CN214320750U - 薄形光阻成形系统及薄形光阻成形设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了薄形光阻成形系统及薄形光阻成形设备。薄形光阻成形系统用来对转印滚轮的外表面喷涂光阻层，其包括：雾化腔室；及薄形光阻成形设备，设置于雾化腔室中，薄形光阻成形设备包含：滚轮固定装置；及雾化装置，邻近滚轮固定装置设置，且雾化装置包含至少一个雾化器以及对应至少一个雾化器设置的溶液槽；其中，溶液槽中容纳有水性光阻溶液，并且至少一个雾化器用来朝向所述雾化腔室雾化水性光阻溶液。本实用新型的有益效果在于，薄形光阻成形系统及薄形光阻成形设备能通过“雾化装置用来使雾化的水性光阻溶液在外表面上形成光阻层”的技术方案，减少光阻层在外表面上形成的时间和光阻层的厚度。

Description

薄形光阻成形系统及薄形光阻成形设备

技术领域

本实用新型涉及一种光阻成形系统及一种光阻成形设备，特别是涉及一种薄形光阻成形系统及一种薄形光阻成形设备。

背景技术

现有的光阻涂布设备经常是以液滴喷涂的方式将一光阻液分布在一金属滚轮的外表面上并形成一光阻层。然而，现有的光阻涂布设备若要完成上述作业流程，在将所述光阻液喷涂至所述金属滚轮的过程中，经常需要耗费大量的时间在喷涂所述光阻液的工艺上，否则被喷涂的所述外表面上的所述光阻液将可能没有均匀分布，从而导致由所述光阻液所形成的所述光阻层在后续制程中有较高的机率发生剥离或薄膜迭层等问题。

此外，以液滴喷涂的方式形成的所述光阻层的厚度不容易控制，从而导致所述光阻层在后续的曝光制程中容易因为厚度过厚而发生所述光阻层曝光不完全的问题。

因此，如何通过提供一种薄形光阻成形系统及一种薄形光阻成形设备来克服上述的缺陷已成为该项事业所欲解决的重要课题之一。

实用新型内容

本实用新型实施例提供一种薄形光阻成形系统及一种薄形光阻成形设备，以用来改善现有的技术问题。

本实用新型的其中一个实施例公开一种薄形光阻成形系统，所述薄形光阻成形系统用来对一转印滚轮的一外表面喷涂一光阻层，所述薄形光阻成形系统包括：一雾化腔室，用来避免所述转印滚轮被环境中的污染源粘附；以及一薄形光阻成形设备，设置于所述雾化腔室中，所述薄形光阻成形设备包含：一滚轮固定装置，用来固定所述转印滚轮；及一雾化装置，邻近所述滚轮固定装置设置，并且所述雾化装置包含有至少一个雾化器以及对应于至少一个所述雾化器设置的一溶液槽；其中，所述溶液槽中容纳有一水性光阻溶液，并且至少一个所述雾化器用来朝向所述雾化腔室雾化所述水性光阻溶液；其中，所述雾化装置用来朝向所述转印滚轮喷涂雾化的所述水性光阻溶液，并且所述雾化装置用来使雾化的所述水性光阻溶液在所述外表面上形成所述光阻层。

优选地，任一所述雾化器包含至少一个陶瓷雾化片，至少一个所述陶瓷雾化片能用来以介于1.7百万赫兹～2.4百万赫兹之间的频率进行震荡，并使所述水性光阻溶液雾化。

优选地，任一所述雾化器具有一最大长度，所述最大长度介于1毫米～50毫米之间。

优选地，所述滚轮固定装置包含一夹持机构，并且所述夹持机构用来夹持并转动所述转印滚轮。

优选地，所述夹持机构包含一速度控制单元，所述速度控制单元能用来使所述转印滚轮以一无扰流速度转动。

优选地，所述薄形光阻成形系统还包含一软烤装置，所述软烤装置能用来烘烤所述光阻层，并使所述光阻层的溶剂含量降低。

优选地，所述薄形光阻成形设备还包含一移动装置，所述移动装置安装在所述雾化装置上，并且所述移动装置用于使所述雾化装置相对于所述转印滚轮移动。

本实用新型的其中一个实施例公开一种薄形光阻成形设备，所述薄形光阻成形设备用来对一转印滚轮的一外表面喷涂一光阻层，所述薄形光阻成形设备包括：一滚轮固定装置，用来固定并转动所述转印滚轮；以及一雾化装置，邻近所述滚轮固定装置设置，并且所述雾化装置包含有至少一个雾化器以及对应于至少一个所述雾化器设置的一溶液槽；其中，所述溶液槽中容纳有一水性光阻溶液，至少一个所述雾化器用来朝向所述转印滚轮雾化所述水性光阻溶液，并且所述雾化装置用来使雾化的所述水性光阻溶液在所述外表面上形成所述光阻层。

优选地，任一所述雾化器包含至少一个陶瓷雾化片，至少一个所述陶瓷雾化片能用来以介于1.7百万赫兹～2.4百万赫兹之间的频率进行震荡，并使所述水性光阻溶液雾化。

优选地，任一所述雾化器具有一最大长度，所述最大长度介于1毫米～50毫米之间。

本实用新型的其中一有益效果在于本实用新型所提供的所述薄形光阻成形系统及所述薄形光阻成形设备能通过“用所述雾化装置使雾化的所述水性光阻溶液在所述外表面上形成所述光阻层”的技术方案来减少所述光阻层在所述外表面上形成的时间，并减少所述光阻层的厚度。

为能更进一步了解本实用新型的特征及技术内容，请参考以下有关本实用新型的详细说明与附图，但是这些说明与附图仅用来说明本实用新型，而非对本实用新型的保护范围作任何限制。

附图说明

图1为本实用新型的实施例的薄形光阻成形系统的立体示意图。

图2为本实用新型的实施例的薄形光阻成形系统的另一立体示意图。

图3为本实用新型的实施例的雾化装置对转印滚轮喷涂雾化的水性光阻溶液的动作的示意图。

图4为本实用新型的实施例的软烤装置对光阻层进行软烤的动作的示意图。

图5为本实用新型的实施例的雾化器的平面示意图。

具体实施方式

以下是通过特定的具体实施例来说明本实用新型所公开有关“薄形光阻成形系统及薄形光阻成形设备”的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所公开的内容了解本实用新型的优点与效果。本实用新型可通过其他不同的具体实施例加以施行或应用，本说明书中的各项细节也可基于不同观点与应用在不背离本实用新型的构思下进行各种修改与变更。另外，需事先声明的是，本实用新型的附图仅为简单示意说明，并非依实际尺寸的描绘。此外，以下如有指出请参考特定附图或是如特定附图所示，其仅是用以强调于后续说明中所涉及的相关内容大部份出现于该特定附图中，但不限制该后续说明中仅可参考所述特定附图。以下的实施方式将进一步详细说明本实用新型的相关技术内容，但所公开的内容并非用来限制本实用新型的保护范围。

应当理解的是，虽然本文中可能会使用到“第一”、“第二”、“第三”等术语来描述各种组件或者信号，但这些组件或者信号不应受这些术语的限制。这些术语主要是用以区分一组件与另一组件或者一信号与另一信号。另外，本文中所使用的术语“或”，应视实际情况而可能包括相关联的列出项目中的任一个或者多个的组合。

请参考图1至图4所示的本实用新型的实施例，需先说明的是，本实施例所对应到的附图及其所提及的相关数量与外形仅用来具体地说明本实用新型的实施方式，以便于了解本实用新型的内容，而非用来限制本实用新型的保护范围。

如图1至图4所示，本实用新型实施例提供一种薄形光阻成形系统100，其用来对一转印滚轮200的一外表面201喷涂一光阻层202，其中，所述转印滚轮200在本实施例中优选由镍金属制成，但本实用新型并不限于此。举例来说，在本实用新型的其他实施例中，所述转印滚轮200也可以由锡、铅、锌、铝、铜、黄铜、铁、钴、钨、铬或其硬度大于铬的金属制成。

如图1所示，所述薄形光阻成形系统100包括一雾化腔室1、设置在所述雾化腔室1中的一薄形光阻成形设备2、安装至所述薄形光阻成形设备2的一软烤装置3以及安装于所述薄形光阻成形设备2的一移动装置4，但本实用新型并不限于此。举例来说，在本实用新型未示出的其他实施例中，所述薄形光阻成形系统100也可以不包含所述软烤装置3以及所述移动装置4。

需要说明的是，所述雾化腔室1用来避免所述转印滚轮200被环境中的污染源粘附。在本实施例中，所述雾化腔室1为一无尘腔体，并且其无尘等级为美国联邦标准分级1～美国联邦标准分级500。但需额外说明的是，所述薄形光阻成形设备2在本实施例中搭配所述雾化腔室1、所述软烤装置3以及所述移动装置4来说明，但在本实用新型未示出的其他实施例中，所述薄形光阻成形设备2也可以是单独地应用(如：售卖)或是搭配其他构件使用。

如图1所示，所述薄形光阻成形设备2包含一滚轮固定装置21以及邻近所述滚轮固定装置21设置的一雾化装置22。需要说明的是，为方便说明与理解，以下将先介绍所述滚轮固定装置21，后续再介绍所述雾化装置22。

如图1所示，所述滚轮固定装置21用来固定所述转印滚轮200，所述滚轮固定装置21包含一夹持机构211，并且所述夹持机构211用来夹持并转动所述转印滚轮200。其中，所述夹持机构211包含一圆形弹性筒夹，并且所述夹持机构211通过油压驱动的方式使所述圆形弹性筒夹可以夹持所述转印滚轮200，但本实用新型并不限于此。举例来说，所述圆形弹性筒夹也可以是车床夹头等其他夹具，并且所述夹持机构211也可以通过气压驱动或手动的方式使所述圆形弹性筒夹能夹持所述转印滚轮200。

需要说明的是，在本实施例中，所述夹持机构211包含一速度控制单元，该速度控制单元能用来使所述转印滚轮200以一无扰流速度转动。更详细地说，所述转印滚轮200在转动时，所述夹持机构211能用来使所述转印滚轮200周边的空气并不会有过大的扰流现象产生。

如图1及图2所示，所述雾化装置22包含有至少一个雾化器221以及对应于至少一个所述雾化器221设置的一溶液槽222。其中，所述溶液槽222中容纳有一水性光阻溶液，并且至少一个所述雾化器221用来朝向所述雾化腔室1雾化所述水性光阻溶液。

需要说明的是，如图3所示，所述雾化装置22的至少一个所述雾化器221用来朝向所述转印滚轮200喷涂雾化的所述水性光阻溶液，并用来使雾化的所述水性光阻溶液在所述外表面201上形成所述光阻层202。

具体来说，至少一个所述雾化器221设置在所述转印滚轮200的上方(也就是说，相对于所述转印滚轮200，至少一个所述雾化器221更加邻近所述雾化腔室1的顶部)，当所述水性光阻溶液被所述至少一个所述雾化器221雾化后，雾化的所述水性光阻溶液将从所述转印滚轮200的上方落下并附着于所述外表面201。其中，在雾化的所述水性光阻溶液从所述转印滚轮200的上方落下的过程中，所述夹持机构211使所述转印滚轮200转动，使所述外表面201能均匀地附着有雾化的所述水性光阻溶液，并使所述外表面201上形成所述光阻层202。

需要说明是的，在本实施例中，所述水性光阻溶液的水含量为所述水性光阻溶液的整体比例的50％～90％，优选为所述水性光阻溶液的整体比例的70～80％，但本实用新型并不限于此。举例来说，在本实用新型未示出的其他实施例中，所述水性光阻溶液的水含量比例可依需求进行调整，但所述水性光阻溶液的水含量比例至少需达到可使所述水性光阻溶液被雾化的程度。

如图1及图3所示，所述移动装置4用来使所述雾化装置22相对于所述转印滚轮200移动，并且所述移动装置4用来移动至少一个所述雾化器221以使雾化的所述水性光阻溶液能完整地附着于所述外表面201。

需要说明的是，当所述雾化装置22包含有一个所述雾化器221时，所述薄形光阻成形系统100包括所述移动装置4；而如图2所示，当所述雾化装置22包含有多个所述雾化器221时，所述薄形光阻成形系统100不包括所述移动装置4。具体来说，多个所述雾化器221的数量需至少为3个以上，否则所述薄形光阻成形系统100依然需要装设所述移动装置4，以避免所述转印滚轮200的所述外表面201没有完整涂布所述光阻层202。

需要说明的是，在本实施例中，如图5所示，任一个所述雾化器221具有一最大长度H，并且所述最大长度H介于1毫米～50毫米之间。其中，所述最大长度H优选介于20毫米～30毫米之间，并且任一个所述雾化器221包含至少一个陶瓷雾化片221A，至少一个所述陶瓷雾化片能用来以介于1.7百万赫兹(MHz)～2.4百万赫兹(MHz)之间的频率进行震荡并使所述水性光阻溶液雾化。

需要说明的是，所述水性光阻溶液能从所述溶液槽222传输到至少一个所述雾化器221中，当所述水性光阻溶液输送到至少一个所述雾化器221时，设置在至少一个所述雾化器221内部的所述陶瓷雾化片221A将开始以高频振荡，从而使所述水性光阻溶液雾化。

如图4所示，所述软烤装置3能用来烘烤所述光阻层202，并使所述光阻层202的溶剂含量降低。更详细地说，所述软烤装置3能用来使所述光阻层202的溶剂及过多的水分从所述光阻层202中挥发出来，并使所述溶剂在所述光阻层202中的含量至少降低至5％左右。

[实施例的有益效果]

本实用新型的其中一有益效果在于，本实用新型所提供的所述薄形光阻成形系统100及所述薄形光阻成形设备2能通过“用所述雾化装置22使雾化的所述水性光阻溶液在所述外表面201上形成所述光阻层202”的技术方案来减少所述光阻层202形成于所述外表面201的时间，并减少所述光阻层202的厚度。

更进一步地说，所述薄形光阻成形系统100能通过“所述夹持机构211包含一速度控制单元，该速度控制单元能用于使所述转印滚轮200以一无扰流速度转动”的技术手段来避免当至少一个所述雾化器221朝向所述转印滚轮200喷涂雾化的所述水性光阻溶液时，雾化的所述水性光阻溶液因为空气扰流而没有完整且平均地涂布在所述外表面201上。

更进一步地说，所述薄形光阻成形系统100能通过“所述软烤装置3能用于烘烤所述光阻层202并使所述光阻层202的溶剂含量降低”的技术手段来减少所述转印滚轮200在后续工艺中因高速旋转而形成的薄膜应力，并增加所述光阻层202与所述外表面201之间的附着性。

更进一步地说，所述薄形光阻成形系统100能通过“所述薄形光阻成形设备2设置在所述雾化腔室1中”的技术手段来避免当所述转印滚轮200被所述薄形光阻成形设备2喷涂时，由环境中的污染源粘附。

以上所公开的内容仅为本实用新型的优选可行实施例，并非因此局限本实用新型的范围，所以凡是运用本实用新型说明书及附图内容所做的等效技术变化均包含于本实用新型的范围内。

Claims (10)

1.一种薄形光阻成形系统，其特征在于，所述薄形光阻成形系统用来对一转印滚轮的一外表面喷涂一光阻层，所述薄形光阻成形系统包括：

一雾化腔室，用来避免所述转印滚轮被环境中的污染源粘附；以及

一薄形光阻成形设备，设置于所述雾化腔室中，所述薄形光阻成形设备包含：

一滚轮固定装置，用来固定所述转印滚轮；及

一雾化装置，邻近所述滚轮固定装置设置，并且所述雾化装置包含有至少一个雾化器以及对应于至少一个所述雾化器设置的一溶液槽；其中，所述溶液槽中容纳有一水性光阻溶液，并且至少一个所述雾化器用来朝向所述雾化腔室雾化所述水性光阻溶液；

其中，所述雾化装置用来朝向所述转印滚轮喷涂雾化的所述水性光阻溶液，并且所述雾化装置用来使雾化的所述水性光阻溶液在所述外表面上形成所述光阻层。

2.根据权利要求1所述的薄形光阻成形系统，其特征在于，任一所述雾化器包含至少一个陶瓷雾化片，至少一个所述陶瓷雾化片能用来以介于1.7百万赫兹～2.4百万赫兹之间的频率进行震荡，并使所述水性光阻溶液雾化。

3.根据权利要求1所述的薄形光阻成形系统，其特征在于，任一所述雾化器具有一最大长度，所述最大长度介于1毫米～50毫米之间。

4.根据权利要求1所述的薄形光阻成形系统，其特征在于，所述滚轮固定装置包含一夹持机构，并且所述夹持机构用来夹持并转动所述转印滚轮。

5.根据权利要求4所述的薄形光阻成形系统，其特征在于，所述夹持机构包含一速度控制单元，所述速度控制单元能用来使所述转印滚轮以一无扰流速度转动。

6.根据权利要求1所述的薄形光阻成形系统，其特征在于，所述薄形光阻成形系统还包含一软烤装置，所述软烤装置能用来烘烤所述光阻层，并使所述光阻层的溶剂含量降低。

7.根据权利要求1所述的薄形光阻成形系统，其特征在于，所述薄形光阻成形设备还包含一移动装置，所述移动装置安装在所述雾化装置上，并且所述移动装置用于使所述雾化装置相对于所述转印滚轮移动。

8.一种薄形光阻成形设备，其特征在于，所述薄形光阻成形设备用来对一转印滚轮的一外表面喷涂一光阻层，所述薄形光阻成形设备包括：

一滚轮固定装置，用来固定并转动所述转印滚轮；以及

一雾化装置，邻近所述滚轮固定装置设置，并且所述雾化装置包含有至少一个雾化器以及对应于至少一个所述雾化器设置的一溶液槽；其中，所述溶液槽中容纳有一水性光阻溶液，至少一个所述雾化器用来朝向所述转印滚轮雾化所述水性光阻溶液，并且所述雾化装置用来使雾化的所述水性光阻溶液在所述外表面上形成所述光阻层。

9.根据权利要求8所述的薄形光阻成形设备，其特征在于，任一所述雾化器包含至少一个陶瓷雾化片，至少一个所述陶瓷雾化片能用来以介于1.7百万赫兹～2.4百万赫兹之间的频率进行震荡，并使所述水性光阻溶液雾化。

10.根据权利要求8所述的薄形光阻成形设备，其特征在于，任一所述雾化器具有一最大长度，所述最大长度介于1毫米～50毫米之间。

Images