JPH07108213A - 塗布方法 - Google Patents

塗布方法

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JPH07108213A
JPH07108213A JP28070093A JP28070093A JPH07108213A JP H07108213 A JPH07108213 A JP H07108213A JP 28070093 A JP28070093 A JP 28070093A JP 28070093 A JP28070093 A JP 28070093A JP H07108213 A JPH07108213 A JP H07108213A
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JP
Japan
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coating
slot
organic solvent
coating liquid
head
Prior art date
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Pending
Application number
JP28070093A
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English (en)
Inventor
Keiji Shigesada
啓司 繁定
Akihiro Suzuki
章弘 鈴木
Tokuo Shibata
徳夫 柴田
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 塗布開始時及び塗布再開時に縦すじの発生を
抑えて安定した塗布が開始できる塗布方法を提供する。 【構成】 エクストルージョン型の塗布ヘッド3を用い
て、可撓性支持体1表面に向けて押圧するように対向さ
せた前記塗布ヘッドのスロット4から押出される塗布液
を該可撓性支持体表面に塗布する塗布方法である。そし
て、スロットの先端部の近傍に配置した有機溶剤供給手
段により、塗布開始前又は塗布停止とほぼ同時に有機溶
剤を吐出して、前記スロット内の前記塗布液の上端面を
有機溶剤により濡れ状態にし、その後、前記有機溶剤供
給手段により前記有機溶剤を連続もしくは間欠的に吐出
して該有機溶剤を垂れ流しを阻止しつつ前記濡れ状態に
保つ塗布方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は塗布液の塗布方法に関
し、さらに詳しくは、ガイドローラなどの走行案内手段
に支持されて連続して走行する可撓性支持体表面に塗布
ヘッド先端を向け、スロット端部より押出される塗布液
を該可撓性支持体表面に均一に塗布するエクストルージ
ョン型塗布ヘッドを用いた塗布方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、写真感光材料や磁気記録媒体
等の製造工程においては、可撓性支持体上に所望の塗布
液を塗着する塗布工程がある。この塗布液は、その用途
に応じて種々の液組成のものがあり、例えば写真感光材
料における感光乳剤層、下塗層、保護層、バック層等の
塗布液、磁気記録媒体における磁性層、下塗層、保護
層、潤滑剤層等の塗布液等を挙げることができる。これ
らの塗布液は、それぞれの必須成分、バインダー、及び
必要に応じて種々の添加物を含んだ水性及び有機溶媒溶
液等である。
【0003】このような塗布液を可撓性支持体表面に塗
布する方法として、従来から例えばロールコート法、グ
ラビアコート法、ロールコートプラスドクタ法、エクス
トルージョン型塗布方法、スライドコード等種々の塗布
方法が行われている。そして、近年においては磁性塗布
液の塗布にはエクストルージョン型塗布ヘッドを用いた
塗布方法が多用されている。エクストルージョン型塗布
ヘッドを用いた代表的な方法は、周知のごとく可撓性支
持体を、所定の場所にて一定の距離を置いて配置された
2個一対の走行案内手段に装架して、この案内手段間に
配置した塗布ヘッドにより、連続的に走行する前記可撓
性支持体の表面上へスロット端部から押出される塗布液
を薄く且つ均一に塗布する塗布方法である。
【0004】エクストルージョン形塗布ヘッドを用いた
塗布方法は、例えば図3に示すように、ガイドローラ
2,2間に装架され一定方向に走行する支持体1の表面
に塗布ヘッド3の塗布液吐出スロット4先端部を押し付
け、塗布液吐出スロット4から吐出される塗布液を支持
体1表面に塗布する。そして、塗布作業終了後は、移動
装置5を作動し、例えば塗布ヘッド3を矢印C方向の後
退方向に移動させて支持体1から離すと同時に、塗布ヘ
ッド3に対する塗布液供給を停止し、また、塗布再開時
には、塗布ヘッドを再び支持体1に押し付けるとほぼ同
時に、図示しない塗布液給液系から塗布ヘッド内塗布液
吐出スロット4に塗布液を供給し、塗布作業を再開する
ものである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上述したよ
うに、連続走行している支持体表面に塗布液を塗布する
場合は、支持体の汚れや塗布液流に巻き込まれて塵埃が
搬送されて塗布液吐出スロット先端部に堆積するという
難点があった。従来は、かかる難点を解消するため、上
述した塗布作業後の操作と同じように、移動装置5によ
り塗布ヘッドを支持体1から離し、同時に塗布ヘッド内
塗布液吐出スロット4に対する塗布液の供給を停止した
後、人手によりガーゼを利用して塗布ヘッドのスロット
4先端の汚れを塗布液溶剤で洗浄して取り除いていた。
【0006】しかしながら、このように塗布ヘッドへの
塗布液供給を停止し、支持体から塗布ヘッドを離すと、
塗布液吐出スロット4先端部やスロット4内塗布液から
塗布液中の溶剤が蒸発し、塗布液吐出スロット内塗布液
や塗布液吐出スロット先端部近傍の塗布ヘッド表面に塗
布液が乾燥して固着したスカムが発生し、塗布再開時
に、塗布液の流れを妨げたり塗布面に「縦すじ」を発生
する等の塗布障害を生ずる。
【0007】また、上述した洗浄化に手間どったり、他
のトラブルで長時間停止した場合は、塗布液吐出スロッ
トの内部まで塗布液が乾燥固化してしまい、表面の清浄
化だけでは除去不能になる。このような場合、従来は薄
い樹脂板や金属の板で、人手によりスロット内の固着物
を除去する等の方法を講じていたが、この方法によると
スロット内部を傷付け、塗布が行えなくなってしまうと
いう欠点があった。
【0008】そこで、このような欠点を解消するため、
特開平1−307472号では、塗布ヘッドの躯体内に
塗布液吐出スロットと、塗布液溶解溶剤を吐出するスロ
ットの二つを互いに反対方向に配置し、かつ、これら二
つのスロットを回転可能に構成し、一方のスロットで塗
布し、他方のスロットで洗浄する装置について開示して
いる。しかし、この装置は、構造が複雑で、かつ、大掛
かりであり溶剤で洗浄された後の塗布ヘッドのスロット
内には空隙が生じ、塗布開始直後には、空擦り状態にな
るので、静電気の発生やスロット先端に摩耗が生ずる等
の難点を有している。
【0009】また、写真感光材料などの比較的粘度の低
い塗布液の塗布方法においては、スライドコート方式と
称されているものがある。この塗布方法は例えば塗布ヘ
ッドに近設されたガイドローラに可撓性支持体を装架し
て所定の方向に連続的に走行させて、この塗布ヘッドの
スリットから流れ落ちる塗布液を支持体上に塗着する方
法である。前記塗布ヘッドは例えば三つのスロットを有
した構造である場合、前記ガイドローラから遠い方のス
ロット(最上層を形成する液を吐出するスロット)がガ
イドローラ寄りの他の二つのスロットよりも上方に吐出
口が位置し、各スロットから流出する塗布液が、ガイド
ローラ上を連続的に走行している可撓性支持体の表面に
流れるように塗布ヘッド上面が適宜傾斜して構成されて
いる。そして、塗布液の塗布停止の場合は、例えば下側
の二つのスロットへ送る塗布液の供給は停止するが、吐
出口が最も上方に位置するスロットに対しては塗布液供
給をそのまま続行し、この上側のスロットから流出する
塗布液がの吐出口に配置した斜面を流れ落ちることによ
り、他の二つのスロットに対する塗布液供給停止によっ
てスロットの吐出口近傍の塗布液乾燥による目詰りや塗
布ヘッドのエッジ面の汚れの発生を防いでいる。
【0010】このスライドコート方式による塗布方法
は、スロットへの塗布液供給停止後も、一つのスロット
への塗布液供給を続け、塗布液吐出口から塗布液を吐出
させ、連続走行している可撓性支持体側に垂れ流すよう
にしているため、塗布ヘッドの塗布液吐出スロット端は
常時、濡れ状態になっており、塗布液の乾燥によるスカ
ム発生の難点は生じない。しかしながら、この塗布方法
は、磁性液などのごとく比較的粘度の高い塗布液の塗布
方法には適しないという難点があるだけでなく、塗布液
を常時垂れ流し状態にしておくため、塗布液の大量消費
と、塗布液供給用ポンプ作動のための電力消費という欠
点を有している。
【0011】上述したように例えばトラブル等で長時
間、未塗布状態が続くと、塗布ヘッドのスロット先端部
やスロット内部、スロット先端部近傍が乾燥してしまっ
たり、この塗布ヘッドの汚れや堆積物を洗浄、清浄化す
る必要が生じてくるが、本発明は塗布開始時及び塗布再
開時に縦すじの発生を抑えて安定した塗布が開始でき、
また塗布材料の無駄もなくスロット清掃時においても効
果的な清掃ができ、塗膜品質の低下を防止する塗布方法
を提供することを目的とするものである。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、連
続的に走行する可撓性支持体の走行方向に沿って一定の
距離を置いて配置した一対の走行案内手段に支持された
該可撓性支持体に対し、前記走行案内手段間で該走行案
内手段とは反対側に配置されたエクストルージョン型の
塗布ヘッドを用いて、前記可撓性支持体表面に向けて押
圧するように対向させた前記塗布ヘッドのスロットから
押出される塗布液を該可撓性支持体表面に塗布する塗布
方法において、前記スロットの先端部の近傍に配置した
有機溶剤供給手段により、塗布開始前又は塗布停止とほ
ぼ同時に有機溶剤を吐出して、前記スロット内の前記塗
布液の上端面を有機溶剤により濡れ状態にし、その後、
前記有機溶剤供給手段により前記有機溶剤を連続もしく
は間欠的に吐出して該有機溶剤を垂れ流しを阻止しつつ
前記濡れ状態に保つことを特徴とする塗布方法により達
成できる。また、前記塗布液を吐出する前記塗布ヘッド
の内部に該塗布液を吐出するスロットに隣接した別個の
スロットから前記有機溶剤を供給したり、前記塗布液を
吐出する前記塗布ヘッドの前記スロットに接近可能な別
の塗布ヘッドから前記有機溶剤を吐出することができ、
又、前記有機溶剤はメチルエチルケトン、トルエン、酢
酸ブチル、シクロヘキサノン及びアセトンのうちから選
んだ少くとも一種よりなる溶剤を使用することができ
る。
【0013】以下、図面に基づいて本発明の実施態様に
ついて説明する。図1は、本発明の塗布方法の実施に使
用する一つの塗布装置の概略構成図であり、磁気テープ
を製造する磁性分散液を塗布する工程にしようする装置
である。この塗布装置においては、図1に示すごとく一
定の距離Lだけ離して配置した2個1対のガイドローラ
2,2間に支持体1を装架し、上流から下流A方向に連
続走行可能にしておく。そして、前記支持体1に対し、
前記ガイドローラ2,2側と反対側に、塗布ヘッド3が
塗布液吐出スロット4先端部を支持体1表面に対向する
ように配置されている。
【0014】この塗布ヘッド3の躯体内には塗布液供給
系20及び有機溶剤供給系30とそれぞれ接続された塗
布液21の吐出スロット4及び有機溶剤31の吐出スロ
ット6が設けられており、これら吐出スロット4及び6
の吐出口端部は互いに近接して塗布ヘッド3端部に形成
されている。そして前記スロット4からの前記塗布液2
1の吐出は前記塗布液供給系20の作動により調整さ
れ、前記スロット6からの前記有機溶剤31の吐出は前
記有機溶剤供給系20の作動により調整される。そし
て、例えば前記塗布液21の塗布停止のときに、前記塗
布液21の前記吐出スロット4への供給を停止する一
方、前記有機溶剤31を供給を開始するような操作を適
宜行うことができる。
【0015】また、前記塗布ヘッド3は、例えばエアー
シリンダ等の駆動系を備えた移動装置5の作動により、
適当な支持基台8上を前記支持体1の方向に移動したり
その反対方向に移動(矢印C)することができる。すな
わち、塗布工程においては前記塗布ヘッド3が支持体方
向に移動しており、前記吐出スロット4の先端部の洗浄
時及び塗布作業停止時には支持体表面から離される。前
記塗布液21を前記支持体1に塗布するときには、前記
吐出スロット4から吐出される前記塗布液21は、前記
支持体1との間で僅かなクリアランスを保って押出さ
れ、該支持体1表面に押し広げられる。そして、前記支
持体1の表面に形成される塗布膜の厚さは該支持体1の
張力、前記塗布ヘッド3の近接の度合、前記塗布液21
の供給量(液圧)、該支持体1の走行速度などの諸条件
によって決まる。
【0016】また、塗布ヘッド3に設けられている前記
吐出スロット6から前記有機溶剤31の吐出のタイミン
グは、例えば塗布停止に伴って塗布液の供給停止と前記
支持体1から前記塗布ヘッド3が後退されるとほぼ同時
に開始される。したがって、前記吐出スロット4はその
出口部分にある塗布液21とともに前記有機溶剤31に
より覆われる(図1に示す状態)。前記有機溶剤31は
例えばメチルエチルケトン、トルエン、酢酸ブチル、シ
クロヘキサノン及びアセトンなどを単一あるいは組み合
わせた成分であり、比較的短時間で蒸発するが、この蒸
発の程度に対応させて前記スロット6から該溶剤を間欠
的あるいは連続して吐出するようにすることで、該有機
溶剤31が前記塗布ヘッド3から垂れ落ちりことなく且
つ前記吐出スロット4内の塗布液表面及び該吐出スロッ
ト4の先端近傍が濡れ状態に維持できるようになってい
る。上述した塗布装置のように、例えば塗布停止とほぼ
同時に、前記吐出スロット6から前記有機溶剤31が前
記塗布ヘッド3上に適量あるように供給されていると、
前記吐出スロット4内の塗布液表面及びその近傍のエッ
ジ面が濡れ状態に維持される。この状態であると、前記
塗布液21の乾燥に基づくスカムの発生や、塗布ヘッド
のエッジ面の乾きによる固形物の形成されるのを回避す
ることができる。したがって、この状態から塗布を再開
してもよく、またエッジ面を清掃する場合においても、
塗布を停止してから時間がたってもエッジ面が乾燥固化
しないので良好な清掃を行うことができる。
【0017】本発明の塗布方法を実施する装置は図1に
示す構成にかぎるものではなく、例えば図2に示すよう
に構成することもできる。図2に示す塗布装置において
は、図1に示が装置の場合と同様に、一定の距離Lだけ
離して配置した2個1対のガイドローラ2,2間に支持
体1を装架し、上流から下流A方向に連続走行可能にし
ておく。そして、前記支持体1に対し、前記ガイドロー
ラ2,2側と反対側に、塗布ヘッド3が塗布液吐出スロ
ット4先端部を支持体1表面に対向するように配置され
ている。本実施態様においては、前記塗布ヘッド3とは
別体の構成で、有機溶剤31の吐出スロット6を備えた
有機溶剤塗布ヘッド13が設けられている。前記有機溶
剤塗布ヘッド13は前記塗布ヘッド3の吐出スロット4
に対して前記吐出スロット6の吐出口端部を近接できる
ように構成されている。なお、前記有機溶剤塗布ヘッド
13は前記塗布ヘッド3の移動に支障を来さない位置で
あるならば固定して設けることができるが、前記塗布ヘ
ッド3が前記支持体1に対して後退したときに、適当な
待機位置に待機していた前記有機溶剤塗布ヘッド13が
図2に示す位置に移動してから前記有機溶剤31を吐出
するような構成でもよい。
【0018】
【発明の効果】以上のべたように、本発明の塗布方法は
塗布液を吐出するスロットの先端部の近傍に配置した有
機溶剤供給手段により、塗布開始前又は塗布停止とほぼ
同時に有機溶剤を吐出して、このスロット内の前記塗布
液の上端面を有機溶剤により濡れ状態に長時間維持して
おくことができるので、塗布液の乾きによるスカム等の
の発生を防止でき、塗布ヘッドを清掃がいつでも容易で
あるだけでなく、スカムやロット詰りなどの塗布障害に
よる塗膜の縦すじの発生を防止し、高品質な塗膜を得る
ことができる。
【0019】
【実施例】以下、本発明の効果を明らかにするため実施
例を用いて説明する。使用した塗布装置は図1及び図2
に示すものを使用した。この装置を使用して磁性分散液
を塗布液として塗布を実施した。支持体1は600m/
分で連続走行させて、吐出スロット6から塗布液21を
吐出した。この塗布液21は表1に示す組成のものを用
いた。
【0020】
【表1】
【0021】支持体1は、ポリエチレンテレフタレート
フイルム(厚さ15ミクロン、幅500mm)を使用し
て、張力:10キログラム/全幅に対し、塗布液を厚さ
15ミクロン(wet状態)に塗布した。有機溶剤とし
てはメチルエチルケトン、トルエン、シクロヘキサノン
を使用して夫々テストした。この実施例においては、塗
布を一旦停止して3分間未塗布状態とした後に、再度塗
布を開始したときの塗膜の状態および塗布ヘッドのエッ
ジ面の汚れ状態を観察した。有機溶剤を吐出スロット6
から吐出させる吐出量(リッタ/分)を種々変えた場合
(実験No.1、2 、3)、有機溶剤を使用せず塗布ヘッドの
エッジ面の拭き取りをしない場合( 実験No.4) 、薄い樹
脂板にてエッジ面の塗布液を掻き落とした場合( 実験N
o.5) を観察した。
【0022】
【表2】
【0023】表2中の実験No. 1は図2に示す塗布装置
で有機溶剤の吐出量を3リットル/分の場合、実験No.3
は1に示す装置で有機溶剤の吐出量を3リットル/分の
場合で、本発明の方法の実施した場合で良好な結果を得
ることができた。実験No.2の場合は有機溶剤が吐出量が
1リットル/分の場合で必要量よりも少しすくなかった
場合である。実験No,4の場合は吐出スロットが詰まり再
塗布ができなかった。実験No.5の場合も縦すじが発生が
あった。この結果から判るように本発明の方法によれば
スカムやロット詰りなどの塗布障害による塗膜の縦すじ
の発生を防止し、高品質な塗膜を得ることができた。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかる塗布方法の一実施態様に使用す
る塗布装置の概略構成図である。
【図2】本発明にかかる塗布方法の他の実施態様に使用
する塗布装置の概略構成図である。
【図3】従来の塗布方法の実施に使用する塗布装置の概
略構成図である。
【符号の説明】
1 支持体 2 ガイドローラ 3 塗布ヘッド 4 塗布液の吐出スロット 5 移動装置 6 有機溶剤の吐出スロット 8 基台 13 有機溶剤の塗布ヘッド 20 塗布液供給系 21 塗布液 30 有機溶剤供給系 31 有機溶剤

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】連続的に走行する可撓性支持体の走行方向
    に沿って一定の距離を置いて配置した一対の走行案内手
    段に支持された該可撓性支持体に対し、前記走行案内手
    段間で該走行案内手段とは反対側に配置されたエクスト
    ルージョン型の塗布ヘッドを用いて、前記可撓性支持体
    表面に向けて押圧するように対向させた前記塗布ヘッド
    のスロットから押出される塗布液を該可撓性支持体表面
    に塗布する塗布方法において、 前記スロットの先端部の近傍に配置した有機溶剤供給手
    段により、塗布開始前又は塗布停止とほぼ同時に有機溶
    剤を吐出して、前記スロット内の前記塗布液の上端面を
    有機溶剤により濡れ状態にし、その後、前記有機溶剤供
    給手段により前記有機溶剤を連続もしくは間欠的に吐出
    して該有機溶剤を垂れ流しを阻止しつつ前記濡れ状態に
    保つことを特徴とする塗布方法。
  2. 【請求項2】 前記塗布液を吐出する前記塗布ヘッドの
    内部に該塗布液を吐出するスロットに隣接した別個のス
    ロットから前記有機溶剤を供給することを特徴とする請
    求項1に記載の塗布方法。
  3. 【請求項3】 前記塗布液を吐出する前記塗布ヘッドの
    前記スロットに接近可能な別の塗布ヘッドから前記有機
    溶剤を吐出することを特徴とする請求項1に記載の塗布
    方法。
  4. 【請求項4】 前記有機溶剤はメチルエチルケトン、ト
    ルエン、酢酸ブチル、シクロヘキサノン及びアセトンの
    うちから選んだ少くとも一種よりなる溶剤を使用するこ
    とを特徴とする請求項1乃至3に記載の塗布方法。
JP28070093A 1993-10-15 1993-10-15 塗布方法 Pending JPH07108213A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002177849A (ja) * 2000-12-15 2002-06-25 Dainippon Printing Co Ltd 塗工装置
WO2007086303A1 (ja) * 2006-01-30 2007-08-02 Konica Minolta Opto, Inc. 塗布フィルムの生産方法および塗布フィルム
JP2013126614A (ja) * 2011-12-16 2013-06-27 Fujifilm Corp 塗布装置、及び塗膜付きフィルムの製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002177849A (ja) * 2000-12-15 2002-06-25 Dainippon Printing Co Ltd 塗工装置
WO2007086303A1 (ja) * 2006-01-30 2007-08-02 Konica Minolta Opto, Inc. 塗布フィルムの生産方法および塗布フィルム
JP2013126614A (ja) * 2011-12-16 2013-06-27 Fujifilm Corp 塗布装置、及び塗膜付きフィルムの製造方法

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