JPH03123761A - 芳香族ジアミンおよびそれを用いたポリイミドの製造方法 - Google Patents
芳香族ジアミンおよびそれを用いたポリイミドの製造方法Info
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- JPH03123761A JPH03123761A JP25865989A JP25865989A JPH03123761A JP H03123761 A JPH03123761 A JP H03123761A JP 25865989 A JP25865989 A JP 25865989A JP 25865989 A JP25865989 A JP 25865989A JP H03123761 A JPH03123761 A JP H03123761A
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- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は新規芳香族ジアミン及びそれをジアミン成分と
して製造されるポリイミドに関し、更に詳しくは分子内
に2個のエチニル基を有する芳香族ジアミンおよびそれ
をジアミン成分として製造されるポリイミドに関する。
して製造されるポリイミドに関し、更に詳しくは分子内
に2個のエチニル基を有する芳香族ジアミンおよびそれ
をジアミン成分として製造されるポリイミドに関する。
(従来の技術とその問題点)
芳香族複素環ポリマー、特にポリイミドは高強度、高弾
性率及び耐熱性素材として期待されている。又分子内に
ビニル基やエチニル基等の不飽和基を導入して架橋形成
能を付与させ、これらの特性を更に改善する試みもなさ
れている。
性率及び耐熱性素材として期待されている。又分子内に
ビニル基やエチニル基等の不飽和基を導入して架橋形成
能を付与させ、これらの特性を更に改善する試みもなさ
れている。
然ち、従来かかる目的に供されているモノマー原料は大
口、−官能性であったり、又、多官能であっても、重合
性能が充分でなく高分子量重合体を得るのに必しも好ま
しいものでなかった。
口、−官能性であったり、又、多官能であっても、重合
性能が充分でなく高分子量重合体を得るのに必しも好ま
しいものでなかった。
(本発明の目的)
本発明の目的とする所はかかる支障の少ない2官能性の
不飽和基を有する芳香族ジアミンを製造し、かつそれを
ジアミン成分とするポリイミドを得ることにある。
不飽和基を有する芳香族ジアミンを製造し、かつそれを
ジアミン成分とするポリイミドを得ることにある。
(問題点を解決するための手段)
本発明の要旨は、
fl) 下記一般式(I)で示される芳香族ジアミン
(式中、エチニル基の位置は2,2′または3゜3′で
ある) および (2)上記芳香族ジアミンと芳香族テトラカルボン酸二
無水物とを重合して得られるポリイミドの製造方法に存
する。
ある) および (2)上記芳香族ジアミンと芳香族テトラカルボン酸二
無水物とを重合して得られるポリイミドの製造方法に存
する。
一般式(I)で示される芳香族ジアミンの製造法は次の
工程を経て合成される。即ち対応するハロゲン化ニトロ
ベンゼン好ましくは臭素化ニトロベンゼン又はヨウ素化
ニトロベンゼンに3−メチル−1−ブチン−3オールを
付加させて後、アルカリ処理により脱アセトンさせ、ニ
トロエチニルベンゼンを合成する工程(工程−■と略す
)及びニトロエチニルベンゼンをヒドラゾ体を経由して
ベンジジン転移させて目的とする芳香族ジアミンを得る
工程(工程−■と略す)から成る。
工程を経て合成される。即ち対応するハロゲン化ニトロ
ベンゼン好ましくは臭素化ニトロベンゼン又はヨウ素化
ニトロベンゼンに3−メチル−1−ブチン−3オールを
付加させて後、アルカリ処理により脱アセトンさせ、ニ
トロエチニルベンゼンを合成する工程(工程−■と略す
)及びニトロエチニルベンゼンをヒドラゾ体を経由して
ベンジジン転移させて目的とする芳香族ジアミンを得る
工程(工程−■と略す)から成る。
工程−■の反応はE、T、5abourinプレプリン
トAC3Div、Petr、Chem、24巻 233
頁〜(1979)等の文献で既に公知であるが、その際
付加反応触媒として用いられるビストリフェニルホスフ
ィンパラジウムジクロリドの使用量をハロゲン化ニトロ
ベンゼンに対し1O−4〜5X10−”モル倍量の範囲
とすることが反応を円滑に進め且、副生成物の生成を極
力おさえる意味で好ましい。又この反応で得られる付加
物である2−メチル−(3−ニトロフェニル)−3ブチ
ン−2オールは、蒸留によっても分離可能であるが、熱
安定性が劣ることから、精製せずに次の工程へ供するの
が望ましい。
トAC3Div、Petr、Chem、24巻 233
頁〜(1979)等の文献で既に公知であるが、その際
付加反応触媒として用いられるビストリフェニルホスフ
ィンパラジウムジクロリドの使用量をハロゲン化ニトロ
ベンゼンに対し1O−4〜5X10−”モル倍量の範囲
とすることが反応を円滑に進め且、副生成物の生成を極
力おさえる意味で好ましい。又この反応で得られる付加
物である2−メチル−(3−ニトロフェニル)−3ブチ
ン−2オールは、蒸留によっても分離可能であるが、熱
安定性が劣ることから、精製せずに次の工程へ供するの
が望ましい。
又工程−■の反応はB、Robert ジャーナル
オヴ ジアメリカン ケミカル ソサイエティ67巻
930頁〜(1945)に記載されてし)る公知の反応
を利用する。該文献にはエチニル基のような活性置換基
を有する例については記載されておらず、反応温度条件
は特に示されていない0本発明では転移反応を10℃以
下で行なうことによって、セミジン、ジフエニリン型の
異性体副生やエチニル基の副反応を抑制することを可能
にした。
オヴ ジアメリカン ケミカル ソサイエティ67巻
930頁〜(1945)に記載されてし)る公知の反応
を利用する。該文献にはエチニル基のような活性置換基
を有する例については記載されておらず、反応温度条件
は特に示されていない0本発明では転移反応を10℃以
下で行なうことによって、セミジン、ジフエニリン型の
異性体副生やエチニル基の副反応を抑制することを可能
にした。
本発明の芳香族ジアミンは重合原料とする為、高純度で
あることが要求されるが、公知の再結晶法、例えばメタ
ノール等のアルコールに若干量の非溶剤(例えば水等)
を共存させることにより比較的容易に高純度の目的物を
得ることが出来る。
あることが要求されるが、公知の再結晶法、例えばメタ
ノール等のアルコールに若干量の非溶剤(例えば水等)
を共存させることにより比較的容易に高純度の目的物を
得ることが出来る。
本発明の芳香族ジアミンの特徴は極めて容易に高重合度
の架橋型ポリイミドを得ることにある。
の架橋型ポリイミドを得ることにある。
その際に用いられる酸無水物としては芳香族テトラカル
ボン酸二無水物が好ましい。芳香族テトラカルボン酸二
無水物としては下記一般式<ff)で示される化合物が
好ましく使用される。
ボン酸二無水物が好ましい。芳香族テトラカルボン酸二
無水物としては下記一般式<ff)で示される化合物が
好ましく使用される。
(Arは、フェニル基、ナフチル基または水素原子、ア
ルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子から選択され
るいずれか一種類以上を、又Zは単結合一0−−CH,
−−3−−C−1 る一種類以上を示す。) かかる芳香族テトラカルボン酸二無水物としてはピロメ
リット酸二無水物、3,4.3’、4’−ベンゾフエノ
ンテトラカルボン酸二無水物、3゜3’、4.4’−ジ
フェニルテトラカルボン酸二無水物、2.2’、3.3
’−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物、2.2′−
ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパンニ無水
物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ビス(トリ
フルオロメチル)メタンニ無水物、ヒス(3,4−ジカ
ルボキシフェニル)スルホンニ無水物、ビス(3,4−
ジカルボキシフェニル)エーテルニ無水物、ビス(3,
4−ジカルボキシフェニル)メタンニ無水物等が好まし
く挙げられる。このうち特に好ましいものとしてピロメ
リット酸二無水物、3.4.3’、4’−ジフェニルテ
トラカルボン酸二無水物が挙げられる。
ルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子から選択され
るいずれか一種類以上を、又Zは単結合一0−−CH,
−−3−−C−1 る一種類以上を示す。) かかる芳香族テトラカルボン酸二無水物としてはピロメ
リット酸二無水物、3,4.3’、4’−ベンゾフエノ
ンテトラカルボン酸二無水物、3゜3’、4.4’−ジ
フェニルテトラカルボン酸二無水物、2.2’、3.3
’−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物、2.2′−
ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパンニ無水
物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ビス(トリ
フルオロメチル)メタンニ無水物、ヒス(3,4−ジカ
ルボキシフェニル)スルホンニ無水物、ビス(3,4−
ジカルボキシフェニル)エーテルニ無水物、ビス(3,
4−ジカルボキシフェニル)メタンニ無水物等が好まし
く挙げられる。このうち特に好ましいものとしてピロメ
リット酸二無水物、3.4.3’、4’−ジフェニルテ
トラカルボン酸二無水物が挙げられる。
本発明においては一般式(1)で示される芳香族ジアミ
ンは他の公知のジアミンと併用して用いても良い。かか
るジアミンとしては、パラフェニレンジアミン、メタフ
ェニレンジアミン、ジアミノジフェニルエーテル等を例
に挙げることが出来る。
ンは他の公知のジアミンと併用して用いても良い。かか
るジアミンとしては、パラフェニレンジアミン、メタフ
ェニレンジアミン、ジアミノジフェニルエーテル等を例
に挙げることが出来る。
又、重合に使用される溶媒としては、N−メチル−2ピ
ロリドン(以下NMPと略す)、1.3−ジメチル−2
イミダゾリジノン等のアミド系溶剤が使用される。この
際溶媒に可溶な前駆体であるポリアミック酸が得られる
が、この溶液を紡出ないし成膜することによりフィルム
、繊維が得られ、これを脱溶媒加熱の段階で閉環させる
ことにより目的とするポリイミド繊維又はフィルムを得
ても良いし、又、成形前ないしは後に無水酢酸−ピリジ
ンの様なイミド閉環試薬を共存させることにより化学的
に閉環させ、目的とするポリイミドを得ても良い。
ロリドン(以下NMPと略す)、1.3−ジメチル−2
イミダゾリジノン等のアミド系溶剤が使用される。この
際溶媒に可溶な前駆体であるポリアミック酸が得られる
が、この溶液を紡出ないし成膜することによりフィルム
、繊維が得られ、これを脱溶媒加熱の段階で閉環させる
ことにより目的とするポリイミド繊維又はフィルムを得
ても良いし、又、成形前ないしは後に無水酢酸−ピリジ
ンの様なイミド閉環試薬を共存させることにより化学的
に閉環させ、目的とするポリイミドを得ても良い。
本発明のポリイミドは溶媒に不溶であり、通常の粘度溶
媒による分子量の特定は困難である。ポリイミドの前駆
体であるポリアミック酸は溶媒に可溶であり、このポリ
アミック酸のηt−h(0,2重量%NMP溶媒、30
℃)で通常0.5〜10であり、好ましくは1〜7であ
る。
媒による分子量の特定は困難である。ポリイミドの前駆
体であるポリアミック酸は溶媒に可溶であり、このポリ
アミック酸のηt−h(0,2重量%NMP溶媒、30
℃)で通常0.5〜10であり、好ましくは1〜7であ
る。
また、本発明のポリイミドはエチニル基の存在により、
成る温度以上、通常200℃以上で架橋構造を有する。
成る温度以上、通常200℃以上で架橋構造を有する。
(本発明の効果)
本発明の新規芳香族ジアミンを用いることにより、極め
て容易に高重合度ポリイミドを得る事が出来る。
て容易に高重合度ポリイミドを得る事が出来る。
また本発明により得られるポリイミドは、フィルム、繊
維等として特に有用である。
維等として特に有用である。
(実施例)
実施例−1芳香族ジアミンの製造
ステップ−12−メチル−(3−ニトロフェニル)−3
−ブチン−2−オールの合成攪拌機つき4つ目フラスコ
に3−ニトロブロムベンゼン40.5g、3−メチル−
1−ブチン−3オールを3QmI!、トリエチルアミン
を150m11ピリジンを75 m l仕込み、窒素ガ
スバブリングを行ないながら溶解させた。次いでトリフ
ェニルホスフィン0.93g、ヨウ化第−銅0.40
g 。
−ブチン−2−オールの合成攪拌機つき4つ目フラスコ
に3−ニトロブロムベンゼン40.5g、3−メチル−
1−ブチン−3オールを3QmI!、トリエチルアミン
を150m11ピリジンを75 m l仕込み、窒素ガ
スバブリングを行ないながら溶解させた。次いでトリフ
ェニルホスフィン0.93g、ヨウ化第−銅0.40
g 。
ビストリフェニルホスフィンパラジウムジクロリド0.
40 gを順に仕込み、浴温80℃の条件下でlhr加
熱反応を行なった。lhr反応時点で反応がほぼ完結し
ていることがガスクロマトグラフィーより確認された。
40 gを順に仕込み、浴温80℃の条件下でlhr加
熱反応を行なった。lhr反応時点で反応がほぼ完結し
ていることがガスクロマトグラフィーより確認された。
反応液を冷却し、析出したトリエチルアミン臭化水素塩
を濾過除去した。その際少量のトリエチルアミンで塩を
洗浄し、反応物を完全に法例へ回収した。更に300m
lの脱塩水で3回、回収液を洗浄し、硫酸マグネシウム
で一昼夜乾燥した。
を濾過除去した。その際少量のトリエチルアミンで塩を
洗浄し、反応物を完全に法例へ回収した。更に300m
lの脱塩水で3回、回収液を洗浄し、硫酸マグネシウム
で一昼夜乾燥した。
この様にして得られた反応物を含む溶液を減圧下で脱溶
媒させ、目的物を主成分とする黒色高粘度物48gを得
た。
媒させ、目的物を主成分とする黒色高粘度物48gを得
た。
ステップ−23−ニトロ−エチニルベンゼンの合成
攪拌機つき4つロフラスコにステップ−1の反応物48
g、トルエン180ml、水酸化カリウム3g、メタノ
ール20mlを加えて、徐々にトルエンを加熱溜去させ
た。ガスクロマトグラフィーヨel) 2−メチル−(
3−ニトロフェニル)−3−ブチン−2−オールの消失
が確認されるまで反応を継続した。その間適宜トルエン
を追加した。
g、トルエン180ml、水酸化カリウム3g、メタノ
ール20mlを加えて、徐々にトルエンを加熱溜去させ
た。ガスクロマトグラフィーヨel) 2−メチル−(
3−ニトロフェニル)−3−ブチン−2−オールの消失
が確認されるまで反応を継続した。その間適宜トルエン
を追加した。
反応終了後、濾過により不溶物を除去し、更にトルエン
をエバポレーターで除去して、減圧蒸留を行なった。圧
力2 mugで温度80〜86℃の頭載を本留分とし1
5gの橙色液状化合物を得た。
をエバポレーターで除去して、減圧蒸留を行なった。圧
力2 mugで温度80〜86℃の頭載を本留分とし1
5gの橙色液状化合物を得た。
ステップ−3アゾ化合物の合成
攪拌機つき4つロフラスコにステップ−2で得られた反
応物12g、亜鉛粉末16g1エチルアルコール80m
1、及び30重量%苛性ソーダ水溶液4 Qmffを加
え、沸点温度でlhr反応を行なった。更にエチルアル
コールをほぼ溜去させた後、濾過した。炉残をトルエン
100m1で洗浄が過した。集められた母液よりトルエ
ン相を分液回収し、エバポレーターによりトリエンを除
去した。橙色固体8gを回収した。
応物12g、亜鉛粉末16g1エチルアルコール80m
1、及び30重量%苛性ソーダ水溶液4 Qmffを加
え、沸点温度でlhr反応を行なった。更にエチルアル
コールをほぼ溜去させた後、濾過した。炉残をトルエン
100m1で洗浄が過した。集められた母液よりトルエ
ン相を分液回収し、エバポレーターによりトリエンを除
去した。橙色固体8gを回収した。
ステップ−4ヒドラゾ化合物の合成
攪拌機つき4つロフラスコにステップ−3で得られた反
応物5.3g、エチルアルコール60mA、酢酸6ml
を加え沸点温度にまで加熱した後、亜鉛粉末をただちに
加えた。系内の橙色はただちに退色した。
応物5.3g、エチルアルコール60mA、酢酸6ml
を加え沸点温度にまで加熱した後、亜鉛粉末をただちに
加えた。系内の橙色はただちに退色した。
反応内容物を次亜硫酸ソーダ0.1重量%を含む70℃
の水溶液に落した。これをが過し炉残はエチルアルコー
ルで洗浄し水溶液に加えた。次第に乳液状態から凝集が
始まり沈殿分離してくるのでが過回収し60℃で減圧乾
燥して、淡黄色固体4.5gを得た。
の水溶液に落した。これをが過し炉残はエチルアルコー
ルで洗浄し水溶液に加えた。次第に乳液状態から凝集が
始まり沈殿分離してくるのでが過回収し60℃で減圧乾
燥して、淡黄色固体4.5gを得た。
ステップ−5転移反応物の合成
撹拌機つき4つロフラスコにステップ−4の反応物4g
と40 m lのジエチルエーテルを加え、ついで37
%塩酸/脱塩水(=50150、容積比)からなる冷塩
酸160mj!を加えた。水浴中で0.5hr攪拌を継
続すると次第に固形物の析出が認められた。濾過、エチ
ルアルコール洗浄をくりかえし、減圧乾燥を行ない、塩
酸塩化合物2gを得た。
と40 m lのジエチルエーテルを加え、ついで37
%塩酸/脱塩水(=50150、容積比)からなる冷塩
酸160mj!を加えた。水浴中で0.5hr攪拌を継
続すると次第に固形物の析出が認められた。濾過、エチ
ルアルコール洗浄をくりかえし、減圧乾燥を行ない、塩
酸塩化合物2gを得た。
次にこの塩酸塩2gを20 m 12の脱塩水に溶解し
、20%苛性ソーダ水溶液が若干塩基性になるまで加え
、沈殿してきた塩基性化合物を得た。
、20%苛性ソーダ水溶液が若干塩基性になるまで加え
、沈殿してきた塩基性化合物を得た。
得られた塩基性化合物を5mAのメチルアルコールに再
溶解し2mAの脱塩水を加えて一昼夜放置すると析出が
生じた。これを回収し60℃で減圧乾燥し1.1gの固
体を得た。この化合物は元素分析及びNMR(第1図参
照)の結果より2.2′−ジエチニルベンジジンである
ことが確認された。
溶解し2mAの脱塩水を加えて一昼夜放置すると析出が
生じた。これを回収し60℃で減圧乾燥し1.1gの固
体を得た。この化合物は元素分析及びNMR(第1図参
照)の結果より2.2′−ジエチニルベンジジンである
ことが確認された。
元素分析結果
CHN
測定値 82.53 5.24 12.05計算
値 82.76 5.17 12.07NMR結
果(溶媒 D M S O−d h) (第1図参照)
6.4〜7 ppm 芳香環水素 5.2 ppm −NH2 3、8ppm −C=CH 実施例−2 攪拌機つき4つ目フラスコに窒素ガスを流しながら、2
.2′ジェチニルベンジジン1.593g。
値 82.76 5.17 12.07NMR結
果(溶媒 D M S O−d h) (第1図参照)
6.4〜7 ppm 芳香環水素 5.2 ppm −NH2 3、8ppm −C=CH 実施例−2 攪拌機つき4つ目フラスコに窒素ガスを流しながら、2
.2′ジェチニルベンジジン1.593g。
ピロメリット酸無水物1.504g、N−メチルピロリ
ドン−2(NMP)を3 Q m l仕込んで室温でl
hr攪拌行なったところ極めて高粘度のポリアミック酸
溶液が得られた。
ドン−2(NMP)を3 Q m l仕込んで室温でl
hr攪拌行なったところ極めて高粘度のポリアミック酸
溶液が得られた。
コ(7) モ(7) (7) 0.2 % N M P
tM度での(30℃)η17、は5.79であった。
tM度での(30℃)η17、は5.79であった。
実施例−3
実施例−2で得られたポリアミック酸溶液に溶液粘度を
下げる目的で更にNMPを加え約5%の溶液とした。こ
の溶液に仕込みジアミンに対し6モル倍量の無水酢酸及
び0.6モル倍量のピリジンを加え攪拌混合を行なった
。得られた溶液をガラス板上に流延し真空乾燥機内で室
温下で3hr脱泡を行なった。
下げる目的で更にNMPを加え約5%の溶液とした。こ
の溶液に仕込みジアミンに対し6モル倍量の無水酢酸及
び0.6モル倍量のピリジンを加え攪拌混合を行なった
。得られた溶液をガラス板上に流延し真空乾燥機内で室
温下で3hr脱泡を行なった。
次にエアオープンに移し、室温から段階的に250℃ま
で加熱し、最終的に褐色の透明フィルムを得た。
で加熱し、最終的に褐色の透明フィルムを得た。
各温度で得られたフィルムのIRスペクトルを第2図(
80℃×10分間後)、第3図(250℃×10分間後
)に示した。3300cm−’のエチニル基の吸収が最
終的に250℃で消失して架橋ポリイミドの形成が確認
される。
80℃×10分間後)、第3図(250℃×10分間後
)に示した。3300cm−’のエチニル基の吸収が最
終的に250℃で消失して架橋ポリイミドの形成が確認
される。
第1図は実施例1で得られた芳香族ジアミンのNMRス
ペクトルを示し、第2図および第3図は実施例3で得ら
れたポリイミドのIRスペクトルを示す。
ペクトルを示し、第2図および第3図は実施例3で得ら
れたポリイミドのIRスペクトルを示す。
Claims (2)
- (1)下記一般式( I )で示される芳香族ジアミン。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・( I ) (式中、エチニル基の位置は2、2′または3、3′で
ある、) - (2)請求項1記載の芳香族ジアミンと芳香族テトラカ
ルボン酸二無水物とを重合して得られるポリイミドの製
造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25865989A JPH03123761A (ja) | 1989-10-05 | 1989-10-05 | 芳香族ジアミンおよびそれを用いたポリイミドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25865989A JPH03123761A (ja) | 1989-10-05 | 1989-10-05 | 芳香族ジアミンおよびそれを用いたポリイミドの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03123761A true JPH03123761A (ja) | 1991-05-27 |
Family
ID=17323322
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25865989A Pending JPH03123761A (ja) | 1989-10-05 | 1989-10-05 | 芳香族ジアミンおよびそれを用いたポリイミドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03123761A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI656174B (zh) * | 2014-04-21 | 2019-04-11 | 日商Jsr股份有限公司 | 液晶配向劑、液晶配向膜的製造方法、液晶顯示元件、聚合物及化合物 |
-
1989
- 1989-10-05 JP JP25865989A patent/JPH03123761A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI656174B (zh) * | 2014-04-21 | 2019-04-11 | 日商Jsr股份有限公司 | 液晶配向劑、液晶配向膜的製造方法、液晶顯示元件、聚合物及化合物 |
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