TWM642078U - 薄形光阻成形系統及薄形光阻成形設備 - Google Patents

Abstract

本創作公開一種薄形光阻成形系統及一種薄形光阻成形設備。薄形光阻成形系統用來對一轉印滾輪的一外表面噴塗一光阻層。薄形光阻成形系統包括一霧化腔室、設置於霧化腔室中的薄形光阻成形設備、安裝於薄形光阻成形設備的一軟烤裝置、以及安裝於薄形光阻成形設備的一移動裝置。霧化裝置包含有至少一個霧化器以及對應於至少一個霧化器設置的一溶液槽。溶液槽中容納有一水性光阻溶液，並且至少一個霧化器用來朝向霧化腔室霧化水性光阻溶液，使霧化的水性光阻溶液在外表面上形成光阻層。

Description

薄形光阻成形系統及薄形光阻成形設備

本創作涉及一種光阻成形系統及一種光阻成形設備，特別是涉及一種薄形光阻成形系統及一種薄形光阻成形設備。

現有的光阻塗佈設備經常是以液滴噴塗的方式，將一光阻液分佈於在一金屬滾輪的外表面並形成一光阻層。然，現有的光阻塗佈設備若要完成上述作業流程，在所述光阻液噴塗所述金屬滾輪的過程中，經常需要耗費大量的時間在噴塗所述光阻液的製程上，否則被噴塗的所述外表面上的所述光阻液將可能沒有均勻分布，導致由所述光阻液所形成的所述光阻層在後續製程中有較高的機率發生剝離或薄膜疊層等問題。

此外，以液滴噴塗的方式所形成的所述光阻層，其厚度不容易控制，導致所述光阻層在後續的曝光製程中，容易因為厚度過厚而發生所述光阻層曝光不完全的問題。

故，如何通過提供一種薄形光阻成形系統及一種薄形光阻成形設備，來克服上述的缺陷，已成為該項事業所欲解決的重要課題之一。

本創作實施例針對現有技術的不足提供一種薄形光阻成形系統，用來對一轉印滾輪的一外表面噴塗一光阻層，並且所述轉印滾輪的長度介於1.5公尺至1.7公尺之間，而所述轉印滾輪是一鉻金屬滾輪，所述薄形光阻成形系統包括：一霧化腔室，用來避免所述轉印滾輪被環境中的汙染源黏附；以及一薄形光阻成形設備，設置於所述霧化腔室中，所述薄形光阻成形設備包含：一滾輪固定裝置，用來固定所述轉印滾輪；及一霧化裝置，鄰近設置於所述滾輪固定裝置，並且所述霧化裝置包含有至少一個霧化器以及對應於至少一個所述霧化器設置的一溶液槽；其中，所述溶液槽中容納有一水性光阻溶液，並且至少一個所述霧化器用來朝向所述霧化腔室霧化所述水性光阻溶液；其中，所述霧化裝置用來朝向所述轉印滾輪噴塗霧化的所述水性光阻溶液，並且所述霧化裝置用來使霧化的所述水性光阻溶液在所述外表面上形成所述光阻層。

本創作實施例公開一種薄形光阻成形設備，用來對一轉印滾輪的一外表面噴塗一光阻層，所述薄形光阻成形設備包括：一滾輪固定裝置，用來固定並轉動所述轉印滾輪；以及一霧化裝置，鄰近設置於所述滾輪固定裝置，並且所述霧化裝置包含有至少一個霧化器以及對應於至少一個所述霧化器設置的一溶液槽；其中，所述溶液槽中容納有一水性光阻溶液，至少一個所述霧化器用來朝向所述轉印滾輪霧化所述水性光阻溶液，並且所述霧化裝置用來使霧化的所述水性光阻溶液在所述外表面上形成所述光阻層。

本創作的其中一有益效果在於，本創作所提供的所述薄形光阻成形系統及所述薄形光阻成形設備，其能通過“所述霧化裝置用來使霧化的所述水性光阻溶液在所述外表面上形成所述光阻層”的技術方案，減少所述光阻層形成於所述外表面的時間，並減少所述光阻層的厚度。

為使能更進一步瞭解本創作的特徵及技術內容，請參閱以下有關本創作的詳細說明與圖式，然而所提供的圖式僅用於提供參考與說明，並非用來對本創作加以限制。

以下是通過特定的具體實施例來說明本創作所公開有關“薄形光阻成形系統及薄形光阻成形設備”的實施方式，本領域技術人員可由本說明書所公開的內容瞭解本創作的優點與效果。本創作可通過其他不同的具體實施例加以施行或應用，本說明書中的各項細節也可基於不同觀點與應用，在不背離本創作的構思下進行各種修改與變更。另外，本創作的附圖僅為簡單示意說明，並非依實際尺寸的描繪，事先聲明。此外，以下如有指出請參閱特定圖式或是如特定圖式所示，其僅是用以強調於後續說明中，所述及的相關內容大部份出現於該特定圖式中，但不限制該後續說明中僅可參考所述特定圖式。以下的實施方式將進一步詳細說明本創作的相關技術內容，但所公開的內容並非用以限制本創作的保護範圍。

應當可以理解的是，雖然本文中可能會使用到“第一”、“第二”、“第三”等術語來描述各種元件或者信號，但這些元件或者信號不應受這些術語的限制。這些術語主要是用以區分一元件與另一元件，或者一信號與另一信號。另外，本文中所使用的術語“或”，應視實際情況可能包括相關聯的列出項目中的任一個或者多個的組合。

請參閱圖1至圖4所示，其為本創作的實施例，需先說明的是，本實施例所對應到的附圖及其所提及的相關數量與外形，僅用來具體地說明本創作的實施方式，以便於了解本創作的內容，而非用來侷限本創作的保護範圍。

如圖1至圖4所示，本創作實施例提供一種薄形光阻成形系統100，其用來對一轉印滾輪200的一外表面201噴塗一光阻層202，其中，所述轉印滾輪200於本實施例中較佳是一鉻金屬滾輪，並且所述轉印滾輪200的長度介於1.5公尺至1.7公尺之間。

如圖1所示，所述薄形光阻成形系統100包括一霧化腔室1、設置於所述霧化腔室1中的一薄形光阻成形設備2、安裝於所述薄形光阻成形設備2的一軟烤裝置3、以及安裝於所述薄形光阻成形設備2的一移動裝置4，但本創作並不限於此。舉例來說，於本創作未繪示的其他實施例中，所述薄形光阻成形系統100也可以不包含所述軟烤裝置3以及所述移動裝置4。

需要說明的是，所述霧化腔室1是用來避免所述轉印滾輪200被環境中的汙染源黏附。於本實施例中，所述霧化腔室1為一無塵腔體，並且其無塵等級為美國聯邦標準分級1～美國聯邦標準分級500。但需額外說明的是，所述薄形光阻成形設備2於本實施例中是以搭配於所述霧化腔室1、所述軟烤裝置3、以及所述移動裝置4來說明，但在本創作未繪示的其他實施例中，所述薄形光阻成形設備2也可以是單獨地應用（如：販賣）或是搭配其他構件使用。

如圖1所示，所述薄形光阻成形設備2包含一滾輪固定裝置21以及鄰近設置於所述滾輪固定裝置21的一霧化裝置22。需要說明的是，為方便說明與理解，以下將先介紹所述滾輪固定裝置21，後續再介紹所述霧化裝置22。

如圖1所示，所述滾輪固定裝置21用來固定所述轉印滾輪200，所述滾輪固定裝置21包含一夾持機構211，並且所述夾持機構211用來夾持並轉動所述轉印滾輪200。其中，所述夾持機構211包含一圓形彈性筒夾，並且所述夾持機構211是透過油壓驅動的方式，使所述圓形彈性筒夾可以夾持所述轉印滾輪200，但本創作並不限於此。舉例來說，所述圓形彈性筒夾也可以是車床夾頭等其他夾具，並且所述夾持機構211也可以透過氣壓驅動或手動的方式，使所述圓形彈性筒夾能夾持所述轉印滾輪200。

需要說明的是，於本實施例中，所述夾持機構211包含一速度控制單元，其能用來使所述轉印滾輪200以一無擾流速度轉動。更詳細地說，所述夾持機構211能用來使所述轉印滾輪200在轉動時，所述轉印滾輪200周邊的空氣並不會有過大的擾流現象產生。

如圖1及圖2所示，所述霧化裝置22包含有至少一個霧化器221以及對應於至少一個所述霧化器221設置的一溶液槽222。其中，所述溶液槽222中容納有一水性光阻溶液，並且至少一個所述霧化器221用來朝向所述霧化腔室1霧化所述水性光阻溶液。

需要說明的是，如圖3所示，所述霧化裝置22的至少一個所述霧化器221是用來朝向所述轉印滾輪200噴塗霧化的所述水性光阻溶液，並用來使霧化的所述水性光阻溶液在所述外表面201上形成所述光阻層202。

具體來說，至少一個所述霧化器221設置於所述轉印滾輪200的上方（也就是說，相對於所述轉印滾輪200，至少一個所述霧化器221更加鄰近於所述霧化腔室1的頂部），當所述水性光阻溶液被所述至少一個所述霧化器221霧化後，霧化的所述水性光阻溶液將自所述轉印滾輪200的上方落下並附著於所述外表面201。其中，在霧化的所述水性光阻溶液自所述轉印滾輪200的上方落下的過程中，所述夾持機構211轉動所述轉印滾輪200，使所述外表面201能均勻地附著有霧化的所述水性光阻溶液，並使所述外表面201上形成所述光阻層202。

需要說明是的，於本實施例中，所述水性光阻溶液的水含量為所述水性光阻溶液的整體比例的50%～90%，較佳為所述水性光阻溶液的整體比例的70～80%，但本創作並不限於此。舉例來說，於本創作未繪示的其他實施例中，所述水性光阻溶液的水含量比例可依需求進行調整，但所述水性光阻溶液的水含量比例至少需達到可使所述水性光阻溶液被霧化的程度。

如圖1及圖3所示，所述移動裝置4用來使所述霧化裝置22相對於所述轉印滾輪200移動，並且所述移動裝置4用來移動至少一個所述霧化器221，使霧化的所述水性光阻溶液能完整地附著於所述外表面201。

需要說明的是，當所述霧化裝置22包含有一個所述霧化器221時，所述薄形光阻成形系統100包括所述移動裝置4；如圖2所示，當所述霧化裝置22包含有多個所述霧化器221時，所述薄形光阻成形系統100不包括所述移動裝置4。具體來說，多個所述霧化器221的數量需至少為3個以上，否則所述薄形光阻成形系統100依然需要裝設所述移動裝置4，以避免所述轉印滾輪200的所述外表面201沒有完整塗佈所述光阻層202。

需要說明的是，於本實施例中，如圖5所示，任一個所述霧化器221具有一最大邊長H，並且所述最大邊長H介於1毫米～50毫米之間。其中，所述最大邊長H較佳介於20毫米～30毫米之間，並且任一個所述霧化器221包含至少一個陶瓷霧化片221A，其能用來以介於1.7百萬赫（MHz）～2.4百萬赫（MHz）之間的頻率進行震盪，並使所述水性光阻溶液霧化。

需要說明的是，所述水性光阻溶液能自所述溶液槽222傳輸至至少一個所述霧化器221中，當所述水性光阻溶液輸送至至少一個所述霧化器221時，設置於至少一個所述霧化器221內部的所述陶瓷霧化片221A將開始以高頻振盪使所述水性光阻溶液霧化。

如圖4所示，所述軟烤裝置3能用來烘烤所述光阻層202，並使所述光阻層202的溶劑含量降低。更詳細地說，所述軟烤裝置3能用來使所述光阻層202的溶劑及過多的水分自所述光阻層202中揮發出來，並使所述溶劑在所述光阻層202中的含量至少降低至5%左右。

[實施例的有益效果]

本創作的其中一有益效果在於，本創作所提供的所述薄形光阻成形系統100及所述薄形光阻成形設備2，其能通過“所述霧化裝置22用來使霧化的所述水性光阻溶液在所述外表面201上形成所述光阻層202”的技術方案，減少所述光阻層202形成於所述外表面201的時間，並減少所述光阻層202的厚度。

更進一步來說，所述薄形光阻成形系統100能通過“所述夾持機構211包含一速度控制單元，其能用來使所述轉印滾輪200以一無擾流速度轉動＂的技術手段，避免至少一個所述霧化器221朝向所述轉印滾輪200噴塗霧化的所述水性光阻溶液時，霧化的所述水性光阻溶液因為空氣擾流而沒有完整且平均地塗佈於所述外表面201上。

更進一步來說，所述薄形光阻成形系統100能通過“所述軟烤裝置3能用來烘烤所述光阻層202，並使所述光阻層202的溶劑含量降低＂的技術手段，減少所述轉印滾輪200於後續製程因高速旋轉形成的薄膜應力，並增加所述光阻層202與所述外表面201之間的附著性。

更進一步來說，所述薄形光阻成形系統100能通過“所述薄形光阻成形設備2設置於所述霧化腔室1中＂的技術手段，避免所述轉印滾輪200進行被所述薄形光阻成形設備2噴塗時，被環境中的汙染源黏附。

以上所公開的內容僅為本創作的優選可行實施例，並非因此侷限本創作的申請專利範圍，所以凡是運用本創作說明書及圖式內容所做的等效技術變化，均包含於本創作的申請專利範圍內。

100:薄形光阻成形系統 1:霧化腔室 2:薄形光阻成形設備 21:滾輪固定裝置 211:夾持機構 22:霧化裝置 221:霧化器 221A:陶瓷霧化片 222:溶液槽 3:軟烤裝置 4:移動裝置 H:最大邊長 200:轉印滾輪 201:外表面 202:光阻層

圖1為本創作實施例的薄形光阻成形系統的立體示意圖。

圖2為本創作實施例的薄形光阻成形系統的另一立體示意圖。

圖3為本創作實施例的霧化裝置對轉印滾輪噴塗霧化的水性光阻溶液的動作示意圖。

圖4為本創作實施例的軟烤裝置對光阻層進行軟烤的動作示意圖。

圖5為本創作實施例的霧化器的平面示意圖。

100:薄形光阻成形系統

1:霧化腔室

2:薄形光阻成形設備

21:滾輪固定裝置

211:夾持機構

22:霧化裝置

221:霧化器

222:溶液槽

3:軟烤裝置

4:移動裝置

200:轉印滾輪

201:外表面

Claims (10)

1. 一種薄形光阻成形系統，其用來對一轉印滾輪的一外表面噴塗一光阻層，並且所述轉印滾輪的長度介於1.5公尺至1.7公尺之間，而所述轉印滾輪是一鉻金屬滾輪，所述薄形光阻成形系統包括： 一霧化腔室，用來避免所述轉印滾輪被環境中的汙染源黏附；以及 一薄形光阻成形設備，設置於所述霧化腔室中，所述薄形光阻成形設備包含： 一滾輪固定裝置，用來固定所述轉印滾輪；及 一霧化裝置，鄰近設置於所述滾輪固定裝置，並且所述霧化裝置包含有至少一個霧化器以及對應於至少一個所述霧化器設置的一溶液槽；其中，所述溶液槽中容納有一水性光阻溶液，並且至少一個所述霧化器用來朝向所述霧化腔室霧化所述水性光阻溶液； 其中，所述霧化裝置用來朝向所述轉印滾輪噴塗霧化的所述水性光阻溶液，並且所述霧化裝置用來使霧化的所述水性光阻溶液在所述外表面上形成所述光阻層。
2. 如請求項1所述的薄形光阻成形系統，其中，任一個所述霧化器包含至少一個陶瓷霧化片，其能用來以介於1.7百萬赫（MHz）～2.4百萬赫（MHz）之間的頻率進行震盪，並使所述水性光阻溶液霧化。
3. 如請求項1所述的薄形光阻成形系統，其中，任一個所述霧化器具有一最大邊長，所述最大邊長介於1毫米～50毫米之間。
4. 如請求項1所述的薄形光阻成形系統，其中，所述滾輪固定裝置包含一夾持機構，並且所述夾持機構用來夾持並轉動所述轉印滾輪。
5. 如請求項4所述的薄形光阻成形系統，其中，所述夾持機構包含一速度控制單元，其能用來使所述轉印滾輪以一無擾流速度轉動。
6. 如請求項1所述的薄形光阻成形系統，其中，所述薄形光阻成形系統進一步包含一軟烤裝置，所述軟烤裝置能用來烘烤所述光阻層，並使所述光阻層的溶劑含量降低。
7. 如請求項1所述的薄形光阻成形系統，其中，所述薄形光阻成形設備進一步包含一移動裝置，所述移動裝置安裝於所述霧化裝置上，並且所述移動裝置用來使所述霧化裝置相對於所述轉印滾輪移動。
8. 一種薄形光阻成形設備，用來對一轉印滾輪的一外表面噴塗一光阻層，並且所述轉印滾輪的長度介於1.5公尺至1.7公尺之間，而所述轉印滾輪是一鉻金屬滾輪，所述薄形光阻成形設備包括： 一滾輪固定裝置，用來固定並轉動所述轉印滾輪；以及 一霧化裝置，鄰近設置於所述滾輪固定裝置，並且所述霧化裝置包含有至少一個霧化器以及對應於至少一個所述霧化器設置的一溶液槽；其中，所述溶液槽中容納有一水性光阻溶液，至少一個所述霧化器用來朝向所述轉印滾輪霧化所述水性光阻溶液，並且所述霧化裝置用來使霧化的所述水性光阻溶液在所述外表面上形成所述光阻層。
9. 如請求項8所述的薄形光阻成形設備，其中，任一個所述霧化器包含至少一個陶瓷霧化片，其能用來以介於1.7百萬赫（MHz）～2.4百萬赫（MHz）之間的頻率進行震盪，並使所述水性光阻溶液霧化。
10. 如請求項8所述的薄形光阻成形設備，其中，任一個所述霧化器具有一最大邊長，所述最大邊長介於1毫米～50毫米之間。

Images