JPH03169365A - 塗布装置 - Google Patents

塗布装置

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JPH03169365A
JPH03169365A JP1308688A JP30868889A JPH03169365A JP H03169365 A JPH03169365 A JP H03169365A JP 1308688 A JP1308688 A JP 1308688A JP 30868889 A JP30868889 A JP 30868889A JP H03169365 A JPH03169365 A JP H03169365A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は磁気テープ等に塗液を塗布する塗布装置に関す
るものである。
従来の技術 磁気テープの塗布工程を例に説明する。数１０μｍ厚程
度の薄板状長幅ウェブに、厚さ数１０μｍ以下で塗液を
均一に塗布する技術に関して、グラビア塗工方式が代表
例として挙げられる。本方式は、無数の凹状微小溝を回
転ロール表面上に形成し、回転ロール面の周方向回転移
動に伴い、凹溝への塗料供給，計量，ウェブへの転写を
連続的に行い、最終的に塗膜表面をスムージングするも
のである。本方式の最大塗工速度は、回転ロール上の塗
液が遠心力で飛散する限界から２００〜２５０ｍ　／　
ｍ　ｉ　ｎとされている。一方、最近の量産合理化の動
向から、塗工方式を改善することにより、４　０　０　
／　ｍ　ｉ　ｎ以上の高速、安定塗工を狙う新規な工法
開拓への期待はますます高まる傾向にある。
発明が解決しようとする課題 磁気テープに代表される様に、溶媒で希釈した溶液を薄
膜状ウェブに塗布する場合、特にその塗布形態が、ウェ
ブ走行方向を長手方向とする条から戒るストライプ塗工
を行う場合にダイ方式を用いてストライブ状の塗膜を形
成する塗布装置及び塗布方法に関して、本発明者らはす
でに、特願昭６３−１５３１９４号として、その基本構
成を提案し、これによってエッジの立った良質の塗膜が
合理的に形成し得ることを示した。
しかるにこのような先行技術にあっても、数万ｍ以上の
長尺に亘って、連続的に均一かつ良好な塗膜形戒を行う
にあたっては、種々の問題が実在する。
すなわち、第７図に示す様に、先行技術では、長時間連
続塗工を行う過程で、メチレン系、エチレン系等の揮発
性の高い溶媒で希釈された塗工液は、次第に吐出口１５
の周辺や、溝１４部の端面近傍に斜線で模式的に示す通
り凝着固化をきたし、実際の塗料の流れ溝の寸法形状を
変形せしめ、更には、ガイド１３の一部にて固化した場
合には、ウェブ３０との摺動状態を悪化せしめ、ウェブ
３０の局所的な浮きをきたす。以上の様な状況に至ると
。本来、本塗工法が目的としている均一かつ安定な塗膜
形成を実現することができなくなる。よって、これを回
避するためには短時間毎にダイの上ノズル１２及び下ノ
ズル１８部を溶剤で洗浄する必要がある。また、ウェブ
交換等で一旦塗布を中断した後、塗布を再開しようとし
ても凝着固化したカスが、ノズル吐出口１５や流れ溝２
１中に形成された時は、ダイ本体を分解して洗浄し、再
組立・調整するという大変な労力と時間を必要とし実用
上大きな問題点を有していた。
本発明は上記の問題点を解決するもので、ダイ先端部の
ノズルが空気に触れる部分を、溶剤で満たした溶剤溜り
の中に一時的に浸没させて待期し、塗布再開時にスムー
ズに塗工動作を開始することができるものである。従っ
て、長時間塗工をダイノズルを分解洗浄すること無しに
連続的に安定かつ高品質な塗膜を高速で生成できる塗布
装置を提供することができるものである。
課題を解決するための手段 上記目的を達成するために、本発明の塗布装置は、ブロ
ック状に形成したダイ本体に、前記ダイ本体から個方に
突出したノズルの先端部にスリット状断面を有する吐出
口と、ダイ本体に吐出口と流体的に連通ずる塗料溜りを
設け、前記吐出口は下ノズル部の先端を一定曲率を有す
る略円筒面に形成し、上ノズル部を一定曲率を略円筒面
としたガイドとガイド面より陥没して設けた溝で形成し
、前記上ノズルまたは下ノズル部の内側に仕切り板をノ
ズルの全幅に亘って上下方向移動可能に取付け、前記ダ
イ本体を下方に一定角度θだけ回動可能に保持する回動
ブロックで支持して、回動したダイ本体先端のノズル部
位置が没入する大きさの溶剤受けをノズル部下方に備え
たものである。
作　　　用 本発明は上記構成によって、ダイ先端部のノズルが、空
気と接触する部分を、溶剤を満たした溶剤溜りの中に一
時的に浸没させ、待機中のノズルに空気が触れることを
回避することでノズル部分の乾燥化を無くし、更に、塗
布過程で徐々に生戒される塗液の固化ガスを浸没時に同
時に再要溶融させて、ノズル先端部の塗液カス付着を防
止し、長時間お安定な、塗膜形成を、ダイ本体の分解洗
浄無しに実現することができる。
実施例 以下本発明の第１の実施例について、図面を参照しなが
ら説明する。第１図は本発明の第１の実施例における塗
布装置を示す断面斜視図である。
１１はダイ本体、１２はダイ本体から速報に突設させた
上ノズルである。ｌ３は上ノズル１２の先端部に設けた
ガイドで、白ヌキ矢印で記された方向に走行するウェブ
３０に摺接してウェブ３０を支持する。ガイド１３の先
端形状は、一定の曲率を持って構成することがウェブ走
行の安定上望ましい。ｌ４はガイド１３とウェブ３０と
が形威する仮想局面からダイ本体１１｛ＩＩに陥没して
設けた溝である。ｌ５はダイ本体１１に設けた塗料溜り
１７と流体的に導通し、溝１４中の略全幅にわたり開口
部を有する吐出口、ｌ８は上ノズル１２と対向し、ウェ
ブ３０の走行方向の上流側に配され、その先端形状を平
板又は弱い一定曲率を持って形威し、ガイド１３の下辺
部と略面一に設定された下ノズルである。上ノズル１２
の突出方向の略中央部には、薄板状の仕切り板１９がは
め込まれている。また塗料溜り１７と吐出口１５とは、
略一定すきまから成る流れ溝２１で流体的に導通されて
いる。ダイ本体１ｌは、回動軸２２を内蔵した回動ブロ
ック２３によって保持されており、回動させるとウェブ
３０から、上ノズル１２及び下ノズル１３を一定回動角
度θだけ引き離すことができる。回動軸２２は軸支持機
構２４により支持される。回動角度θを与えられた位置
（第１図に点線で示す）には、少なくとも上記上ノズル
１２が埋没する深さにまで溶剤が満たされた溶剤受け２
５が設置されている。
上記の様に構成された塗布装置の動作について更に詳細
に説明する。通常のストライブ状塗布動作時に、仕切り
板１９は少なくとも流れ溝２１のすきま寸法以上に押し
上げて固定し、盪料溜り１７に供給された塗料の流れを
防げない．よう設定される。一定時間塗布を続けた後、
ウェブ３０の交換等で一旦塗布を中断する必要が生じた
時、先づ、仕切り板１９を下ノズル１８に接触するまで
押し下げ塗料の供給を中断する。次に回動軸２２を中心
に、回動ブロック２３に狭持されたダイ本体１１を一定
角度θだけ回動させ、溶剤を満たした溶剤受け中に、上
ノズル１２までが浸没するようにして保存する。この間
、溶剤中に浸された上ノズル１２及び下ノズル１８は、
空気と触れることがなく、従って塗液の固化は無い。更
に揄布過程で上・下ノズル部に生成する塗液の固化カス
も、溶剤中に浸されることにより再溶融する。次の塗布
が再開される時には、回動ブロック２３を元と位置にも
どし、ウェブ３０を走行させて仕切り板１９を開くこと
で黴布作業が即時開始できる。なお、本発明は、上ノズ
ル１２にガイド１３を設けたストライブ塗工について説
明したが、構成としてガイド１３が無い、平面塗布型の
上ノズルに関しても全く同様の効果をもたらすことは言
うまでもない。また仕切り板１９は下ノズル１８側に設
けられても良い。
次に本発明の第２の実施例について第２図を用いて説明
する。第２図は、本実施例における塗布装置の断面斜視
図で、第１の実施例と異なる店は、溶剤受け２５に超音
波発生装置２６が付加されているところにある。溶剤受
け２５中へ、上ノズル１２及び下ノズル１８が侵された
時、超音波発生装置が動作して溶剤をがく乱せしめ、も
って短時間に効率的に洗浄を行うことができる。超音波
発生装置は、使用する塗料，溶剤の種類等による洗浄条
件を最適化できるように、発振強度を変化できるもので
ある。
次に本発明の第３の実施例について第３図を用いて説明
する。第３図は、本実施例における塗布装置の吐出口部
分のみを抽出した側面図である。
第１の実施例と異なる点は、下ノズル１８の先端部分が
、上ノズル１２と反対方向に約９０’回動可能なリップ
２７によって構成されている点にある。通常の塗布状態
では、リップ２７の上面と下ノズル１８の上面とは同一
平面を形成し、平行に対向する上ノズル１２の下面と一
定間隔の流れ溝２１を形戒する。またこの時、仕切り板
１９は、流れ溝２１の必要幅を確保出来る様にもち上げ
た位置に固定されている。またリップ２７の先端は、上
ノズル１２の先端と略同一突出量となる様設定されてい
る。また、リップ２７の回動中心は、位置的に仕切り板
１９よりも流れの下流側に設定される必要がある。ノズ
ル部の洗浄を行うとき、先づ仕切り板１９を下げて下ノ
ズル１８面に押し当て塗料流れを中断せしめた後、リッ
プ２７を約９０゜下方に開放して流れ溝そのものを洗浄
することができる。本構戒は、特に途布途中で、ウェブ
上のホコリ等異物が誤って吐出口１５に目づまりしたり
、気泡の混入により吐出口がふさがれる様な事故発生時
において、速やかにこれらを除去できる特有の効果を有
するものである。また、溶剤受け（図示せず）を用いる
ことによる、中断後復帰特性は第１の実施例と同様に保
障される。
次に本発明の第４の実施例について第４図を用いて説明
する。第４図は、本実施例における塗布装置の吐出口部
分のみを抽出した側面図を示す。
第１の実施例と異なる点は、下ノズル１８の、上ノズル
１２と対向する部分を一枚の別ユニットから戒る平板２
８で構成する点にある。平板２８は、下ノズル１８中に
設けられた平板保持溝２９中をノズルの突出方向にのみ
前後にスライドできるよう構成されており、その長さは
塗料溜りｌ７と、本来の下ノズル先端までの距離に亘る
ことか望ましい。通常の塗工時には、平板２８は下ノズ
ル１８の一部として動作し、上ノズル１２との間に形成
される流れ溝２１の溝ギャップ量を規定する。塗工の課
程で異物、気泡の混入等事故が発生した時、仕切板１９
を下ろして流れ溝を閉じ、平板２８を移動させて洗浄を
行う。平板２８を突出側に移動させると、下ノズル側の
流れ溝壁面が実質的に露出し、逆に塗料溜り１７ｆｔ４
へ後退させると上ノズル１２の流れ溝壁面が露出する。
これによって上下両壁面の異物が、ダイ本体を分解する
ことなく速やかに除去できる。また、溶剤受け（図示せ
ず）を用いることによる。中断後復帰特性は第１の実施
例と同様に保障される。
次に本発明の第５の実施例について、第５図を用いて説
明する。第５図は本実施例における塗布装置の吐出口部
分のみを抽出した側面図を示す。
第４の実施例と異る点は、上ノズルｌ２の先端部におい
て、流れ溝２ｌ中に開口する複数個の互いに導通した連
続管から成るパイプ系３１が配置され、パイプ系３１と
流体的に導通され一定量の溶剤をパイプ系３１に供給す
るボンプ３２と、前記ポンブ３２に溶剤を供給せしめる
ための溶剤タンク３３が各々配置されている。流れ溝２
１を洗浄する必要が生じたときボンブ３２を駆動するこ
とで、溶剤タンク３３に蓄えられた溶剤は、パイプ系３
１を通じて上ノズル１２の壁から下ノズルの壁へ向けて
勢い良く噴出される。流れ溝２１のギャップは高々１閣
以下程度と狭いため、噴流はすぐに対向壁に衝突し、激
しい乱流を発生して逆に上ノズル壁をも洗浄する。本発
明の場合、溶剤のジェット噴流を用いるため、人手によ
るふき取り洗浄に比べ、溝コーナの細部まで完全な洗浄
が短時間で実現され、ふき取り時の繊維カス等が付着す
る心配もない。またダイ本体を分解することなく洗浄が
行えることも保障される。
次に本発明の第６の実施例について、第６図を用いて説
明する。第６図は本実施例における塗布装置の断面図を
示す。第１〜第５の実施例と異る点は、少なくともダイ
本体１１を包む形で塗布部を匡体３４の中に内包させ、
更に溶剤受け２５中の溶剤上記が、匡体３４中に充満す
る様に構成している点にある。第６図は断面を示すが、
紙面垂直方向の両端部は閉じられており、塗布面のみが
開放されている。匡体３４が、塗布後のウェブ３０と近
接する部分は、溶剤蒸気のモレを防ぐため、できるだけ
そのクリアランスを小さくすることが望ましいが、塗布
面との接触事故を回避するため１〜０．１ｍに設定する
。一方ウェブ３０に走行方向上流側の未塗布面では、ウ
ェブ３０と匡体３４の端面とは接触が許される。以上の
構成により匡体３４の端面とは接触が許される。以上の
構成により匡体３４内の塗工部雰囲気は、溶剤受け２５
から気化した溶剤蒸気圧が十分高く設定され、塗料の固
化減少を大幅に抑制することができ、必然的に洗浄の機
械を著るしく低減できる特有の効果がある。
なお、匡体内の溶剤充満に際しては、溶剤受けの溶剤を
使う必然性は無く、別ユニットから供給しても良く、最
悪は、撞布時の塗液そのものから気化した溶剤蒸気によ
っても当初の目的は果たされる。
発明の効果 以上の様に、本発明は、ストライブ状塗工において、ダ
イ先端部のノズルが空気と接触する部分を、溶剤で満た
された、溶剤溜りの中に一時的に浸析せしめる構成を持
つことにより、塗工中断から再開に至るまでの間でダイ
ノズルの塗液固化を無くし、同時に塗エカスを再溶融せ
しめて、良質なストライブ状塗膜を長時間高速安定に生
成することができる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の第１の実施例における塗布装第３の実
施例における塗布装置の吐出口部分の側面図、第４図は
本発明の第４の実施例における塗布装置の吐出口部分の
側面図、第５図は本発明の第５の実施例における塗布装
置の吐出口部分の側面図、第６図は本発明の第６の実施
例にわける塗布装置の概略断面図、第７図は、先行技術
における不良状態を示すダイ先端部の部分斜視図である
。 １１・・・・・・ダイ本体、１２・・・・・・上ノズル
、１３・・・・・・ガイド、１４・・・・・・溝、１５
・・・・・・吐出口、１７・・・・・・塗料溜り、１８
・・・・・・下ノズル、１９・・・・・・仕切り板、２
１・・・・・・流れ溝、２２・・・・・・回動軸、２３
・・・・・・回動ブロック、２４・・・・・・軸支持機
構、２５・・・・・・溶剤受け、２６・・・・・・超音
波発生装置、２７・・・・・・リッブ、２８・・・・・
・平板、２９・・・・・・平板保持溝、３１・・・・・
・パイプ系、３２・・・・・・ポンプ、３３・・・・・
・溶剤タンク、３４・・・・・・匡体。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）ブロック状に形成したダイ本体に、前記ダイ本体
    から側方に突出したノズルの先端部にスリット状断面を
    有する吐出口と、ダイ本体に吐出口と流体的に連通する
    塗料溜りを設け、前記吐出口は下ノズル部の先端を一定
    曲率を有する略円筒面に形成し、上ノズル部を一定曲率
    の略円筒面としたガイドとガイド面より陥没して設けた
    溝で形成し、前記上ノズルまたは下ノズル部の内側に仕
    切り板をノズルの全幅に亘って上下方向移動可能に取付
    け、前記ダイ本体を下方に一定角度θだけ回転可能に保
    持する回動ブロックで支持して、回動したダイ本体先端
    のノズル部位置が没入する大きさの溶剤受けをノズル部
    下方に備えたことを特徴とする塗布装置。
  2. （２）溶剤受けの周囲又は内部に併設し、溶剤受けに満
    たした溶剤に対し、所定強度の超音波エネルギーを供給
    する超音波発生装置を有することを特徴とする請求項１
    記載の塗布装置。
  3. （３）上ノズル、下ノズルで構成する下ノズルの先端部
    を板状に形成し、その固定部から上ノズルと反対方向に
    役９０°回動可能に構成してリップとし、前記リップの
    位置が、前記仕切り板よりもノズル突出方向側にあるこ
    とを特徴とする請求項１記載の塗布装置。
  4. （４）下ノズルの上ノズルとの対向面に凹状の平板保持
    溝を設け、前記平板保持溝に前後摺動可能な平板を埋設
    したことを特徴とする請求項１記載の塗布装置。
  5. （５）前記上ノズル先端部の下ノズルとの対向面に開口
    する複数個の互いに導通した管から構成されるパイプ系
    に一定量の溶剤を移送するポンプと、前記溶剤を供給す
    る溶剤タンクを設けたことを特徴とする請求項１又は４
    記載の塗布装置。
  6. （６）略直方体の箱状で、前記ノズルの突出側にのみ開
    口部を有する匡体でダイ本体及び前記溶剤受けを内包す
    るように構成したことを特徴とする請求項１記載の塗布
    装置。
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