JPH0317944A - プラズマｘ線発生装置 - Google Patents
プラズマｘ線発生装置Info
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- JPH0317944A JPH0317944A JP14962589A JP14962589A JPH0317944A JP H0317944 A JPH0317944 A JP H0317944A JP 14962589 A JP14962589 A JP 14962589A JP 14962589 A JP14962589 A JP 14962589A JP H0317944 A JPH0317944 A JP H0317944A
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- ray transmission
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- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 14
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 abstract description 20
- 239000012212 insulator Substances 0.000 abstract description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 3
- 230000001960 triggered effect Effects 0.000 abstract description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 6
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 3
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は，放電によって，あるいはターゲットへのレー
ザーの照射によって高温のプラズマを形成し、軟Ｘ線を
発生するプラズマＸ線発生装置に関するもので．＊細な
半導体集積回路を製造するＸ線露光装置、あるいは、Ｘ
線顕微鏡などに使用することができる． 〔従来の技術〕 例えば特開昭６３ − ２３７３４１号公報に記載され
てぃるように通常，電子衡撃型Ｘ線源あるいはプラズマ
Ｘ＠源を用いた欝光装置は，ウェハとマスクとを水平に
保持してＸｌｓを照射する構造を採用しており、Ｘ線を
外部に取り出すＸ線透過窓は、放電管のド部に水平に配
置されている。したがって，放電管の内部で発生した塵
埃は，重力にひかれてＸ線透過窓の上に落ドする．Ｘ線
透過窓に付着した塵埃は，Ｘ線の照度にむらを生じ、転
写される図形に欠陥を生じ、製造される素子の不良の原
因となる．このような塵埃を取り除くために、しばしば
放電管内部部の掃除が必要になる。そのため，装置の保
守に時間がかかり、装置の稼＃Ｉ＃４が低ドする。
ザーの照射によって高温のプラズマを形成し、軟Ｘ線を
発生するプラズマＸ線発生装置に関するもので．＊細な
半導体集積回路を製造するＸ線露光装置、あるいは、Ｘ
線顕微鏡などに使用することができる． 〔従来の技術〕 例えば特開昭６３ − ２３７３４１号公報に記載され
てぃるように通常，電子衡撃型Ｘ線源あるいはプラズマ
Ｘ＠源を用いた欝光装置は，ウェハとマスクとを水平に
保持してＸｌｓを照射する構造を採用しており、Ｘ線を
外部に取り出すＸ線透過窓は、放電管のド部に水平に配
置されている。したがって，放電管の内部で発生した塵
埃は，重力にひかれてＸ線透過窓の上に落ドする．Ｘ線
透過窓に付着した塵埃は，Ｘ線の照度にむらを生じ、転
写される図形に欠陥を生じ、製造される素子の不良の原
因となる．このような塵埃を取り除くために、しばしば
放電管内部部の掃除が必要になる。そのため，装置の保
守に時間がかかり、装置の稼＃Ｉ＃４が低ドする。
塵埃を除くには，上記の公知例に記載されているように
、放電管に導入あるいは排出する気体の流れを利用する
方法がある．しかし，この方法ではＸ線透過窓の角に塵
埃が残ったりしてまだ充分とはいえない． 〔発明が解決しようとする課題〕 本発明は，パルス放電によって，あるいは，タ一ゲット
へのレーザーの照射によって、高温のプラズマを形或し
、Ｘ線を発生するプラズマＸ線源においては、Ｘ線を透
過する窓の膜に、電極あるいはターゲットが溶融したり
蒸発して発生した塵埃が付着して、Ｘ線の透過率が下が
ったり、むらや影ができる問題を解決しようとするもの
である。
、放電管に導入あるいは排出する気体の流れを利用する
方法がある．しかし，この方法ではＸ線透過窓の角に塵
埃が残ったりしてまだ充分とはいえない． 〔発明が解決しようとする課題〕 本発明は，パルス放電によって，あるいは，タ一ゲット
へのレーザーの照射によって、高温のプラズマを形或し
、Ｘ線を発生するプラズマＸ線源においては、Ｘ線を透
過する窓の膜に、電極あるいはターゲットが溶融したり
蒸発して発生した塵埃が付着して、Ｘ線の透過率が下が
ったり、むらや影ができる問題を解決しようとするもの
である。
本発明の目的は、プラズマＸ線発生装置の容器内部で発
生する塵埃がＸ線透過膜に付着することによって引き起
こされる、このようなさまざまな問題を解決したプラズ
マＸ線発生装置を提供することにある． 〔課題を解決するための手段〕 本発明は，上記目的を達或するために、容器に設けるＸ
線透過窓を水平面に対して傾斜させることによって塵埃
がＸＩｓ透過膜の上に滞留することを防止しようとする
ものである。さらに，放電を利用したプラズマＸ線源で
は、プラズマの運動によって生ずる衝撃波から塵埃が受
ける力を利用し、気体を利用する装置では気体を導入あ
るいは排気する時の流れも利用して塵埃をＸ線透過膜か
ら排除する働きを助けることが可能である．〔作用〕 本発明によれば、Ｘ線透過窓を水平面に対して傾斜させ
ることにより、塵埃がＸ線透過膜から周辺へ移動するこ
とを容易にし、膜上に滞留してＸ線の透過率を低下させ
、影を作り、不良の原因となることを防ぐものである。
生する塵埃がＸ線透過膜に付着することによって引き起
こされる、このようなさまざまな問題を解決したプラズ
マＸ線発生装置を提供することにある． 〔課題を解決するための手段〕 本発明は，上記目的を達或するために、容器に設けるＸ
線透過窓を水平面に対して傾斜させることによって塵埃
がＸＩｓ透過膜の上に滞留することを防止しようとする
ものである。さらに，放電を利用したプラズマＸ線源で
は、プラズマの運動によって生ずる衝撃波から塵埃が受
ける力を利用し、気体を利用する装置では気体を導入あ
るいは排気する時の流れも利用して塵埃をＸ線透過膜か
ら排除する働きを助けることが可能である．〔作用〕 本発明によれば、Ｘ線透過窓を水平面に対して傾斜させ
ることにより、塵埃がＸ線透過膜から周辺へ移動するこ
とを容易にし、膜上に滞留してＸ線の透過率を低下させ
、影を作り、不良の原因となることを防ぐものである。
放電容器の軸が鉛直でない場合に、このような配置をと
ることは，当然考えられるが、放電容器の軸が鉛直の場
合についても本発明を実施することによって、塵埃の排
除を助けることが本発明の狙いである．〔実施例〕 以下、本発明を実施例により説明する．餉１図は、本発
明の実施例を示すプラズマフォーカス型Ｘ線発生装置の
放電管の断面図である。
ることは，当然考えられるが、放電容器の軸が鉛直の場
合についても本発明を実施することによって、塵埃の排
除を助けることが本発明の狙いである．〔実施例〕 以下、本発明を実施例により説明する．餉１図は、本発
明の実施例を示すプラズマフォーカス型Ｘ線発生装置の
放電管の断面図である。
同図において、内側電極１と外側電極２は，絶縁物３で
絶縁されて同軸状に配置され，放電容器４内に収納され
ている．放電容器にはネオンなどのガスが約２ Ｔｏｒ
ｒの圧力に充填されている。ｉ＆ｔｊｔｌ！極の間には
，充電されたコンデンサ５が、スイッチ６を介して接続
され、スイッチがトリガーされると両電極間に電圧が印
加され、絶縁物３で沿面放電が起り、プラズマが発生す
る。プラズマは，衝撃波を形成し、電極の間の空間を電
極の先端に向かって運動し、先端を過ぎると、磁界の圧
力を受けて圧縮され，ピンチ効果によって島温高密度の
プラズマとなってＸ線を放射する。線源が最も小さく見
える方向にＸ線を取り出すことが解像度の点から好まし
い。このためにＸ線透過窓７は，放電管の下部の軸上に
設けられる．Ｘ線透過膜を水平面から傾斜させる角度は
、膜の等価的な厚さを増加させないためには、あまり大
きくないことが望ましく、本実施例では、水平面から２
０度傾けて配置している。
絶縁されて同軸状に配置され，放電容器４内に収納され
ている．放電容器にはネオンなどのガスが約２ Ｔｏｒ
ｒの圧力に充填されている。ｉ＆ｔｊｔｌ！極の間には
，充電されたコンデンサ５が、スイッチ６を介して接続
され、スイッチがトリガーされると両電極間に電圧が印
加され、絶縁物３で沿面放電が起り、プラズマが発生す
る。プラズマは，衝撃波を形成し、電極の間の空間を電
極の先端に向かって運動し、先端を過ぎると、磁界の圧
力を受けて圧縮され，ピンチ効果によって島温高密度の
プラズマとなってＸ線を放射する。線源が最も小さく見
える方向にＸ線を取り出すことが解像度の点から好まし
い。このためにＸ線透過窓７は，放電管の下部の軸上に
設けられる．Ｘ線透過膜を水平面から傾斜させる角度は
、膜の等価的な厚さを増加させないためには、あまり大
きくないことが望ましく、本実施例では、水平面から２
０度傾けて配置している。
ピンチしたプラズマから、高密度に圧縮されたガスが軸
の方向に噴出し、このガスの流れが傾いたベリリウムの
膜の上に乗っている塵埃を吹き飛ばし、さらに低い位置
にあるほこり溜め８に集める鋤きをする． 〔発明の効果〕 以上に述べたごとく本発明によれば，プラズマＸ線発生
装置において，Ｘ線透過窓を水平血より傾斜させること
によりＸｍ透過窓のべリリウムに滞留する塵埃を減らす
ことができる。その結果、プラズマＸ線発生装置におい
てハｑ埃を除去するために保守にかかる時間を軽減する
ことができ、稼働率を高めることがロＪ能になる。
の方向に噴出し、このガスの流れが傾いたベリリウムの
膜の上に乗っている塵埃を吹き飛ばし、さらに低い位置
にあるほこり溜め８に集める鋤きをする． 〔発明の効果〕 以上に述べたごとく本発明によれば，プラズマＸ線発生
装置において，Ｘ線透過窓を水平血より傾斜させること
によりＸｍ透過窓のべリリウムに滞留する塵埃を減らす
ことができる。その結果、プラズマＸ線発生装置におい
てハｑ埃を除去するために保守にかかる時間を軽減する
ことができ、稼働率を高めることがロＪ能になる。
第ｌ図は、本発明を実施したプラズマフォーカスＸ線源
の断面図である。 １・・・内側電極，２・・・外側電極、３・・・絶縁物
、４・・・放電容器、７・・・ＸＭｃ窓のべリリウム膜
、８・・・ほこり溜め．
の断面図である。 １・・・内側電極，２・・・外側電極、３・・・絶縁物
、４・・・放電容器、７・・・ＸＭｃ窓のべリリウム膜
、８・・・ほこり溜め．
Claims (1)
- １、密閉された容器内に高温のプラズマを形成し、Ｘ線
を発生するプラズマＸ線発生装置において、容器からＸ
線を取り出すために設けられたＸ線透過窓の透過膜が水
平面に対して傾斜して設けられていることを特徴とする
プラズマＸ線発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14962589A JPH0317944A (ja) | 1989-06-14 | 1989-06-14 | プラズマｘ線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14962589A JPH0317944A (ja) | 1989-06-14 | 1989-06-14 | プラズマｘ線発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0317944A true JPH0317944A (ja) | 1991-01-25 |
Family
ID=15479313
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14962589A Pending JPH0317944A (ja) | 1989-06-14 | 1989-06-14 | プラズマｘ線発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0317944A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20200143432A (ko) | 2018-04-16 | 2020-12-23 | 데이진 프론티아 가부시키가이샤 | 플랩 구비 편지 및 섬유 제품 |
-
1989
- 1989-06-14 JP JP14962589A patent/JPH0317944A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20200143432A (ko) | 2018-04-16 | 2020-12-23 | 데이진 프론티아 가부시키가이샤 | 플랩 구비 편지 및 섬유 제품 |
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