JPH03125325A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH03125325A JPH03125325A JP1264207A JP26420789A JPH03125325A JP H03125325 A JPH03125325 A JP H03125325A JP 1264207 A JP1264207 A JP 1264207A JP 26420789 A JP26420789 A JP 26420789A JP H03125325 A JPH03125325 A JP H03125325A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
- G11B5/65—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent characterised by its composition
- G11B5/656—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent characterised by its composition containing Co
-
- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B5/74—Record carriers characterised by the form, e.g. sheet shaped to wrap around a drum
- G11B5/82—Disk carriers
-
- G—PHYSICS
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- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/8404—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers manufacturing base layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は例えば磁気ヘッドとの間において情報の記録お
よび再生を行う磁気記録媒体に関するものであり、特に
表面にテクスチャと称する微細な溝若しくは凹凸を設け
た磁気記録媒体に関するも〔従来の技術〕 従来より磁気記録媒体上に情報を記録し、若しくはこの
媒体上に記録した情報を再生出力するために磁気ディス
ク装置が使用されているが、上記の記録、再生を行う場
合には磁気ヘッドと磁気記録媒体とを例えば0.2〜0
,3μ鴨の微小間隙に保持するのが通常である。従って
磁気ヘッドと磁気記録媒体との接触による摩擦、摩耗お
よび/または両者の衝突に伴う損傷を防止するため、浮
動へ7ドスライダを使用する。すなわち磁気ヘッドを装
着したスライダが、磁気記録媒体の表面との相対速度に
より2両者の間隙に発生する流体力学的浮上刃を利用し
て1両者の微小間隙を保持するように構成している。し
かしながら磁気記録媒体が静止している場合には、上記
流体力学的浮上刃が存在しないため、スライダは磁気記
録媒体上に接触した状態で係止している。一方スライダ
および磁気記録媒体の表面は極めて高い面精度で形成さ
れているため、上記静止若しくは係止した状態ではスラ
イダが磁気記録媒体に吸着してしまうことがある。この
ような吸着状態が発生すると、f61気記録媒体の起動
時および停止時において、極めて大なる起動トルクを必
要とし、起動不能となるか。
よび再生を行う磁気記録媒体に関するものであり、特に
表面にテクスチャと称する微細な溝若しくは凹凸を設け
た磁気記録媒体に関するも〔従来の技術〕 従来より磁気記録媒体上に情報を記録し、若しくはこの
媒体上に記録した情報を再生出力するために磁気ディス
ク装置が使用されているが、上記の記録、再生を行う場
合には磁気ヘッドと磁気記録媒体とを例えば0.2〜0
,3μ鴨の微小間隙に保持するのが通常である。従って
磁気ヘッドと磁気記録媒体との接触による摩擦、摩耗お
よび/または両者の衝突に伴う損傷を防止するため、浮
動へ7ドスライダを使用する。すなわち磁気ヘッドを装
着したスライダが、磁気記録媒体の表面との相対速度に
より2両者の間隙に発生する流体力学的浮上刃を利用し
て1両者の微小間隙を保持するように構成している。し
かしながら磁気記録媒体が静止している場合には、上記
流体力学的浮上刃が存在しないため、スライダは磁気記
録媒体上に接触した状態で係止している。一方スライダ
および磁気記録媒体の表面は極めて高い面精度で形成さ
れているため、上記静止若しくは係止した状態ではスラ
イダが磁気記録媒体に吸着してしまうことがある。この
ような吸着状態が発生すると、f61気記録媒体の起動
時および停止時において、極めて大なる起動トルクを必
要とし、起動不能となるか。
芳しくは両者の接触摺動により摺動面を著しく損傷し、
以後の使用が不能となる等の問題点がある。
以後の使用が不能となる等の問題点がある。
上記の問題点を解決する手段として、磁気記録媒体の表
面にテクスチャと称する微細な溝若しくは凹凸を設け、
スライダが磁気記録媒体上に係止した場合においても平
滑面同志が接触することに起因する吸着現象の発生を防
止しているのが通常である。
面にテクスチャと称する微細な溝若しくは凹凸を設け、
スライダが磁気記録媒体上に係止した場合においても平
滑面同志が接触することに起因する吸着現象の発生を防
止しているのが通常である。
上記のようなテクスチャを加工する方法としては、エツ
チングによって方向性の無い凹凸を形成するテクスチャ
加工も知られているが1通常磁気記録媒体用基板(以下
単に「基板」と記述する)を回転させ2例え′ばゴム等
の弾性材料からなるI対の加圧ロールにより、研磨テー
プを前記基板の表面に押圧させるような加工方法と1円
板状の回転研磨部材を押圧させる加工方法とが使用され
ている。この結果得られるテクスチャの形状としては、
テクスチャの溝が基板の回転中心に対して同心円状をな
すものと、基板の円周方向に対して不特定な角度θが交
差するものとがある。第5図<a)(b)は各々上記テ
クスチャの形状を示す要部拡大平面図であり、第5図(
a)はテクスチャの溝1が同心円状のもの、第5図(b
)は複数個のテクスチャの溝1. lが角度θで交差
しているものを示している。
チングによって方向性の無い凹凸を形成するテクスチャ
加工も知られているが1通常磁気記録媒体用基板(以下
単に「基板」と記述する)を回転させ2例え′ばゴム等
の弾性材料からなるI対の加圧ロールにより、研磨テー
プを前記基板の表面に押圧させるような加工方法と1円
板状の回転研磨部材を押圧させる加工方法とが使用され
ている。この結果得られるテクスチャの形状としては、
テクスチャの溝が基板の回転中心に対して同心円状をな
すものと、基板の円周方向に対して不特定な角度θが交
差するものとがある。第5図<a)(b)は各々上記テ
クスチャの形状を示す要部拡大平面図であり、第5図(
a)はテクスチャの溝1が同心円状のもの、第5図(b
)は複数個のテクスチャの溝1. lが角度θで交差
しているものを示している。
上記従来の基板に設けるテクスチャの形状については、
殆ど検討されてなく、単に溝若しくは凹凸を設けること
のみを主眼とした構成であるため。
殆ど検討されてなく、単に溝若しくは凹凸を設けること
のみを主眼とした構成であるため。
折角のテクスチャを基板の表面に加工しても、実際の使
用時において磁気ヘッドとの間の摩擦係数の低減が期待
できず、磁気記録媒体としてのCS S (Conta
ct 5tart and 5top)特性その他の特
性が低いという欠点がある。また一部の例においてテク
スチャの粗度をある範囲以内に規定したものがあるが、
テクスチャの溝の交差角度(以後単に交差角度と記す)
θについては全く配慮されていない、このため完成後の
磁気記録媒体のC5S特性(例えば表面の摩擦係数)の
ばらつきが大であり、磁気記録媒体としての耐久性およ
び信頼性が不充分であるという問題点がある。一方近年
の磁気記録媒体には、記録密度および容量の増大に対す
る要求が一段と厳しくなってきており基板の加工工程に
おける加工精度を大幅に向上させる必要があることは当
然であるが、上記テクスチャの形状についても最適形状
を追究する必要があり、これによりC3S特性の向上を
図ることが必要である。
用時において磁気ヘッドとの間の摩擦係数の低減が期待
できず、磁気記録媒体としてのCS S (Conta
ct 5tart and 5top)特性その他の特
性が低いという欠点がある。また一部の例においてテク
スチャの粗度をある範囲以内に規定したものがあるが、
テクスチャの溝の交差角度(以後単に交差角度と記す)
θについては全く配慮されていない、このため完成後の
磁気記録媒体のC5S特性(例えば表面の摩擦係数)の
ばらつきが大であり、磁気記録媒体としての耐久性およ
び信頼性が不充分であるという問題点がある。一方近年
の磁気記録媒体には、記録密度および容量の増大に対す
る要求が一段と厳しくなってきており基板の加工工程に
おける加工精度を大幅に向上させる必要があることは当
然であるが、上記テクスチャの形状についても最適形状
を追究する必要があり、これによりC3S特性の向上を
図ることが必要である。
本発明は上記従来技術に存在する問題点を解決し、基板
の表面に設けるべきテクスチャの形状を特定することに
より、確実かつ優れたC3S特性を有する磁気記録媒体
を提供することを目的とする。
の表面に設けるべきテクスチャの形状を特定することに
より、確実かつ優れたC3S特性を有する磁気記録媒体
を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために1本発明においては。
非磁性材料からなる基板の表面に非磁性材料からなる下
地膜を介して磁性材料からなる磁性膜を設けると共に、
前記基板または下地膜の表面に基板の略円周方向に沿っ
て筋状のテクスチャを設けた磁気記録媒体において、テ
クスチャの交差角度を0.1〜20°に形成する。とい
う技術的手段を採用した。
地膜を介して磁性材料からなる磁性膜を設けると共に、
前記基板または下地膜の表面に基板の略円周方向に沿っ
て筋状のテクスチャを設けた磁気記録媒体において、テ
クスチャの交差角度を0.1〜20°に形成する。とい
う技術的手段を採用した。
本発明において、テクスチャの交差角度が0.1°未満
では従来の同心円状のものと同様であり、CSS特性の
向上に寄与しないため好ましくない、一方上記交差角度
が20”を越える。と、加工工程における交差角度の調
整が煩雑となるのみならず、薄膜型ディスクの場合には
記録磁化方向と磁化容易軸とが一致せず、磁性材料の特
性を充分に発揮できないおそれがあるため不都合である
。
では従来の同心円状のものと同様であり、CSS特性の
向上に寄与しないため好ましくない、一方上記交差角度
が20”を越える。と、加工工程における交差角度の調
整が煩雑となるのみならず、薄膜型ディスクの場合には
記録磁化方向と磁化容易軸とが一致せず、磁性材料の特
性を充分に発揮できないおそれがあるため不都合である
。
また本発明において、交差角度を磁気記録媒体の内周側
から外周側へ連続的かつ線形的に変化させることができ
2例えば内周側で1.3〜1.4@外周側で0.5〜0
.6°とすることができる。更に磁気記録媒体の表面全
体に亘って交差角度を略−定に形成することもできる。
から外周側へ連続的かつ線形的に変化させることができ
2例えば内周側で1.3〜1.4@外周側で0.5〜0
.6°とすることができる。更に磁気記録媒体の表面全
体に亘って交差角度を略−定に形成することもできる。
なお本発明におけるテクスチャの加工方法としては、研
磨テープを使用する方法あるいは回転砥石を使用する方
法など種々の方法が適用できる。
磨テープを使用する方法あるいは回転砥石を使用する方
法など種々の方法が適用できる。
特に研磨テープによる方法すなわち基板を回転させ、加
圧ロールによって基板の表面に押圧させた研磨テープを
、基板の半径若しくは直径方向に移動させる方法は好ま
しい効果を得ることができる。
圧ロールによって基板の表面に押圧させた研磨テープを
、基板の半径若しくは直径方向に移動させる方法は好ま
しい効果を得ることができる。
この場合、基板の回転数および/または研磨テープの移
動速度を適宜制御すれば、前記交差角度の調整若しくは
制御を行うことができる。
動速度を適宜制御すれば、前記交差角度の調整若しくは
制御を行うことができる。
(実施例1)
高純度(99,99%)アルミニウムにより、外径95
mm、内径2!l+wm、厚さ1.27mmの基板を作
製し、この基板をクロム酸を含む酸浴中で電解処理し、
基板の両面に厚さlOμ−のアルマイト質の下地層を形
成し、その表面を2μm程度研磨加工して。
mm、内径2!l+wm、厚さ1.27mmの基板を作
製し、この基板をクロム酸を含む酸浴中で電解処理し、
基板の両面に厚さlOμ−のアルマイト質の下地層を形
成し、その表面を2μm程度研磨加工して。
表面粗度Ra=40人に仕上げた。
次に上記基板の表面にテクスチャを設けるのであるが1
例えば第1図に示すような加工手段によって行うのが好
ましい。第1図において、基板2を300rps+で回
転させ、長手方向に5m+w/秒で走行するテクスチャ
テープ3(幅12mm、粗度WA#2500 )を1回
転自在に形成した加圧ロール4(外径301.軸方向長
さ10m111.硬さHs=60)によって基板2の表
裏面に0.3kg/dの圧力で押圧し、基板2の直径方
向に450mIII/分の移動速度で1往復させた。こ
のようにして形成したテクスチャの交差角度θは、基板
2の内周側で1.3〜1.4@、外周側で0.5〜0.
6’であり、内周側から外周側に向かって連続的かつ線
形的に変化している。上記テクスチャを形成した基板2
に9例えばCo−Cr−Ta系合金(Cr 12.5
at%。
例えば第1図に示すような加工手段によって行うのが好
ましい。第1図において、基板2を300rps+で回
転させ、長手方向に5m+w/秒で走行するテクスチャ
テープ3(幅12mm、粗度WA#2500 )を1回
転自在に形成した加圧ロール4(外径301.軸方向長
さ10m111.硬さHs=60)によって基板2の表
裏面に0.3kg/dの圧力で押圧し、基板2の直径方
向に450mIII/分の移動速度で1往復させた。こ
のようにして形成したテクスチャの交差角度θは、基板
2の内周側で1.3〜1.4@、外周側で0.5〜0.
6’であり、内周側から外周側に向かって連続的かつ線
形的に変化している。上記テクスチャを形成した基板2
に9例えばCo−Cr−Ta系合金(Cr 12.5
at%。
Ta3at%、Cobal)からなる磁性膜とカーボン
保護膜を、スパッタによつて各々膜厚600人および3
00人に順次積層した。なお比較例として。
保護膜を、スパッタによつて各々膜厚600人および3
00人に順次積層した。なお比較例として。
前記基板の下地層に略同心円状のテクスチャを設けたも
の(交差角度θζ0’)を作製し、上記同様に磁性膜と
カーボン保護膜とを積層した。
の(交差角度θζ0’)を作製し、上記同様に磁性膜と
カーボン保護膜とを積層した。
第2図はC3Sテスト回数と摩擦係数との関係を示す図
である。第2図においてal、a、は各々前記交差角度
θが基板の内周側で1.3〜1.4゜外周側で0.5〜
0.6@であるものに対応し、b、。
である。第2図においてal、a、は各々前記交差角度
θが基板の内周側で1.3〜1.4゜外周側で0.5〜
0.6@であるものに対応し、b、。
bz、biは前記比較例、すなわちテクスチャの交差角
度θζ09に対応するものである。なおC3Sテストに
際して使用した磁気ヘッドは。
度θζ09に対応するものである。なおC3Sテストに
際して使用した磁気ヘッドは。
Mn−Znミニモノシリツク型(トラック幅20μm)
であり、スライダ幅610μm、ジンバルばね圧9.5
8f、基板の半径24mmの位置における浮上量0.2
μ鋼、基板の最大回転数3600rpm。
であり、スライダ幅610μm、ジンバルばね圧9.5
8f、基板の半径24mmの位置における浮上量0.2
μ鋼、基板の最大回転数3600rpm。
C3Sテストサイクル30秒の条件で測定したものであ
る。第2図から明らかなように、交差角度θ−0″であ
るblにおいては、CSSテスト回数1万回前後で摩擦
係数が急激に増大し、所謂C3S特性が低く現れている
。また交差角度θが前記す、と同様であるb8およびす
、においてはす、と比較してC3Sテスト回数が増大し
ているが2例えば摩擦係数が0.7となるC3Sテスト
回数の値が大幅に異なり、比較例全体としてのばらつき
が極めて大であり9品質が安定していないことが認めら
れる。これらに対して本発明の実施例であるal+a!
においては、摩擦係数の値が何れも低いと共に、CSS
テスト回数が増大しても摩擦係数の増加率が小である。
る。第2図から明らかなように、交差角度θ−0″であ
るblにおいては、CSSテスト回数1万回前後で摩擦
係数が急激に増大し、所謂C3S特性が低く現れている
。また交差角度θが前記す、と同様であるb8およびす
、においてはす、と比較してC3Sテスト回数が増大し
ているが2例えば摩擦係数が0.7となるC3Sテスト
回数の値が大幅に異なり、比較例全体としてのばらつき
が極めて大であり9品質が安定していないことが認めら
れる。これらに対して本発明の実施例であるal+a!
においては、摩擦係数の値が何れも低いと共に、CSS
テスト回数が増大しても摩擦係数の増加率が小である。
また摩擦係数の値のばらつきが極めて小さく、安定した
C3S特性を示しており1品質の向上が認められる。
C3S特性を示しており1品質の向上が認められる。
(実施例2)
実施例1におけるテクスチャ加工工程において。
テクスチャテープ3の往復回数を2回または3回として
、基板2に形成するテクスチャ溝の密度を増大させた。
、基板2に形成するテクスチャ溝の密度を増大させた。
なお交差角度その他の条件は実施例1におけるものと同
一である。このようなテクスチャ加工により、テクスチ
ャの溝の密度(テクスチャ加工により基板表面に形成さ
れる研磨度の筋の本数)は前記実施例1のものと比較し
て2倍または3倍に増大するが、CSSテスト結果は実
施例1と同様であり、摩擦係数が小であると共に。
一である。このようなテクスチャ加工により、テクスチ
ャの溝の密度(テクスチャ加工により基板表面に形成さ
れる研磨度の筋の本数)は前記実施例1のものと比較し
て2倍または3倍に増大するが、CSSテスト結果は実
施例1と同様であり、摩擦係数が小であると共に。
基板間のばらつきも掻めて小であることを確認した。
(実施例3)
第1図に示すテクスチャの加工手段において。
テクスチャテープ3と基板2との接触位置における基板
2の周速度が一定となるように、基板2の回転数を制御
してテクスチャを形成する。基板2のテクスチャテープ
3との接触位置における周速度を1074〜1432m
+n/秒に制御することによって。
2の周速度が一定となるように、基板2の回転数を制御
してテクスチャを形成する。基板2のテクスチャテープ
3との接触位置における周速度を1074〜1432m
+n/秒に制御することによって。
交差角度θ=0.6〜0.8°の範囲内のテクスチャを
基板2の全表面に均一に形成することができる。
基板2の全表面に均一に形成することができる。
第3図は上記のようにして形成した基板2についてC3
Sテストを実施した結果を示す図である。
Sテストを実施した結果を示す図である。
第3図から明らかなように、CSSテスト回数に対する
摩擦係数の増加率は、前記第2図に示すものより更に小
となり、基板間のばらつきも更に小であることが認めら
れる。
摩擦係数の増加率は、前記第2図に示すものより更に小
となり、基板間のばらつきも更に小であることが認めら
れる。
(実施例4)
第1図に示すテクスチャの加工手段において。
テクスチャテープ3の基板2の直径方向の移動速度を変
化させることにより、交差角度を変化させた場合の摩擦
係数の影響を調査した。第4図は交差角度と摩擦係数と
の関係を示す図である。第4図において曲線a、b、c
は夫々基板A、 B、 Cに対し、前記実施例における
C8Sテスト3万回後の結果を示す。なお基板A、B、
Cは夫り下記の条件で製作した。
化させることにより、交差角度を変化させた場合の摩擦
係数の影響を調査した。第4図は交差角度と摩擦係数と
の関係を示す図である。第4図において曲線a、b、c
は夫々基板A、 B、 Cに対し、前記実施例における
C8Sテスト3万回後の結果を示す。なお基板A、B、
Cは夫り下記の条件で製作した。
基板A:
高純度(99,99%)アルミニウムにより、外径95
m+w、内径251.厚さ1.27mmの基板を作製し
この基板をクロム酸を含む酸浴中で電解処理し。
m+w、内径251.厚さ1.27mmの基板を作製し
この基板をクロム酸を含む酸浴中で電解処理し。
基板の両面に厚さ10μmのアルマイト質の下地層を形
成し、その表面を2μ精程度研磨加工して。
成し、その表面を2μ精程度研磨加工して。
表面粗度Ra−40人に仕上げた。次にこの基板にテク
スチャを施した後、Ni24at%Cr5at%、Co
balからなる磁性膜とカーボン保護膜とを、スパッタ
によって各々膜厚600人および300人に順次積層し
た。
スチャを施した後、Ni24at%Cr5at%、Co
balからなる磁性膜とカーボン保護膜とを、スパッタ
によって各々膜厚600人および300人に順次積層し
た。
基板B、C:
基板Aと同一の材料および寸法の基板の両面に厚さ10
μmのN1−Pメツキによる下地層を形成し、その表面
を2μ−程度研磨加工して2表面粗度Ra=40人に仕
上げた。次にこの基板にテクスチャを施した後、 Cr
12.5 at%。
μmのN1−Pメツキによる下地層を形成し、その表面
を2μ−程度研磨加工して2表面粗度Ra=40人に仕
上げた。次にこの基板にテクスチャを施した後、 Cr
12.5 at%。
Ta3at%、Cobalからなる磁性膜とカーボン保
護膜とを、スパッタにより各々膜厚600人および30
0人に順次積層した。
護膜とを、スパッタにより各々膜厚600人および30
0人に順次積層した。
更に基板A、Bについては、Mn−Znミニモノシリツ
ク型の磁気ヘッドを、一方基板Cについてはスライダ材
料がT1Ca0sであるコンポジット型の磁気ヘッドを
夫々使用してC5Sテストを行った。
ク型の磁気ヘッドを、一方基板Cについてはスライダ材
料がT1Ca0sであるコンポジット型の磁気ヘッドを
夫々使用してC5Sテストを行った。
第4図から明らかなように1曲線a、b、cは何れも交
差角度が大になるにつれて摩擦係数の値が減少すること
がわかる。特に曲線aにおいては交差角度の低い範囲に
おいて摩擦係数が大幅に低減し、破線で示す初期摩擦係
数(略0.25)に接近している。一方基板B、Cに対
応する曲線す、 cにおいては、交差角度の増大に伴
う摩擦係数の減少率が前記曲線aと比較して緩慢である
が、交差角度を増大させることにより、CSSテスト後
における摩擦係数の値を初期摩擦係数に接近させ得るこ
とがわかる。なお第4図における夫々の曲線の傾向から
、交差角度を更に増大させれば。
差角度が大になるにつれて摩擦係数の値が減少すること
がわかる。特に曲線aにおいては交差角度の低い範囲に
おいて摩擦係数が大幅に低減し、破線で示す初期摩擦係
数(略0.25)に接近している。一方基板B、Cに対
応する曲線す、 cにおいては、交差角度の増大に伴
う摩擦係数の減少率が前記曲線aと比較して緩慢である
が、交差角度を増大させることにより、CSSテスト後
における摩擦係数の値を初期摩擦係数に接近させ得るこ
とがわかる。なお第4図における夫々の曲線の傾向から
、交差角度を更に増大させれば。
C3Sテスト後の摩擦係数の値を限りなく初期摩擦係数
の値に接近させ得ることが認められるが。
の値に接近させ得ることが認められるが。
テクスチャの加工手段上、交差角度をあまり大にするこ
とは加工作業が極めて煩雑になることと。
とは加工作業が極めて煩雑になることと。
磁気記録媒体として必要な磁気特性、特に保磁力が変化
することとなるため、20°以下とするのが好ましい。
することとなるため、20°以下とするのが好ましい。
本発明は以上記述のような構成および作用であるから、
磁気記録媒体に設けるテクスチャの交差角度を特定する
ことにより、従来のものと比較して表面の摩擦係数が小
であると共に1Mi気記録媒体間におけるばらつきが極
めて小であり、信転性および耐久性を大幅に向上させ得
るという効果がある。
磁気記録媒体に設けるテクスチャの交差角度を特定する
ことにより、従来のものと比較して表面の摩擦係数が小
であると共に1Mi気記録媒体間におけるばらつきが極
めて小であり、信転性および耐久性を大幅に向上させ得
るという効果がある。
第1図は本発明の実施例におけるテクスチャ加工手段の
例を示す要部斜視図、第2図および第3図は各々C3S
テスト回数と摩擦係数との関係を示す図、第4図は交差
角度と摩擦係数との関係を示す図、第5図(a)(b)
は各々テクスチャの形状を示す要部拡大平面図である。 1:溝、2:基板。
例を示す要部斜視図、第2図および第3図は各々C3S
テスト回数と摩擦係数との関係を示す図、第4図は交差
角度と摩擦係数との関係を示す図、第5図(a)(b)
は各々テクスチャの形状を示す要部拡大平面図である。 1:溝、2:基板。
Claims (1)
- 非磁性材料からなる基板の表面に非磁性材料からなる下
地膜を介して磁性材料からなる磁性膜を設けると共に、
前記基板または下地膜の表面に基板の略円周方向に沿っ
て筋状のテクスチャを設けた磁気記録媒体において、テ
クスチャの交差角度を0.1〜20゜に形成したことを
特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1264207A JP2613947B2 (ja) | 1989-10-11 | 1989-10-11 | 磁気記録媒体 |
US07/684,956 US5225955A (en) | 1989-10-11 | 1990-10-11 | Disk-shaped magnetic recording medium having novel textured surface |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1264207A JP2613947B2 (ja) | 1989-10-11 | 1989-10-11 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03125325A true JPH03125325A (ja) | 1991-05-28 |
JP2613947B2 JP2613947B2 (ja) | 1997-05-28 |
Family
ID=17399976
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1264207A Expired - Lifetime JP2613947B2 (ja) | 1989-10-11 | 1989-10-11 | 磁気記録媒体 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5225955A (ja) |
JP (1) | JP2613947B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5478622A (en) * | 1991-05-16 | 1995-12-26 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic disk |
JP2008090907A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、磁気ディスク用ガラス基板、および磁気ディスク |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5949612A (en) * | 1995-03-21 | 1999-09-07 | Censtor Corp. | Low friction sliding hard disk drive system |
US6075677A (en) | 1995-07-27 | 2000-06-13 | Seagate Technology, Inc. | Method for positioning a read/write head to reduce wear for proximity recording in a magnetic disk storage system |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63300426A (ja) * | 1987-05-30 | 1988-12-07 | Hoya Corp | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62154322A (ja) * | 1985-12-27 | 1987-07-09 | Hitachi Metals Ltd | 磁気デイスク |
JPS62192918A (ja) * | 1986-02-19 | 1987-08-24 | Hitachi Metals Ltd | 磁気デイスク |
JPS62146434A (ja) * | 1986-08-13 | 1987-06-30 | Tdk Corp | 磁気デイスク |
JPH01273218A (ja) * | 1988-04-25 | 1989-11-01 | Mitsubishi Electric Corp | 磁気デイスク |
-
1989
- 1989-10-11 JP JP1264207A patent/JP2613947B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-10-11 US US07/684,956 patent/US5225955A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63300426A (ja) * | 1987-05-30 | 1988-12-07 | Hoya Corp | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5478622A (en) * | 1991-05-16 | 1995-12-26 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic disk |
JP2008090907A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、磁気ディスク用ガラス基板、および磁気ディスク |
JP4698546B2 (ja) * | 2006-09-29 | 2011-06-08 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5225955A (en) | 1993-07-06 |
JP2613947B2 (ja) | 1997-05-28 |
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