JPS62143350A - プラズマｘ線発生装置 - Google Patents
プラズマｘ線発生装置Info
- Publication number
- JPS62143350A JPS62143350A JP28187185A JP28187185A JPS62143350A JP S62143350 A JPS62143350 A JP S62143350A JP 28187185 A JP28187185 A JP 28187185A JP 28187185 A JP28187185 A JP 28187185A JP S62143350 A JPS62143350 A JP S62143350A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma
- electrode
- electrodes
- anode
- sphere
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、同軸電極を用いた放電管のパルス放電によっ
て高温高密度のプラズマを形成し、軟Ｘ線を発生するプ
ラズマＸ線発生装置に係り、特に。
て高温高密度のプラズマを形成し、軟Ｘ線を発生するプ
ラズマＸ線発生装置に係り、特に。
半導体集積回路を製造するＸ線露光装置などの線源に用
いて好適なプラズマＸ線発生装置に関するものである。
いて好適なプラズマＸ線発生装置に関するものである。
同軸電極を用いて高温高密度のプラズマを形成し、Ｘ線
を発生する放電管の例として、プラズマフォーカスが知
られている（例えば特開昭６０−８４７４９号公報参照
）。しかしながら、プラズマフォーカスは、線源の輝度
が高いためにすぐれたＸ線源となる可能性を秘めている
が、Ｘ線を放射する高温高密度のプラズマが形成される
位置が放電ごとに変動するという問題があった。
を発生する放電管の例として、プラズマフォーカスが知
られている（例えば特開昭６０−８４７４９号公報参照
）。しかしながら、プラズマフォーカスは、線源の輝度
が高いためにすぐれたＸ線源となる可能性を秘めている
が、Ｘ線を放射する高温高密度のプラズマが形成される
位置が放電ごとに変動するという問題があった。
本発明の目的は、プラズマフォーカスのような同軸電極
を用いたプラズマＸ線源において、線源の位置、すなわ
ち、Ｘ線を放射する高温高密度のプラズマが形成される
位置の変動をなくシ、特定の点に限定させることのでき
るプラズマＸ線発生装置を提供することにある。
を用いたプラズマＸ線源において、線源の位置、すなわ
ち、Ｘ線を放射する高温高密度のプラズマが形成される
位置の変動をなくシ、特定の点に限定させることのでき
るプラズマＸ線発生装置を提供することにある。
（発明の概要〕
本発明では、上記目的を達成するために、陽。
陰の両電極を含む放電管に気体を充填あるいは注入し、
充電したコンデンサからパルス電圧を印加して気体をプ
ラズマ化し、プラズマを上記電極の一端の開放されてい
る空間に集束して高密度のプラズマを形成し、Ｘ線を発
生する装置において。
充電したコンデンサからパルス電圧を印加して気体をプ
ラズマ化し、プラズマを上記電極の一端の開放されてい
る空間に集束して高密度のプラズマを形成し、Ｘ線を発
生する装置において。
上記電極のうちの一方に接続された球あるいは球に近い
形状の電極で、上記高密度のプラズマが形成される空間
を覆う構成とする。
形状の電極で、上記高密度のプラズマが形成される空間
を覆う構成とする。
すなわち２本発明では、プラズマフォーカスのような同
軸電極を用いたプラズマＸ線源においてプラズマがピン
チを起こす電極先端部の空間を。
軸電極を用いたプラズマＸ線源においてプラズマがピン
チを起こす電極先端部の空間を。
Ｙｄ ｔｌｉの一方に結合していてＸ線の発生点に中心
が一致した球あるいは球に近い形状の電極で覆う構成と
することにより、コンデンサ放電時にこの球あるいは球
に近い形状の電極に放電電流を流し。
が一致した球あるいは球に近い形状の電極で覆う構成と
することにより、コンデンサ放電時にこの球あるいは球
に近い形状の電極に放電電流を流し。
高密度のプラズマに２球あるいは球に近い形状の電極か
ら遠ざかる方向の反撥力を作用させ、高密度のプラズマ
を球の中心、あるいは球に近い電極の特定点に集め、線
源の位置の電極軸からの変動のみならず、軸上における
変動をも低減しようとするものである。゛ また１球あるいは球に近い形状の電極の内部からＸ線を
取出したり、Ｘ線の強度を測定したり。
ら遠ざかる方向の反撥力を作用させ、高密度のプラズマ
を球の中心、あるいは球に近い電極の特定点に集め、線
源の位置の電極軸からの変動のみならず、軸上における
変動をも低減しようとするものである。゛ また１球あるいは球に近い形状の電極の内部からＸ線を
取出したり、Ｘ線の強度を測定したり。
あるいは気体を供給排気するには２球の直径に比べて充
分に小さい開孔を設ける。開孔の直径が。
分に小さい開孔を設ける。開孔の直径が。
球の直径の１１５程度あるいはそれ以下であれば。
開孔を設けたことにより生じる影響は少ないとい。
える。また、開孔は、軸上あるいは軸に対して対称に配
置し１球あるいは球に近い形状の電極を流れる電流を、
軸対称にすることが好ましい。
置し１球あるいは球に近い形状の電極を流れる電流を、
軸対称にすることが好ましい。
以下２本発明の一実施例を図面により説明する。
第１図は２本発明を実施したプラズマフォーカス放電管
の断面図である。この放電管は、陽極である円柱電極１
と、陰極である円筒電極２とがガラス絶縁物３によって
絶縁されて同軸状に配置された構造をしている。これら
は放電容器４に収められ、ネオン、アルゴン、クリプト
ン、キセノンなどの気体が０．１〜１トルの圧力で充填
されている。
の断面図である。この放電管は、陽極である円柱電極１
と、陰極である円筒電極２とがガラス絶縁物３によって
絶縁されて同軸状に配置された構造をしている。これら
は放電容器４に収められ、ネオン、アルゴン、クリプト
ン、キセノンなどの気体が０．１〜１トルの圧力で充填
されている。
陽極と陰極との間には、充電されたコンデンサ５が放電
スイッチ６を介して接続され、放電スイッチ６が作動す
ると、高電圧パルスが電極間に加わり、ガラス絶縁物の
沿面で絶縁破壊が生じ、プラズマが発生する。プラズマ
は、電極間の電界と磁界から力を受けて、電極に沿って
運動し、陽極１の先端を過ぎると磁界の圧力を受けてフ
ォーカスし、陽極１の先端の軸の近傍に高温高密度のプ
ラズマのスポットを形成して軟Ｘ線を放射する。図にお
いて、４′および４′は、放電容器４に設けられた。気
体の導入孔および排気孔である。
スイッチ６を介して接続され、放電スイッチ６が作動す
ると、高電圧パルスが電極間に加わり、ガラス絶縁物の
沿面で絶縁破壊が生じ、プラズマが発生する。プラズマ
は、電極間の電界と磁界から力を受けて、電極に沿って
運動し、陽極１の先端を過ぎると磁界の圧力を受けてフ
ォーカスし、陽極１の先端の軸の近傍に高温高密度のプ
ラズマのスポットを形成して軟Ｘ線を放射する。図にお
いて、４′および４′は、放電容器４に設けられた。気
体の導入孔および排気孔である。
本実施例においては、さらに、Ｘ線発生点に中心を有す
る球形電極２′が、陰極を形成している外側円筒電極２
の先端に結合して設けられ、プラズマがフォーカスする
空間を覆っている。この構造によれば１球形電極２′の
内面を流れる電流から内部に存在するプラズマに対して
、プラズマを球の内面から遠ざけ、プラズマの密度が最
も高い部分を球の中心に向わせる力が作用する。この力
によって、Ｘ線を放射するスポットの軸からの変位を減
らすとともに軸上におけるスポットの位置を球の中心の
近傍に限定することができる。プラズマの軸からの変位
に対してプラズマを軸に向わせる復元力の大きさは、変
位の大きさに比例し。
る球形電極２′が、陰極を形成している外側円筒電極２
の先端に結合して設けられ、プラズマがフォーカスする
空間を覆っている。この構造によれば１球形電極２′の
内面を流れる電流から内部に存在するプラズマに対して
、プラズマを球の内面から遠ざけ、プラズマの密度が最
も高い部分を球の中心に向わせる力が作用する。この力
によって、Ｘ線を放射するスポットの軸からの変位を減
らすとともに軸上におけるスポットの位置を球の中心の
近傍に限定することができる。プラズマの軸からの変位
に対してプラズマを軸に向わせる復元力の大きさは、変
位の大きさに比例し。
球の半径の３乗に反比例することが計算によって知られ
る。この結果から１球の半径を小さくすることによって
、プラズマのスポットの軸からの変位と、軸上における
変動を低減することが可能である。なお、第１図におい
て、２″はＸ線を取出し、気体を効率よく球内に供給し
たり排出させたりするために球形電極２′に設けた開孔
、７はＸ線を取出すために放電容器４に設けたベリリウ
ム窓である。
る。この結果から１球の半径を小さくすることによって
、プラズマのスポットの軸からの変位と、軸上における
変動を低減することが可能である。なお、第１図におい
て、２″はＸ線を取出し、気体を効率よく球内に供給し
たり排出させたりするために球形電極２′に設けた開孔
、７はＸ線を取出すために放電容器４に設けたベリリウ
ム窓である。
本実施例によれば、従来変動が大きかったＸ線発生点の
位置を９球の中心の近傍に限定することが可能となる。
位置を９球の中心の近傍に限定することが可能となる。
以上に述へたように１本発明によれば、パルス放電を利
用するプラズマＸ線源において２球あるいは球に近い形
状の電極によってプラズマがピンチする空間を覆うこと
によって、ピンチするプラズマの軸からの変位を低減し
、高密度のプラズマを球の中心あるいは球に近い形状内
の特定の点に限定することが可能となって、輝度が高く
、線源の位置が安定なプラズマＸ線源を得ることができ
る。
用するプラズマＸ線源において２球あるいは球に近い形
状の電極によってプラズマがピンチする空間を覆うこと
によって、ピンチするプラズマの軸からの変位を低減し
、高密度のプラズマを球の中心あるいは球に近い形状内
の特定の点に限定することが可能となって、輝度が高く
、線源の位置が安定なプラズマＸ線源を得ることができ
る。
なお、実施例ではプラズマフォーカスに限って述べたが
２本発明は上記の実施例に限定されるものではなく、ガ
スバフ形２ピンチ、真空スパークなどのピンチ効果を利
用したプラズマＸ線源に採用して、同様な効果を生じさ
せることが可能である。
２本発明は上記の実施例に限定されるものではなく、ガ
スバフ形２ピンチ、真空スパークなどのピンチ効果を利
用したプラズマＸ線源に採用して、同様な効果を生じさ
せることが可能である。
第１図は本発明を実施したプラズマフォーカスＸ線源の
断面図である。 〈符号の説明〉 １・・・陽極（円柱′電極） ２・陰極（円筒電極）２
′・・・球形電極 ２′ ・・開孔３・・ガラス
絶縁物 ４・・放電容器４’ 、４’・・・気体の
導入孔および排気孔５・・・コンデンサ ６・・
・放電スイッチ７・・・ベリリウム窓
断面図である。 〈符号の説明〉 １・・・陽極（円柱′電極） ２・陰極（円筒電極）２
′・・・球形電極 ２′ ・・開孔３・・ガラス
絶縁物 ４・・放電容器４’ 、４’・・・気体の
導入孔および排気孔５・・・コンデンサ ６・・
・放電スイッチ７・・・ベリリウム窓
Claims (3)
- （１）陽、陰の両電極を含む放電管に気体を充填あるい
は注入し、充電したコンデンサからパルス電圧を印加し
て気体をプラズマ化し、プラズマを上記電極の一端の開
放されている空間に集束して高密度のプラズマを形成し
、Ｘ線を発生するプラズマＸ線発生装置において、高密
度のプラズマが形成される空間が、上記電極のうちの一
方に接続された球あるいは球に近い形状の電極で覆われ
ていることを特徴とするプラズマＸ線発生装置。 - （２）前記球あるいは球に近い形状の電極は、その中心
がＸ線の発生点に合致するように配置されていることを
特徴とする特許請求の範囲第１項記載のプラズマＸ線発
生装置。 - （３）前記球あるいは球に近い形状の電極は、その直径
に比べて充分に小さい開孔が設けられていることを特徴
とする特許請求の範囲第１項あるいは第２項記載のプラ
ズマＸ線発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28187185A JPS62143350A (ja) | 1985-12-17 | 1985-12-17 | プラズマｘ線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28187185A JPS62143350A (ja) | 1985-12-17 | 1985-12-17 | プラズマｘ線発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62143350A true JPS62143350A (ja) | 1987-06-26 |
Family
ID=17645134
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28187185A Pending JPS62143350A (ja) | 1985-12-17 | 1985-12-17 | プラズマｘ線発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62143350A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100319001B1 (ko) * | 1999-03-15 | 2002-01-04 | 아킨스 로버트 피. | 플라즈마 초점 고에너지 포톤 소스 |
| KR100358447B1 (ko) * | 1999-03-15 | 2002-10-25 | 사이머 인코포레이티드 | 블라스트 실드를 갖춘 플라즈마 포커싱된 고 에너지 포톤소스 |
-
1985
- 1985-12-17 JP JP28187185A patent/JPS62143350A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100319001B1 (ko) * | 1999-03-15 | 2002-01-04 | 아킨스 로버트 피. | 플라즈마 초점 고에너지 포톤 소스 |
| KR100358447B1 (ko) * | 1999-03-15 | 2002-10-25 | 사이머 인코포레이티드 | 블라스트 실드를 갖춘 플라즈마 포커싱된 고 에너지 포톤소스 |
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