JPH03130188A - 情報記憶表示媒体 - Google Patents

情報記憶表示媒体

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JPH03130188A
JPH03130188A JP2009786A JP978690A JPH03130188A JP H03130188 A JPH03130188 A JP H03130188A JP 2009786 A JP2009786 A JP 2009786A JP 978690 A JP978690 A JP 978690A JP H03130188 A JPH03130188 A JP H03130188A
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magnetic recording
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Yoshihiko Hotta
吉彦 堀田
Toru Nogiwa
通 野際
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Ricoh Co Ltd
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Ricoh Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は情報記憶表示媒体に関し、詳しくは、磁気記録
が可能で、かつ、必要に応して一時的な表示(画像表示
)が可能な情報記憶表示媒体に関する。
〔従来の技術〕
近時、各種のカード類が大量に発行され使用されている
が、その例として、名刺大のテレホンカードやいわゆる
オレンジカージ(JR社の乗車券券売用カード)などが
ある。これらのカード(磁気カード)には予めとびとび
に例えば■、50、・・・300、・・SOO,・・・
といったような数字が印刷されており、使用後の残高は
これら数字の間にあけられた孔で表示されるようになっ
ている。従って、これらカードが使用できる電話機、券
売機の利用によって残高を正確に知ることができるもの
の、それ以外の場合には残高を正確に把握することはで
きない。
こうした不都合を幾分でもなくすことを意図して、ロイ
コ系染料を用いた感熱層や磁気記録層上にSnを蒸着し
た感熱層を用い、サーマルベツドで残高を数字で表示す
るカードが実用化されている(特開昭5!ll−199
284号、特開昭60−18388号などの公報)。だ
が、これらの表示方法は残高の表示ができるものの消去
ができないため、勢い、記録できる情報量が限られてし
まい、従って、残高があるのにもかかわらずその表示で
きないといった欠点がある。
本発明者らは、温度に依存して透明度が可逆的に変化す
る性質をもった感熱層を用い、残高の表示・消去が可能
な情報記憶表示媒体について先に提案した。しかし、こ
の情報記憶表示媒体は磁気記録面と残高表示面とが別々
の表裏関係にあるため、その分、カードにおける宣伝等
にまねずことのできる印刷部分が少なくなるといった不
便さがある。磁気記録面上に直接残高表示のための感熱
層を積層することも考えられるが、感熱層が厚いと磁気
ヘッドでの磁気記録が読み取りにくくなり逆に、感熱層
が薄いとその感熱層に形成される画像(表示)のコント
ラストが低下するといった不都合が認められる。
〔発明が解決しようとする課題〕
本発明は上記のごとき不都合・不便さを解消し、残高等
の繰り返し表示が高コントラストで得られることは勿論
、磁気記録層上に表示層が積層されているにもかかわら
ず磁気記録の読み取りが正確に行なえる情報記憶表示媒
体を提供するものである。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の情報記憶表示媒体は、支持体上に磁気記録層、
その上に光反射層、更にその上に、樹脂母材及び該樹脂
母材中に分散された有機低分子物質を主成分とし温度に
依存して透明度が可逆的に変化する厚さ2〜8μmの感
熱層が設けられていることを特徴としている。
本発明者らは先に提案した情報記憶表示媒体に更に改良
を加えた結果、(1)可逆性感熱層の厚さを特定範囲に
収めれば表示のコントラストが良好なものとして得られ
るとともに磁気記録の読み取りも良好に行なえ、更に、
(2)磁気記B層と可逆性感熱層との間に光反射層を設
ければ表示の高コントラスト化が増幅されることを確め
た。本発明はこれによりなされたものである。
以下に、本発明を添付の図面に従がいながらさらに詳細
に説明する。
第1図は本発明に係る情報記憶表示媒体の代表的な三個
の断面図であり、(a)は支持体l上に磁気記録層2、
光反射層3、感熱層4が順次積層されたものの例、(b
)は前記(a)の感熱層4上に更にオーバーコートM6
が設けられたものの例、(c)は前記(a)の感熱層4
とオーバーコートN6との間に中間層5が設けられたも
のの例である。
磁気記録を正確に書込み読み取るには、磁気ヘッドから
磁気記録層2の表面までの距離が約10μm11以下で
あることが望ましい。従って第1図に示した例では、前
記の光反射層3及び感熱層4の厚さ、場合によっては、
さらに中間N5及び/又はオーバーコート層6の厚さを
も合わせた厚さが約10pI++以下であることが望ま
しい。それに加えて、感熱層4の厚さは約2−以上で約
8μm以下が必要である。
約2palより薄いと画像コントラストが下がり目視で
認識できなくなる。
感熱層4の厚さの上限を約8p111としたのは次の理
由による。即ち、第1は磁気ヘッドから磁気記録FE5
2の表面までの距離が規定されていることである。第2
は一般に黒色ないし茶色(褐色を含む)の磁気記録H2
上に直接感熱層4を積層したとしても、感熱層4の厚さ
が高々8pm程度では画像(表示)コントラストは必ず
しも良好であるとはいえないが、感熱層4の下面に接す
るよう光反射層3を設ければ、感熱層4が白濁化された
ときに感熱層4を透過してきた光が再び感熱N4に戻さ
れて見かけ上の白濁度を押しあげ(増幅させる)コント
ラストの向上が可能となることである。
本発明の情報記憶表示媒体は、前記のごとき透明度変化
(透明状態、白濁不透明状態)を利用しており、この透
明状態と白濁不透明状態との違いは次の(i)、(ii
)のように推測される。(i)透明の場合には樹脂母材
中に分散された有機低分子物質の粒子は有機低分子物質
の大きな粒子で構成されており、片側から入射した光は
散乱されること黒く1反対側に透過するため透明に見え
ること、また、(ii)白濁の場合には有機低分子物質
の粒子は有機低分子物質の微細な結晶が集合した多結晶
で構成され、個々の結晶の結晶軸がいろいろな方向を向
いており片側から入射した光は有機低分子物質粒子の結
晶の界面で何度も屈折し、散乱されるため白く見えるこ
と、等に由来している。
第5図(熱による透明度の変化を表わしている)におい
て、樹脂母材とこの樹脂母材中に分散された有機低分子
物質を主成分とする感熱層4は、例えばT0以下の常温
では白濁不透明状態にある。これをT1−丁2間の温度
に加熱すると透明になり、この状態で再びT0以下の常
温に戻しても透明のままである。これは温度T1〜T2
からT0以下に至るまでに有機低分子物質が半溶融状態
を経て多結晶から単結晶へと結晶が成長するためと考え
られる。更に13以上の温度に加熱すると、最大透明度
と最大不透明度との中間の半透明状態になる。次にこの
温度を下げて行くと、再び透明状態をとることなく最初
の白濁不透明状態に戻る。これは温度T1以上で有機低
分子物質が溶融後、冷却されることにより多結晶が析出
するためであると考えられる。
なお、この不透明状態のものを70〜丁1間の温度に加
熱した後、常温、即ちT。以下の温度に冷却した場合に
は透明と不透明との間の状態をとることができる。また
、前記常温で透明になったものも再び13以上の温度に
加熱し、常温に戻せば、再び白濁不透明状態に戻る。即
ち、常温で不透明及び透明の両形態並びにその中間状態
をとることができる。
従って、熱を選択的に与えることにより感熱層4を選択
的に加熱し、透明地に白濁画像、白濁地に透明画像を形
成することができ、その変化は何回も繰り返すことが可
能である。
本発明の情報記憶表示媒体をつくるには、第1図(a)
に示した例をとれば、ポリエステルフィルムのような透
明又は白色プラスチックフィルム。
紙等又はそれらの着色物である支持体l上に磁性材料を
真空蒸着、スパッタリングなどの方法で堆積させるか、
或いは、磁性材料を樹脂バインダーとともに塗布・乾燥
させることにより磁気記録層2を形成し、その上に、金
属薄膜を形成して光反射層3とし、光反射層3上に感熱
層4を形成すればより)。
前記の磁気記録層2における磁性材料としては鉄、コバ
ルト、ニッケル等及びそれらの合金又は化合物が挙げら
れる。また、樹脂バインダーとしては各種熱可塑性樹脂
、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂
などが挙げられる。
光反射N3は真空蒸着法、イオンブレーティング法、ス
パッタリング法、CVD法などにより金属薄膜(厚さ2
00〜1000人)を形成したものが良好に使用できる
が、ここで用いられる金属は光を反射するものなら何で
もよく例えばAQ、 Ge、 Au、 Ag、 Cu及
びこれらの合金が挙げられる。
感熱層(可逆性感熱記録N)4は、一般に(1)樹脂母
材及び有機低分子物質の2成分を溶解した溶液。
又は、樹脂母材の溶液(溶剤としては有機低分子物質の
うちの少なくとも1種を溶解しないものを用いる)に有
機低分子物質を微粒子状に分散した分散液を対象面上に
塗布、乾燥するか、或いは(2)前記2成分を溶剤の存
在又は不存在下に、必要であれば加熱しながら、混練し
シート状に成形し、それ自体を感熱シートとして利用す
ることによりつくられてもよい。感熱層形成用溶剤とし
ては、母材及び有機低分子物質の種類によって種々選択
できるが1例えばテトラヒドロフラン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、クロロホルム、四塩化
炭素、エタノール、トルエン、ベンゼン等が挙げられる
。なお、分散液を使用した場合はもちろんであるが、溶
液を使用した場合も得られる感熱層中では有機低分子物
質は微粒子として析出し、分散状態で存在する。
感熱N4に使用される樹脂母材は有機低分子物質を均一
に分散保持した層を形成すると共に、最大透明時の透明
度に影響を与える材料である。このため樹脂母材は透明
性が良く、機械的に安定で、且つ成膜性の良い樹脂が好
ましい。このような樹脂としてはポリ塩化ビニル;塩化
ビニル−6Mビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル
〜ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル
〜マレイン酸共重合体、塩化ビニルルアクリレート共重
合体等の塩化ビニル系共重合体;ポリ塩化ビニリデン、
塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体、塩化ビニリデン
−アクリロニトリル共重合体等の塩化ビニリデン系共重
合体;ポリエステル;ポリアミドポリアクリレート又は
ポリメタクリレート或いはアクリレ−トルメタクリレー
ト共重合体:シリコン樹脂等が挙げられる。これらは単
独で或いは2種以上混合して使用される。
一方、有機低分子物質としては感熱層4中で温度により
多結晶から単結晶に変化するものであればよく、一般に
融点30〜200℃好ましくは50〜150℃程度のも
のが使用される。このような有機低分子物質としてはア
ルカノール;アルカンジオール;ハロゲンアルカノール ール;アルキルアミン;アルカン;アルケン;アルキン
;ハロゲンアルカン;ハロゲンアルケン;ハロゲンアル
キン:シクロアルカン;シクロアルケン;シクロアルキ
ン;飽和または不飽和モノまたはジカルボン酸またはこ
れらのエステル、アミド、またはアンモニウム塩:飽和
または不飽和ハロゲン脂肪酸またはこれらのエステル、
アミド、またはアンモニウム塩;アリルカルボン酸また
はそれらのエステル、アミドまたはアンモニウム塩:ハ
ロゲンアリルカルボン酸またはそれらのエステル、アミ
ドまたはアンモニウム塩;チオアルコール;チオカルボ
ン酸またはそれらのエステル、アミン、またはアンモニ
ウム塩;チオアルコールのカルボン酸エステル等が挙げ
られる。これらは単独で又は2種以上混合して使用され
る。これらの化合物の炭素数は10〜60、好ましくは
10〜38、特に10〜30が好ましい。エステル中の
アルコール基部分は飽和していてもよく、またハロゲン
置換されていてもよい。いずれにしても有機低分子物質
は分子中に酸素,窒素、硫黄及びハロゲンの少くとも1
種、例えば−OH、−COOH、−CONH、−COO
R.−NH、−Nl+2、−S−、−S−S−、−O−
、ハロゲン等を含む化合物であることが好ましい。
更に具体的にはこれら化合物にはラウリン酸、ドデカン
酸、ミリスチン酸,ペンタデカン酸、パルミチン酸、ス
テアリン酸、ベヘン酸、ノナデカン酸、アラギン酸、オ
レイン酸等の高級脂肪酸;ステアリン酸メチル、ステア
リン酸テトラデシル、ステアリン酸オクタデシル、ラウ
リン酸オクタデシル、パルミチン酸テトラデシル、ベヘ
ン酸ドデシル等の高級脂肪酸のエステル; CIAz O Cqst(ii 、CiGHaa−S 
Ctjl>、、。
C1sHt S−C1sHtt 、(−zHzs S 
C12H29C,、H,、−S−C.、83g,  C
.2H2,−S−S−C,H,。
CH。
。、CIl.−CIl,−Coo(CI,)、、−Cl
oCH,CH。
’CH2ーC112ーCoo(CH2)、 −Cl・C
H, ・CH。
薯 C)ら ’Cll□・C11□・COO (CH2)□,・CH
−CIl. −CH□CIら 、、CI(、・C1(2・■に111113ffNl( ’or□・cs. −cOcc!aHyr’C11□−
C00(C11□)13−CIl−CIl, −CH。
等のエーテル又はチオエーテル等がある。中でも本発明
では高級脂肪酸、特にパルミチン酸、ステアリン酸,ベ
ヘン酸、リグノセリン酸等の炭素数16以上の高級脂肪
酸が好ましく、炭素数16〜24の高級脂肪酸が更に好
ましい。
なお、感熱層中の有機低分子物質と樹脂母材との割合は
重量比で2=1〜1;16程度が好ましく、1:l〜1
:3が更に好ましい。母材の比率がこれ以下になると、
有機低分子物質を母材中に保持した膜を形成することが
困難となり,またこれ以上になると、有機低分子物質の
量が少ないため,不透明化が困難になる。
感熱層4には以上の成分の他に、透明画像の形成を容易
にするために、界面活性剤、高沸点溶剤等の添加物を添
加することができる。これらの添加物の具体例は次の通
りである。
高沸点溶剤の例; リン酸トリブチル、リン酸トリー2−エチルヘキシル、
リン酸トリフェニル、リン酸トリクレジル。
オレイン酸ブチル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチ
ル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘプチル、フタル酸
ジ−n−オクチル、フタル酸ジー2−エチルヘキシル、
フタル酸ジイソノニル、フタル酸ジオクチルデシル、フ
タル酸ジイソデシル、フタル酸ブチルベンジル、アジピ
ン酸ジブチル、アジピン酸ジ−n−ヘキシル、アジピン
酸ジー2−エチルヘキシル、アゼライン酸ジー2−エチ
ルへキシル、セバシン酸ジブチル、セバシン酸ジー2−
エチルヘキシル、ジエチレングリコールジベンゾエート
、トリエチレングリコールジー2−エチルブチラード、
アセチルリシノール酸メチル、アセチルリシノール酸ブ
チル、ブチルフタリルブチルグリコレート、アセチルゲ
ニンe+〜リブチル。
界面活性剤、その他の添加物の例; 多価アルコール高級脂肪酸エステル;多価アルコール高
級アルキルエーテル;多価アルコール高級脂肪酸エステ
ル、高級アルコール、高級アルキルフェノール、高級脂
肪酸高級アルキルアミン、高級脂肪酸アミド、油脂又は
ポリプロピレングリコールの低級オレフィンオキサイド
付加物;アセチレングリコール;高級アルキルベンゼン
スルホン酸のNa、 Ca、Ba又は蝕塩;高級脂肪酸
、芳香族カルボン酸、高級脂肪族スルホン酸、芳香族ス
ルホン酸、硫酸モノエステル又はリン酸モノ−又はジ−
エステルのCa、 Ba又はMg塩;低度硫酸化油;ポ
リ長鎖アルキルアクリレート;アクリル系オリゴマー;
ポリ長鎖アルキルメタクリレート;長鎖アルキルメタク
リレ−トルアミン含有モノマー共重合体;スチレン−無
水マレイン酸共重合体;オレフィン−無水マレイン酸共
重合体。
感熱層上に、必要により、積層するオーバーコート層6
(厚さ0.1〜4μm)の材料としては、シリコーン系
ゴム、シリコーン樹脂(特開昭63−221087号公
報に記載)、ポリシロキサングラフトポリマー(特願昭
62−152550号に記載)や紫外線硬化樹脂又は電
子線硬化樹脂(特願昭63−:110600号に記載)
等が挙げられる。いずれの場合も、塗布時に溶剤を用い
るが、その溶剤は、感熱層4の樹脂ならびに有機低分子
物質を溶解しないか又は溶解しにくいものが望ましい。
感熱層の樹脂及び有機低分子物質を溶解しにくい溶剤と
してはn−ヘキサン、メチルアルコール、エチルアルコ
ール、イソプロピルアルコール等が挙げられ、特にアル
コール系の溶剤がコスト面から望ましい。
また、オーバーコート層液の溶剤等から感熱層を保護す
るために、オーバーコート層と感熱層との間に中間層を
設けることができる(特開平1−133781%公報)
。中間層の材料としては感熱層中の樹脂母材として挙げ
たものの他に下記のような熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂
が使用可能である。
即ち、具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リスチレン、ポリビニルアルコール、ボ)ビニルブチラ
ール、ポリウレタン、飽和ポリエステル、不飽和ポリエ
ステル、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネ
ート、ポリアミド等が挙げられる。
中間層5の厚さは0.1〜2μmくらいが好ましい。
これまでに説明を加えた本発明に係る情報記録表示媒体
は、磁気記録層上に直接光反射層を設けることによって
所期の目的が達成できるようにしている。
しかし、時として、このような情報記録表示媒体は磁気
記録層中の磁性体の細かい凹凸により光が乱反射され、
コントラスト向上の効果に支障を及ぼすという現象の生
じることがある。もっとも、磁気記録層の上に熱硬化性
樹脂等の皮膜を設けて表面を平滑にしてから光反射層を
設ければ、光反射層のコントラスト向上の効果は認めら
れるが、熱硬化性樹脂膜の厚みを厚くしなければならな
いため磁気記録のスペーシングクロスが生じるといった
不都合がみられる。磁気記録層を塗布形成後カレンダー
かけ等で平滑性をある程度向上させることは可能である
が、コスト高を招来するようになる。
従って、こうした不測の事態の生じるのを避けるため、
第2図に示したように、磁気記録層2′と光反射層3と
の間に、特定の樹脂層、即ち、紫外線硬化樹脂又は電子
線硬化樹脂を主成分とした平滑層7を設けるのが有利で
ある。
この平滑層が形成されることによって、磁気記録層表面
の凹凸は緩和され、光の乱反射に起因するコントラスト
の効果がなくなるといった事態は回避されるようになる
第2図は第1図とは若干異なる本発明に係る情報記憶表
示媒体のうち平滑層7を更に設けたものの三個の概略で
ある。
いま、表面に凹凸が形成された磁気記録層2′を平滑せ
しめるため、初めから高分子量のポリマーを塗工するに
はそのポリマーを溶剤等に5〜20%程1度に溶解して
粘度を下げて塗布する必要がある(第3図(a))。7
aはこの塗布液である。それを加熱して溶剤を蒸発させ
、乾燥すると塗工層7a’はベースの凹凸に添って形成
され、平滑にはならない(第3図(b))。
それに対し、塗布時には低分子量のモノマーオリゴマー
であって、かつ、塗布機紫外線や電子線を照射すると架
橋して高分子となる紫外線硬化樹脂や電子線硬化樹脂を
用いると、塗布時の有効成分が数+2と高くても粘度が
低いため均一に塗工でき、溶剤分が少ないため乾燥して
も平滑性を保つことができる(第4図(a)及び(b)
)。なお、図中、第4図(a)は紫外線硬化樹脂又は電
子線硬化樹脂の塗布液71を示しており、第4図(b)
は紫外線硬化樹脂又は電子線硬化樹脂の塗工層7を表わ
している。
第4図(b)に示した塗工層は、そのまま本発明におけ
る平滑層7を形成するものである。
前述のように、平滑層7の形成には溶媒等を使用する場
合があるが、この場合の溶媒としては、感熱N4形成用
の溶媒と同様のものが挙げられる。
またこれらの溶媒の代りに、取扱いを容易にするための
反応性稀釈剤として光重合開始剤を使用することができ
る。光重合開始剤としては2−エチルへキシルアクリレ
ート、シクロへキシルアクリレート、ブトキシエチルア
クリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ポリエチレ
ングリコールジアクリレート、トリメチロールプロノベ
ントリアクリレート、ペンタエリトリットトリアクリレ
ート等が挙げられる。
平滑層7の形成に用いられる紫外線硬化性樹脂としては
紫外線照射により重合反応を起こし、硬化して樹脂とな
る七ツマ−又はオリゴマー(又はプレポリマー)であれ
ば全て使用できる。このようなモノマー又はオリゴマー
としては(ポリ)エステルアクリレート、(ポリ)ウレ
タンアクリレート、エポキシアクリレートポリブタジェ
ンアクリレート、シリコーンアクリレート等やメラミン
アクリレートがある。
(ポリ)エステルアクリレートは1,6−ヘキサンジオ
ール、プロピレングリコール(プロピレンオキサンドと
して)、ジエチレングリコール等の多価アルコールとア
ジピン酸、無水フタル酸、!ヘリメリット酸等の多塩基
酸とアクリル酸とを反応させたものである。その構造例
をCa)〜(C)に示す。
(a)アジピン酸へ、6−ヘキサンジオール/アクリル
酸(b)無水フタ/La/プロピレンオキサイド/アク
リル酸(c)トリメリットWジエチレングリコール/ア
クリル酸(ポリ)ウレタンアクリレートはトリレンジイ
ソシアネート(TDI)のようなインシアネート基を有
する化合物にヒドロキシ基を有するアクリレートを反応
させたものである。その構造例を(d)に示す。なおH
EAは2−ヒドロキシエチルアクリレート、HDOは1
.6−ヘキサンジオール、ADAはアジピン酸の略であ
る。
*−ω03nIIDO−TDI−OCH2CH20CO
CII−cII、       (n=1−10)エポ
キシアクリレートは構造から大別してビスフェノールA
型、ノボラック型、脂環型とがあり、これらエポキシ樹
脂のエポキシ基をアクリル酸でエステル化し官能基をア
クリロイル基としたものである。その構造例を(e)〜
(g)に示す。
(e) ビスフェノールA−エピクロルヒドリン型/アクリル酸
し+13 (n:1〜15) (f) フェノールノボラック−エビクロルヒドリン型/アクリ
ル酸H (g)脂環型/アクリル酸 ポリブタジェンアクリレートは末端OH基含有l。
2−ポリブタジェンにインシアネートや2−メルカプト
エタノール等を反応させてから、 更にアクリル 酸等を反応させたものである。その構造例を(h)に示
す。
シリコーンアクリレートは例えば、有機官能性トリメト
キシシランとシラノール基含有ポリシロキサンとの縮合
反応(脱メタノール反応)によりメタクリル変性したも
のであり、その構造例を(i)に示す。
一方、電子線硬化性樹脂の材料としては紫外線硬化性樹
脂をそのまま用いることができる。
ところで、電子線は紫外線に比べてエネルギーが大きく
、また透過力も大きい。このため、特に平滑N7中に顔
料等を入れた時は、電子線の方が内部まで到達すること
ができる。こうして電子線硬化の方が紫外線硬化より、
いっそう緻密で均一な網目構造を形成できるので、更に
優れた耐久性を示すことが期待できる。また、電子線は
紫外線に比べて硬化に関するエネルギーは約3分の1で
すみ、設備投資は大きいが、需要が多ければコストを下
げることも期待できる。
平滑層7の厚みは薄い方が好ましく0.2〜3.0μm
程度である。厚みが0.2μmより薄くなると表面平滑
性を向上させる効果がなくなり、逆に、3.0μmより
以上厚くなると磁気のスペーシングロス(分離損失)が
大きくなる。但し、先に触れたように。
平滑層7が加わった場合においても磁気ヘッドから磁気
記録H2の表面までの距離が約IOμm以下であるのが
望ましいことは第1図に示した例と同様である。
〔実施例〕
本発明を実施例により更に詳しく説明するが、本発明は
これに限定されるものではない。なお、ここでの部及び
2はともに重量基準である。
実施例1 約188μm厚の白色PET上に γ−Fe20゜ 10部 コロネートL(10%トルエン溶液)      2部
メチルエチルケトン          43部トルエ
ン                43部よりなる液
をワイヤーバーで塗布し、加熱乾燥して約lOμω厚の
磁気記録層を設け、さらにカレンダーがけして表面の平
滑性を向上させた。その上にAQを約400λ厚となる
ように真空蒸着し、光反射層を設けた6 さらにその上に ベヘン酸                 8部ヘキ
サデカンニI!!2部 フタル酸ジ(2−エチル−ヘキシル)     2部T
)IF(テトラヒドロフラン) トルエン 150部 10部 よりなる溶液を塗布し、加熱乾燥して約2師厚の感熱層
(可逆性感熱記録M)を設けた。その上に、ポリアミド
樹脂(東し社製CM8000)     10部メチル
アルコール            90部よりなる溶
液をワイヤーバーで塗布し、加熱乾燥して約O,Spm
厚の中間層を設け、さらにその上に。
ウレタンアクリレート系紫外線硬化樹脂の酢酸ブチル溶
液(天日水インキ化学社製ユニデイック17−824−
9)をワイヤーバーで塗布し、加熱乾燥後80w/cm
の紫外線ランプで紫外線を5秒間照射して約2μ謹厚の
オーバーコート層を設けて第1図(b)に示したタイプ
の情報記憶表示媒体をつくった。
実施例2 可逆性感熱記録M溶液を ステアリン酸              7部ステア
リルステアレート         3部フタル酸ジ−
n−ブチル           2部HF 150部 トルエン                10部とし
加熱乾燥後のこの感熱層の厚さを約5μmとし。
紫外線硬化性樹脂をエポキシアクリレート系(大日本イ
ンキ化学社製ユニデイックC7−127)とした以外は
実施例1と同様にして情報記憶表示媒体をつくった・ 実施例3 可逆性感熱記録層の厚さを約8μ田とした以外は実施例
1と同様にして情報記憶表示媒体をつくった。
実施例4 約188μm厚の白色PET上に y−Fe20.                10
部メチルエチルケトン          40部トル
エン                40部よりなる
液をワイヤーバーで塗布し、加熱乾燥して約10μm厚
の磁気能B層を設けた、その上にトルエン      
          4部よりなる溶液をワイヤーバー
で塗布し、加熱乾燥後80W/cmの紫外線ランプで紫
外線を5秒間照射して約0.7μm厚の平滑層を設けた
。その上にAQを約400入庫となるように真空蒸着し
、光反射PJす設けた。
さらにその上に ベヘン酸                8部エイコ
サンニ酸             2部フタル酸ジア
リル            2部丁1(F     
                         
       200部よりなる溶液を塗布し、加熱乾
燥して約5μm厚の感熱層(可逆性感熱記録層)を設け
て、情報記憶表示媒体をつくった。
実施例5 平滑層の厚さを約1.5μmとした以外は実施例4と同
様にして情報記憶表示媒体をつくった。
実施例6 平滑層の淳さを約3.0μmとした以外は実施例4と同
様にして情報記憶表示媒体をつくった。
実施例7 紫外線硬化樹脂をエポキシアクリレ−!・系(大日本イ
ンキ社gj C7−157)とした以外は実施例5と同
様にして情報記憶表示媒体をつくった。
実施例8 紫外線照射の代りに300keVの電子線加速器で電子
線を照射した以外は実施例5と同様にして情報記憶表示
媒体をつくった。
比較例上 可逆性感熱記録層の厚さを約1μmとした以外は実施例
1と同様にして情報記憶表示媒体をつくった。
比較例2 可逆性感熱記り層の厚さを約10μmとした以外は実施
例1と同様にして情報記憶表示媒体をつくった。
比較例3 光反射層を設けなかった以外は実施例3と同様にして情
報記憶表示媒体をつくった。
これら11種の情報記憶表示媒体を加熱(実施例1及び
3は80℃;実施例2、比較例1,2及び3は60℃;
実施例4,5,6.7及び8は75℃)して可逆性感熱
記録層を透明にした後、サーマルヘッドで0.5mj/
dot又は1mj/dot(実施例1〜3及び比較例1
−3は1mj/dat、実施例4〜8は0.5mj/d
at)のエネルギーを与え白濁画像を形成した。そのと
きの画像濃度、地肌濃度、コントラストを表−1に示し
た。
また、オーバーコート層上から磁気記録を行ない、その
出力レベルを磁気記録層上に感熱層を形成しない場合と
の相対値(分離損失)で表わした。
表−1 11+ 地肌濃度/画像濃度の比 〔発明の効果〕 実施例の記載から明らかなように1本発明の情報記憶表
示媒体は磁気記録層と感熱層との間に光反射層を設けて
いるので、感熱層に対して磁気記録のスペーシングロス
(分離損失)が最小限にくい止められ、しかも高コント
ラストの@換え可能な表示が得られる。更に、こうした
効果は、磁気記8層と光反射層との間に紫外線硬化樹脂
又は電子線硬化樹脂を主成分とする平滑層を設けるよう
にすれば、−層顕著である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る情報記憶表示媒体の代表的な三例
の断面図である。第2図は本発明に係る他の情報記憶表
示媒体の代表的な三例である。 第3図及び第4図は磁気記録層上に塗布形成された平滑
層の様子を説明するための図である。 第5図は本発明における感熱層(可逆性感熱記録層)の
熱による透明度の変化を説明するための図である。 1・・・支持体   2,2′・・磁気記a層3・・光
反射層  4・感熱M(可逆性感熱記録層)5・中間層
   6・・・オーバーコート層7・・・平滑層

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)支持体上に磁気記録層、その上に光反射層、更に
    その上に、樹脂母材及び該樹脂母材中に分散された有機
    低分子物質を主成分とし温度に依存して透明度が可逆的
    に変化する厚さ2〜8μmの感熱層が設けられているこ
    とを特徴とする情報記憶表示媒体。
  2. (2)前記の磁気記録層と光反射層との間に、紫外線硬
    化樹脂又は電子線硬化樹脂を主成分とした平滑層が設け
    られてなる請求項1に記載の情報記憶表示媒体。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0546472U (ja) * 1991-11-27 1993-06-22 共同印刷株式会社 磁気記録媒体
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US5671211A (en) * 1994-11-24 1997-09-23 Fuji Xerox Co., Ltd. Data recording medium
US6177383B1 (en) 1998-03-23 2001-01-23 Ricoh Company, Ltd. Reversible thermosensitive recording medium, and image forming and erasing method
US7049268B2 (en) 2002-06-03 2006-05-23 Ricoh Company, Ltd. Heat reversible recording medium, heat reversible recording label, heat reversible recording member, image processor and image processing method

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