JPS61104548A - プラズマx線発生装置 - Google Patents
プラズマx線発生装置Info
- Publication number
- JPS61104548A JPS61104548A JP22391984A JP22391984A JPS61104548A JP S61104548 A JPS61104548 A JP S61104548A JP 22391984 A JP22391984 A JP 22391984A JP 22391984 A JP22391984 A JP 22391984A JP S61104548 A JPS61104548 A JP S61104548A
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- JP
- Japan
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- electrode
- plasma
- rays
- auxiliary electrode
- axis
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- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05G—X-RAY TECHNIQUE
- H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
- H05G2/001—X-ray radiation generated from plasma
- H05G2/003—X-ray radiation generated from plasma being produced from a liquid or gas
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、同軸電極を備えた放電管におけるパルス放電
によって高温命高密度のプラズマを形成して軟X線を発
生するプラズマX線発生装置に係わり、とくに、サブミ
クロンパターンの集積回路を製造するに好適なX線露光
装置などのX線源に関するものである。
によって高温命高密度のプラズマを形成して軟X線を発
生するプラズマX線発生装置に係わり、とくに、サブミ
クロンパターンの集積回路を製造するに好適なX線露光
装置などのX線源に関するものである。
プラズマフォーカスは、円筒電極を同軸状に配設した放
電管に、重水素などの気体を充填し、充電したコンデン
サからパルス電圧を印加して、気体をプラズマ化し、プ
ラズマを電極の間の空間で加速して、電極の先端にフォ
ーカスし、高温・高密度のプラズマのスポットを形成し
て、中性子を発生する線源として研究が行われてきた。
電管に、重水素などの気体を充填し、充電したコンデン
サからパルス電圧を印加して、気体をプラズマ化し、プ
ラズマを電極の間の空間で加速して、電極の先端にフォ
ーカスし、高温・高密度のプラズマのスポットを形成し
て、中性子を発生する線源として研究が行われてきた。
しかし、プラズマフォーカスで形成される高温・高密度
のプラズマからは、強い軟X線が放射されるので、近年
は、サブミクロンパターンの集積回路を製造するX線露
光装置のX線源として注目されている。
のプラズマからは、強い軟X線が放射されるので、近年
は、サブミクロンパターンの集積回路を製造するX線露
光装置のX線源として注目されている。
プラズマフォーカスは、構造と動作が単純で、X線源の
輝度が高いために、すぐれた露光用X線源となる可能性
を秘めているが、スポットの位置が放電ごとに変動する
という問題が存在している。
輝度が高いために、すぐれた露光用X線源となる可能性
を秘めているが、スポットの位置が放電ごとに変動する
という問題が存在している。
プラズマフォーカスでは、スポットが円筒電極の軸上に
形成されると期待されるわけであるが、実 際には軸か
らはずれることがしばしばあり、軸上に発生しても、軸
上の位置がプラズマの不安定性によって変動する。この
様子は、たとえば、W、 H,Bostick、 V、
Nardi and W Pr1or:X−rayf
ine 5tructure of dense pl
asma in acoaxial accelera
tor、 J、 plasma physics。
形成されると期待されるわけであるが、実 際には軸か
らはずれることがしばしばあり、軸上に発生しても、軸
上の位置がプラズマの不安定性によって変動する。この
様子は、たとえば、W、 H,Bostick、 V、
Nardi and W Pr1or:X−rayf
ine 5tructure of dense pl
asma in acoaxial accelera
tor、 J、 plasma physics。
vot8. ptt、 I)I)7(1972)を見れ
ば明らかである。
ば明らかである。
したがって本発明の目的は、同軸状に配置された円筒電
極を有するプラズマX線源、たとえばプラズマフォーカ
スによるX線源において、線源の位置、すなわちプラズ
マがピンチして高温・高密度となり軟X線を放射するい
わゆるホットスポットが形成される位置の変動を少なく
したプラズマX線発生装置を提供することにある。
極を有するプラズマX線源、たとえばプラズマフォーカ
スによるX線源において、線源の位置、すなわちプラズ
マがピンチして高温・高密度となり軟X線を放射するい
わゆるホットスポットが形成される位置の変動を少なく
したプラズマX線発生装置を提供することにある。
プラズマフォーカスにおいて、X線源の位置は、プラズ
マ自身の電流が作る磁界の分布によって決っているが、
非軸対称な電流の分布によって、しばしば中心の軸から
のずれが生ずる。そこで本発明では、補助電極を設ける
ことによって積極的に線源の位置の軸からの、あるいは
軸上の変動範囲を狭めようとするものである。このため
に、本発明では、内側の円筒電極に対向して近接し、か
つ軸を共通にもつ補助電極を設け、これを外側の円筒電
極と同電位に保つことによって、プラズマが電極のない
空間に出てからフォーカスする軸と軸上の位置を、中心
電極と補助電極とによって決るより狭い空間に限定する
ようにしたものである。
マ自身の電流が作る磁界の分布によって決っているが、
非軸対称な電流の分布によって、しばしば中心の軸から
のずれが生ずる。そこで本発明では、補助電極を設ける
ことによって積極的に線源の位置の軸からの、あるいは
軸上の変動範囲を狭めようとするものである。このため
に、本発明では、内側の円筒電極に対向して近接し、か
つ軸を共通にもつ補助電極を設け、これを外側の円筒電
極と同電位に保つことによって、プラズマが電極のない
空間に出てからフォーカスする軸と軸上の位置を、中心
電極と補助電極とによって決るより狭い空間に限定する
ようにしたものである。
以下、本発明を第1図に示す実施例を用いて説明する。
この図は、本発明を実施したプラズマフォーカス放電管
の断面構成図である。この放電管には陽極である内側円
筒電極1と、陰極である外側円筒電極2とが同軸状に配
置され、両電極1゜2は、ガラス絶縁物3によって絶縁
されている。
の断面構成図である。この放電管には陽極である内側円
筒電極1と、陰極である外側円筒電極2とが同軸状に配
置され、両電極1゜2は、ガラス絶縁物3によって絶縁
されている。
これらは、放電容器4内に納められ、内部にネオン、ア
ルゴン、クリプトン、キセノンなどの気体が0.1〜I
11?充填される。両電極1.2には、充電されたコン
デンサ5が放電スイッチ6を介して接続されている。放
電スイッチ6が作動すると、高電圧パルスが電極1.2
間に加わり、ガラス絶縁物3の沿面で絶縁破壊が生じ、
プラズマが発生する。プラズマは、電極1,2時の電界
と磁界とから力を受けて、電極に沿って運動し、電極の
端を過ぎると磁界の圧力によってピンチし、内側円筒電
極1の先端の軸の近傍に高温e高密度のプラズマのスポ
ットを形成して、軟X線を放射する。
ルゴン、クリプトン、キセノンなどの気体が0.1〜I
11?充填される。両電極1.2には、充電されたコン
デンサ5が放電スイッチ6を介して接続されている。放
電スイッチ6が作動すると、高電圧パルスが電極1.2
間に加わり、ガラス絶縁物3の沿面で絶縁破壊が生じ、
プラズマが発生する。プラズマは、電極1,2時の電界
と磁界とから力を受けて、電極に沿って運動し、電極の
端を過ぎると磁界の圧力によってピンチし、内側円筒電
極1の先端の軸の近傍に高温e高密度のプラズマのスポ
ットを形成して、軟X線を放射する。
本発明を実施した第1図では、内側円筒電極1と共通の
軸を持ち、電極1に対向して近接した補助電極7を設け
、これを外側円筒電極2と同電位に保つ構成となる。こ
のような構造にすると、内側円筒電極1と補助電極7と
の間に、軸対称な強い電界が生じ、プラズマが軸上にフ
ォーカスする運動を助けることができる。本実施例では
、補助電極7には、開孔9が設けてあり、X線を取出す
窓となっている。本発明によって、軟X線を放射する高
温・高密度のホットスポットは、軸上に発生するために
、軸上にあるとの開孔9を通してX線源を見る場合に、
X線源の径が最も小さく、輝度が最も高いことになる。
軸を持ち、電極1に対向して近接した補助電極7を設け
、これを外側円筒電極2と同電位に保つ構成となる。こ
のような構造にすると、内側円筒電極1と補助電極7と
の間に、軸対称な強い電界が生じ、プラズマが軸上にフ
ォーカスする運動を助けることができる。本実施例では
、補助電極7には、開孔9が設けてあり、X線を取出す
窓となっている。本発明によって、軟X線を放射する高
温・高密度のホットスポットは、軸上に発生するために
、軸上にあるとの開孔9を通してX線源を見る場合に、
X線源の径が最も小さく、輝度が最も高いことになる。
開孔9は、X線源の径を決める絞りとしての機能をもた
せることができる。本実施例では開孔9の周囲を絶縁物
8で構成しているが、このような構造にすると、フォー
カスしたプラズマから飛来する荷電粒子によって絶縁物
8の表面が帯電し、荷電粒子を反射する電界が生じ、荷
電粒子のスパッタによる補助電極7の損傷をへらし、開
孔9を通過す石荷電粒子を減らすのに効果がある。
せることができる。本実施例では開孔9の周囲を絶縁物
8で構成しているが、このような構造にすると、フォー
カスしたプラズマから飛来する荷電粒子によって絶縁物
8の表面が帯電し、荷電粒子を反射する電界が生じ、荷
電粒子のスパッタによる補助電極7の損傷をへらし、開
孔9を通過す石荷電粒子を減らすのに効果がある。
本実施例において、10はX線露光室であり、開孔9を
通ってX線を導入し、ウェハを、露光することが出来る
。この実施例では、電極1の外径が25w111電極2
の内径が60g*、補助電極7は、電極1から25w離
れ、円錐台形状で、直径が25闘、絶縁物8はセラミッ
クで構成され、開孔9の内径が2m+である。
通ってX線を導入し、ウェハを、露光することが出来る
。この実施例では、電極1の外径が25w111電極2
の内径が60g*、補助電極7は、電極1から25w離
れ、円錐台形状で、直径が25闘、絶縁物8はセラミッ
クで構成され、開孔9の内径が2m+である。
本発明を実施しない場合には、線源の位置は、軸から半
径21以上すれる場合がしばしばあったが、本発明を実
施することによって、半径0.5 m以下にずれを抑制
できるようになった。また、X線源の軸上の位置も、従
来太幅に変動していだが、本実施例においては、電極1
と補助電極7とにはさまれた、比較的狭い範囲に制限さ
れる。
径21以上すれる場合がしばしばあったが、本発明を実
施することによって、半径0.5 m以下にずれを抑制
できるようになった。また、X線源の軸上の位置も、従
来太幅に変動していだが、本実施例においては、電極1
と補助電極7とにはさまれた、比較的狭い範囲に制限さ
れる。
第1図は本発明の基本的構成を示すもので、同軸円筒電
極や補助電極の形状はこれに限るものでうまでも力<、
構造的にも図に示すように、外側円筒電極2、放電容器
4、補助電極7、X線露光室10などを一体化する必要
はない。
極や補助電極の形状はこれに限るものでうまでも力<、
構造的にも図に示すように、外側円筒電極2、放電容器
4、補助電極7、X線露光室10などを一体化する必要
はない。
以上のべた如く、本発明によれば、同軸電極を有するプ
ラズマX線源において、内側電極に近接して対向し、共
通の軸をもつ補助電極を設け、かつそれらを外側電極と
同電位に保つことによって、軟X線を発生するX線源の
位置の変動を抑制することができ、従来この方式にとっ
て障害となっていた線源の位置の移動を大幅に低減する
ことが可能となる。
ラズマX線源において、内側電極に近接して対向し、共
通の軸をもつ補助電極を設け、かつそれらを外側電極と
同電位に保つことによって、軟X線を発生するX線源の
位置の変動を抑制することができ、従来この方式にとっ
て障害となっていた線源の位置の移動を大幅に低減する
ことが可能となる。
第1図は、本発明の実施例であるプラズマフォーカス放
電管の断面構成図である。
電管の断面構成図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、同軸状に配置された内・外側電極を有する放電管内
に気体を充填し、上記電極間に充電したコンデンサから
パルス電圧を印加して上記気体をプラズマ化することに
よつてX線を発生させるプラズマX線発生装置において
、上記内側電極に近接して補助電極を設け、上記補助電
極を上記外側電極と同電位に保つように構成してなるこ
とを特徴とするプラズマX線発生装置。 2、上記補助電極に開孔を設け、上記開孔を通してX線
を取出すように構成してなることを特徴とする第1項の
プラズマX線発生装置。 3、上記補助電極の外周を導体で構成し、かつ上記開孔
の周囲を絶縁物で構成してなることを特徴とする第2項
のプラズマX線発生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22391984A JPS61104548A (ja) | 1984-10-26 | 1984-10-26 | プラズマx線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22391984A JPS61104548A (ja) | 1984-10-26 | 1984-10-26 | プラズマx線発生装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61104548A true JPS61104548A (ja) | 1986-05-22 |
Family
ID=16805766
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22391984A Pending JPS61104548A (ja) | 1984-10-26 | 1984-10-26 | プラズマx線発生装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61104548A (ja) |
-
1984
- 1984-10-26 JP JP22391984A patent/JPS61104548A/ja active Pending
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