JPH0317828A - 金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPH0317828A JPH0317828A JP15182489A JP15182489A JPH0317828A JP H0317828 A JPH0317828 A JP H0317828A JP 15182489 A JP15182489 A JP 15182489A JP 15182489 A JP15182489 A JP 15182489A JP H0317828 A JPH0317828 A JP H0317828A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alloy
- recording medium
- magnetic
- magnetic recording
- thin film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 15
- 229910017061 Fe Co Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 11
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 32
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 32
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 20
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 10
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 abstract description 6
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 abstract description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 abstract description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 abstract description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 9
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 7
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 6
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002546 FeCo Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018104 Ni-P Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018536 Ni—P Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 238000003490 calendering Methods 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000010301 surface-oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高記録密度を有する量産性に優れた金属薄膜型
磁気記録媒体の製造方法に関するもので、その産業上の
利用分野は映像機器及び情報機器分野等多岐にわたも 従来の技術 近年磁気記録媒体は磁気記録密度の向上に見られるよう
にその技術的発展はめざましいものかあム 従来の磁気
記録媒体の例としてオーデオ、ビデオ用テープ材料に用
いられるｒ−ＦｅａＯｚ粉太ＣｒＯ粉太 純鉄粉末など
を樹脂等のバインダーと共に高分子フイルム上に塗着せ
しめな いわゆる塗布型の磁気記録媒体があも 発明が解決しようとする課題 しかし 従来の塗布型テープより保持九 記録密度、電
磁変換特性を改良するため真空蒸着肱メッキ、イオンブ
レーチイング、スパッタリングなどの方法でＦｅ，Ｎｉ
，Ｃｏ，Ｃｒ等の磁性金属を単独もしくは合金で高分子
フイルム上に蒸着する金属薄膜型磁気記録媒体の検討が
なされていも また強磁性金属薄膜型の記録媒体として
、斜方蒸着法をもちいたオーデオ用テープが既に実用化
されていも しかし 斜方蒸着法による金属薄膜媒体は
面内の異方性が強くテープ以外の用途に適さな鴨 また 強磁性金属薄膜のもうーっの応用として情報機器
のコンビュター等に見られるハードディスク用記録媒体
あるいはフロッピーディスク用記録媒体があも フロッ
ピーディスク用記録媒体は塗布型が現在中心である力丈
今後更に高密度化をはかるため金属薄膜タイプの研究
が積極的に行われても ハードディスク用記録媒体は高
記録密度なため金属薄膜型が用いられ 主にアルミニウ
ム基板上に磁性金属としてＣｏ， Ｎｉ， Ｃｒ，
Ｆｅ等を単５曳 あるいは合金の形でスパッター法
で造も しかし 一般的にスッパター法は膜形戒におい
て或膜速度が遅く、真空蒸着法等と比較するとその速度
は桁違いに遅Ｌ１ 上記のように面内記録において等方な磁気特性を有ＬＡ
或膜速度の速い量産性に富んだ高記録密度な金属薄
膜型記録媒体の開発が急務とされていた 課題を解決するための手段 上記問題点を解消する為に本発明は斜方蒸着法スッパタ
ー法に代わり、加熱した基板上にＦｅ−Ｃｏ合金を酸素
ガス或はイオン化した酸素ガス雰囲気中で蒸着を行うこ
とで、磁気特性の優れた高信頼性のある金属薄膜型磁気
記録媒体を量産可能に製造することができｔラ 作 用 本発明｛よ 面内記録による金属薄膜型磁気記録媒体の
製造時において、加熱した基板表面にＦｅＣｏ合金を酸
素ガス雰囲気（イオン化した酸素ガス雰囲気を含む）中
で蒸着することを特徴とする面内等方な高記録密度媒体
であも 更に詳しくは 例えば従来のハードディスク用金属薄膜
型磁気記録媒体はアルミニュウム基板上にＮｉ−Ｐ等の
下地処班 テクスチュアーによる形状付与した表面上に
ＣＯ、Ｎｉ，Ｃｒ，Ｆｅ等の磁性金属をスパッター法で
付着していた しかしこれらスッパター法による磁性金
属の付着方法の最大の欠点は磁性金属の生膜速度が非常
におそく数十人／Ｓｅｃで量産性に乏しい欠点があった
また 同じ金属薄膜型磁気記録媒体ある斜方蒸着法によ
る面内記録膜は直角方向戒分の磁気特性が異なるためテ
ープのような走行方向にのみ記録する場合はよいがディ
スク等の記録媒体においては面内での等方性が要求され
るため不向きである。
磁気記録媒体の製造方法に関するもので、その産業上の
利用分野は映像機器及び情報機器分野等多岐にわたも 従来の技術 近年磁気記録媒体は磁気記録密度の向上に見られるよう
にその技術的発展はめざましいものかあム 従来の磁気
記録媒体の例としてオーデオ、ビデオ用テープ材料に用
いられるｒ−ＦｅａＯｚ粉太ＣｒＯ粉太 純鉄粉末など
を樹脂等のバインダーと共に高分子フイルム上に塗着せ
しめな いわゆる塗布型の磁気記録媒体があも 発明が解決しようとする課題 しかし 従来の塗布型テープより保持九 記録密度、電
磁変換特性を改良するため真空蒸着肱メッキ、イオンブ
レーチイング、スパッタリングなどの方法でＦｅ，Ｎｉ
，Ｃｏ，Ｃｒ等の磁性金属を単独もしくは合金で高分子
フイルム上に蒸着する金属薄膜型磁気記録媒体の検討が
なされていも また強磁性金属薄膜型の記録媒体として
、斜方蒸着法をもちいたオーデオ用テープが既に実用化
されていも しかし 斜方蒸着法による金属薄膜媒体は
面内の異方性が強くテープ以外の用途に適さな鴨 また 強磁性金属薄膜のもうーっの応用として情報機器
のコンビュター等に見られるハードディスク用記録媒体
あるいはフロッピーディスク用記録媒体があも フロッ
ピーディスク用記録媒体は塗布型が現在中心である力丈
今後更に高密度化をはかるため金属薄膜タイプの研究
が積極的に行われても ハードディスク用記録媒体は高
記録密度なため金属薄膜型が用いられ 主にアルミニウ
ム基板上に磁性金属としてＣｏ， Ｎｉ， Ｃｒ，
Ｆｅ等を単５曳 あるいは合金の形でスパッター法
で造も しかし 一般的にスッパター法は膜形戒におい
て或膜速度が遅く、真空蒸着法等と比較するとその速度
は桁違いに遅Ｌ１ 上記のように面内記録において等方な磁気特性を有ＬＡ
或膜速度の速い量産性に富んだ高記録密度な金属薄
膜型記録媒体の開発が急務とされていた 課題を解決するための手段 上記問題点を解消する為に本発明は斜方蒸着法スッパタ
ー法に代わり、加熱した基板上にＦｅ−Ｃｏ合金を酸素
ガス或はイオン化した酸素ガス雰囲気中で蒸着を行うこ
とで、磁気特性の優れた高信頼性のある金属薄膜型磁気
記録媒体を量産可能に製造することができｔラ 作 用 本発明｛よ 面内記録による金属薄膜型磁気記録媒体の
製造時において、加熱した基板表面にＦｅＣｏ合金を酸
素ガス雰囲気（イオン化した酸素ガス雰囲気を含む）中
で蒸着することを特徴とする面内等方な高記録密度媒体
であも 更に詳しくは 例えば従来のハードディスク用金属薄膜
型磁気記録媒体はアルミニュウム基板上にＮｉ−Ｐ等の
下地処班 テクスチュアーによる形状付与した表面上に
ＣＯ、Ｎｉ，Ｃｒ，Ｆｅ等の磁性金属をスパッター法で
付着していた しかしこれらスッパター法による磁性金
属の付着方法の最大の欠点は磁性金属の生膜速度が非常
におそく数十人／Ｓｅｃで量産性に乏しい欠点があった
また 同じ金属薄膜型磁気記録媒体ある斜方蒸着法によ
る面内記録膜は直角方向戒分の磁気特性が異なるためテ
ープのような走行方向にのみ記録する場合はよいがディ
スク等の記録媒体においては面内での等方性が要求され
るため不向きである。
これに対し本発明は面内に磁気的等方性を有した薄膜型
記録媒体を量産できる製造方法であも実施例 （実施例ｌ〉 第１図に示すように 耐熱性高分子フイルム８を送り軸
ｌにセットし 加熱ローラ２を経て巻取り軸３で巻取も
この時下方より電子銃ｌＯでＦｅ−Ｃｏ合金４を溶解
しフイルム８上に蒸着すもまた走行方向と対面する方向
から酸素ガスノズル９より酸素ガス５を吹き付けも 蒸
着時に不用な蒸気流は遮蔽板６でカツ卜すん 加熱ロー
ラ２の温度は２５０度に設定ＬＡ Ｆｅ−Ｃｏ合金４の
ＣＯ濃度を１０Ｗｔ％とじｔも （実施例２） 第２図に示すように 耐熱性高分子フイルム８を送り軸
ｌにセットし 加熱ローラ２を経て巻取り軸３で巻取も
この時下方より電子銃１０でＦｅ−Ｃｏ合金４を溶解
し フイルム８上に蒸着すム また走行方向と対面する
方向から酸素ガスノズル９より噴出し イオン銃１ｌで
イオン化された酸素ガス５ａを金属蒸気流に吹き付けも
蒸着時に不用な蒸気流は遮蔽板６でカットすも 加熱
ローラ２の温度は２５０度に設定Ｌ，Ｆｅ−Ｃｏ合金の
ＣＯ濃度をｌＯＷｔ％としｔら 以上の様な実施例により得られた金属薄膜型磁気記録媒
体の性能と効果について、従来法のスパッター法及び塗
布型法により得られた磁気記録媒体と比較しながら述べ
も 金属薄膜媒体の評価法はＶＳＭにより磁気特性また磁性
金属薄膜の厚みと蒸着速度から蒸着レートを算出しｔも
その結果を次表に示も表 この結果本実施例では従来問題であったスパッター法に
おける戒膜速度の遅汝 塗布型法による記録媒体の表面
性と充填率による電磁変換特性の低下、あるいは斜方蒸
着における容易軸と困難軸の磁気特性の違い等の問題点
が解決されも 即板本蒸着法による金属薄膜媒体は磁気
特性としては従来例と比較して磁束密度と角形比はほと
んど同じ位で保磁力が従来例より遥かに高〜１また こ
の金属薄膜媒体の容易軸と困難軸方向の磁気特性の差異
は全くなく、面内に等方な記録媒体で合っ九 量産性に
関係する蒸着速度は本実施例において５０００人／Ｓｅ
ｅで従来例のスッパター法２０人／Ｓｅｅと比べ二桁以
上速し′１５ また 従来の塗布形磁気記録媒体と比
較して本蒸着法はカレンダ処理等が不必要なため磁性膜
の表面性は大幅に改善できかつ磁性金属充填率も改善さ
れるため電磁変換特性も改善できも このように本蒸着法で得られる磁性金属薄膜をハードデ
ィス久 あるいはフロッピーディスクとして使用した場
合従来蒸着法で問題であった容易練 困難軸方向の面内
の異方性がなくかつ磁気特怯 電磁変換特性ともスッバ
ッター法よりすぐれ量産性もよ鶏 磁気記録のもうひと
つの応用として磁気テープに使用した場合、磁性金属薄
膜媒体であるため表面性にすぐれかつ斜方蒸着より磁性
金属の充填率が良１，Ｘｏ また従来斜方蒸着法では
蒸着効率が悪＜１０％以下でありｔラ ところが本実
施例では蒸着レートの一番高い部分を使用するため蒸着
効率が４０％と非常に優れていもな抵 上記実施例２に
おいて（友 酸素ガスのイオン化を行った力交 イオン
化の効果は磁性金属薄膜の酸化状態に差異が見られた
特に イオン化した酸素ガスでは表面酸化層が厚く酸化
状態が高次であった しかし 磁気特性に関して両者間
にあまり差は見られなりかあ 本発明を実施するにあたり、上記実施例に限定すること
なく他の方法も可能であも 例えば基板として高分子フ
イルムを用いたがガラ入 金風樹脂 ブラスッチク等を
ロール状或は板状にして用いてもよし ただこの場合蒸
着時のアウトガスが影響されないように十分前処理によ
る脱ガスを行う必要があも 磁性金属について上記実施例ではＦｅに対し１ｏｗｔ，
％のＣｏ金属を用いた爪 本発明を実施する場合１〜５
０Ｗｔ％の範囲で効果がみられる。３Ｗｔ％以下では
磁束密度が小さく、 ５ ０Ｗｔ％以上では保磁力が小
さく、角形比が悪くなも 記録媒体として使用する場合
、最適には３〜ａ ｏｗｔ％であん まな この時Ｆｅ
−Ｃｏ合金に他の金属を添加してもよしも 基板の加熱法について上記実施例では加熱ローラを用い
たが加熱用ランプ、 ヒータ等他の方法を用いてもよく
、基板を加熱することが必要で直撹間接いずれの方法を
用いてもよ（１ 基板の加熱温度も本発明では２５０度
でおこなったが１００度から４００度の温度範囲なら同
様の効果がみられ最適には２００度から３５０度の温度
範囲であも酸素導入位置も上記実施例に限定することな
く、Ｆｅ−Ｃｏ合金を酸化することが出来る位置ならば
どこからいれてもよ鶏 酸素ガスをイオン化するための
イオンガンの位置についても本目的を達或できる位置な
らばいずれの場所であってもよし１発明の効果 このように本発明は加熱した基板表面にＦｅ−Ｃｏ合金
を蒸着し この時磁性金属蒸気中に酸素ガスを吹き付け
ることで磁気特怯 電磁変換特性のすぐれた 面内に等
方性を有する量産性に優れた金属薄膜型磁気記録媒体を
得ることができも
記録媒体を量産できる製造方法であも実施例 （実施例ｌ〉 第１図に示すように 耐熱性高分子フイルム８を送り軸
ｌにセットし 加熱ローラ２を経て巻取り軸３で巻取も
この時下方より電子銃ｌＯでＦｅ−Ｃｏ合金４を溶解
しフイルム８上に蒸着すもまた走行方向と対面する方向
から酸素ガスノズル９より酸素ガス５を吹き付けも 蒸
着時に不用な蒸気流は遮蔽板６でカツ卜すん 加熱ロー
ラ２の温度は２５０度に設定ＬＡ Ｆｅ−Ｃｏ合金４の
ＣＯ濃度を１０Ｗｔ％とじｔも （実施例２） 第２図に示すように 耐熱性高分子フイルム８を送り軸
ｌにセットし 加熱ローラ２を経て巻取り軸３で巻取も
この時下方より電子銃１０でＦｅ−Ｃｏ合金４を溶解
し フイルム８上に蒸着すム また走行方向と対面する
方向から酸素ガスノズル９より噴出し イオン銃１ｌで
イオン化された酸素ガス５ａを金属蒸気流に吹き付けも
蒸着時に不用な蒸気流は遮蔽板６でカットすも 加熱
ローラ２の温度は２５０度に設定Ｌ，Ｆｅ−Ｃｏ合金の
ＣＯ濃度をｌＯＷｔ％としｔら 以上の様な実施例により得られた金属薄膜型磁気記録媒
体の性能と効果について、従来法のスパッター法及び塗
布型法により得られた磁気記録媒体と比較しながら述べ
も 金属薄膜媒体の評価法はＶＳＭにより磁気特性また磁性
金属薄膜の厚みと蒸着速度から蒸着レートを算出しｔも
その結果を次表に示も表 この結果本実施例では従来問題であったスパッター法に
おける戒膜速度の遅汝 塗布型法による記録媒体の表面
性と充填率による電磁変換特性の低下、あるいは斜方蒸
着における容易軸と困難軸の磁気特性の違い等の問題点
が解決されも 即板本蒸着法による金属薄膜媒体は磁気
特性としては従来例と比較して磁束密度と角形比はほと
んど同じ位で保磁力が従来例より遥かに高〜１また こ
の金属薄膜媒体の容易軸と困難軸方向の磁気特性の差異
は全くなく、面内に等方な記録媒体で合っ九 量産性に
関係する蒸着速度は本実施例において５０００人／Ｓｅ
ｅで従来例のスッパター法２０人／Ｓｅｅと比べ二桁以
上速し′１５ また 従来の塗布形磁気記録媒体と比
較して本蒸着法はカレンダ処理等が不必要なため磁性膜
の表面性は大幅に改善できかつ磁性金属充填率も改善さ
れるため電磁変換特性も改善できも このように本蒸着法で得られる磁性金属薄膜をハードデ
ィス久 あるいはフロッピーディスクとして使用した場
合従来蒸着法で問題であった容易練 困難軸方向の面内
の異方性がなくかつ磁気特怯 電磁変換特性ともスッバ
ッター法よりすぐれ量産性もよ鶏 磁気記録のもうひと
つの応用として磁気テープに使用した場合、磁性金属薄
膜媒体であるため表面性にすぐれかつ斜方蒸着より磁性
金属の充填率が良１，Ｘｏ また従来斜方蒸着法では
蒸着効率が悪＜１０％以下でありｔラ ところが本実
施例では蒸着レートの一番高い部分を使用するため蒸着
効率が４０％と非常に優れていもな抵 上記実施例２に
おいて（友 酸素ガスのイオン化を行った力交 イオン
化の効果は磁性金属薄膜の酸化状態に差異が見られた
特に イオン化した酸素ガスでは表面酸化層が厚く酸化
状態が高次であった しかし 磁気特性に関して両者間
にあまり差は見られなりかあ 本発明を実施するにあたり、上記実施例に限定すること
なく他の方法も可能であも 例えば基板として高分子フ
イルムを用いたがガラ入 金風樹脂 ブラスッチク等を
ロール状或は板状にして用いてもよし ただこの場合蒸
着時のアウトガスが影響されないように十分前処理によ
る脱ガスを行う必要があも 磁性金属について上記実施例ではＦｅに対し１ｏｗｔ，
％のＣｏ金属を用いた爪 本発明を実施する場合１〜５
０Ｗｔ％の範囲で効果がみられる。３Ｗｔ％以下では
磁束密度が小さく、 ５ ０Ｗｔ％以上では保磁力が小
さく、角形比が悪くなも 記録媒体として使用する場合
、最適には３〜ａ ｏｗｔ％であん まな この時Ｆｅ
−Ｃｏ合金に他の金属を添加してもよしも 基板の加熱法について上記実施例では加熱ローラを用い
たが加熱用ランプ、 ヒータ等他の方法を用いてもよく
、基板を加熱することが必要で直撹間接いずれの方法を
用いてもよ（１ 基板の加熱温度も本発明では２５０度
でおこなったが１００度から４００度の温度範囲なら同
様の効果がみられ最適には２００度から３５０度の温度
範囲であも酸素導入位置も上記実施例に限定することな
く、Ｆｅ−Ｃｏ合金を酸化することが出来る位置ならば
どこからいれてもよ鶏 酸素ガスをイオン化するための
イオンガンの位置についても本目的を達或できる位置な
らばいずれの場所であってもよし１発明の効果 このように本発明は加熱した基板表面にＦｅ−Ｃｏ合金
を蒸着し この時磁性金属蒸気中に酸素ガスを吹き付け
ることで磁気特怯 電磁変換特性のすぐれた 面内に等
方性を有する量産性に優れた金属薄膜型磁気記録媒体を
得ることができも
第１図は本発明の実施例１に用いる蒸着装置を示す概略
は 第２図は本発明の実施例２に用いる蒸着装置を示す
概略図であも ２．．．加熱ローノ’Ｉｙ， ４．．．Ｆｅ−Ｃｏ合
鉄 ５．．．酸素ガ入 ５ａ，，．イオン化された酸素
ガ入 ８２．．耐熱性高分子フィルム（基板）。
は 第２図は本発明の実施例２に用いる蒸着装置を示す
概略図であも ２．．．加熱ローノ’Ｉｙ， ４．．．Ｆｅ−Ｃｏ合
鉄 ５．．．酸素ガ入 ５ａ，，．イオン化された酸素
ガ入 ８２．．耐熱性高分子フィルム（基板）。
Claims (2)
- （１） 加熱した基板表面にＦｅ−Ｃｏ合金を酸素ガス
雰囲気中で蒸着することを特徴とする金属薄膜型磁気記
録媒体の製造方法。 - （２） 酸素ガス雰囲気がイオン化した酸素ガス雰囲気
であることを特徴とする請求項１記載の金属薄膜型磁気
記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1151824A JP2529395B2 (ja) | 1989-06-14 | 1989-06-14 | 金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1151824A JP2529395B2 (ja) | 1989-06-14 | 1989-06-14 | 金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0317828A true JPH0317828A (ja) | 1991-01-25 |
| JP2529395B2 JP2529395B2 (ja) | 1996-08-28 |
Family
ID=15527119
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1151824A Expired - Lifetime JP2529395B2 (ja) | 1989-06-14 | 1989-06-14 | 金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2529395B2 (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6087437A (ja) * | 1983-10-20 | 1985-05-17 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS6124214A (ja) * | 1984-07-12 | 1986-02-01 | Taiyo Yuden Co Ltd | Ｃｏ−Ｏ系薄膜型垂直磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS61239423A (ja) * | 1985-04-16 | 1986-10-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1989
- 1989-06-14 JP JP1151824A patent/JP2529395B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6087437A (ja) * | 1983-10-20 | 1985-05-17 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS6124214A (ja) * | 1984-07-12 | 1986-02-01 | Taiyo Yuden Co Ltd | Ｃｏ−Ｏ系薄膜型垂直磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS61239423A (ja) * | 1985-04-16 | 1986-10-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2529395B2 (ja) | 1996-08-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2761859B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0317828A (ja) | 金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH0546013B2 (ja) | ||
| JP2894253B2 (ja) | 高機能性薄膜の製造方法 | |
| JPH0352115A (ja) | 金属薄膜型磁気記録媒体 | |
| JP2508711B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
| JP2976699B2 (ja) | 磁気記録媒体とその製造方法 | |
| JP2946748B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH01211240A (ja) | 薄膜型磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS60202524A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH1064035A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JPH04159616A (ja) | 機能性薄膜の製造方法 | |
| JPH01166334A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS6154040A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS62102414A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0656650B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS61227222A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS592232A (ja) | 磁気記録媒体の製造法 | |
| JPH1064061A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS63197026A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH01303623A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH11161952A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH03237621A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS63142515A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JPS6194241A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 |