JPH03194558A - 放射線感受性装置の製造方法 - Google Patents
放射線感受性装置の製造方法Info
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- JPH03194558A JPH03194558A JP2317589A JP31758990A JPH03194558A JP H03194558 A JPH03194558 A JP H03194558A JP 2317589 A JP2317589 A JP 2317589A JP 31758990 A JP31758990 A JP 31758990A JP H03194558 A JPH03194558 A JP H03194558A
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- G03F7/115—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having supports or layers with means for obtaining a screen effect or for obtaining better contact in vacuum printing
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は放射線感受性装置、また限定されないが中でも
特に平版印刷用プレートの製造用放射線怒受性プレート
に関する。
特に平版印刷用プレートの製造用放射線怒受性プレート
に関する。
このような放射線感受性装置は知られており、また支持
体、例えば放射線感受性層で被覆された金属シートを含
んでいる。平版印刷用プレートの製造にこのような装置
を使用する場合、層の一部が放射線の攻撃を受けて他の
部分が攻撃を受けないように、透過面(transpa
rency)を使用して放射線感受性層を放射線にさら
す。ネガティブに作用する放射線感受性層の場合、放射
線の攻撃を受けた区域は放射線の攻撃を受けない区域よ
りも溶解しない。ポジティブに作用する放射線感受性層
の場合、放射線の攻撃を受けた区域は放射線の攻撃を受
けない区域よりも溶解する。従って画像に関して露光し
た層<image−wise exposed 1ay
er)をより可溶性の高い区域について現像液で処理す
ることにより、これらの区域を支持体から選択的に除去
して、可溶性の低い区域からなる画像を形成することが
できる。この画像は任意の印刷用プレートの印刷画像を
構成し、プレートの非印刷区域は現像でむき出しになる
支持体の表面からなる。
体、例えば放射線感受性層で被覆された金属シートを含
んでいる。平版印刷用プレートの製造にこのような装置
を使用する場合、層の一部が放射線の攻撃を受けて他の
部分が攻撃を受けないように、透過面(transpa
rency)を使用して放射線感受性層を放射線にさら
す。ネガティブに作用する放射線感受性層の場合、放射
線の攻撃を受けた区域は放射線の攻撃を受けない区域よ
りも溶解しない。ポジティブに作用する放射線感受性層
の場合、放射線の攻撃を受けた区域は放射線の攻撃を受
けない区域よりも溶解する。従って画像に関して露光し
た層<image−wise exposed 1ay
er)をより可溶性の高い区域について現像液で処理す
ることにより、これらの区域を支持体から選択的に除去
して、可溶性の低い区域からなる画像を形成することが
できる。この画像は任意の印刷用プレートの印刷画像を
構成し、プレートの非印刷区域は現像でむき出しになる
支持体の表面からなる。
印刷画像及び非印刷区域はほぼ同一平面上にあり、平版
印刷のプロセスはインキ及び水に対する印刷画像及び非
印刷区域の異なる親和力に依存する。印刷画像はインキ
を受けつけて、水を弾き、非印刷区域は水を受けつけて
、インキを弾く。印刷中に水をプレートに塗布すると、
水は非印刷区域により受は入れられるが、印刷画像によ
り弾かれる。次にインキを塗布すると、インキは湿った
非印刷区域により弾かれるが、印刷画像により受は入れ
られる。次にインキは印刷画像から印刷されるべき紙等
に移される。
印刷のプロセスはインキ及び水に対する印刷画像及び非
印刷区域の異なる親和力に依存する。印刷画像はインキ
を受けつけて、水を弾き、非印刷区域は水を受けつけて
、インキを弾く。印刷中に水をプレートに塗布すると、
水は非印刷区域により受は入れられるが、印刷画像によ
り弾かれる。次にインキを塗布すると、インキは湿った
非印刷区域により弾かれるが、印刷画像により受は入れ
られる。次にインキは印刷画像から印刷されるべき紙等
に移される。
平版印刷用プレートの製造において放射線感受性プレー
トを画像に関して露光するときに、プレートがこれを通
じて露光される透過面とプレートの放射線感受性層目体
との接触が良好であることが重要である。プレートと透
過面とがフレキシブルな裏材(backiB memb
er)とガラス板との間に配置されている印刷用ダウン
フレーム(printingdown frame)を
使用して、この接触が達成される。
トを画像に関して露光するときに、プレートがこれを通
じて露光される透過面とプレートの放射線感受性層目体
との接触が良好であることが重要である。プレートと透
過面とがフレキシブルな裏材(backiB memb
er)とガラス板との間に配置されている印刷用ダウン
フレーム(printingdown frame)を
使用して、この接触が達成される。
支持部材とガラス板との間の空気は排出され、これによ
りプレートと透過面とが共に圧搾される。
りプレートと透過面とが共に圧搾される。
この方法は通常真空ドローダウン(vacuumdra
u+down)と称する。
u+down)と称する。
しかしなから、エアポケットがプレートの放射線感受性
層の平滑面と透過面との間に閉じ込められて、必要な接
触が妨げられるが又は少なくともこの接触を達成するの
に余計に時間がかがることがあり得る。この問題を克服
するために、このようなエアポケットを排出し得る溝を
備えた粗面を放射線感受性層に提供することができる。
層の平滑面と透過面との間に閉じ込められて、必要な接
触が妨げられるが又は少なくともこの接触を達成するの
に余計に時間がかがることがあり得る。この問題を克服
するために、このようなエアポケットを排出し得る溝を
備えた粗面を放射線感受性層に提供することができる。
いかにして粗面を提供し得るかについて多くの提案が行
われ、これに関しては英国特許明細書第1495361
号、第1512080号、第2046461号、第20
75702号及びヨーロッパ特許明細書第21428号
を参照することができる。
われ、これに関しては英国特許明細書第1495361
号、第1512080号、第2046461号、第20
75702号及びヨーロッパ特許明細書第21428号
を参照することができる。
日本特許明細書第98505776号は、表面上に吹付
けた粒子を残すように溶剤液体から得られるろう質樹脂
又は細粉樹脂を放射線感受性層の表面上に吹付けること
を開示している。
けた粒子を残すように溶剤液体から得られるろう質樹脂
又は細粉樹脂を放射線感受性層の表面上に吹付けること
を開示している。
英国特許明細書第2043285号は、放射線感受性層
への粉末の吹付けを開示し、英国特許明細書第2081
919号は水溶液から得られる水溶性樹脂の放射線感受
性層への吹付けを開示している。
への粉末の吹付けを開示し、英国特許明細書第2081
919号は水溶液から得られる水溶性樹脂の放射線感受
性層への吹付けを開示している。
これら全ての提案により真空ドローダウンが改善される
が、吹付けられた粒子の放射線感受性層への付着不良又
は吹付けられた材料の、放射線感受性層若しくは画像に
関する露光後に放射線感受性層を現像するのに通常使用
される現像液との非両立性のような欠点がある。
が、吹付けられた粒子の放射線感受性層への付着不良又
は吹付けられた材料の、放射線感受性層若しくは画像に
関する露光後に放射線感受性層を現像するのに通常使用
される現像液との非両立性のような欠点がある。
これらの欠点を克服するために、ヨーロッパ特許明細書
第174588号は、放射線感受性層と同一の成分を含
む溶液を放射線感受性層に吹付けることにより、放射線
感受性層と同一の成分を有する被覆層を放射線感受性層
の表面に提供することを開示している。この方法により
改善が見られるが、尚欠点があり、これについては放射
線感受性層よりも感光性の高い不連続被覆層を放射線感
受性層に吹付けることを特徴とする−08770370
6号に詳述されている。
第174588号は、放射線感受性層と同一の成分を含
む溶液を放射線感受性層に吹付けることにより、放射線
感受性層と同一の成分を有する被覆層を放射線感受性層
の表面に提供することを開示している。この方法により
改善が見られるが、尚欠点があり、これについては放射
線感受性層よりも感光性の高い不連続被覆層を放射線感
受性層に吹付けることを特徴とする−08770370
6号に詳述されている。
本発明に基づいて、
(i) 放射線感受性層を担持している支持体を準備
すること、 (ii) 放射線感受性層用現像液に溶解するか又は
分散する材料を含む液体炭化水素溶液又は分散液を準備
すること、及び (iii) 吹付は技術を用いて前記溶液又は分散液
を放射線感受性層の方に向け、放射線感受性層の表面上
に材料の不連続被覆層を形成することからなる放射線感
受性装置の製造方法を提供する。
すること、 (ii) 放射線感受性層用現像液に溶解するか又は
分散する材料を含む液体炭化水素溶液又は分散液を準備
すること、及び (iii) 吹付は技術を用いて前記溶液又は分散液
を放射線感受性層の方に向け、放射線感受性層の表面上
に材料の不連続被覆層を形成することからなる放射線感
受性装置の製造方法を提供する。
機械力により液体を(吹付は用)液滴とする従来の吹付
は技術により溶液又は分散液を塗布することができる。
は技術により溶液又は分散液を塗布することができる。
これらは乱流空気、機械的剪断応力(回転ディスク/ベ
ル)又は液体が小さなオリフィスを通じて高圧で注出さ
れるときの液体の拡散(エアレス吹付け〉であり得る。
ル)又は液体が小さなオリフィスを通じて高圧で注出さ
れるときの液体の拡散(エアレス吹付け〉であり得る。
吹付けられるべき液体の噴霧のために、更にこれらの方
法の1つを使用している従来の静電吹付けを使用するこ
とができる。この場合は、発生する噴霧用液滴には付着
効率を改善するために静電荷を帯びさせて、接地された
支持体に引き付けられるようにする。
法の1つを使用している従来の静電吹付けを使用するこ
とができる。この場合は、発生する噴霧用液滴には付着
効率を改善するために静電荷を帯びさせて、接地された
支持体に引き付けられるようにする。
使用し得る他の技術は、当社のヨーロッパ特許公開第0
344985号に記載の静電噴霧技術である。
344985号に記載の静電噴霧技術である。
この技術では、溶液又は分散液の導電率は好ましくは1
03〜10”psn−’であり、また溶液又は分散液に
作用する他の任意の分裂力(disruptibe f
orces)の不在下でこの溶液又は分散液が液滴を生
成するように、支持体に関して少なくとも5kVの電位
が溶液又は分散液に直接的又は間接的に生じるようにす
る。この技術は、より均一寸法の液滴が生成するという
利点を有する。
03〜10”psn−’であり、また溶液又は分散液に
作用する他の任意の分裂力(disruptibe f
orces)の不在下でこの溶液又は分散液が液滴を生
成するように、支持体に関して少なくとも5kVの電位
が溶液又は分散液に直接的又は間接的に生じるようにす
る。この技術は、より均一寸法の液滴が生成するという
利点を有する。
この静電噴霧技術を使用すると、液体は1つ以上の帯状
部分(l igaments)に引き伸ばされ、帯状部
分は実質的に同一寸法の液滴に分解し、液滴は電位差に
より放射線感受性層の表面に引き付けられる。液滴は実
質的に同一寸法なので、全ての液滴が同程度の湿潤度で
放射線感受性層の表面に達するように、液体炭化水素の
蒸発を調整することができる。好ましくは、印加される
か又は誘導される電位は支持体に関してどちらかの極性
で5〜35(好ましくは10)kVである。所定の液体
供給流量に対して電位が低すぎると、液体を適切に噴霧
するための力が不十分となり得てや液滴寸法が多様とな
る。電位が高すぎると、帯状部分の先端からコロナ放電
を生じ得てアこの場合でも液滴寸法が多様となる。通常
液体供給流量は帯状部分毎に0.05〜2.0cmコ/
分であり得る。パラメーター(液体供給流量、液体導電
率又は印加した電位)を調整することにより、発生する
液滴の寸法を変えることができる。液体流量を低減する
か、液体導電率を増すか又は印加する電位を増せば液滴
寸法が小さくなる。2つ以上のパラメーターを同時に変
えれば、液滴寸法はより大きく変化し得る。
部分(l igaments)に引き伸ばされ、帯状部
分は実質的に同一寸法の液滴に分解し、液滴は電位差に
より放射線感受性層の表面に引き付けられる。液滴は実
質的に同一寸法なので、全ての液滴が同程度の湿潤度で
放射線感受性層の表面に達するように、液体炭化水素の
蒸発を調整することができる。好ましくは、印加される
か又は誘導される電位は支持体に関してどちらかの極性
で5〜35(好ましくは10)kVである。所定の液体
供給流量に対して電位が低すぎると、液体を適切に噴霧
するための力が不十分となり得てや液滴寸法が多様とな
る。電位が高すぎると、帯状部分の先端からコロナ放電
を生じ得てアこの場合でも液滴寸法が多様となる。通常
液体供給流量は帯状部分毎に0.05〜2.0cmコ/
分であり得る。パラメーター(液体供給流量、液体導電
率又は印加した電位)を調整することにより、発生する
液滴の寸法を変えることができる。液体流量を低減する
か、液体導電率を増すか又は印加する電位を増せば液滴
寸法が小さくなる。2つ以上のパラメーターを同時に変
えれば、液滴寸法はより大きく変化し得る。
一般に本発明に基づいて使用される液体炭化水素の沸点
は約150〜200℃である。通常炭化水素は6〜11
個の炭素原子を有し、適切な炭化水素の例としては脂肪
族炭化水素く例えばExxon ChemicalsL
td製の登録商標1sopar、及び5hell Ch
emicalsLtd製の登録商標5hellsol
Tとして市販されている脂肪族炭化水素)、並びに脂肪
族/芳香族炭化水素混合物(Exxon製White
5pirit 100)が挙げられる。 不連続被覆層
の材料は放射線感受性があってもなくてもよい。
は約150〜200℃である。通常炭化水素は6〜11
個の炭素原子を有し、適切な炭化水素の例としては脂肪
族炭化水素く例えばExxon ChemicalsL
td製の登録商標1sopar、及び5hell Ch
emicalsLtd製の登録商標5hellsol
Tとして市販されている脂肪族炭化水素)、並びに脂肪
族/芳香族炭化水素混合物(Exxon製White
5pirit 100)が挙げられる。 不連続被覆層
の材料は放射線感受性があってもなくてもよい。
不連続層の材料の種類は、
i)材料を溶液として噴霧するのか又は分散液として噴
霧するのかによって、 ii)その表面上に不連続層が塗布される放射線感受性
層の種類によって、 1ii) 放射線感受性被膜に対して使用される現像
液の組成 により決定される。
霧するのかによって、 ii)その表面上に不連続層が塗布される放射線感受性
層の種類によって、 1ii) 放射線感受性被膜に対して使用される現像
液の組成 により決定される。
放射線感受性被膜が例えば、アルカリ性稀薄水溶液を使
用して露光後に現像されるナフトキノンジアジド感光ク
レゾールノボラック樹脂ならば、不連続被覆層は同一の
アルカリ性稀薄水溶液にも理想的に溶解するか又は分散
する。有機溶剤又は溶剤混合物を現像液としての使用は
、同様にまた理想的には、同一の溶剤又は溶剤混合物に
も溶解するか又は分散する不連続層用材料の使用を必要
とする。
用して露光後に現像されるナフトキノンジアジド感光ク
レゾールノボラック樹脂ならば、不連続被覆層は同一の
アルカリ性稀薄水溶液にも理想的に溶解するか又は分散
する。有機溶剤又は溶剤混合物を現像液としての使用は
、同様にまた理想的には、同一の溶剤又は溶剤混合物に
も溶解するか又は分散する不連続層用材料の使用を必要
とする。
不連続被覆層用に使用する材料はまた、下方の放射線感
受性層が露光されるスペクトルの区域で比較的透明でな
ければならない。この材料は更に、適切な耐摩耗性を有
する不連続層を提供するのに十分な靭性を有さねばなら
ない。
受性層が露光されるスペクトルの区域で比較的透明でな
ければならない。この材料は更に、適切な耐摩耗性を有
する不連続層を提供するのに十分な靭性を有さねばなら
ない。
不連続層用材料は溶液で塗布することができるが、好ま
しくは炭化水素を用いた分散液として塗布することがで
きる。溶液を使用するならば、不連続被覆層に適した材
料としては例えばPliowayEC,Goodyea
r Tyre and Rubber Company
製ビニlレアセテートターボリマー、及びメタクリル酸
の04CIOアルキルエステル(70〜90モル%)と
メタクリル酸く10〜30モル%)とのコポリマーが挙
げられる。
しくは炭化水素を用いた分散液として塗布することがで
きる。溶液を使用するならば、不連続被覆層に適した材
料としては例えばPliowayEC,Goodyea
r Tyre and Rubber Company
製ビニlレアセテートターボリマー、及びメタクリル酸
の04CIOアルキルエステル(70〜90モル%)と
メタクリル酸く10〜30モル%)とのコポリマーが挙
げられる。
分散液を使用する場合は、不連続被覆層に適した材料の
選択幅は、液体炭化水素を用いた安定した分散液を生成
するために使用することができるという付加要件に基づ
いて非常に広い、必要とあれば、非炭化水素溶剤を加え
て、分散又は溶解を助けることができる。
選択幅は、液体炭化水素を用いた安定した分散液を生成
するために使用することができるという付加要件に基づ
いて非常に広い、必要とあれば、非炭化水素溶剤を加え
て、分散又は溶解を助けることができる。
環境的な理由のために、平版印刷用プレートの製造での
放射線感受性プレートの処理に有機i容斉1は徐々に使
用されなくなった。結果として、現在印刷業界で使用さ
れている多量のポジティブプレート及びネガティブプレ
ートには、通常アルカリ性の水性ベースの現像液を使用
せねばならない。
放射線感受性プレートの処理に有機i容斉1は徐々に使
用されなくなった。結果として、現在印刷業界で使用さ
れている多量のポジティブプレート及びネガティブプレ
ートには、通常アルカリ性の水性ベースの現像液を使用
せねばならない。
このようなプレート用の不連続層を構成する材料をこの
ような水性ベースの現像液に確実に溶解/分散させるた
めには、水/水性アルカリ溶解度を与える基を材料の構
造体内に組み込まねばならない。このような基の例とし
ては、−0H5−COOH5SO,Hl−PO,Hl−
S02NH−の基及びこれらに対応するアニオンが挙げ
られる。典型的な不連続被覆層用材料としては、アクリ
ル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイ
ン酸及びフマル酸の中の1種以上の酸を、スチレン、ビ
ニルトルエン、エチレン、プロピレン、ビニルアセテー
ト、メチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、エ
チルアクリレート及びアクリロニトリルの中の1種以上
の成分と共重合させて製造されたポリマーが挙げられる
。水溶性ポリマー(例えばセルロース誘導体、ポリビニ
ルアルコール及びポリアクリル酸)も適している。有機
溶剤により現像される印刷用プレートの場合理想的には
、不連続層の材料が現像液と同様に同一の有機溶剤に溶
解するか又は分散せねばならない、多くのポリマーの型
(例えばエポキシ樹脂、アルキルアクリレート(又はア
ルキルメタクリレート)コポリマー、スチレンマレイン
酸エステルコポリマー及びノボラック樹脂を含んでいる
材料)が適している。
ような水性ベースの現像液に確実に溶解/分散させるた
めには、水/水性アルカリ溶解度を与える基を材料の構
造体内に組み込まねばならない。このような基の例とし
ては、−0H5−COOH5SO,Hl−PO,Hl−
S02NH−の基及びこれらに対応するアニオンが挙げ
られる。典型的な不連続被覆層用材料としては、アクリ
ル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイ
ン酸及びフマル酸の中の1種以上の酸を、スチレン、ビ
ニルトルエン、エチレン、プロピレン、ビニルアセテー
ト、メチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、エ
チルアクリレート及びアクリロニトリルの中の1種以上
の成分と共重合させて製造されたポリマーが挙げられる
。水溶性ポリマー(例えばセルロース誘導体、ポリビニ
ルアルコール及びポリアクリル酸)も適している。有機
溶剤により現像される印刷用プレートの場合理想的には
、不連続層の材料が現像液と同様に同一の有機溶剤に溶
解するか又は分散せねばならない、多くのポリマーの型
(例えばエポキシ樹脂、アルキルアクリレート(又はア
ルキルメタクリレート)コポリマー、スチレンマレイン
酸エステルコポリマー及びノボラック樹脂を含んでいる
材料)が適している。
不連続被覆層の材料は、被覆層の放射線感受性層への付
着を容易にするために一般に粘着性がある。接着促進剤
又は少量の高沸点粘着溶剤を加えて、材料に粘着性を持
たすることかできる。その代わりに、またはこれに加え
て、材料の分散液の生成に使用される技術により所望の
粘着性を得ることができる。
着を容易にするために一般に粘着性がある。接着促進剤
又は少量の高沸点粘着溶剤を加えて、材料に粘着性を持
たすることかできる。その代わりに、またはこれに加え
て、材料の分散液の生成に使用される技術により所望の
粘着性を得ることができる。
適切な分散液の製造方法は、K E J Barret
t編集の“Dispersion Polymeris
ation in OrganicMedia”に記載
されている。ここには、分散重合、非水性乳化重合、溶
融ポリマーの乳化、樹脂溶液の乳化、沈澱、水性エマル
ションからのフラッシング及び多様な混線方法のような
技術が記載されている。非水性重合技術は、下方の放射
線感受性層の表面への自己固定(self−fixin
g)を促進し得る固有粘着性(intrinsic t
ackiness)を分散粒子に持たせる分散液を使用
している点で、特に有効である。少量の高沸点粘着溶剤
と同様に、更に接着促進剤を加えることができる。
t編集の“Dispersion Polymeris
ation in OrganicMedia”に記載
されている。ここには、分散重合、非水性乳化重合、溶
融ポリマーの乳化、樹脂溶液の乳化、沈澱、水性エマル
ションからのフラッシング及び多様な混線方法のような
技術が記載されている。非水性重合技術は、下方の放射
線感受性層の表面への自己固定(self−fixin
g)を促進し得る固有粘着性(intrinsic t
ackiness)を分散粒子に持たせる分散液を使用
している点で、特に有効である。少量の高沸点粘着溶剤
と同様に、更に接着促進剤を加えることができる。
不連続層を形成する材料のための溶剤又は分散液媒体と
して液体炭化水素を使用する利点は、i)噴霧液体が放
射線感受性層の表面を溶解しないか又は分裂させないこ
と、 ii)噴霧液体を広範囲の放射線感受性層の表面に塗布
できること、及び 1ii) 導電率が低いために、ヨーロッパ特許公開
第0344985号に開示されている静電噴霧技術を使
用して溶液又は分散液を噴霧することができることであ
る。
して液体炭化水素を使用する利点は、i)噴霧液体が放
射線感受性層の表面を溶解しないか又は分裂させないこ
と、 ii)噴霧液体を広範囲の放射線感受性層の表面に塗布
できること、及び 1ii) 導電率が低いために、ヨーロッパ特許公開
第0344985号に開示されている静電噴霧技術を使
用して溶液又は分散液を噴霧することができることであ
る。
その上に不連続被覆層が形成される放射線感受性層は、
ポジティブに作用する材料(例えばノボラック樹脂とナ
フトキノンジアジドエステルとを含んでいる組成物)又
はネガティブに作用する材料(例えば当社のヨーロッパ
特許箱0030862号番こ記載のような組成物)であ
り得る。
ポジティブに作用する材料(例えばノボラック樹脂とナ
フトキノンジアジドエステルとを含んでいる組成物)又
はネガティブに作用する材料(例えば当社のヨーロッパ
特許箱0030862号番こ記載のような組成物)であ
り得る。
本発明をより良く理解するために、また本発明方法を示
すために添付図面を実施例として参照する。
すために添付図面を実施例として参照する。
図面では対応部分は同様の参照番号で示す。
第1図を参照すると、装置は、吹付けられるべき液体用
の第1入り口2と圧縮空気用の第2入り口3とを含む吹
付けへ・ノド1を備えたエアアシスト静電吹付は装置で
ある。入り口2.3(よそれぞれ管4゜5に連通し、こ
れらの管はそれぞれ同軸番こ配置されている出口6,7
で終わって0る。へ・ンド番よ高圧電源に接続されてい
る電荷針8を含んで0る。
の第1入り口2と圧縮空気用の第2入り口3とを含む吹
付けへ・ノド1を備えたエアアシスト静電吹付は装置で
ある。入り口2.3(よそれぞれ管4゜5に連通し、こ
れらの管はそれぞれ同軸番こ配置されている出口6,7
で終わって0る。へ・ンド番よ高圧電源に接続されてい
る電荷針8を含んで0る。
使用時には液体と圧縮空気とが入り口2.3を介してヘ
ッドに供給され、出口6,7を介して放出される。圧縮
空気により出口6.7の周辺に乱流空気区域が形成され
、その結果液体が分裂して小液滴を生じる。針8により
液滴中に静電荷が誘発され、次に液滴は静電力の結果吹
付けられるべき加工物(図示せず)に引き付けられる。
ッドに供給され、出口6,7を介して放出される。圧縮
空気により出口6.7の周辺に乱流空気区域が形成され
、その結果液体が分裂して小液滴を生じる。針8により
液滴中に静電荷が誘発され、次に液滴は静電力の結果吹
付けられるべき加工物(図示せず)に引き付けられる。
第2図の装置はエアレス静電吹付は装置である。
この場合、ヘッド1には圧縮空気用入り口がない。
液体は高圧力下で入り口2内に導入され、また出口6は
小さい。出口6を通じて圧力下で液体を放出すると、液
体は分裂して液滴になる。次に液滴は針8により静電荷
を帯び、静電力の結果加工物に引き付けられる。
小さい。出口6を通じて圧力下で液体を放出すると、液
体は分裂して液滴になる。次に液滴は針8により静電荷
を帯び、静電力の結果加工物に引き付けられる。
第3図の装置は回転ベル型静電噴霧器である。
同様にヘッド1には圧縮空気用入り口がない。しかしな
からこの場合、ヘッドは回転するように装着され、液体
用出口6はベル9の中央に配置されている。ヘッド1は
高圧電源に接続されており、液体が入り口2に導入され
る間に高速(例えば30000RPM)で回転する。液
体はベル9の縁部に向がって流れ、遠心力の結果高い剪
断応力を受ける。これにより液体は分裂して液滴となり
、液滴は帯電ベル9と接触することにより静電荷を帯び
、次に電荷を帯びな液滴は静電力により加工物に引き付
けられる。
からこの場合、ヘッドは回転するように装着され、液体
用出口6はベル9の中央に配置されている。ヘッド1は
高圧電源に接続されており、液体が入り口2に導入され
る間に高速(例えば30000RPM)で回転する。液
体はベル9の縁部に向がって流れ、遠心力の結果高い剪
断応力を受ける。これにより液体は分裂して液滴となり
、液滴は帯電ベル9と接触することにより静電荷を帯び
、次に電荷を帯びな液滴は静電力により加工物に引き付
けられる。
第4図を参照すると、装置は吹付けられるべき液体用の
入り口22を有する単一管21を含んでいる。
入り口22を有する単一管21を含んでいる。
鎖管2Iは高圧電源に接続されている。使用時には、液
体は管内を下降して、管21に印加される電位の結果と
して出口23の周辺に配置される複数の帯状部分24を
形成する。次にこれらの帯状部分は電位差の影響下で分
裂して、実質的に同様の寸法を有する多数の帯電液滴を
生成する。これらの液滴は次に静電力により支持体く図
示せず)に引き付けられる。
体は管内を下降して、管21に印加される電位の結果と
して出口23の周辺に配置される複数の帯状部分24を
形成する。次にこれらの帯状部分は電位差の影響下で分
裂して、実質的に同様の寸法を有する多数の帯電液滴を
生成する。これらの液滴は次に静電力により支持体く図
示せず)に引き付けられる。
第5図の装置は、液体用入り口32と、複数の毛細管針
形状の出口管33とを含むヘッド31を備えている。ヘ
ッド31は高圧電源に接続され、液体は入り口32を介
して導入される。電位により、針33内を流下する液体
は多針の端部に1つずつ帯状部分34を形成する0次に
この帯状部分は分裂して寸法が実質的に均一な多数の帯
電液滴を生成し、これらの液滴は支持体に引き付けられ
る。
形状の出口管33とを含むヘッド31を備えている。ヘ
ッド31は高圧電源に接続され、液体は入り口32を介
して導入される。電位により、針33内を流下する液体
は多針の端部に1つずつ帯状部分34を形成する0次に
この帯状部分は分裂して寸法が実質的に均一な多数の帯
電液滴を生成し、これらの液滴は支持体に引き付けられ
る。
第6図を参照すると、装置は液体用入り口4Zを含むヘ
ッド41を備えている。入り口42は管43に連通し、
鎖管は高圧電源に接続されているブレード45により限
定される出口44で終わっている。
ッド41を備えている。入り口42は管43に連通し、
鎖管は高圧電源に接続されているブレード45により限
定される出口44で終わっている。
使用時にはヘッド41内に導入された液体はブレード4
5に沿って出口44から流出する。ブレードに印加され
る電位により、液体はブレードの縁部に沿って断続的に
複数の帯状部分46を形成する。これらの帯状部分46
はその後電位により分裂して、寸法が実質的に均一な多
数の帯電液滴を生成し、次いでこれらの液滴は支持体に
引き付けられる。
5に沿って出口44から流出する。ブレードに印加され
る電位により、液体はブレードの縁部に沿って断続的に
複数の帯状部分46を形成する。これらの帯状部分46
はその後電位により分裂して、寸法が実質的に均一な多
数の帯電液滴を生成し、次いでこれらの液滴は支持体に
引き付けられる。
以下の実施例により本発明を説明する。
及旌■ユ
ナフトキノンジアジドエステル及びクレゾールノボラッ
ク樹脂を含む放射線感受性組成物でアルミニウム支持体
を被覆することにより、放射線感受性プレートを製造し
た。
ク樹脂を含む放射線感受性組成物でアルミニウム支持体
を被覆することにより、放射線感受性プレートを製造し
た。
外径が3.9mm、内径が2.OIの毛細管を含む(第
4図に概略的に示すような)静電噴霧装置を準備し、放
射線感受性層が管の下方となるようにプレートを配置し
た。(プレート支持体を基準にして)15kVの電位を
管に印加し、管に分散液Aを供給した。室温は30℃で
あり、管の先端とプレートとの間の距離は435Iであ
った。全体流量は0.7.5cm3/分であり、帯状部
分が管の端部で形成された。
4図に概略的に示すような)静電噴霧装置を準備し、放
射線感受性層が管の下方となるようにプレートを配置し
た。(プレート支持体を基準にして)15kVの電位を
管に印加し、管に分散液Aを供給した。室温は30℃で
あり、管の先端とプレートとの間の距離は435Iであ
った。全体流量は0.7.5cm3/分であり、帯状部
分が管の端部で形成された。
実験では処理したプレートが樹脂粒子からなる付着性の
良好な不連続的重積層(overlayer)を有し、
またいずれの樹脂粒子も放射線感受性層に入り込んでい
なかったことが判明した。真空露光フレームに置くと、
ドローダウン時間は未処理のプレートの半分であること
が判明した。
良好な不連続的重積層(overlayer)を有し、
またいずれの樹脂粒子も放射線感受性層に入り込んでい
なかったことが判明した。真空露光フレームに置くと、
ドローダウン時間は未処理のプレートの半分であること
が判明した。
た股櫃込
以下の成分:
ビニルアセテート 150gクロトン酸
50gアゾビシツブチロニトリル
(^ZBN) 4gイソパーH250c+*3 ヘキサン 100cm3分散溶液
33cm3を使用して、ビニ
ルアセテートコポリクロトン酸ラテックスを製造した。
50gアゾビシツブチロニトリル
(^ZBN) 4gイソパーH250c+*3 ヘキサン 100cm3分散溶液
33cm3を使用して、ビニ
ルアセテートコポリクロトン酸ラテックスを製造した。
全ての成分を混合して完全に透明な溶液を生成した。こ
の溶液を80〜85℃で5時間加熱した。更に2gの^
ZBNを加えて、更に5時間加熱を継続した。次いでヘ
キサンを蒸留(ビニルアセテート残留物をすべて除去)
すると、最終分散液は該分散液単位容量当りの固形分重
量が43%、即ち43%w/Vを有していた。
の溶液を80〜85℃で5時間加熱した。更に2gの^
ZBNを加えて、更に5時間加熱を継続した。次いでヘ
キサンを蒸留(ビニルアセテート残留物をすべて除去)
すると、最終分散液は該分散液単位容量当りの固形分重
量が43%、即ち43%w/Vを有していた。
分散溶液を以下の如く製造した。
103gのラウリルメタクリレートと、3gのグリシジ
ルアクリレートと、1.2gのAZBNと、15cm’
のエチルアセテートとの混合物を、160c+*’の還
流へブタン中に5時間で注入した。更に2時間加熱を継
続した。0.05gのヒドロキノンと、1.5gのメタ
クリル酸と、0.2gのベンジルジメチルアミンとを加
え、更に13時間還流を継続した。最終固形分は33v
/v%であった。
ルアクリレートと、1.2gのAZBNと、15cm’
のエチルアセテートとの混合物を、160c+*’の還
流へブタン中に5時間で注入した。更に2時間加熱を継
続した。0.05gのヒドロキノンと、1.5gのメタ
クリル酸と、0.2gのベンジルジメチルアミンとを加
え、更に13時間還流を継続した。最終固形分は33v
/v%であった。
イソパーHを加えて、分散液の固形分を30w/v%に
調整した。1m/v%の大豆のレシチンを加えることに
より、導電率を1.1xlO’psm−’から2x10
5psm−’に上昇させた。
調整した。1m/v%の大豆のレシチンを加えることに
より、導電率を1.1xlO’psm−’から2x10
5psm−’に上昇させた。
え隻■ユ
4−トルエンスルホニルイソシアネート(酸価70)と
反応させて改質された30重量部のポリ(ビニルブチラ
ル)樹脂(Monsanto製Butvar B98)
と、EP−B−0030862号に記載の如<4(N−
エチル−N−ヒドロキシエチルアミノ)アセトアニリド
及びイソホロンジイソシアネートを、アニオンとしての
2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−ス
ルホネートと反応させて得られる生成物から誘導される
60重量部のジアゾ化合物と、7.0重量部のワクソリ
ンレッドOとを、3500重量部のエチレングリコール
モノメチルエーテルに溶解した。得られた溶液を、電気
化学的に粒子を出しくgrained)且つアルマイト
処理したシート上に被覆し、温風で乾燥して放射線感受
性プレートを製造した。金属ブレードを含んでいる(第
6図で概略的に示す)静電噴霧装置を準備し、放射線感
受性層がブレードの下方になるように放射線感受性プレ
ートを配置した。(アルニミウムシートを基準にして)
−15kVの電位をブレードに印加し、分散液Bの薄膜
をブレード上に通した。ブレード1cm当りの流量は0
.125cmコ/分であり、室温は35℃であった。ブ
レード縁部に沿って帯状部分が形成された。
反応させて改質された30重量部のポリ(ビニルブチラ
ル)樹脂(Monsanto製Butvar B98)
と、EP−B−0030862号に記載の如<4(N−
エチル−N−ヒドロキシエチルアミノ)アセトアニリド
及びイソホロンジイソシアネートを、アニオンとしての
2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−ス
ルホネートと反応させて得られる生成物から誘導される
60重量部のジアゾ化合物と、7.0重量部のワクソリ
ンレッドOとを、3500重量部のエチレングリコール
モノメチルエーテルに溶解した。得られた溶液を、電気
化学的に粒子を出しくgrained)且つアルマイト
処理したシート上に被覆し、温風で乾燥して放射線感受
性プレートを製造した。金属ブレードを含んでいる(第
6図で概略的に示す)静電噴霧装置を準備し、放射線感
受性層がブレードの下方になるように放射線感受性プレ
ートを配置した。(アルニミウムシートを基準にして)
−15kVの電位をブレードに印加し、分散液Bの薄膜
をブレード上に通した。ブレード1cm当りの流量は0
.125cmコ/分であり、室温は35℃であった。ブ
レード縁部に沿って帯状部分が形成された。
実験では、処理したプレートは付着性の良好な不連続被
覆層を有し、その結果ドローダウン時間が未処理のプレ
ートに比べて改善された。
覆層を有し、その結果ドローダウン時間が未処理のプレ
ートに比べて改善された。
光股蓬上
以下の材料:
140g ラウリルメタクリレート6g グ
リシジルメタクリレート 3g AZBN 20g エチルアセテート を還流へブタン流内に注入して、乳化剤/分散安定剤を
製造した。
リシジルメタクリレート 3g AZBN 20g エチルアセテート を還流へブタン流内に注入して、乳化剤/分散安定剤を
製造した。
材料を加え終えた後に、溶液を更に3時間加熱し、その
後蒸留によりエチルアセテートを除去した。
後蒸留によりエチルアセテートを除去した。
54gの(Texaco製)0.0−ビス(2−アミノ
プロピル)ポリエチレングリコール800を100dの
n−ブタノールに含む溶液を一度の添加で作り、混合物
を4時間還流した。42%の固形分を含む透明な乳化剤
/分散剤溶液が得られた。
プロピル)ポリエチレングリコール800を100dの
n−ブタノールに含む溶液を一度の添加で作り、混合物
を4時間還流した。42%の固形分を含む透明な乳化剤
/分散剤溶液が得られた。
30u/w%Mowilith C70(Hoechs
t製のビニルアセテートとクロトン酸とのコポリマー)
/メタノール溶液172gに前記溶液20献を加えた0
次いで200献のインバーJを混合物に加えた。 10
00psiで作動する超音波ホモジナイザー(Luca
s Dame旧trasonics)内に混合物を通し
た後に、イソパー/メタノール溶液の微細な液滴寸法の
エマルションが得られた。蒸留によりメタノールを除去
すると、Howilith C70がイソパーJに微細
に分散した分散液が得られた。
t製のビニルアセテートとクロトン酸とのコポリマー)
/メタノール溶液172gに前記溶液20献を加えた0
次いで200献のインバーJを混合物に加えた。 10
00psiで作動する超音波ホモジナイザー(Luca
s Dame旧trasonics)内に混合物を通し
た後に、イソパー/メタノール溶液の微細な液滴寸法の
エマルションが得られた。蒸留によりメタノールを除去
すると、Howilith C70がイソパーJに微細
に分散した分散液が得られた。
夫隻■ユ
ナフトキノンジアジドエステル及びクレゾールノボラッ
ク樹脂を含む放射線感受性組成物でアルニミウム支持体
を被覆することにより、放射線感受性プレートを製造し
た。
ク樹脂を含む放射線感受性組成物でアルニミウム支持体
を被覆することにより、放射線感受性プレートを製造し
た。
第1図に示す型のエアアシスト静電スプレーガンを使用
して、実施例1で製造方法を説明した分散液Aをプレー
トの表面上に吹付けた。8cc/分の液体供給量、25
psiの噴霧圧力、及び−35kVの電圧を使用して、
35℃の室温下で吹付けを実施した。
して、実施例1で製造方法を説明した分散液Aをプレー
トの表面上に吹付けた。8cc/分の液体供給量、25
psiの噴霧圧力、及び−35kVの電圧を使用して、
35℃の室温下で吹付けを実施した。
実験では、処理したプレート自体は付着性の良好な不連
続被覆層を有し、それによりドローダウン時間が未処理
のプレートに比べて改善された。
続被覆層を有し、それによりドローダウン時間が未処理
のプレートに比べて改善された。
丸見1
実施例2の方法を繰返した。但し吹付は用分散液(分散
液B)の製造にはMouilith Cr2の代替成分
を使用した。ある場合には、分子量が1700で融点<
M、pt)が160〜170℃のスチレンマレイン酸コ
ポリマ一部分エステル(八rco Chemical
Company製SM^17352)を使用した。他の
場合では、分子量が40.000で、ガラス転移温度が
50℃のカルボキシル官能基アクリレートコポリマー(
B、F、 Goodrich製Carboset X
L27)を使用した。いずれの場合も、吹付はプレート
を真空フレームに置くと、ドローダウン速度が未処理の
プレートに比べて改善された。
液B)の製造にはMouilith Cr2の代替成分
を使用した。ある場合には、分子量が1700で融点<
M、pt)が160〜170℃のスチレンマレイン酸コ
ポリマ一部分エステル(八rco Chemical
Company製SM^17352)を使用した。他の
場合では、分子量が40.000で、ガラス転移温度が
50℃のカルボキシル官能基アクリレートコポリマー(
B、F、 Goodrich製Carboset X
L27)を使用した。いずれの場合も、吹付はプレート
を真空フレームに置くと、ドローダウン速度が未処理の
プレートに比べて改善された。
第1図は本発明方法を実施する際に使用するのに適した
第1の装置の概略断面図、第2図は本発明方法を実施す
る際に使用するのに適した第2の装置の概略断面図、第
3図は本発明方法を実施する際に使用するのに適した第
3の装置の概略断面図、第4図は本発明方法を実施する
際に使用する第4の装置の概略断面図、第5図は本発明
方法を実施する際に使用する第5の装置の概略断面図、
第6図は本発明方法を実施する際に使用する第6の装置
の概略断面図である。 1.31,41.、、ヘッド、2,3,22,32,4
2.、、入り口、6.7,23,44.、、出口、91
1.ベル、219.単一管、45、、、ブレード。 F/(5,7 F/(i、 3 2 F/6.2 F/C7,4 793−
第1の装置の概略断面図、第2図は本発明方法を実施す
る際に使用するのに適した第2の装置の概略断面図、第
3図は本発明方法を実施する際に使用するのに適した第
3の装置の概略断面図、第4図は本発明方法を実施する
際に使用する第4の装置の概略断面図、第5図は本発明
方法を実施する際に使用する第5の装置の概略断面図、
第6図は本発明方法を実施する際に使用する第6の装置
の概略断面図である。 1.31,41.、、ヘッド、2,3,22,32,4
2.、、入り口、6.7,23,44.、、出口、91
1.ベル、219.単一管、45、、、ブレード。 F/(5,7 F/(i、 3 2 F/6.2 F/C7,4 793−
Claims (10)
- (1)(i)放射線感受性層を担持している支持体を準
備すること、 (ii)ビヒクル液体と、放射線感受性層用現像液に溶
解するか又は分散する材料とを含んでいる液体組成物を
準備すること、及び (iii)吹付け技術を用いて前記液体組成物を放射線
感受性層の方に向け、放射線感受性層の表面上に材料の
不連続被覆層を形成すること からなり、またビヒクル液体が液体炭化水素であること
を特徴とする放射線感受性装置の製造方法。 - (2)炭化水素が脂肪族炭化水素であることを特徴とす
る請求項1に記載の方法。 - (3)炭化水素の沸点が150〜200℃であることを
特徴とする請求項1に記載の方法。 - (4)組成物の導電率が10^3〜10^9psm^−
^1であることを特徴とする請求項1に記載の方法。 - (5)吹付け技術が、他のどんな分裂力も無い条件下で
組成物から液滴を生成するために、支持体に関して少な
くとも5kVの電位を組成物に提供する段階を含んでい
ることを特徴とする請求項4に記載の方法。 - (6)吹付け技術がエアアシストまたはエアレス静電吹
付け技術であることを特徴とする請求項1から4のいず
れか一項に記載の方法。 - (7)吹付け技術が回転ベル型静電噴霧技術であること
を特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の方
法。 - (8)不連続層の材料が、−COOH、−SO_3H、
−PO_3H、−SO_2NH−の基またはこれらに対
応するアニオンを含んでいることを特徴とする請求項1
から7のいずれか一項に記載の方法。 - (9)不連続被覆層の材料が、アクリル酸、メタクリル
酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸及びフマル酸
の中の1種以上の酸と、スチレン、ビニルトルエン、エ
チレン、プロピレン、ビニルアセテート、メチルメタク
リレート、ブチルメタクリレート、エチルアクリレート
及びアクリロニトリルの中の1種以上の成分とのコポリ
マーであることを特徴とする請求項1から8のいずれか
一項に記載の方法。 - (10)不連続被覆層の材料がビニルアセテート/クロ
トン酸コポリマー又はメタクリル酸/メタクリル酸エス
テルコポリマーであることを特徴とする請求項9に記載
の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB8926281.0 | 1989-11-21 | ||
GB898926281A GB8926281D0 (en) | 1989-11-21 | 1989-11-21 | Improvements in or relating to radiation sensitive devices |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03194558A true JPH03194558A (ja) | 1991-08-26 |
JP3100056B2 JP3100056B2 (ja) | 2000-10-16 |
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ID=10666652
Family Applications (1)
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JP (1) | JP3100056B2 (ja) |
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JPH0446341A (ja) * | 1990-06-14 | 1992-02-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性印刷版の製造方法 |
JPH0446342A (ja) * | 1990-06-14 | 1992-02-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性印刷版の製造方法 |
JP2009059984A (ja) * | 2007-09-03 | 2009-03-19 | Nippon Dempa Kogyo Co Ltd | レジスト塗布装置 |
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DE19533021A1 (de) * | 1995-09-07 | 1997-03-13 | Hoechst Ag | Mattiertes strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zu dessen Herstellung |
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KR101696852B1 (ko) * | 2010-01-12 | 2017-01-17 | 동부대우전자 주식회사 | 스팀발생장치 |
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-
1989
- 1989-11-21 GB GB898926281A patent/GB8926281D0/en active Pending
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1990
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