JPH03156958A - マスクパターン生成システム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は既設計のマスクパターンから設計基準の異な
る小さなＬＳＩ等の集積回路のマスクパターンを生成す
るマスクパターン生成システムに関するものである。

［従来の技術１ 近年の半導体製造技術の進歩に伴ってＬＳＩの各部の寸
法の縮小化が図られ、その集積度はますます高くなる傾
向にある。すなわち、次第に段組基準の小さなＬＳＩを
製造することが要求されている。設計基準の小さなＬＳ
Ｉのマスクパターンデータを作成する方法として、既設
計のマスクパターンデータを人手修正して、−率縮小処
理可能なＬＳＩマスクパターンデータを得る方法がある
。

ＬＳＩのマスクパターンデータを生成する従来のマスク
パターン生成システムを第４図に示す。

中央演算処理装置（以下、ＣＰＵとする）１には、ＬＳ
Ｉマスクパターンを表示するためのグラフィックデイス
プレィ装置２、各種命令を入力するだめのキーボード装
置３及びＬＳＩマスクパターンデータを格納するための
磁気ディスク装置４がそれぞれ接続されている。

次に動作について第５図のフローチャートを参照して説
明すると、まず磁気ディスク装＠４に格納されている既
設計のＬＳＩマスクパターンデータをＣＰＵ　１を使っ
てグラフィックデイスプレィ装置に表示する（ステップ
１００）。

次に、キーボード装置３より修正命令を人力してＬＳＩ
マスクパターンを人手修正する。以後、修正命令を繰り
返して入力し、既設計ＬＳＩマスクパターンを一率縮小
可能になるように人手修正する（ステップ１０１）。

次に、修正されたＬＳＩマスクパターンデータの検証作
業を行う（ステップ１０２）。

［発明が解決しようとする課題］ 従来のマスクパターン生成システムにおいて、既設計の
マスクパターンから設計基準の異なるマスクパターンデ
ータを生成する方法は、上述のように人手により行なわ
れている。このため、長時間を必要とする問題点があっ
た。

この発明は、上記のような問題点を解消するためになさ
れたもので、既設計のマスクパターンデータから設計基
準の異なるマスクパターンデータを短時間で自動的に生
成することができるマスクパターン生成システムを捉供
することを目的としている。

［課題を解決するための手段］ 本発明によるマスクパターン生成システムは、既設計の
マスクパターンからトランジスタ等の回路構成要素にそ
れぞれ対応したマスクパターンをそれぞれ抽出する手段
と、抽出された各マスクパターンを指定された拡大率で
一率に拡大する手段と、拡大された前記回路構成要素の
マスクパタンのそれぞれを指定されたオーバサイズ量に
個々にオーバサイズする手段と、オーバサイズされた各
マスクパターンを指定された縮小率で一率に縮小する手
段と、縮小されたマスクパターンが設計基準に合致して
いるか否かをチェックする手段と、設計基準に合致して
いない時は前記拡大率、縮小率およびオーバサイズ量を
設計基準に合致する最小のマスクパターンが得られるま
で順次に変更する手段とを備えることを特徴とする。

［作用］ 本発明によれば、既設計のマスクパターンからトランジ
スタ等の回路構成要素を抽出した後、それを−率に拡大
し、さらに各構成要素を個々に指定されたオーバサイズ
量にオーバサイズする。その後、指定された縮小率に縮
小し、その結果が設計基準を満足するか否かを調べ、設
計基準を満足していなければ、拡大率、縮小率およびオ
ーバサイズ量を変更し、最小サイズで、かつ設計基準を
満足するマスクパターンを得るという処理を行っでいる
。従って、既設計のマスクパターンから設計基準の異な
る最小サイズのＬＳＩ等のマスクパターンを人手によら
ず自動的に短時間で生成することができる。

［実施例］ 第１図は本発明の一実施例を示すブロック図である。同
図において、１はＣＰＵ、２は既設計のＬＳＩマスクパ
ターン及び新規に生成するＬＳＩマスクパターンを表示
するグラフィックデイスプレィ装置、３は各種の命令を
入力するためのキーボード装置、４は既設計済のＬＳＩ
マスクパタンデータ及び新規に生成されたＬＳＩマスク
パターンデータを格納する磁気ディスク装置、５は既設
計のマスクパターンデータからトランジスタ、コンタク
ト、配線部に対応するマスクパターンデータの抽出、マ
スクパターンデータの一率拡大、縮小処理及びマスクパ
ターンデータをオーバ／アンダサイズする処理と設計基
準チェックを行う専用演算処理装置であり、グラフィッ
クデイスプレィ装ｆｌｆ２、キーボード装置３、磁気デ
ィスク装置４はＣＰＵ１に、またキーボード装＠３及び
へ磁気ディスク装置４は専用演算処理装置５にそれぞれ
接続されている。

次に以上の構成に係る動作について第２図のフローチャ
ートに従って述べる。まず、磁気ディスク装ば４に格納
されている既設計ＬＳＩマスクパターンデータをＣＰＬ
Ｊｌに読出させてグラフイツ　− クディスプレイ装置２に表示する（ステップ２００）。

例えば、第３図（ａ＞に示すように、コンタクトホール
マスクパターン６ａ、６ｂ、　トランジスタマスクパタ
ーン７、配線マスクパターン８ａ、ｓｂを表示する。次
に、読出された既設計ＬＳＩマスクパターンデータから
専用演算処理装置５を使って］・ランジスタ、コンタク
ト、配線部分のマスクパターンデータを抽出する（ステ
ップ２０１）。これにより、第３図（ｂ）のようなコン
タクトホールマスクパターン６ａ、６ｂ、ｌ−ランジス
タマスクパターン７、配線マスクパターン８ａ、８ｂの
データが抽出される。

次いで、専用演算処理装＠５を使って既設計ＬＳＩマス
クパターンデータをキーボード装置３から指示された拡
大率で一率拡大する（ステップ２０２）。これにより、
第３図（ａ＞のマスクパタンは同図（Ｃ）のように拡大
される。次いで、抽出されたトランジスタ、コンタクト
、配線部分のマスクパターンデータを専用演算処理装置
５を使い、キーボード装置３から指示されたオーバサイ
ズ吊で個々にオーバサイズ処理する（ステップ２０３）
。これにより、第３図（ｄ）のようなマスクパターンデ
ータが得られる。次いで、オーバサイズ処理後のＬＳＩ
マスクパターンデータをキーボード装置３から指示され
た縮小率で専用演算処理装＠５により一率縮小処理しく
ステップ２０４）、設計基準ルールチェックを行う（ス
テップ２０５）。縮小処理を行うと、第３図（ｅ）のよ
うなマスクパターンデータが得られる。もし、設計基準
ルールに違反する部分がある場合、前回キーボード装［
１１３より指示した拡大率、オーバサイズ童、縮小率を
変更して、同一処理を繰り返す（ステップ２０６．２０
９）。

一方、設計基準ルールに違反する部分がない場合は、同
様に拡大率、オーバサイズ昌、縮小率を順次変更して、
ＬＳＩマスクパターンデータの面積が最小になるまで同
一処理を繰り返して行う（ステップ２０７，２０８＞。

この様にして最小サイズで設計基準を満たすマスクパタ
ーンを得ることができる。

なお、上記の実施例では、既設計ＬＳＩマスクパターン
データからトランジスタ、コンタクト。

配線部に対応するマスクパターンデータの抽出、ＬＳＩ
マスクパターンデータの一率拡大、オーバサイズ、−率
縮小処理及び設計基準ルールチェックを専用演算処理装
＠５で実行させるものを示しだが、ＣＰＵ１に実行させ
るようにしてもよい。

［発明の効果］ 以上のようにこの発明によれば、既設計マスクパターン
データを人手により修正せずに、コンピュータにより自
動的に修正するように構成しただめ、短時間で設計基準
の異なるマスクパターンデータを生成できるという優れ
た効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例を示すブロック図、第２図
は実施例におけるマスクパターン生成処理の一例を示す
フローチャート、第３図は実施例におけるマスクパター
ンの生成過程を模式的に示す図、第４図は従来のＬＳＩ
マスクパターン生成システムを示すブロック図、第５図
は従来のマスクパターン修正処理を示すフローチャート
である。 なお、図中、同一符号は同一または相当部分を示す。 １・・・中央演篩処理装置（ＣＰＵ）、２・・・グラフ
ィックデイスプレィ装置、３・・・キーボード装置、４
・・・磁気ディスク装置、５・・・専用演算処理装置、
５ａ、　６ｂ・・・コンタクトホールマスクパターン、
７・・・トランジスタマスクパターン、８ａ〜８ｂ・・
・配線マスクパターン。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. ＬＳＩ等の集積回路のマスクパターン生成システムにお
   いて、既設計のマスクパターンからトランジスタ等の回
   路構成要素にそれぞれ対応したマスクパターンをそれぞ
   れ抽出する手段と、抽出された各マスクパターンを指定
   された拡大率で一率に拡大する手段と、拡大された前記
   回路構成要素のマスクパターンのそれぞれを指定された
   オーバサイズ量に個々にオーバサイズする手段と、オー
   バサイズされた各マスクパターンを指定された縮小率で
   一率に縮小する手段と、縮小されたマスクパターンが設
   計基準に合致しているか否かをチェックする手段と、設
   計基準に合致していない時は前記拡大率、縮小率および
   オーバサイズ量を設計基準に合致する最小のマスクパタ
   ーンが得られるまで順次に変更する手段とを備えるマス
   クパターン生成システム。