JPH0862398A - X線検出器 - Google Patents

X線検出器

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JPH0862398A
JPH0862398A JP6199708A JP19970894A JPH0862398A JP H0862398 A JPH0862398 A JP H0862398A JP 6199708 A JP6199708 A JP 6199708A JP 19970894 A JP19970894 A JP 19970894A JP H0862398 A JPH0862398 A JP H0862398A
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JP
Japan
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vacuum
ray
high voltage
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image
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JP6199708A
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English (en)
Inventor
Shinichi Takahashi
進一 高橋
Katsumi Sugizaki
克己 杉崎
Hiroshi Nagata
浩 永田
Hiroyuki Kondo
洋行 近藤
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Nikon Corp
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Nikon Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】真空度の低下などの異常事態の際にも検出器の
破損及び劣化を防止することが出来る高電圧遮断保護装
置付きのX線二次元検出器を提供する。 【構成】真空容器8内に、試料のX線像を光電変換・電
子増倍するマイクロチャンネルプレート(MCP)1
1,12および電子像を可視光に変換する蛍光面13が
接地される。MCP出射側12と、MCP入射側11お
よび蛍光面13との間に高電圧が印加される。一方、真
空容器8内の真空度は真空度計16により検知され、切
換手段(スイッチング回路)制御系17が真空度低下を
検出したら直ちに、MCP入射側11および蛍光面13
に印加されている高電圧を接地レベルに落とす。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、X線顕微鏡やX線分析
装置等に用いられる二次元X線検出器に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】軟X線の波長は0.1nm 〜30nmであり、可
視光の波長(380nm 〜770nm 程度)に比べ短くまた物質
の透過力が高いという特徴をもっている。この軟X線を
顕微鏡や分析装置等のX線装置に用いることにより、従
来よりも高い分解能で物質の内部構造が観察できるなど
の大きな特徴を生み出す。しかしながら、軟X線の波長
が可視光よりも短いために反射面の形状精度も非常に高
いものが要求される。近年、超微細加工技術の発展と共
にX線用の反射鏡に使用できるような形状精度の高い光
学素子の製作が可能となり、X線顕微鏡や分析装置など
への応用が行われるようになってきた。
【0003】X線顕微鏡や分析装置等のX線像を検出す
る手段として、X線像を光電変換面によって二次電子像
に変換し、その電子像を検出することによりX線の二次
電子像を得る方法が行われてきている。
【0004】以下に、マイクロチャンネルプレート(以
下、MCPという)の動作原理、及びX線二次元検出器
を用いたX線顕微鏡の従来例を説明する。
【0005】図4はMCPの概略構成を示した図であ
る。MCPは図4のように内壁を抵抗体とした数十μm
の内径をもった細い硝子パイプ(チャンネル)51を多
数束ねた二次元構造をしている。
【0006】図5は、MCPの動作原理を示すために1
つのチャンネル51を示した図である。チャンネル51
の内壁にはX線を二次電子に変換する光電変換面として
CsI等52がコーティングされている。MCPに入射
したX線53はチャンネル51内の光電変換面により二
次電子54に変換され放出される。放出された二次電子
はMCP両端55間に印加された高電圧による電位差に
より加速され、チャンネル内の内壁に衝突して再び二次
電子を放出する。これを繰り返すことによって、MCP
のチャンネル51はそれぞれ独立した二次電子増倍器を
形成している。この過程がチャンネル内の内壁で多数繰
り返される結果、出力側より多数の電子56が増倍され
て放出されることになる。増倍された二次電子像は、二
次電子を可視光に変換する蛍光面やマルチアノード等に
よって検出される。
【0007】図6に、従来の二次元X線検出器を用いた
X線顕微鏡の概略構成図を示した。図6のように、この
X線顕微鏡は、X線発生器1を、他の構成部である照明
光学系2、試料容器3、拡大光学系4、X線二次元検出
器5とは別の副真空容器7内に収納した構成となってい
る。主真空容器8はX線の大気での吸収を防ぐために排
気装置10によって真空排気されている。このような構
成では、X線透過窓を持った真空分離膜50によって主
真空容器8と副真空容器7は分離されているので、X線
発生器1を収納する副真空容器7内は、排気装置9によ
り、他に比べて真空度を低くすることができる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】MCP等の高電圧を印
加して利用する検出器では、動作中は比較的高い真空度
が要求される。それは、これらの検出器を低真空中で動
作させ高電圧を印加すると、放電が起こり検出器の破損
または劣化の原因となるからである。
【0009】しかし、従来の構成のX線顕微鏡において
は、検出器の高電圧印加部分を高真空にしておいたとし
ても、真空分離膜が機械的衝撃などの理由で破損した
り、真空シーケンスの故障及び人為的操作ミスなどの予
期せぬ真空容器内の真空度の低下等の事態が生じた際
に、真空容器内の真空度が一気に低下してしまう。真空
度の低下によって、検出器には高電圧が印加されている
ので、放電が起こりMCPのチャンネル及び放射線像拡
大観察装置の光電変換膜及び蛍光面などが破損してしま
う。幸い破損に至らなかったとしても検出器の寿命は確
実に短くなる。チャンネル、光電変換膜、蛍光面等は非
常に高価で交換の手順も煩わしい。
【0010】また、真空度低下の異常事態の際に検出器
に印加している高電圧をOFFしたとしても、チャンネ
ル、光電変換面、蛍光面等に印加されている高電圧は直
ちにグランドレベルまで下がるわけではない。そのた
め、残った高電圧による放電により、MCPのチャンネ
ル、光電変換膜、蛍光面等の破損または劣化を抑えるこ
とが出来ない。
【0011】そこで本発明では上記問題点を解決し、真
空度の低下などの異常事態の際にも検出器の破損及び劣
化を防止することが出来る高電圧遮断保護装置付きのX
線二次元検出器を提供する。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに、本発明によるX線検出器は、少なくとも、入射す
るX線像を二次電子像に変換する光電変換手段と、この
二次電子像を検出する検出手段とを真空容器内に設置
し、前記光電変換手段と前記検出手段との間に二次電子
を加速するための高電圧を印加するX線検出器におい
て、前記真空容器内の真空度をモニターする真空計と、
前記高電圧を発生する高電圧発生手段と、前記高電圧発
生手段により前記光電変換手段と前記検出手段との間に
印加される高電位差を低下させる切替手段と、前記真空
計の真空度が予め定めた真空度まで低下したとき、前記
切替手段に対して前記高電位差を低下させることを指示
する切替信号を出力する制御手段と、を備えたことを特
徴とする。
【0013】
【作用】本発明によれば、X線二次元像を得るために高
真空雰囲気中で高電圧を印加して使用するMCP、放射
線像拡大観察装置等の二次元X線検出器を用いていると
きに、真空分離膜が機械的衝撃などの理由で破損した
り、真空シーケンスの間違い及び人為的操作ミスなどの
予期せぬ真空容器内の真空度の低下等の事態が生じたと
きにも、真空容器内の真空度の劣化をモニターする真空
計からの信号により、高電圧印加部分に接続された切替
手段(スイッチング回路)が動作し、この切替手段によ
って高電圧印加部分の高電圧をカットすると同時に高電
圧印加部分を低電位、例えばグランドレベルに接続す
る。そのために、X線二次元検出器の高電圧は直ちに低
(0)レベルに落ちることとなり、真空度の低下が起こ
っても光電変換面、MCP、蛍光面等の破損及び劣化を
防ぐことが出来る。
【0014】
【実施例】以下、図示した実施例に基づき本発明を詳細
に説明する。
【0015】<第1の実施例>図1はX線顕微鏡の二次
元検出器にMCPを用いた場合の本発明の第1の実施例
である。本実施例のX線顕微鏡では、真空分離膜50に
より、照明鏡2、試料容器3、対物鏡4、X線二次元検
出器であるMCP11,12、蛍光面13を設置する主
真空槽8と、X線発生器1用の副真空槽7とに分離され
ている。X線発生器1用の副真空槽7内はX線発生器1
からのデブリ等を防ぐために排気系9により低真空にさ
れまたはHe等により置換されている。主真空槽8は、
X線の大気またはHeガスなどの吸収による減衰を防ぐ
ため、およびMCPの低真空時での放電による破損及び
劣化を防ぐために排気系10により高真空に真空排気さ
れている。
【0016】X線二次元検出器を構成するMCPのチャ
ンネルのX線入射側11及び蛍光面13は、検出器動作
中は高電圧源18内のスイッチング回路のスイッチ1
9、スイッチ20がそれぞれ端子21、端子24に接続
され、高電圧電源25、26によりそれぞれ−2kV、
+4kVの高電圧が印加されている。またMCPのチャ
ンネルの出射側12はグランドに接続されている。MC
Pに入射したX線はチャンネル内の光電変換膜にぶつか
った後、電子に変換される。MCP入射側11とMCP
出射側12との電位差により電子はチャンネル内で増倍
される。さらにMCP出射側12と蛍光面13間の電位
差により、増倍された電子は蛍光面13に衝突し電子か
ら可視光へと変換される。可視光に変換されたX線二次
元像は真空槽窓14を介してCCDカメラ等の可視光用
の撮像装置15等の可視光検出器により画像データとし
て取り込まれ、モニター6上に写し出される。
【0017】MCPに高電圧を印加し、X線顕微鏡によ
る撮像を行っている最中に、真空分離膜50の機械的衝
撃または経時疲労等による破損、或いは真空シーケンス
の故障、人為的ミス等による真空槽内の真空度の低下が
起こると、主真空槽8内の真空度を常にモニターしてい
る真空計16が真空度の低下(例えば、予め定めた閾値
に達したこと)を直ちに検出し、切換手段(スイッチン
グ回路)制御系17から高電圧電源18にスイッチ切替
信号17aが送られ、スイッチ19、スイッチ20は同
時に、グランドレベルにつながった端子22、端子23
に接続される。そのため、MCPのX線入射側11およ
び蛍光面13に印加されていた高電圧は直ちに0レベル
となり、低真空時に高電圧をかけている際に発生する放
電を防ぐことができ、ひいてはMCPのチャンネル及び
蛍光面の放電による破損または劣化を未然に防ぐことが
可能となる。
【0018】<第2の実施例>図2は、X線顕微鏡の二
次元検出器として放射線拡大観察装置を用いた場合の本
発明の第2の実施例を示す。図1と同様の構成要素には
同様の参照番号が付してある。
【0019】X線二次元検出器である放射線拡大観察装
置は、光電変換面27、MCP11、12、蛍光面13
及び電子レンズ28によって構成されている。本実施例
のX線顕微鏡も、第1の実施例と同様の構成で、真空分
離膜50により、照明鏡2、試料容器3、対物鏡4、放
射線像拡大観察装置を配置した主真空槽8と、X線発生
器1用の副真空槽7とに分離されている。X線発生器1
用の副真空槽7内は、X線発生器1からのデブリ等を防
ぐために排気系9により低真空にされまたはHe等によ
り置換されている。主真空槽8は、X線の大気またはH
eガスなどの吸収による減衰を防ぐためおよびX線二次
元検出器である放射線拡大観察装置の低真空での放電に
よる破損及び劣化を防ぐために、排気系10により高真
空に真空排気されている。
【0020】放射線像拡大観察装置の光電変換面27、
MCP入射側11、及び蛍光面13は、それぞれ高電圧
電源18内のスイッチ29、スイッチ30、スイッチ3
1を介して、端子33、端子34、端子37に接続さ
れ、高電圧電源38、39、40によりそれぞれ−8k
V、−2kV、+5kVの高電圧が印加されている。ま
た、MCPの出射側12はグランドに接続されている。
放射線像拡大観察装置の光電変換面27に入射したX線
二次元像は光電変換面27により電子に変換される。光
電変換面27とMCP入射側11の間の電位差により二
次電子像は加速され、同時に電子レンズ28によって二
次元電子像は拡大され、MCP入射側11に入射する。
MCP内に入射した電子は第1の実施例と同様に増倍さ
れ、MCP出射側12と蛍光面13間の電位差により蛍
光面13に二次電子拡大像を形成する。蛍光面13に入
射した二次電子拡大像は蛍光面13により可視光に変換
され、その可視光像は真空槽窓14を介してCCDなど
の可視光検出器15により検出し画像データをモニター
6上に写し出す。
【0021】放射線像拡大観察装置に高電圧を印加しX
線顕微鏡による撮像を行っている最中に、真空分離膜5
0の機械的衝撃または経時疲労等により真空分離膜が破
損したり、或いは真空シーケンスの故障、人為的ミス等
により真空槽内の高真空が破られると、主真空槽8内の
真空度を常にモニターしている真空計16が真空度の低
下を直ちに検出し、切換手段(スイッチング回路)制御
系17から高電圧電源18にスイッチ切替信号17aが
送られ、スイッチ29、スイッチ30、スイッチ31は
同時にグランドレベルの接続端子32、35、36にそ
れぞれ接続される。そのため、放射線像拡大観察装置の
光電変換面27、MCPのX線入射側11および蛍光面
13に印加されていた高電圧は直ちに0レベルとなり、
低真空時に高電圧をかけている際に発生する放電を防ぐ
ことができ、ひいては放射線像拡大観察装置の光電変換
面27、MCPのチャンネル及び蛍光面13の放電によ
る破損または劣化を未然に防ぐことが可能となる。
【0022】<第3の実施例>図3は、X線の二次元拡
大投影像の検出器としてMCPを用いた場合の本発明の
第3の実施例の概略図を示したものである。図1、2に
示した構成要素と同様の構成要素には同じ参照番号を付
してある。
【0023】この実施例では、第1の実施例、第2の実
施例で用いているX線の波長よりも空気中の透過率が高
いX線を使用することにより、X線源1を空気中に配置
することを可能にしている。放射線二次元検出器を構成
するMCPは、低真空時の放電による破損及び劣化を防
止するために、真空槽8内に配置されている。X線源1
の直後に配置された試料3の投影拡大像は真空分離窓5
0を介して真空槽8内のMCPに入射される。動作中の
MCPのX線入射側11、X線出射側12には高電圧電
源内の−6kVの高電圧47を抵抗48、抵抗49によ
り分圧しそれぞれ−4kV、−2kVの高電圧を印加し
ている。MCPに入射したX線二次元像は第1の実施例
と同様の過程を経て蛍光面13から可視光の二次元像が
得られる。
【0024】MCPに高電圧を印加しX線顕微鏡による
撮像を行っている最中に、真空分離膜50の機械的衝撃
または経時疲労等により真空分離膜が破損したり、或い
は真空シーケンスの故障、人為的ミス等により真空槽内
の高真空が破られると、真空槽8内の真空度を常にモニ
ターしている真空計16が真空度の低下を直ちに検出
し、切換手段(スイッチング回路)制御系17から高電
圧電源18にスイッチ切替信号17aが送られる。
【0025】本実施例では、MCPの入射側11、出射
側12は抵抗48、抵抗49を介してグランドレベルに
接続されているので、スイッチ41をOFFにする(開
放状態にする)だけでも高電圧は徐々にグランドレベル
へと落ちる。しかし、抵抗48、抵抗49の抵抗値が2
MΩ、4MΩと大きいために、時定数も非常に大きく印
加高電圧が0レベルに落ちるまで時間がかかり、真空槽
8内の真空度の低下の速度に間に合わない。そこで、ス
イッチ41、スイッチ42は同時にグランドレベルの端
子43、端子46に、抵抗を介さずに接続する。そのた
め、MCPのX線入射側11およびMCP出射側12に
印加されていた高電圧は直ちに0レベルとなる。その結
果、低真空時に高電圧をかけている際には発生する放電
を防ぐことができ、ひいてはMCPのチャンネル及び蛍
光面13の放電による破損または劣化を未然に防ぐこと
が可能となる。
【0026】
【発明の効果】以上説明したように本発明の高電圧遮断
保護装置付きX線二次元検出器を用いることにより、X
線二次元検出器動作中の高電圧を印加している状態の時
でも、、真空分離膜の機械的衝撃或いは経時疲労等によ
り真空分離膜が破損したり、或いは真空シーケンスの故
障、人為的ミス等により真空槽内の高真空が破られ、主
真空槽内の真空が劣化しX線二次元検出器が低真空中に
さらされたとしても、そのX線二次元検出器の放電によ
る破損または劣化や寿命の低下等を防ぐことが可能とな
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例を示すブロック図
【図2】本発明の第2の実施例を示すブロック図
【図3】本発明の第3の実施例を示すブロック図
【図4】従来の二次元検出器であるMCPの概観を示す
一部切欠き斜視図
【図5】従来の二次元検出器であるMCPの動作原理を
示す説明図
【図6】従来のX線顕微鏡の概観を示すブロック図
【符号の説明】
1・・・X線発生源 2・・・照明光学系 3・・・試料容器 4・・・拡大光学系 5・・・X線二次元検出器 6・・・モニター 7・・・副真空槽 7a・・・スイッチ切替信号 8・・・主真空槽 9・・・副真空槽真空排気系 10・・・主真空槽真空排気系 11・・・MCP入射側 12・・・MCP出射側 13・・・蛍光面 14・・・真空槽窓 15・・・二次元可視光検出器 16・・・真空計 17・・・切換手段(スイッチング回路)制御系 18・・・高電圧電源部 19、20・・・スイッチ 21、22、23、24・・・端子 25・・・高電圧電源(−2kV) 26・・・高電圧電源(+4kV) 27・・・光電変換面 28・・・電子レンズ 29、30、31・・・スイッチ 32、33、34、35、36、37・・・端子 38・・・高電圧電源(−8kV) 39・・・高電圧電源(−2kV) 40・・・高電圧電源(+5kV) 41、42・・・スイッチ 43、44、45、46・・・端子 47・・・高電圧電源(−6kV) 48・・・抵抗(2MΩ) 49・・・抵抗(4MΩ) 50・・・真空分離膜 51・・・MCPのチャンネル 52・・・光電変換膜 53・・・入射X線 54・・・二次電子 55・・・高電位差をもったMCPチャンネルの両端 56・・・増倍された出射二次電子
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 近藤 洋行 東京都千代田区丸の内3丁目2番3号 株 式会社ニコン内

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】少なくとも、入射するX線像を二次電子像
    に変換する光電変換手段と、この二次電子像を検出する
    検出手段とを真空容器内に設置し、前記光電変換手段と
    前記検出手段との間に二次電子を加速するための高電圧
    を印加するX線検出器において、 前記真空容器内の真空度をモニターする真空計と、 前記高電圧を発生する高電圧発生手段と、 前記高電圧発生手段により前記光電変換手段と前記検出
    手段との間に印加される高電位差を低下させる切替手段
    と、 前記真空計の真空度が予め定めた真空度まで低下したと
    き、前記切替手段に対して前記高電位差を低下させるこ
    とを指示する切替信号を出力する制御手段と、 を備えたことを特徴とするX線検出器。
  2. 【請求項2】前記光電変換手段は、X線像を受けて光電
    変換および電子増倍を行なうマイクロチャンネルプレー
    トを含むことを特徴とする請求項1記載のX線検出器。
  3. 【請求項3】前記光電変換手段は、X線像を受けて電子
    像に変換する光電変換面と、この光電変換面の電子像を
    拡大する電子レンズと、この拡大された電子像を増倍す
    るマイクロチャンネルプレートとにより構成されること
    を特徴とする請求項1記載のX線検出器。
  4. 【請求項4】前記二次電子像を検出する検出手段は、電
    子像を可視像に変換する蛍光面により構成されることを
    特徴とする請求項1、2または3記載のX線検出器。
  5. 【請求項5】前記切替手段は、前記高電圧発生手段によ
    り発生された高電圧が印加される端子を接地側へ切替る
    切替スイッチを有することを特徴とする請求項1〜4の
    いずれかに記載のX線検出器。
JP6199708A 1994-08-24 1994-08-24 X線検出器 Pending JPH0862398A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11160500A (ja) * 1997-11-28 1999-06-18 Japan Science & Technology Corp X線顕微鏡

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11160500A (ja) * 1997-11-28 1999-06-18 Japan Science & Technology Corp X線顕微鏡

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