JPH03130258A - ２―（２―ハロゲノエチルチオ）―フェニルスルホンアミドの製造方法 - Google Patents

２―（２―ハロゲノエチルチオ）―フェニルスルホンアミドの製造方法

Info

Publication number
JPH03130258A
JPH03130258A JP2260317A JP26031790A JPH03130258A JP H03130258 A JPH03130258 A JP H03130258A JP 2260317 A JP2260317 A JP 2260317A JP 26031790 A JP26031790 A JP 26031790A JP H03130258 A JPH03130258 A JP H03130258A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
represented
compound
following formula
disulfide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2260317A
Other languages
English (en)
Inventor
Henry Szczepanski
ヘンリー　シュクツェパンスキー
Willy Meyer
ヴィリー　メイヤー
Franz Weibel
フランツ　ヴァイベル
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Novartis AG
Original Assignee
Ciba Geigy AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ciba Geigy AG filed Critical Ciba Geigy AG
Publication of JPH03130258A publication Critical patent/JPH03130258A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D521/00—Heterocyclic compounds containing unspecified hetero rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • C07C323/64—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and sulfur atoms, not being part of thio groups, bound to the same carbon skeleton
    • C07C323/67—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and sulfur atoms, not being part of thio groups, bound to the same carbon skeleton containing sulfur atoms of sulfonamide groups, bound to the carbon skeleton

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は次式■： で表わされる２、２°　−ビスアミノスルホニルジフェ
ニルジスルフィド。
（２５）次式■： 〔式中、Ｚ、及びＺ２は互いに独立して水素原子、弗素
原子又は塩素原子を表わす〕で表わされる２−（２−ハ
ロゲノエチルチオ）−フェニルスルホンアミドの製造方
法に関するものである。
（従来の技術及び発明が解決しようとする課題）式■で
表わされる２−（２−ハロゲノエチルチオ）−フェニル
スルホンアミドは、例えばヨーロッパ特許願第４４８０
８号明細書に開示されているように、除草剤としての活
性を有するＮ−フェニルスルホニル−Ｎｏ　−ピリミジ
ニル尿素及びＮ−フェニルスルホニル−Ｎｏ−トリアジ
ニル尿素の製造のための有用な中間体である。
２−（２−ハロゲノエチルチオ）−フェニルスルホンア
ミドから誘導されるこの種のフェニルスルホニル尿素は
、都合の良い分解挙動を特徴とする。それ故、式Ｉで表
わされる２−（２−ハロゲノエチルチオ）−フェニルス
ルホンアミドの都合の良い製造方法に対する要望がある
。
したがって、本発明の目的は容易に入手し得る出発物質
から、簡単な操作で及び良好な収率で２−（２−ハロゲ
ノエチルチオ）−フェニルスルホンアミドを製造するこ
とができる方法を提供することにある。
（課題を解決するだめの手段） ａ）次式■： 〔式中、Ｘは弗素原子、塩素原子又は臭素原子を表わす
〕で表わされる２−ハロゲノフェニルスルホンアミドを
、塩基の存在下で次式： ％式％（１） 〔式中、Ｒは炭素原子数１ないし６のアルキル基又はフ
ェニル基により置換された炭素原子数１ないし６のアル
キル基を表わす〕で表わされるメルカプタンと混合して
次式■：〔式中、Ｒは式■において定義されたものと同
じ意味を表わす〕で表わされる２＝スルフエニルフエニ
ルスルホンアミドに変換し、ｂ）　この化合物を酸化し
て次式Ｖ： 〔式中、Ｒは式■において定義されたものと同じ意味を
表わす〕で表わされる２−スルフィニルフェニルスルホ
ンアミドを得、 Ｃ）得られた弐Ｖで表わされる２−スルフィニルフェニ
ルスルホンアミドを、酸の存在下で次式■： で表わされるジスルフィドに変換し、 ｄ）式■で表わされるジスルフィドを次式■：で表わさ
れる２−メルカプトフェニルスルホンアミドに還元し、 ｅ）次いでこの化合物を次式Ｘ： （Ｒ，）３Ｎ　　　　　　　　　　　　（Ｘ）（式中、
Ｒ１は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わす〕で
表わされるトリアルキルアミンの手段により次式■： 〔式中、Ｒ１は式Ｘにおいて定義されたものと同じ意味
を表わす〕で表わされる２−メルカプトフェニルスルホ
ンアミトドリアルそルアミン塩に変換し、そして ｆ）次いでこの化合物を次式■： Ｙ−Ｃ）：ＩＣＦｉ！、、Ｚ２（■） 〔式中、Ｙは塩素原子又は臭素原子を表わし、モしてＺ
ｌ及びＺ２は互いに独立して水素原子、弗素原子又は塩
素原子を表わす〕で表わされるハロゲノフルオロエタン
と反応させる場合には、式Ｉで表わされる２−（２−ハ
ロゲノエチルチオ）−フェニルスルホンアミドを都合良
く製造することができることが今や判った。
本発明方法の出発物質及び最終生成物は公知である。
式■、■、■、■及び■で表わされる化合物は公知であ
り、且つ幾つかは市販されている。
式■で表わされるジスルフィＥ及び式■で表わされる２
−メルカプトフェニルスルホンアミドトリアルキルアミ
ン塩は新規であり、且つ本発明の目的でもある。
置換基Ｒとして存在する炭素原子数１ないし６のアルキ
ル基は、直鎖状又は分岐鎖状であってよ（、そして例え
ばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル
基、ｎ−ブチル基、第ニブチル基、イソブチル基、第三
ブチル基、ｎ−ペンチル基又は異性体のペンチル基、ｎ
ヘキシル基又は異性体のヘキシル基である。置換基Ｒと
して存在するアルキル基は、１個ないし３個の炭素原子
を有するのが好ましい。アルキル基がフェニル基により
置換されている場合には、それらは１個ないし３個の炭
素原子からなる鎖長を有するのが好ましい。置換基Ｒが
ベンジル基であるのが特に好ましい。
置換基ＲＩとして存在する炭素原子数１ないし４のアル
キル基は、直鎖状又は分岐鎖状であってよく、そしてメ
チル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、
ｎ−ブチル基、第ニブチル基又は第三ブチル基である。
Ｒ１が各々の場合においてエチル基であるのが特に好ま
しい。
本発明方法の製造工程ａ）は、不活性溶媒中で且つ＋２
０℃とその溶媒の沸点との間の温度で行うのが都合が良
い。この温度は、通常＋２０°Ｃと＋１８０℃との間、
好ましくは＋２０℃と＋１２０℃との間である。特に好
ましい温度範囲は、＋５０℃と＋７０℃との間である。
適する溶媒は、塩素化炭化水素例えばメチレンジクロリ
ド、トリクロロメタン、トリクロロエタン、テトラクロ
ロエタン、クロロベンゼン、又はジクロロベンゼン；芳
香族炭化水素例えばベンゼン、トルエン又はキシレン；
エーテル例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエー
テル、テトラヒドロフラン又はジオキサン；ニトリル例
えばアセトニトリル又はプロピオニトリル；シクロヘキ
サン、ピリジン、Ｎ−メチルピロリドン又はＮ、Ｎ−ジ
メチルホルムアミドであり、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムア
ミドが特に好ましい。
使用される塩基は、特にアルカリ金属若しくはアルカリ
土類金属の水素化物、水酸化物、炭酸塩若しくはアルコ
レート、トリアルキルアミン又はピリジン塩基である。
特に好ましい塩基は、ピリジン、水酸化ナトリウム、ナ
トリウムメチレート、ナトリウムメチレート、炭酸ナト
リウム又は炭酸カリウムである。炭酸カリウムが最も好
ましい。
製造工程ａ）は、式■で表わされる２−ハロゲノフェニ
ルスルホンアミドとして２−フルオロフェニルスルホン
アミドを用いる場合には、特に都合の良い操作により行
うことができる。
過マンガン酸塩、過沃素酸塩、過酸又は過酸化水素は、
製造工程ｂ）のための酸化剤として特に適している。
好ましい酸化剤は、過酢酸、過安息香酸、過沃素酸、過
マンガン酸カリウム、過沃素酸カリウム及び過酸化水素
である。式■で表わされる２−スルフェニルフェニルス
ルホンアミドの酸化は、０℃ないし＋８０℃の温度で行
うのが都合が良（，０℃ないし＋４０℃の温度範囲が好
ましい。
本発明の好ましい変法においては、式■で表わされる２
−スルフェニルフェニルスルホンアミドの酸化は酢酸の
存在下で＋５℃ないし＋１５℃の温度で過酸化水素の手
段により行う。
製造工程Ｃ）は、＋２０℃から溶媒の沸点までの温度で
行うのが好ましい。特に適することが判った溶媒は１個
ないし４個の炭素原子方鎖長を有するアルコール例えば
メタノール、エタノ−ル、プロパツール、イソプロパツ
ール、ブタノール又は２−ブタノールである。メタノー
ルが好ましい溶媒である。
スルホキシドの酸触媒再配列は、名称“バムマーラー　
リアレンジメンツ（Ｐｕｍｍｅｒｅｒ　ｒｅａｒｒａ−
ｎｇｅｍｅｎｔｓ）”の文献に記載されている。この種
の反応の例は、アドバンスト　オーガニックケミストリ
ー（Ａｄｖ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ、）６　、　３５６　（
１９６９示されている。この文献に記載された教示に反
して、式Ｖで表わされる２−スルフィニルフェニルスル
ホンアミドの酸触媒再配列は２メルカプトフエニルスル
ホンアミドを導かないが、しかし驚くべきことに且つ良
好な収率及び純度で、式■で表わされる２、２′　−ビ
スアミノスルホニルジフェニルジスルフィドを導き、こ
れは簡単な操作でその反応媒体から単離することができ
且つ良好な貯蔵安定性を育する。
この反応は、触媒として使用される酸の性質に関して限
定されない。好ましい酸は、鉱酸特に塩酸又は硫酸であ
る。
製造工程ｂ）及びＣ）は、式■で表わされる中間体を単
離することなく、一つの反応容器中で続いて行うことも
できる。この製造変法に適する溶媒は、工程Ｃ）におい
て述べた溶媒である。
式■で表わされる２−メルカプトフェニルスルホンアミ
ドを与えるための式■で表わされるジスルフィドの還元
開裂〔製造工程ｄ））は、通常＋２０℃ないし＋１００
℃で行う。
この反応は、貴金属触媒の存在下での水素の手段により
又は塩酸若しくは酢酸の存在下での亜鉛、鉄若しくは錫
の手段により又はナトリウムアマルガム、マグネシウム
アマルガム若しくはアルミニウムアマルガムの手段によ
り行うのが好ましい。好ましい還元剤は、白金、パラジ
ウム、ロジウム又はニッケル触媒の存在下での水素、及
び更に塩酸又は酢酸の存在下での亜鉛、鉄若しくは錫で
ある。塩酸又は酢酸の存在下での亜鉛は最も好ましい還
元剤である。
式■で表わされる２−メルカプトフェニルスルホンアミ
ドの純度及び貯蔵安定性の両方は、製造工程ｅ）に基づ
くこの中間体の式■で表わされる相当するトリアルキル
アミン塩への変換により相当改善される。トリエチルア
ミンは、製造工程ｅ）に基づくこの塩の形成のために特
に適する式Ｘで表わされるトリアルキルアミンである。
２−メルカプトフェニルスルホンアミドトリアルキルア
ミン塩と式■で表わされるハロゲンフルオロエタンとの
反応〔製造工程ｆ））における反応温度は、０℃と＋８
０°Ｃとの間、好ましくは０℃と＋４０℃との間である
。この反応は式■においてＹが臭素原子を表わす場合に
特に都合良く進む。工程ｆ）のために適する溶媒は、工
程ａ）において述べた溶媒である。式中、Ｚｌが水素原
子を表わし且つＺ２が水素原子、弗素原子又は塩素原子
を表わす式Ｉで表わされる化合物を製造するのが都合が
良い。
本発明の方法は、多数の有用な性質を特徴とする。この
反応の制御は複雑ではない（温度、溶媒、中間体の容易
な分離並びに副生成物及び残渣の都合の良い廃棄等）。
この方法は、式Ｖで表わされる中間体を単離して又は単
離せずに行うことができる。式■で表わされるジスルフ
ィドと式■で表わされるトリアルキルアミンとは、特に
貯蔵において安定している。更に、この方法は反応の個
々の工程において高い収率及び高い生成物品質を示す。
（実施例及び発明の効果） 下記実施例の手段により、本発明方法を更に詳細に説明
する。
製造例 ２−フルオロフェニルスルホンアミド１７５．２ｇと炭
酸カリウム１６０ｇとを、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド４００ｄ中のベンジルメルカプタン１２４．２ｇの溶
液に加える。次いで、この反応混合物を＋６０℃で３時
間加熱する。この混合物を＋２５°Ｃに冷却後、濾過し
、次いでこの濾液を蒸発させる。
水１５００−をこの方法により得られた残部に加えると
、生成物は無色結晶の形態で沈澱する。
溶液を除去後、得られた結晶を酢酸エチルに溶解し、次
いで硫酸マグネシウムを用いて処理する。この混合物を
濾過し、次いでこの濾液を蒸発させると、＋１０４℃な
いし＋１０６℃の融点を有する無色結晶の形態で２−ベ
ンジルチオフェニルスルホンアミド２１９ｇ　（理論量
の７８．５％）を得る。
得られた２−ベンジルチオフェニルスルホンアミド２１
９ｇの濃酢酸５θ０ｒｎＩ中の溶液に＋１０℃の温度で
滴下する。この反応混合物を次いで５時間＋２５℃で攪
拌すると、この間に生成物はゆっくりと結晶化する。こ
の結晶を分離後、水を用いて洗浄し次いで乾燥すると、
＋２０６℃ないし＋２０９℃の融点を有する無色結晶の
形態で２−ベンジルスルフィニルフェニルスルホンアミ
ド２１９ｇ　（理論量の９４．６％）を得る。
３０％過酸化水素溶液１０２ｒｎＩを、実施例Ｈ１で濃
塩酸５００ｍ１を、実施例２Ｈで製造された２ベンジル
スルフイニルフ工ニルスルホンアミド２１９ｇのメタノ
ール５００ｍ１中の溶液に加える。この反応混合物を７
時間沸騰させた後、室温で２日間保持し、沈澱したジス
ルフィドを分離し次いで水、イソプロパツール及びジエ
チルエーテルを用いて洗浄する。２，２゛　−ビスアミ
ノスルホニルジフェニルジスルフィド１３３．２ｇ　（
理論量の９７．７％）を、＋２１７℃の融点（分解）を
有する黄味を帯びた結晶の形態で得る。
の融点を有する黄色結晶の形態で得る。
アミドの製造 濃塩酸５０−と３０％過酸化水素溶液３．５ｇとを、実
施例Ｈ１に基づいて得られた２−ベンジルチオフェニル
スルホンアミド１０ｇのエタノール５０ｍ１中の溶液に
滴下する。次いでこの反応混合物を１時間還流温度に加
熱する。これを＋２５℃に冷却後、得られた結晶を分離
し次いでイソプロパツール及び石油エーテルを用いて洗
浄する。
２．２′−ビスアミノスルホニルジフェニルジスルフィ
ド４ｇを、＋２１１’Ｃないし＋２１３℃亜鉛粉末１８
ｇを、実施例Ｈ３及びＨ４に基づいて得られた２、２“
　−ビスアミノスルホニルジフェニルジスルフィド２３
．２ｇの濃酢酸１８０ｍ／中の懸濁液に加える。次いで
この懸濁液を＋１７℃に冷却し、次いで濾過する。この
濾過残部を酢酸エチルを用いて洗浄後、濾液を蒸発させ
、次いで残部を酢酸エチル２００ｙｎｌに溶解する。こ
の溶液を２回水１００ｍｊ’を用いて洗浄し、硫酸マグ
ネシウムを用いて乾燥し、次いで蒸発させる。
＋１１３℃ないし＋１４０°Ｃの融点を有する粗２−メ
ルカプトフェニルスルホンアミド２２ｇを得る。
アミドトリエチルアミン塩の製造 トリエチルアミン５ｇを、２５℃の温度で実施例Ｈ５に
基づいて得られた２−メルカプトフェニルスルホンアミ
ド７．６ｇのテトラヒドロフラン６〇−中の溶液に滴下
する。沈澱した無色結晶を次いで分離し、ジエチルエー
テルを用いて洗浄する。＋１６４℃ないし＋１６８℃の
融点を有する２−メルカプトフェニルスルホンアミドト
リエチルアミン塩９．２ｇを得る。
得られた２−メルカプトフェニルスルホンアミドトリエ
チルアミン塩５．８ｇと２−クロロ−１−フルオロエタ
ン１．７ｇとの混合物を、ボンベチューブ中で２３時間
＋５０℃ないし＋５５℃の温度で攪拌する。次いでこの
反応混合物を蒸発させ、次いで残った残部に水を加える
。この混合物を酢酸エチルを用いて抽出し、次いで有機
相を洗浄し乾燥する。この溶液を蒸発させると、＋８３
℃ないし＋８５℃の融点を有する２−（２−フルオロエ
チルチオ）−フェニルスルホンアミド３，５ｇ（理論量
の７４．５％）を得る。
−フェニルスルホンアミドの製造 メタノール４０ｍ１中の、実施例Ｈ６に基づいてテトラ
ヒドロフラン１３〇−中の、実施例Ｈ６に基づいて得ら
れた２−メルカプトフェニルスルホンアミドトリエチル
アミン塩２９ｇと２−ブロモ−１−フルオロエタン２ｇ
との混合物を、６時間＋４０℃ないし＋４５℃の温度で
攪拌する。
次いでこの反応混合物を０℃に冷却し、次いで濾過する
。この濾液を蒸発させ、得られた残部をメチレンジクロ
リドから結晶化させると、＋８４℃ないし＋８５℃の崖
点を有する２−（２フルオロエチルチオ）−フェニルス
ルホンアミド２１．２ｇ　　（理論量の９０．２％）を
得る。
部を氷水とともに粉砕し、次いでこの懸濁液を濾過する
と、＋１１１℃ないし＋１１２℃の融点を有する２−（
２，２−ジフルオロエチルチオ）−フェニルスルホンア
ミド１２０ｇ　（理論量の９５％）を得る。
メタノール６００−中の、実施例Ｈ６に基づいて得られ
た２−メルカプトフェニルスルホンアミドトリエチルア
ミン塩１４５．２ｇと２−ブロモ−１，１−ジフルオロ
エタン７９．７ｇとの混合物を、１６時間＋５５°Ｃな
いし＋６０°Ｃの温度で攪拌する。次いでこの反応混合
物を蒸発させる。残メタノール９５０ｍＩ中の、実施例
Ｈ６に基づいて得られた２−メルカプトフェニルスルホ
ンアミドトリエチルアミン塩２１７．８ｇと１．２−ジ
クロロ−１−フルオロエタン１０１ｇとの混合物を、２
４時間＋６５℃ないし＋７０℃の温度で攪拌し、次いで
オートクレーブ中で更に２４時間＋９５°Ｃないし＋１
００°Ｃの温度で攪拌する。次いで、この反応混合物を
蒸発させ、残部を水とともに粉砕する。この混合物を酢
酸エチルを用いて抽出し、抽出液を水を用いて洗浄し、
硫酸ナトリウム上で乾燥し、次いでこれを蒸発させ、次
いで残部をメチレンクロリドを用いたクロマトグラフィ
ーにより精製すると、＋８８℃ないし＋８９℃の融点を
有する２−（２−クロロ−２−フルオロエチルチオ）−
フェニルスルホンアミド９９．５ｇ（理論量の４９．２
％）を得る。
特許出願人　　　チバーガイギ− アクチェンゲゼルシャフト （ほか２名゛）

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 （１）ａ）次式II： ▲数式、化学式、表等があります▼（II） 〔式中、Ｘは弗素原子、塩素原子又は臭素原子を表わす
    〕で表わされる２−ハロゲノフェニルスルホンアミドを
    、塩基の存在下で次式III： Ｒ−ＳＨ（III） 〔式中、Ｒは炭素原子数１ないし６のアルキル基又はフ
    ェニル基により置換された炭素原子数１ないし６のアル
    キル基を表わす〕で表わされるメルカプタンと混合して
    次式IV： ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） 〔式中、Ｒは式IIIにおいて定義されたものと同じ意味
    を表わす〕で表わされる２−スルフェニルフェニルスル
    ホンアミドに変換し、 ｂ）この化合物を酸化して次式Ｖ： ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） 〔式中、Ｒは式IIIにおいて定義されたものと同じ意味
    を表わす〕で表わされる２−スルフィニルフェニルスル
    ホンアミドを得、 ｃ）得られた式Ｖで表わされる２−スルフィニルフェニ
    ルスルホンアミドを、酸の存在下で次式VI： ▲数式、化学式、表等があります▼（VI） で表わされるジスルフィドに変換し、 ｄ）式VIで表わされるジスルフィドを次式VII：▲数式
    、化学式、表等があります▼（VII） で表わされる２−メルカプトフェニルスルホンアミドに
    還元し、 ｅ）次いでこの化合物を次式Ｘ： （Ｒ＿１）＿３Ｎ（Ｘ） 〔式中、Ｒ＿１は炭素原子数１ないし４のアルキル基を
    表わす〕で表わされるトリアルキルアミンの手段により
    次式VIII： ▲数式、化学式、表等があります▼（VIII） 〔式中、Ｒ＿１は式Ｘにおいて定義されたものと同じ意
    味を表わす〕で表わされる２−メルカプトフェニルスル
    ホンアミドトリアルキルアミン塩に変換し、そして ｆ）次いでこの化合物を次式IX： Ｙ−ＣＨ＿２ＣＦＺ＿１Ｚ＿２（IX） （式中、Ｙは塩素原子又は臭素原子を表わし、そしてＺ
    ＿１及びＺ＿２は互いに独立して水素原子、弗素原子又
    は塩素原子を表わす〕で表わされるハロゲノフルオロエ
    タンと反応させることからなる次式 I ： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中、Ｚ＿１及びＺ＿２は互いに独立して水素原子、
    弗素原子又は塩素原子を表わす〕で表わされる２−（２
    −ハロゲノエチルチオ）−フェニルスルホンアミドの製
    造方法。 （２）トリエチルアミンが式Ｘで表わされるトリアルキ
    ルアミンとして使用される請求項１記載の方法。 （３）Ｘが塩素原子を表わす請求項１記載の方法。 （４）Ｒが炭素原子数１ないし３のアルキル基又はフェ
    ニル基により置換された炭素原子数１ないし３のアルキ
    ル基を表わす請求項１記載の方法。 （５）Ｒがフェニル基により置換された炭素原子数１な
    いし３のアルキル基を表わす請求項３記載の方法。 （６）Ｒがベンジル基を表わす請求項４記載の方法。 （７）式IIで表わされる化合物と式IIIで表わされる化
    合物との反応に使用される塩基が、アルカリ金属若しく
    はアルカリ土類金属の水素化物、水酸化物、炭酸塩若し
    くはアルコレート、トリアルキルアミン又はピリジン塩
    基である請求項１記載の方法。 （８）使用される塩基がピリジン、水酸化ナトリウム、
    ナトリウムメチレート、ナトリウムエチレート、炭酸ナ
    トリウム又は炭酸カリウムである請求項７記載の方法。 （９）使用される塩基が炭酸カリウムである請求項７記
    載の方法。 （１０）式IVで表わされる化合物を式Ｖで表わされる化
    合物に変換するために使用される酸化剤が過酸化水素、
    過酢酸、過安息香酸、過沃素酸、過マンガン酸カリウム
    又は過沃素酸カリウムである請求項１記載の方法。 （１１）使用される酸化剤が過酸化水素である請求項１
    ０記載の方法。 （１２）式VIで表わされるジスルフィドを式VIIで表わ
    される２−メルカプトフェニルスルホンアミドに変換す
    るために使用される還元剤が白金、パラジウム、ロジウ
    ム若しくはニッケル触媒の存在下での水素、又は塩酸若
    しくは酢酸の存在下での亜鉛、鉄若しくは錫である請求
    項１記載の方法。 （１３）使用される還元剤が塩酸若しくは酢酸の存在下
    での亜鉛である請求項１２記載の方法。 （１４）式IVで表わされる２−スルフェニルフェニルス
    ルホンアミドが、式Ｖで表わされる中間体を単離するこ
    となく式VIで表わされるジスルフィドに直接変換される
    請求項１記載の方法。 （１５）Ｙが臭素原子である請求項１記載の方法。 （１６）式IIで表わされる２−ハロゲノフェニルスルホ
    ンアミドと式IIIで表わされるメルカプタンとの反応が
    、＋２０℃ないし＋１２０℃の温度で行われる請求項１
    記載の方法。 （１７）式IVで表わされる２−スルフェニルフェニルス
    ルホンアミドの酸化が０℃ないし＋４０℃の温度で行わ
    れる請求項１記載の方法。 （１８）式VIIIで表わされる２−メルカプトフェニルス
    ルホンアミドトリアルキルアミン塩と式IXで表わされる
    ２−ハロゲノフルオロエタンとの反応が、０℃ないし＋
    ８０℃の温度で行われる請求項１記載の方法。 （１９）Ｚ＿１が水素原子を表わし、Ｚ＿２が水素原子
    、弗素原子又は塩素原子を表わす請求項１記載の方法。 （２０ａ）式IIで表わされる２−フルオロフェニルスル
    ホンアミドを塩基の存在下で及び＋５０℃ないし＋７０
    ℃の温度で、式IIIで表わされるベンジルメルカプタン
    の手段により式IVで表わされる２−ベンジルチオフェニ
    ルスルホンアミドに変換し、 ｂ）この化合物を過酸化水素の手段により＋５℃ないし
    ＋１５℃の温度で酸化して式Ｖで表わされる２−ベンジ
    ルスルフィニルフェニルスルホンアミドを得、 ｃ）この化合物を塩酸又は硫酸の存在下で式VIで表わさ
    れるジスルフィドに変換し、 ｄ）式VIで表わされるジスルフィドを酢酸の存在下で亜
    鉛の手段により還元して式VIIで表わされる２−メルカ
    プトフェニルスルホンアミドを得、 ｅ）この化合物をトリエチルアミンの手段により式VII
    Iで表わされる２−メルカプトフェニルスルホンアミド
    トリエチルアミン塩に変換し、そして ｆ）次いでこの化合物を２−ブロモ−１−フルオロエタ
    ン、２−ブロモ−１，１−ジフルオロエタン、２−ブロ
    モ−１−クロロ−１−フルオロエタン又は１，２−ジク
    ロロ−１−フルオロエタンと反応させることからなる請
    求項１記載の方法。 （２１）使用される塩基がピリジン、水酸化ナトリウム
    、ナトリウムメチレート、ナトリウムエチレート、炭酸
    ナトリウム又は炭酸カリウムである請求項２０記載の方
    法。 （２２）使用される塩基が炭酸カリウムである請求項２
    １記載の方法。 （２３）式IVで表わされる２−ベンジルチオフェニルス
    ルホンアミドを塩酸及び過酸化水素の存在下で式Ｖで表
    わされる中間体を単離することなく式VIで表わされるジ
    スルフィドに変換する請求項２１記載の方法。 （２４）次式VI： ▲数式、化学式、表等があります▼（VI） で表わされる２，２’−ビスアミノスルホニルジフェニ
    ルジスルフィド。 （２５）次式VIII： ▲数式、化学式、表等があります▼（VIII） で表わされる２−メルカプトフェニルスルホンアミド。 （２６）Ｒ＿１が各々の場合においてエチル基を表わす
    請求項２５記載の式VIIIで表わされる化合物。
JP2260317A 1989-09-29 1990-09-28 ２―（２―ハロゲノエチルチオ）―フェニルスルホンアミドの製造方法 Pending JPH03130258A (ja)

Applications Claiming Priority (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH355489 1989-09-29
CH3554/89-5 1989-09-29
CH265490 1990-08-15
CH2654/90-9 1990-08-15
CH278690 1990-08-28
CH2786/90-4 1990-08-28

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH03130258A true JPH03130258A (ja) 1991-06-04

Family

ID=27173830

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2260317A Pending JPH03130258A (ja) 1989-09-29 1990-09-28 ２―（２―ハロゲノエチルチオ）―フェニルスルホンアミドの製造方法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US5166430A (ja)
EP (1) EP0420815B1 (ja)
JP (1) JPH03130258A (ja)
CA (1) CA2026355A1 (ja)
DE (1) DE59004310D1 (ja)
ES (1) ES2062488T3 (ja)
IE (1) IE903494A1 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102006033572A1 (de) 2006-07-20 2008-01-24 Bayer Cropscience Ag N'-Cyano-N-halogenalkyl-imidamid Derivate

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3006963A (en) * 1959-12-22 1961-10-31 Gen Aniline & Film Corp Production of sulfoxides and sulfones
DE1227891B (de) * 1965-03-12 1966-11-03 Bayer Ag Verfahren zur Herstellung von Phenyl-mercaptomethan-sulfonamid
US3923794A (en) * 1971-08-26 1975-12-02 Sumitomo Chemical Co Novel propenylamine derivatives and process for the production thereof
GB1423429A (en) * 1973-03-29 1976-02-04 Wyeth John & Brother Ltd Thiols and disulphides
US4141916A (en) * 1978-02-13 1979-02-27 The Dow Chemical Company 3,4,5-Trichloro-N,N-Di(loweralkyl)-2-((chloromethyl)thio)benzenesulfonamides
CA1330438C (en) * 1980-07-17 1994-06-28 Willy Meyer N-phenylsulfonyl-n'-pyrimidinyl-and-triazinylureas
US4537618A (en) * 1982-05-26 1985-08-27 Ciba Geigy Corporation N-phenylsulfonyl-N'-pyrimidinylureas
JPS60199871A (ja) * 1984-03-26 1985-10-09 Nippon Kayaku Co Ltd チオフエノ−ル類の製造法
US4678855A (en) * 1985-10-09 1987-07-07 Merck & Co., Inc. Substituted benzenesulfonamides
US4734527A (en) * 1986-10-17 1988-03-29 Merrell Dow Pharmaceuticals Inc. Process for preparing 2,6-di-tertiarybutyl-4-mercaptophenol

Also Published As

Publication number Publication date
DE59004310D1 (de) 1994-03-03
CA2026355A1 (en) 1991-03-30
EP0420815B1 (de) 1994-01-19
ES2062488T3 (es) 1994-12-16
US5166430A (en) 1992-11-24
EP0420815A1 (de) 1991-04-03
IE903494A1 (en) 1991-04-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS61207369A (ja) ３つの置換基を有する安息香酸中間体
EP3265439B1 (en) Process for preparing 3-chloro-2-vinylphenylsulfonates
JP4272271B2 (ja) ハロゲノ−ｏ−ヒドロキシジフェニル化合物の製造方法
JP2008545623A (ja) カルボキサミド誘導体の調製方法
JPH03130258A (ja) ２―（２―ハロゲノエチルチオ）―フェニルスルホンアミドの製造方法
JPH05246985A (ja) ビスマレインイミド誘導体の製造方法
JP3880883B2 (ja) ピリジン誘導体、その製造方法、及び除草剤中間体としての用途
JPS60246382A (ja) アルキル２‐（２‐アシルアミドチアゾール‐４‐イル）‐２‐ブテノエード類およびそれらの製法
PL211016B1 (pl) Sposób wytwarzania cyklicznych diketonów
BE858864A (fr) Nouveaux esters d'acides phenyl- et pyridine-3-carboxylique et procede permettant leur preparation
EP0301311B1 (en) Process for preparing naproxen
FI62049B (fi) Foerfarande foer framstaellning av indanderivat
KR101680182B1 (ko) 로플루밀라스트의 제조 방법
JP3069810B2 (ja) （３−フルオロピリジン−２−イルオキシ）フェノキシプロピオン酸の製造方法
JP3799580B2 (ja) Ｎ−置換−ｎ−スルホニルアミド類の製造方法
HUT53584A (en) Process for producing substituted biphenyl-carboxylic acid derivatives
KR100201582B1 (ko) 제초성 피리미딜옥시벤조산 옥심에스테르 유도체의제조방법
KR810000815B1 (ko) 4-벤조일피라졸 유도체 및 그의 알루미늄염의 제조법
JPS62267267A (ja) ピラゾ−ル誘導体およびその製造法
JPH0625106B2 (ja) イソインドリン−１，３−ジオン誘導体およびその製造法
JPH0344066B2 (ja)
JPH0553779B2 (ja)
EP1322633A2 (en) Aryloxy ester and acid compounds
UA51621C2 (uk) Похідні 3-аміно-2-меркаптобензойної кислоти та способи їх одержання
KR19990085334A (ko) 벤질옥시칼콘 유도체의 제조방법 및 그의 정제방법