JP2678207B2

JP2678207B2 - 情報記憶表示媒体

Info

Publication number: JP2678207B2
Application number: JP2009786A
Authority: JP
Inventors: 吉彦堀田; 通野際
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 1989-06-20
Filing date: 1990-01-19
Publication date: 1997-11-17
Anticipated expiration: 2012-11-17
Also published as: JPH03130188A

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は情報記憶表示媒体に関し、詳しくは、磁気記
録が可能で、かつ、必要に応じて一時的な表示（画像表
示）が可能な情報記憶表示媒体に関する。

〔従来の技術〕

近時、各種のカード類が大量に発行され使用されてい
るが、その例として、名刺大のテレホンカードやいわゆ
るオレンジカード（JR社の乗車券券売用カード）などが
ある。これらのカード（磁気カード）には予めとびとび
に例えば１、50、…300、…500、…といったような数字
が印刷されており、使用後の残高はこれらの数字の間に
あけられた孔で表示されるようになっている。従って、
これらカードが使用できる電話機、券売機の利用によっ
て残高を正確に知ることができるものの、それ以外の場
合は残高を正確に把握することはできない。

こうした不都合を幾分でもなくすことを意図して、ロ
イコ系染料を用いた感熱層や磁気記録層上にSnを蒸着し
た感熱層を用い、サーマルヘッドで残高を数字で表示す
るカードが実用化されている（特開昭59−199284号、特
開昭60−18388号などの公報）。だが、これらの表示方
法は残高の表示ができるものの消去ができないため、勢
い、記録できる情報量が限られてしまい、従って、残高
があるのにもかかわらず表示できないといった欠点があ
る。

本発明者らは、温度に依存して透明度が可逆的に変化
する性質をもった感熱層を用い、残高の表示・消去が可
能な情報記憶表示媒体について先に提案した。しかし、
この情報記憶表示媒体は磁気記録面と残高表示面とが別
々の表裏関係にあるため、その分、カードにおける宣伝
等にまわすことのできる印刷部分が少なくなるといった
不便さがある。磁気記録面上に直接残高表示のための感
熱層を積層することも考えられるが、感熱層が厚いと磁
気ヘッドでの磁気記録が読み取りにくくなり、逆に、そ
の感熱層が薄いとその感熱層に形成される画像（表示）
のコントラストが低下するといった不都合が認められ
る。

〔発明が解決しようとする課題〕

本発明は上記の如き不都合・不便さを解消し、残高等
の繰り返し表示が高コントラストで得られることは勿
論、磁気記録層上に表示層が積層されているにもかかわ
らず磁気記録の読み取りが正確に行なえる情報記憶表示
媒体を提供するものである。

〔課題を解決するための手段〕

本発明の情報記憶表示媒体は、支持体上に磁気記録
層、その上に光反射層、更にその上に、樹脂母材及び該
樹脂母材中に分散された有機低分子物質を主成分とし温
度に依存して透明度が可逆的に変化する厚さ２〜８μｍ
の感熱層が設けられていることを特徴としている。

本発明者らは先に提案した情報記憶表示媒体に更に改
良を加えた結果、（１）可逆性感熱層の厚さを特定範囲
に収めれば表示のコントラストが良好なものとして得ら
れるとともに磁気記録の読み取りも良好に行なえ、更
に、（２）磁気記録層と可逆性感熱層との間に光反射層
を設ければ表示の高コントラスト化が増幅されることを
確かめた。本発明はこれによりなされたものである。

以下に、本発明を添付の図面に従がいながらさらに詳
細に説明する。

第１図は本発明に係る情報記憶表示媒体の代表的な三
例の断面図であり、（ａ）は支持体１上に磁気記録層
２、光反射層３、感熱層４が順次積層されたものの例、
（ｂ）は前記（ａ）の感熱層４上に更にオーバーコート
層６が設けられたものの例、（ｃ）は前記（ａ）の感熱
層４とオーバーコート層６との間に中間層５が設けられ
たものの例である。

磁気記録を正確に書込み読み取るには、磁気ヘッドか
ら磁気記録層２の表面までの距離が約10μｍ以下である
ことが望ましい。従って第１図に示した例では、前記の
光反射層３及び感熱層４の厚さ、場合によっては、さら
に中間層５及び／又はオーバーコート層６の厚さをも合
わせた厚さが約10μｍ以下であることが望ましい。それ
に加えて、感熱層４の厚さは約２μｍ以上で約８μｍ以
下が必要である。約２μｍより薄いと画像コントラスト
が下がり目視で認識できなくなる。

感熱層４の厚さの上限を約８μｍとしたのは次の理由
による。即ち、第１は磁気ヘッドから磁気記録層２の表
面までの距離が規定されていることである。第２図は一
般に黒色ないし茶色（褐色を含む）の磁気記録層２上に
直接感熱層４を積層したとしても、感熱層４の厚さが高
々８μｍ程度では画像（表示）コントラストは必ずしも
良好であるとはいえないが、感熱層４の下面に接するよ
う光反射層３を設ければ、感熱層４が白濁化されたとき
に感熱層４を透過してきた光が再び感熱層４に戻されて
見かけ上の白濁度を押し上げ（増幅させる）コントラス
トの向上が可能となることである。

本発明の情報記憶表示媒体は、前記のごとき透明度変
化（透明状態、白濁不透明状態）を利用しており、この
透明状態と白濁不透明状態との違いは次の（ｉ）（ii）
のように推測される。（ｉ）透明の場合には樹脂母材中
に分散された有機低分子物質の粒子は有機低分子物質の
大きな粒子で構成されており、片側から入射した光は散
乱されること無く、反対側に投下するため透過に見える
こと、また、（ii）白濁の場合には有機低分子物質の粒
子は有機低分子物質の微細な結晶が集合した多結晶で構
成され、個々の結晶の結晶軸がいろいろな方向を向いて
おり片側から入射した光は有機低分子物質粒子の結晶の
界面で何度も屈折し、散乱されるため白く見えること、
等に由来している。

第５図（熱による透明度の変化を表わしている）にお
いて、樹脂母材とこの樹脂母材中に分散された有機低分
子物質を主成分とする感熱層４は、例えばT₀以下の常温
では白濁不透明状態にある。これをT₁〜T₂間の温度に加
熱すると透明になり、この状態で再びT₀以下の常温に戻
しても透明のままである。これは温度T₁〜T₂からT₀以下
に至るまでに有機低分子物質が半溶融状態を経て多結晶
から単結晶へと結晶が成長するためとか考えられる。更
にT₃以上の温度に加熱すると、最大透明度と最大不透明
度との中間の半透明状態になる。次にこの温度を下げて
行くと、再び統計状態をとることなく最初の白濁不透明
状態に戻る。これは温度T₃以上で有機低分子物質が溶融
後、冷却されることにより多結晶が析出するためである
と考えられる。なお、この不透明状態のものをT₀〜T₁間
の温度に加熱した後、常温、即ちT₀以下の温度を冷却し
た場合には透明と不透明との間の状態をとることができ
る。また、前記常温で透明になったものも再びT₃以上の
温度に加熱し、常温に戻せば、再び白濁不透明状態に戻
る。即ち、常温で不透明及び透明の両形態並びにその中
間状態をとることができる。

従って、熱を選択的に与えることにより感熱層４を選
択的に加熱し、透明地に白濁画像、白濁地に透明画像を
形成することができ、その変化は何回も繰り返すことが
可能である。

本発明の情報記憶表示媒体を作るには、第１図（ａ）
に示した例をとれば、ポリエステルフィルムのような透
明又は白色プラスチックフィルム、紙等又はそれらの着
色物である支持体１上に磁性材料を真空蒸着、スパッタ
リングなどの方法で堆積させるか、或いは、磁性材料を
樹脂バインダーとともに塗布・乾燥させることにより磁
気記録層２を形成し、その上に、金属薄膜を形成して光
反射層３とし、光反射層３上に感熱層４を形成すればよ
い。

前記の磁気記録層２における磁性材料としては鉄、コ
バルト、ニッケル等及びそれらの合金又は化合物が挙げ
られる。また、樹脂バインダーとしては各種熱可塑性樹
脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹
脂などが挙げられる。

光反射層３は真空蒸着方、イオンプレーティング法、
スパッタリング法、CVD法などにより金属薄膜（厚さ200
〜1000Å）を形成したものが良好に使用できるが、ここ
で用いられる金属は光を反射するものならなんでもよく
例えばAl、Ge、Au、Ag、Cu及びこれらの合金が挙げられ
る。

感熱層（可逆性感熱記録層）４は、一般に（１）樹脂
母材及び有機低分子物質の２成分を溶解した溶液、又
は、樹脂母材の溶液（溶剤としては有機低分子物質のう
ちの少なくとも１種を溶解しないものを用いる）に有機
低分子物質を微粒子状に分散した分散液を対象面上に塗
布、乾燥するか、或いは（２）前記12成分を溶剤の存在
又は不存在下に、必要であれば加熱しながら、混練しシ
ート状に成形し、それ自体を感熱シートとして利用する
ことによりつくられてもよい。感熱層形成用溶剤として
は、母材及び有機低分子物質の種類によって種々選択で
きるが、例えばテトラヒドロフラン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、クロロホルム、四塩化炭
素、エタノール、トルエン、ベンゼン等が挙げられる。
なお、分散液を使用した場合はもちろんであるが、溶液
を使用した場合も得られる感熱層中では有機低分子物質
は微粒子として析出し、分散状態で存在する。

感熱層４に使用される樹脂母材は有機低分子物質を均
一に分散保持した層を形成すると共に、最大透明時の透
明度に影響を与える材料である。このため樹脂、母材は
透明性が良く、機械的に安定で、且つ成膜性の良い樹脂
が好ましい。このような樹脂としてはポリ塩化ビニル；
塩化ビニル〜酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル〜酢酸ビ
ニル〜ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル〜酢酸ビ
ニル〜マレイン酸共重合体、塩化ビニル〜アクリレート
共重合体等の塩化ビニル系共重合体；ポリ塩化ビニリデ
ン、塩化ビニリデン〜塩化ビニリデン共重合体、塩化ビ
ニリデン〜アクリロニトリル共重合体等の塩化ビニリデ
ン系共重合体；ポリエステル；ポリアミド；ポリアクリ
レート又はポリメタクリレート或いはアクリレート〜メ
タクリレート共重合体；シリコン樹脂等が挙げられる。
これらは単独で或いは２種以上混合して使用される。

一方、有機低分子物質としては感熱層４中で温度によ
り多結晶から単結晶に変化するものであればよく、一般
に融点30〜200℃好ましくは50〜150℃程度のものが使用
される。このような有機低分子物質としてはアルカノー
ル；アルカンジオール；ハロゲンアルカノールまたはハ
ロゲンアルカンジオール；アルキルアミン；アルカン；
アルケン；アルキン；ハロゲンアルカン；ハロゲンアル
カン；ハロゲンアルキン；シクロアルカン；シクロアル
ケン；シクロアルキン；飽和または不飽和モノまたはジ
カルボン酸またはこれらのエステル、アミド、またはア
ンモニウム塩；飽和または不飽和ハロゲン樹脂酸または
これらのエステル、アミド、またはアンモニウム塩；ア
リルカルボン酸またはそれらのエステル、アミドまたは
アンモニウム塩；ハロゲンアリルカルボン酸またはそれ
らのエステル、アミドまたはアンモニウム塩；チオアル
コール；チオカルボン酸またはそれらのエステル、アミ
ン、またはアンモニウム塩；チオアルコールのカルボン
酸エステル等が挙げられる。これらは単独で又は２種以
上混合して使用される。これらの化合物の炭素数は10〜
60、好ましくは10〜38、特に10〜30が好ましい。エステ
ル中のアルコール基部分は飽和していてもよく、またハ
ロゲン置換されていてもよい。いずれにしても有機低分
子物質は分子中に炭素、窒素、硫黄及びハロゲンの少く
とも１種、例えは−OH、−COOH、−CONH,−COOR、−N
H、−NH₂、−Ｓ−、−Ｓ−Ｓ−、−Ｏ−、ハロゲン等を
含む化合物であることが好ましい。

更に具体的にはこれら化合物にはラウリン酸、ドデカ
ン酸、ミリスチン酸、ペンタデカン酸、パルミチン酸、
ステアリン酸、ベヘン酸、ノナデカン酸、アラギン酸、
オレイン酸等の高級脂肪酸；ステアリン酸メチル、ステ
アリン酸テトラデシル、ステアリン酸オクタデシル、ラ
ウリン酸オクタデシル、パルミチン酸テトラデシル、ベ
ヘン酸ドデシル等の高級脂肪酸のエステル； C₁₆H₃₃−Ｏ−C₁₆H₃₃,C₁₆H₃₃−Ｓ−C₁₆H₃₃, C₁₈H₃₇−Ｓ−C₁₈H₃₇,C₁₂H₂₅−Ｓ−C₁₂H₂₅, C₁₉H₃₉−Ｓ−C₁₉H₃₉,C₁₂H₂₅−Ｓ−Ｓ−C₁₂H₂₅, 等のエーテル又はチオエーテル等がある。中でも本発明
では高級脂肪酸、特にパルミチン酸、ステアリン酸、ベ
ヘン酸、リグノセリン酸等の炭素数16以上の高級脂肪酸
が好ましく、炭素数16〜24の高級脂肪酸が更に好まし
い。

なお、感熱層中の有機低分子物質と樹脂母材との割合
は重量比で2:1〜1:16程度が好ましく、1:1〜1:3が更に
好ましい。母材の比率がこれ以下になると、有機低分子
物質を母材中に保持した膜を形成することが困難とな
り、またこれ以上になると、有機低分子物質の量が少な
いため、不透明化が困難になる。

感熱層４には以上の成分の他に、透明画像の形成を容
易にするために、界面活性材、高沸点溶剤等の添加物を
添加することができる。これらの添加物の具体例は次の
通りである。

高沸点溶剤の例；リン酸トリブチル、リン酸トリ−２−エチルヘキシ
ル、リン酸トリフェニル、リン酸トリクレジル、オレイ
ン酸ブチル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フ
タル酸ジブチル、フタル酸ジペプチル、フタル酸ジ−ｎ
−オクチル、フタル酸ジ−２−エチルヘキシル、フタル
酸ジイソノニル、フタル酸ジオクチルデシル、フタル酸
ジイソデシル、フタル酸ブチルベンジル、アジピン酸ジ
ブチル、アジピン酸ジ−ｎ−ヘキシル、アジピン酸ジ−
２−エチルヘキシル、アゼライン酸ジ−２−エチルヘキ
シル、セバシン酸ジブチル、セバシン酸ジ−２−エチル
ヘキシル、ジエチルグリコールジベンゾエート、トリエ
チレングリコールジ−２−エチルブチラート、アセチル
リシノール酸メチル、アセチルリシノール酸ブチル、ブ
チルフタリルブチルグリコレート、アセチルグエン酸ト
リブチル。

界面活性剤、その他の添加剤の例；多価アルコール高級脂肪酸エステル；多価アルコール
高級アルキルエーテル；多価アルコール高級脂肪酸エス
テル、高級アルコール、高級アルキルフェノール、高級
脂肪酸高級アルキルアミン、高級脂肪酸アミド、油脂又
はポリプロピレングリコールの低級オレフィンオキサイ
ド付加物；アセチレングリコール；高級アルキルベンゼ
ンスルホン酸のNa、Ca、Ba又はMg塩；高級脂肪酸、芳香
族カルボン酸、高級脂肪族スルホン酸、芳香族スルホン
酸、硫酸モノエステル又はリン酸モノ−又はジ−エステ
ルのCa、Ba又はMg塩；低度硫酸化油；ポリ長鎖アルキル
アクリレート；アクリル系オリゴマー；ポリ長鎖アルキ
ルメタクリレート；長鎖アルキルメタクリレート〜アミ
ン含有モノマー共重合体；スチレン〜無水マレイン酸共
重合体；オレフィン〜無水マレイン酸共重合体。

感熱層上に、必要により、積層するオーバーコート６
（厚さ0.1〜４μｍ）の材料としては、シリコーン系ゴ
ム、シリコーン樹脂（特開昭63−221087号公報に記
載）、ポリシロキサングラフトポリマー（特開昭62−15
2550号に記載）や紫外線硬化樹脂又は電子線硬化樹脂
（特願昭63−310600号に記載）等が挙げられる。いずれ
の場合も、塗布時に溶剤を用いるが、その溶剤は、感熱
層４の樹脂ならびに有機低分子物質を溶解しないか又は
溶解しにくいものが望ましい。

感熱層の樹脂及び有機低分子物質を溶解しにくい溶剤
としてはｎ−ヘキサン、メチルアルコール、エチルアル
コール、イソプロピルアルコール等が挙げられ、特にア
ルコール系の溶剤がコスト面から望ましい。

また、オーバーコート層液の溶剤等から感熱層を保護
するために、オーバーコート層と感熱層との間に中間層
を設けることができる（特開平１−133781号公報）。中
間層の材料どしては感熱層中の樹脂母材として挙げたも
のの他に下記のような熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂が使
用可能である。

即ち、具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレン、
ポリスチレン、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチ
ラール、ポリウレタン、飽和ポリエステル、不飽和ポリ
エステル、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボ
ネート、ポリアミド等が挙げられる。

中間層５の厚さは0.1〜２μｍくらいが好ましい。

これまでに説明を加えた本発明に係る情報記録表示媒
体は、磁気記録層上に直接光反射層を設けることによっ
て初期の目的が達成できるようにしている。

しかし、時として、このような情報記録表示媒体は磁
気記録層中の磁性体の細かい凹凸により光が乱反射さ
れ、コントラスト向上の効果に支障を及ぼすという現象
の生じることがある。もっとも、磁気記録層の上に熱硬
化性樹脂等の皮膜を設けて表面を平滑にしてから光反射
層を設ければ、光反射層のコントラスト向上の効果は認
められるが、熱硬化性樹脂膜の厚みを集くしなければな
らないため磁気記録のスペーシングクロスが生じるとい
った不都合がみられる。磁気記録層を塗布形成後カレン
ダーがけ等で平滑性をある程度向上させることは可能で
あるが、コスト高を招来するようになる。

従って、こうした不測の事態の生じるのを避けるた
め、第２図に示したように、磁気記録層２′と光反射層
３との間に、特定の樹脂層、即ち、紫外線硬化樹脂又は
電子線硬化樹脂を主成分とした平滑層７を設けるのが有
利である。

この平滑層が形成されることによって、磁気記録層表
面の凹凸は緩和され、光の乱反射に起因するコントラス
トの効果がなくなるといった事態は回避されるようにな
る。

第２図は第１図とは異なる本発明に係る情報記憶表示
媒体のうち平滑度７を更にも設けたものの三例の概略で
ある。

いま、表面に凹凸が形成された磁気記録層２′を平滑
せしめるため、始めから高分子量のポリマーを塗工する
にはそのポリマーを溶剤等に５〜20％程度１度に溶解し
た粘度を下げて塗布する必要がある（第３図（ａ））。
7aはこの塗布液である。それを加熱して蒸発させ、乾燥
すると塗工層7a′はベースの凹凸に沿って形成され、平
滑にはならない（第３図（ｂ））。

それに対し、塗布時には低分子量のモノマー、オリゴ
マーであって、かつ、塗布後紫外線や電子線を照射する
と架橋して高分子となる紫外線硬化樹脂や電子線硬化樹
脂を用いると、塗布時の有効成分が数十％と高くても粘
度が低いため均一に塗工でき、溶剤分が少ないため乾燥
しても平滑性を保つことができる（第４図（ａ）及び
（ｂ））。なお、図、第４図（ａ）は紫外線硬化樹脂又
は電子線硬化樹脂の塗布液71を示しており、第４図
（ｂ）は紫外線硬化樹脂又は電子線硬化樹脂の塗工層７
を表わしている。

第４図（ｂ）に示した塗工層は、そのまま本発明にお
ける平滑層７を形成するものである。

前述のように、平滑層７の形成には溶媒等を使用する
場合があるが、この場合の溶媒としては、感熱層４形成
用の溶媒と同様のものが挙げられる。またこれらの溶媒
の代りに、取扱いを容易にするための反応性稀釈剤とし
て高重合開始剤を使用することができる。高重合開始剤
としては２−エチルヘキシルアクリレート、シクロヘキ
シルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ネオ
ペンチルグリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジ
オールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアク
リレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、
ペンタエリトリットトリアクリレート等が挙げられる。

平滑層７の形成に用いられる紫外線硬化性樹脂として
は紫外線照射により重合反応を起こし、硬化して樹脂と
なるモノマー又はオリゴマー（又はプレポリマー）であ
れば全て使用できる。このようなモノマー又はオリゴマ
ーとしては（ポリ）エステルアクリレート、（ポリ）ウ
レタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリブタ
ジエンアクリレート、シリコーンアクリレート等やメラ
ミンアクリレートがある。

（ポリ）エステルアクリレートは1,6−ヘキサンジオ
ール、プロピレングリコール（プロピレンオキサンドと
して）、ジエチレンウリコール等の多価アルコールとア
ジピン酸、無水フタル酸、トリメリット酸等の多塩基酸
とアクリル酸とを反応させたものである。その構造例を
（ａ）〜（ｃ）に示す。

（ａ）アジピン酸/1,6−ヘキサンジオール／アクリル酸 CH₂＝CHOOCH₂）_５〔Ｏ−CO−（CH₂ ₄COOCH₂）_５〕_nOCOCH＝CH₂ （ｎ＝１〜15）（ｂ）無水フタル酸／プロピレンオキサイド／アクリル
酸（ｃ）トリメリット酸／ジエチレングリコール／アクリ
ル酸（ポリ）ウレタンアクリレートはトリレンジイソシア
ネート（TDI）のようなイソシアネート基を有する化合
物にヒドロキシ基を有するアクリレートを反応させたも
のである。その構造例を（ｄ）に示す。なおHEAは２−
ヒドロキシエチルアクリレート、HDOは1,6−ヘキサンジ
オール、ADAはアジピン酸の略である。

エポキシアクリレートは構造から大別してビスフェノ
ールＡ型、ノボラック型、環脂型とがあり、これらエポ
キシ樹脂のエポキシ基をアクリル酸でエステル化し官能
基をアクリロイル基としたものである。その構造例を
（ｅ）〜（ｇ）に示す。

（ｅ）ビスフェノールＡ−エピクロルヒドリン型／アク
リル酸（ｆ）フェノールノボラック−エピクロリヒドリン型／
アクリル酸（ｇ）脂環型／アクリル酸ポリブタジエンアクリレートは末端OH基含有1,2−ポ
リブタジエンにイソシアネートや２−メルカプトエタノ
ール等を反応させてから、更にアクリル酸等を反応させ
たものである。その構造例を（ｈ）に示す。

シリコーンアクリレートは例えば、有機官能性トリメ
トキシシランとシラノール基含有ポリシロキシンとの縮
合反応（脱メタノール反応）によりメタクリル変性にし
たものであり、その構造例を（ｉ）に示す。

一方、電子線硬化性樹脂の材料としては紫外線硬化性
樹脂をそのまま用いることができる。

ところで、電子線は紫外線に比べてエネルギーが大き
く、また透過力も大きい。このため、特に平滑層７中に
顔料等を入れた時は、電子線の方が内部まで到達するこ
とができる。こうして電子線硬化の方が紫外線硬化よ
り、いっそう緻密で均一な網目構造を形成できるので、
更に優れた耐久性を示すことが気体できる。また、電子
線は紫外線に比べて硬化に関するエネルギーは約３分の
１ですみ、設備投資は大きいが、需要が多ければコスト
を下げることも期待できる。

平滑層７の厚みは薄い方が好ましく0.2〜3.0μｍ程度
である。厚みが0.2μｍより薄くなると表面平滑性を向
上させる効果がなくなり、逆に、3.0μｍより以上厚く
なると磁気のスペーシングロス（分離損失）が大きくな
る。但し、先に触れたように、平滑層７が加わった場合
においても磁気ヘッドから磁気記録層２の表面までの距
離が約10μｍ以下であるのが好ましいことは第１図に示
した例と同様である。

〔実施例〕

本発明を実施例により更に詳しく説明するが、本発明
はこれに限定されるものではない。なお、ここでの部及
び％はともに重量基準である。

実施例１約188μｍ厚の白色PET上に γ−Fe₂O₃ 10部塩化ビニル〜酢酸ビニル〜ビニルアルコール共重合体
（UCC社製VAGH）２部コロネートＬ（10％トルエン溶液）２部メチルエチレケトン 43部トルエン 43部よりなる液をワイヤーバーで塗布し、加熱乾燥して約10
μｍ厚の磁気記録層を設け、さらにカレンダーがけして
表面の平滑性を向上させた。その上にAlを約400Å厚と
なるように真空蒸着し、光反射層を設けた。

さらにその上にベヘン酸８部ヘキサデカン二酸２部フタル酸ジ（２−エチル−ヘキシル）２部塩化ビニル〜酢酸ビニル〜リン酸エステル共重合体（電
気化学工業社製デンカビニール＃1000P） 20部 THF（テトラヒドロフラン） 150部トルエン 10部よりなる溶液を塗布し、加熱乾燥して約２μｍ厚の感熱
層（可逆性感熱記録層）を設けた。その上に、ポリアミド樹脂（東レ社製CM8000） 10部メチルアルコール 90部よりなる溶液をワイヤーバーで塗布し、加熱乾燥して約
0.5μｍ厚の中間層を設け、さらにその上に、ウレタン
アクリレート系紫外線硬化性樹脂の酢酸ブチル溶液（大
日本インキ化学社製ユニディック17−824−９）をワイ
ヤーバーで塗布し、加熱乾燥後80w/cmの紫外線ランプで
紫外線を５秒間照射して約２μｍ厚のオーバーコート層
を設けて第１図（ｂ）に示したタイプの情報記憶表示媒
体をつくった。

実施例２可逆性感熱記録層溶液をステアリン酸７部ステアリルステアレート３部フタル酸ジ−ｎ−ブチル２部塩化ビニル〜酢酸ビニル〜マレイン酸共重合体（UCC社
製VMCH）２部 THF 150部トルエン 10部とし加熱乾燥後のこの感熱層の厚さを約５μｍとし、紫
外線硬化性樹脂をエポキシアクリレート系（大日本イン
キ化学社製ユニディックC7−127）とした以外は実施例
１と同様にして情報記憶表示媒体をつくった。

実施例３可逆性感熱層記録層の厚さを約８μｍとした以外は実
施例１と同様にして情報記憶表示媒体をつくった。

実施例４約188μｍ厚の白色PET上に γ−Fe₂O₃ 10部塩化ビニル〜酢酸ビニル〜ビニル共重合体（UCC社製VAG
H） 10部イソシアネート（日本ポリウレタン社製コロネートL50
％トルエン溶液）２部メチルエチルケトン 40部トルエン 40部よりなる液をワイヤーバーで塗布し、加熱乾燥して約10
μｍ厚の磁気記録層を設けた、その上に特殊アクリル系紫外線硬化樹脂（大日本インキ社製ユニ
ディックC7〜164、49％酢酸ブチル溶液） 10部トルエン４部よりなる溶液をワイヤーバーで塗布し、加熱乾燥後80W/
cmの紫外線ランプで紫外線を５秒間照射して約0.7μｍ
厚の平滑層を設けた。その上にAlを約400Å厚となるよ
うに真空蒸着し、光反射層を設けた。

さらにその上にベヘン酸８部エイコサン二酸２部フタル酸ジアリル２部塩化ビニル〜酢酸ビニル〜リン酸エステル共重合体（電
気化学工業社製デンカビニール＃1000P） 20部 THF 200部よりなる溶液を塗布し、加熱乾燥して約５μｍ厚の感熱
層（可逆性感熱記録層）を設けて、情報記憶表示媒体を
つくった。

実施例５平滑層の厚さを約1.5μｍとした以外は実施例４と同
様にして情報表示媒体をつくった。

実施例６平滑層の厚さを約3.0μｍとした以外は実施例４と同
様にして情報記憶表示媒体をつくった。

実施例７紫外線硬化樹脂をエポキシアクリレート系（大日本イ
ンキ社製C7−157）とした以外は実施例５と同様にして
情報記憶表示媒体をつくった。

実施例８紫外線照射の代りに300keVの電子線加連器で電子線を
照射した以外は実施例５と同様にして情報記録表示媒体
をつくった。

比較例１可逆性感熱記録層の厚さを約１μｍとした以外は実施
例１と同様にして情報記憶表示媒体をつくった。

比較例２可逆性感熱記録層の厚さを約10μｍとした以外は実施
例１と同様にして情報記憶表示媒体をつくった。

比較例３光反射層を設けなかった以外は実施例３と同様にして
情報記憶表示媒体をつくった。

これら11種の情報記憶表示媒体を加熱（実施例１及び
３は80℃；実施例２、比較例1,2及び３は60℃；実施例
4,5,6,7及び８は75℃）して可逆性感熱記録層を透明に
した後、サーマルヘッドで0.5mj/dot又は1mj/dot（実施
例１〜３及び比較例１〜３は1mj/dot、実施例４〜８は
0.5mj/dot）のエネルギーを与え白濁画像を形成した。
そのときの画像濃度、地肌濃度、コントラストを表−１
に示した。

また、オーバーコート層上から磁気記録を行ない、そ
の出力レベルを磁気記録層上に感熱層を形成しない場合
との相対値（分離損失）で表わした。

〔発明の効果〕実施例の記載から明らかなように、本発明の情報記憶
表示媒体は磁気記録層と感熱層との間に光反射層を設け
ているので、感熱層に対して磁気記録のスペーシングロ
ス（分離損失）が最小限にくい止められ、しかも高コン
トラストの書換え可能な表示が得られる。更に、こうし
た効果は、磁気記録層と光反射層との間に紫外線硬化樹
脂又は電子線硬化樹脂を主成分とする平滑層を設けるよ
うにすれば、一層顕著である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る情報記憶表示媒体の代表的な三例
の断面図である。第２図は本発明に係る他の情報記憶表
示媒体の代表的な三例である。第３図及び第４図は磁気記録層上に塗布形成された平滑
層の様子を説明するための図である。第５図は本発明における感熱層（可逆性感熱記録層）の
熱による透明度の変化を説明するための図である。１……支持体、2,2′……磁気記録層３……光反射層、４……感熱層（可逆性感熱記録層）５……中間層、６……オーバーコート層７……平滑層

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】支持体上に磁気記録層、その上に光反射
層、更にその上に、樹脂母材及び該樹脂母材中に分散さ
れた有機低分子物質を主成分とし温度に依存して透明度
が可逆的に変化する厚さ２〜８μｍの感熱層が設けられ
ていることを特徴とする情報記憶表示媒体。
【請求項２】支持体上に少なくとも磁気記録層、その上
に光反射層、更にその上に、樹脂母材及び該樹脂母材中
に分散された有機低分子物質を主成分とし温度に依存し
て透明度が可逆的に変化する感熱層が設けられている情
報記憶表示媒体の磁気記録相表面から感熱層最表面まで
の距離が10μｍ以下であることを特徴とする情報記憶表
示媒体。
【請求項３】磁気記録層と光反射層との間に、紫外線硬
化樹脂又は電子線硬化樹脂を主成分とした平滑層が設け
られてなる請求項１又は請求項２に記載の情報記憶表示
媒体。