ
る添加元素は、触媒としての機能を発揮するのではなく
、主に金属酸化物微粒子のシンタリング抑制効果を発揮
するものと推測される。事実、触媒成分としてpt、P
dなどを添加する公知技術において認められるイオウな
どによる被毒に起因するガス検知感度の劣化は、極めて
少ない。金属酸化物に対する上記の添加元素としては、
Zn、Ca5Ba、Srなどがより好ましい。金属酸化
物に対する元素の添加割合は、通常1〜10原子%(以
下単に“%”とする)程度であり、より好ましくは2〜
7%程度である。元素の添加割合が1%未満の場合には
、物性改善の効果が十分に達成されないのに対し、10
%を上回る場合には、素子抵抗の増大、素子強度の低下
などを生ずることがある。
上記特定の元素を配合した金属酸化物を半導体材料とし
て使用する点を除けば、本発明によるガスセンサ用金属
酸化物系半導体素子の製造方法、構造などは、公知のガ
スセンサ用金属酸化物系半導体素子のそれらと何ら異な
るところはない。すなわち、金属酸化物として5n02
を使用する場合を例にとるならば、Sn、5n02また
はその他のSn源化合物を乾燥し、空気中で仮焼し、粉
砕した後、所定量の添加元素またはその酸化物或いはそ
の他の添加元素源化合物粉末を加え、さらに空気中で仮
焼する。Sn源化合物および添加元素源化合物としては
、空気中での仮焼により分解して酸化物を形成し得るも
のであれば、特に限定されず、例えば、硝酸塩、塩化物
などが例示される。この様にして得られた仮焼混合粉末
に水を加えてペーストとし、白金などの電極を取付けた
アルミナなどのセラックス基材にこのペーストを塗布し
、空気中で焼成すれば良い。但し、上記で説明した半導
体素子の製造方法は、単なる一例に過ぎず、本発明によ
るガスセンサ用金属酸化物系半導体素子は、他の如何な
る方法により製造しても良い。
て使用する点を除けば、本発明によるガスセンサ用金属
酸化物系半導体素子の製造方法、構造などは、公知のガ
スセンサ用金属酸化物系半導体素子のそれらと何ら異な
るところはない。すなわち、金属酸化物として5n02
を使用する場合を例にとるならば、Sn、5n02また
はその他のSn源化合物を乾燥し、空気中で仮焼し、粉
砕した後、所定量の添加元素またはその酸化物或いはそ
の他の添加元素源化合物粉末を加え、さらに空気中で仮
焼する。Sn源化合物および添加元素源化合物としては
、空気中での仮焼により分解して酸化物を形成し得るも
のであれば、特に限定されず、例えば、硝酸塩、塩化物
などが例示される。この様にして得られた仮焼混合粉末
に水を加えてペーストとし、白金などの電極を取付けた
アルミナなどのセラックス基材にこのペーストを塗布し
、空気中で焼成すれば良い。但し、上記で説明した半導
体素子の製造方法は、単なる一例に過ぎず、本発明によ
るガスセンサ用金属酸化物系半導体素子は、他の如何な
る方法により製造しても良い。
発明の効果
金属酸化物中に特定元素の酸化物を含有する本発明のガ
スセンサ用半導体素子では、製造時の焼結過程において
も、また使用時の加熱状態においても、金属酸化物のシ
ンタリング、結晶の再配列などが効果的に抑制される。
スセンサ用半導体素子では、製造時の焼結過程において
も、また使用時の加熱状態においても、金属酸化物のシ
ンタリング、結晶の再配列などが効果的に抑制される。
従って、金属酸化物粒子の粒径をコントロールすること
ができ、可燃性ガスの検知感度が著しく改善され、また
耐久性も著しく延長される。さらに、可燃ガス中の硫黄
成分などによる被毒に起因する感度劣化も大幅に抑制さ
れる。
ができ、可燃性ガスの検知感度が著しく改善され、また
耐久性も著しく延長される。さらに、可燃ガス中の硫黄
成分などによる被毒に起因する感度劣化も大幅に抑制さ
れる。
実施例
以下に実施例を示し、本発明の特徴とするところをより
一層明確にする。
一層明確にする。
実施例1
(イ)ガスセンサ用半導体素子の製造:5nC14を中
和することにより得られたアルファ錫酸を乾燥し、仮焼
し、粉砕した後、所定の添加元素を5%加え、空気中6
00℃で1時間焼成した。
和することにより得られたアルファ錫酸を乾燥し、仮焼
し、粉砕した後、所定の添加元素を5%加え、空気中6
00℃で1時間焼成した。
次いで、得られた混合焼成物に少量の水を加え、均一に
混練してペーストを調製し、予め白金電極を取付けたア
ルミナ製円筒にこれを塗布し、空気中700℃で4時間
焼成して、ガスセンサ用半導体素子を得た。
混練してペーストを調製し、予め白金電極を取付けたア
ルミナ製円筒にこれを塗布し、空気中700℃で4時間
焼成して、ガスセンサ用半導体素子を得た。
得られた半導体素子の概要は、一部を切り欠いた斜面図
として第1図に示す通りである。第1図において、(1
)はアルミナ製円筒、(3)は白金電極、(5)は5n
02と添加成分とからなる金属酸化物層をそれぞれ示す
。
として第1図に示す通りである。第1図において、(1
)はアルミナ製円筒、(3)は白金電極、(5)は5n
02と添加成分とからなる金属酸化物層をそれぞれ示す
。
(ロ)ガスセンサ抵抗測定装置:
次いで、第2図に示すガスセンサ抵抗測定装置を使用し
て、各種の可燃性ガスの検知試験を行なった。
て、各種の可燃性ガスの検知試験を行なった。
第2図において、可燃性ガスは、ライン(11)から4
り足部(13)に入り、加熱ヒータ(15)により所定
の温度に加熱され、半導体素子(17)と接触して、そ
の抵抗値(R)を変化させた後、ライン(19)から装
置外に出る。定電圧電源(21)の電圧(E)、基準抵
抗(23)の抵抗値(r)および出力電圧(V)により
下式で表される抵抗値(R)は、記録計(25)で記録
される。
り足部(13)に入り、加熱ヒータ(15)により所定
の温度に加熱され、半導体素子(17)と接触して、そ
の抵抗値(R)を変化させた後、ライン(19)から装
置外に出る。定電圧電源(21)の電圧(E)、基準抵
抗(23)の抵抗値(r)および出力電圧(V)により
下式で表される抵抗値(R)は、記録計(25)で記録
される。
R=r (E−V) /V
(ハ)水素ガス検知試験:
可燃性ガスとして水素800ppmを含有する空気を第
2図に示す試験装置に送入して、半導体素子のガス検知
感度を測定した。ガス加熱温度をそれぞれ300℃およ
び400℃とした場合について、S n O2の粒子径
とガス検知感度との関係を第3図に示す。
2図に示す試験装置に送入して、半導体素子のガス検知
感度を測定した。ガス加熱温度をそれぞれ300℃およ
び400℃とした場合について、S n O2の粒子径
とガス検知感度との関係を第3図に示す。
第3図において、ガス検知感度は、空気送入時の抵抗(
R,I、 )を可燃性ガス送入時の抵抗(R,、、)で
割った値である(以下同様)。また、金属酸化物は、簡
略化のため、それぞれの金属として示しである。
R,I、 )を可燃性ガス送入時の抵抗(R,、、)で
割った値である(以下同様)。また、金属酸化物は、簡
略化のため、それぞれの金属として示しである。
第3図に示す結果から、本発明にしたがって、SnO2
に特定の元素を配合することにより、SnO2の結晶粒
子径が細かくなり、水素ガス検知感度が著しく改善され
ていることが明らかである。
に特定の元素を配合することにより、SnO2の結晶粒
子径が細かくなり、水素ガス検知感度が著しく改善され
ていることが明らかである。
(ニ)CO検知試験:
可燃性ガスとしてCo 800ppmを含有する空気
を使用する以外は上記(ハ)と同様にして半導体素子の
ガス検知感度を測定した。結果は、第4図に示す通りで
ある。
を使用する以外は上記(ハ)と同様にして半導体素子の
ガス検知感度を測定した。結果は、第4図に示す通りで
ある。
第4図に示す結果から、可燃性ガスがCOである場合に
も、その検知感度が著しく改善されていることが明らか
である。
も、その検知感度が著しく改善されていることが明らか
である。
(ホ)イソブタン検知試験:
可燃性ガスとしてイソブタン11000ppを含有する
空気を使用する以外は上記(ハ)と同様にして半導体素
子のガス検知感度を測定した。結果は、第5図に示す通
りである。
空気を使用する以外は上記(ハ)と同様にして半導体素
子のガス検知感度を測定した。結果は、第5図に示す通
りである。
第5図に示す結果から、可燃性ガスがイソブタンである
場合にも、その検知感度が著しく改善されていることが
明らかである。
場合にも、その検知感度が著しく改善されていることが
明らかである。
参考例1
半導体素子製造時の焼成温度を種々変える以外は実施例
1の(イ)と同様にして半導体素子を製造した。使用し
た添加成分は、LaおよびBaである。
1の(イ)と同様にして半導体素子を製造した。使用し
た添加成分は、LaおよびBaである。
第6図に示す結果から明らかな様に、酸化金属がS n
O2のみからなる場合には、焼成温度の1−昇ととも
にSnO□の結晶粒子径が著しく増大l、5ている。
O2のみからなる場合には、焼成温度の1−昇ととも
にSnO□の結晶粒子径が著しく増大l、5ている。
これに対し、LaまたはBaを添加成分として使用する
場合には、焼成温度による影響がほとんど無(なり、S
nO2の結晶粒子径の増大が実質的に抑制されている。
場合には、焼成温度による影響がほとんど無(なり、S
nO2の結晶粒子径の増大が実質的に抑制されている。
第1図は、本発明ガスセンサ用半導体素子の概要を示す
一部切欠斜面図である。 第2図は、実施例において可燃性ガスの感度検知に使用
したガスセンサ抵抗測定装置の概要を示す回路図である
。 第3図乃至第5図は、ガスセンサ用半導体素子中のSn
O□結晶粒子径と各種の可燃性ガスに対する感度検知と
の関係を示すグラフである。 第6図は、半導体素子製造時の焼成温度とSnO□結晶
粒子径との関係を示すグラフである。 (1)・・・アルミナ製円筒 (3)・・・白金電極 (5)・・・金属酸化物層 (11)・・・試験ガス送入ライン (13)・・・測定部 (15)加熱ヒータ (17)・・・半導体素子 (19)試験ガス送出ライン (21)・・・定電圧電源 (23)・・・基準抵抗 (25)・・・記録計 (以 上) 第 図 40.0 00 00 00 00 00 焼ヂ繋旦度(°C) 第 1 図 帛 図 7 第 図 5n02 Mi晶h+逢(nm) 第 図 5n02結晶社子迂 (nm) 第 図 SnO奈叶晶粒壬住(r+m)
一部切欠斜面図である。 第2図は、実施例において可燃性ガスの感度検知に使用
したガスセンサ抵抗測定装置の概要を示す回路図である
。 第3図乃至第5図は、ガスセンサ用半導体素子中のSn
O□結晶粒子径と各種の可燃性ガスに対する感度検知と
の関係を示すグラフである。 第6図は、半導体素子製造時の焼成温度とSnO□結晶
粒子径との関係を示すグラフである。 (1)・・・アルミナ製円筒 (3)・・・白金電極 (5)・・・金属酸化物層 (11)・・・試験ガス送入ライン (13)・・・測定部 (15)加熱ヒータ (17)・・・半導体素子 (19)試験ガス送出ライン (21)・・・定電圧電源 (23)・・・基準抵抗 (25)・・・記録計 (以 上) 第 図 40.0 00 00 00 00 00 焼ヂ繋旦度(°C) 第 1 図 帛 図 7 第 図 5n02 Mi晶h+逢(nm) 第 図 5n02結晶社子迂 (nm) 第 図 SnO奈叶晶粒壬住(r+m)
Claims (1)
- (1)ガスセンサ用金属酸化物系半導体素子において、
金属酸化物の1〜10原子%の割合で1A族元素、2A
族元素、希土類、Ni、WおよびZnの酸化物の少なく
とも一種を含有することを特徴とするガスセンサ用金属
酸化物系半導体素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003290A JPH03223660A (ja) | 1990-01-29 | 1990-01-29 | ガスセンサ用金属酸化物系半導体素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003290A JPH03223660A (ja) | 1990-01-29 | 1990-01-29 | ガスセンサ用金属酸化物系半導体素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03223660A true JPH03223660A (ja) | 1991-10-02 |
Family
ID=12015729
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003290A Pending JPH03223660A (ja) | 1990-01-29 | 1990-01-29 | ガスセンサ用金属酸化物系半導体素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03223660A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5602324A (en) * | 1993-10-05 | 1997-02-11 | Mitsubishi Materials Corporation | Gas sensor and gas discriminating method |
JPH09257737A (ja) * | 1996-03-19 | 1997-10-03 | Dkk Corp | 食品の品質検知用ガスセンサ |
JP2004028822A (ja) * | 2002-06-26 | 2004-01-29 | New Cosmos Electric Corp | 半導体式水素ガス検知素子 |
-
1990
- 1990-01-29 JP JP2003290A patent/JPH03223660A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5602324A (en) * | 1993-10-05 | 1997-02-11 | Mitsubishi Materials Corporation | Gas sensor and gas discriminating method |
JPH09257737A (ja) * | 1996-03-19 | 1997-10-03 | Dkk Corp | 食品の品質検知用ガスセンサ |
JP2004028822A (ja) * | 2002-06-26 | 2004-01-29 | New Cosmos Electric Corp | 半導体式水素ガス検知素子 |
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