JPH03112885A - 単結晶引き上げ時の結晶ダイの検知方法 - Google Patents
単結晶引き上げ時の結晶ダイの検知方法Info
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- JPH03112885A JPH03112885A JP24810089A JP24810089A JPH03112885A JP H03112885 A JPH03112885 A JP H03112885A JP 24810089 A JP24810089 A JP 24810089A JP 24810089 A JP24810089 A JP 24810089A JP H03112885 A JPH03112885 A JP H03112885A
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Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、単結晶引き上げ時の結晶ダイの検知方法に関
する。
する。
〈従来の技術〉
ルツボ内で半導体原料を溶融して結晶インゴットを育成
していくチョクラルスキー法による半導体の単結晶引上
機の従来例については、第3図に示すように、炉本体1
の内部に、原料であるシリコンの融液2を蓄える石英ル
ツボ3がサセプタ支持シャフト4で支持されるサセプタ
5に載置され、サセプタ支持シャフト4は駆動モータ6
によって回転自在とされる0石英ルツボ3の外周には、
石英ルツボ3を加熱するヒータ7が配置され、ヒータ7
と炉本体1の内壁との間には保温材8が介装されている
。
していくチョクラルスキー法による半導体の単結晶引上
機の従来例については、第3図に示すように、炉本体1
の内部に、原料であるシリコンの融液2を蓄える石英ル
ツボ3がサセプタ支持シャフト4で支持されるサセプタ
5に載置され、サセプタ支持シャフト4は駆動モータ6
によって回転自在とされる0石英ルツボ3の外周には、
石英ルツボ3を加熱するヒータ7が配置され、ヒータ7
と炉本体1の内壁との間には保温材8が介装されている
。
また、炉本体1の上部にはインゴット格納部9が設けら
れ、その頂部にワイヤ引上シャフト10゜ワイヤ引上モ
ータ11. シード回転モータ12が一体的に組み付
けて構成され、ワイヤ引上シャツ目0には昇降自在とさ
れるワイヤ13が巻き付けられ、このワイヤ13の下端
にはシードチャック14が取付けられ、単結晶を成長さ
せる核となる種結晶(以下、シードというN5が融液2
に浸漬して保持される。
れ、その頂部にワイヤ引上シャフト10゜ワイヤ引上モ
ータ11. シード回転モータ12が一体的に組み付
けて構成され、ワイヤ引上シャツ目0には昇降自在とさ
れるワイヤ13が巻き付けられ、このワイヤ13の下端
にはシードチャック14が取付けられ、単結晶を成長さ
せる核となる種結晶(以下、シードというN5が融液2
に浸漬して保持される。
そして、シード回転モータ12を回転することによって
ワイヤ13はワイヤ軸を中心とした回転が与えられ、さ
らにワイヤ引上モータ11を回転することによってワイ
ヤ引上シャフト10を駆動してワイヤ13を巻き上げる
ことにより、シード15が回転しながら上方に引き上げ
られ、このシード15の下端に単結晶16が成長してい
くのである。
ワイヤ13はワイヤ軸を中心とした回転が与えられ、さ
らにワイヤ引上モータ11を回転することによってワイ
ヤ引上シャフト10を駆動してワイヤ13を巻き上げる
ことにより、シード15が回転しながら上方に引き上げ
られ、このシード15の下端に単結晶16が成長してい
くのである。
このような単結晶引上装置において、融液2から単結晶
16を引き上げる際に、単結晶性を保ったまま引き上げ
ているのが一般的であり、その単結晶性は通常次のよう
にして判断される。
16を引き上げる際に、単結晶性を保ったまま引き上げ
ているのが一般的であり、その単結晶性は通常次のよう
にして判断される。
すなわち、単結晶であるときには、結晶成長速度が結晶
方位によって異なることにより、結晶回りに凸壁線が生
じる。これをオペレータが肉眼で観察し、凸壁線が消え
たときオペレータの判断で結晶を切り離すことにしてい
る。
方位によって異なることにより、結晶回りに凸壁線が生
じる。これをオペレータが肉眼で観察し、凸壁線が消え
たときオペレータの判断で結晶を切り離すことにしてい
る。
また、他の方法では、例えば特開昭58−194797
号公報に開示されているように、メニスカス部を含む輝
度の高い領域を光検出器によって検出し、この検出信号
と結晶の回転数に比例する予め定めた特定の交流成分と
基準設定信号とを比較して、検出信号の振幅が所定値よ
り小さくなることから成長稜の消滅時点を検出し、自動
的に結晶を融液から切り離すという方法が提案されてい
る。
号公報に開示されているように、メニスカス部を含む輝
度の高い領域を光検出器によって検出し、この検出信号
と結晶の回転数に比例する予め定めた特定の交流成分と
基準設定信号とを比較して、検出信号の振幅が所定値よ
り小さくなることから成長稜の消滅時点を検出し、自動
的に結晶を融液から切り離すという方法が提案されてい
る。
〈発明が解決しようとする課題〉
しかしながら、上記した従来の方法ではいずれも、結晶
のダイ(多結晶化)が起こってから検知するまでの時間
が長くかかってしまうという欠点がある。この理由とし
て、前者の方法の場合は、結晶と融液の界面であるメニ
スカス部の輝度が高く、そのためオペレータの眼では判
断が難しいからである。また、後者のメニスカスの輝度
の強度を検出する方法では、対象の結晶がvJいている
ことや、凸壁線の高さが1mm以下程度と小さいことに
より、正確に凸壁線の有無を確認することが困難である
という問題がある。
のダイ(多結晶化)が起こってから検知するまでの時間
が長くかかってしまうという欠点がある。この理由とし
て、前者の方法の場合は、結晶と融液の界面であるメニ
スカス部の輝度が高く、そのためオペレータの眼では判
断が難しいからである。また、後者のメニスカスの輝度
の強度を検出する方法では、対象の結晶がvJいている
ことや、凸壁線の高さが1mm以下程度と小さいことに
より、正確に凸壁線の有無を確認することが困難である
という問題がある。
本発明は、上記のような課題を解決すべくなされたもの
であって、単結晶引き上げ時における結晶ダイを早期に
かつ正確に検知する方法を提供することを目的とする。
であって、単結晶引き上げ時における結晶ダイを早期に
かつ正確に検知する方法を提供することを目的とする。
〈課題を解決するための手段〉
本発明は、結晶融液を引き上げ凝固させて単結晶を製造
するに際し、結晶と融液の界面の間にビーム光を照射し
、その反射位置と反射光強度を所定の周期でサンプリン
グし、前記反射位置または反射光強度の変化をもとにし
て結晶ダイを検知することを特徴とする単結晶引き上げ
時の結晶ダイの検知方法である。
するに際し、結晶と融液の界面の間にビーム光を照射し
、その反射位置と反射光強度を所定の周期でサンプリン
グし、前記反射位置または反射光強度の変化をもとにし
て結晶ダイを検知することを特徴とする単結晶引き上げ
時の結晶ダイの検知方法である。
〈作 用〉
本発明者は、直接結晶の形状から結晶ダイを検出する方
法とは別に、結晶のまわりの融液の様子から逆に凸壁線
の有無を検知することができないかどうかと考え、ビー
ム光を結晶付近の融液表面に当てて、その反射の挙動を
調べた結果、凸壁線があるときとないときとでその反射
の挙動が明らかに異なることが判明した。その反射の挙
動が異なる原因は、凸壁線の形状が表面流れに影響を及
ぼしているためと考えられ、したがって、その挙動を正
確にとらえることによって、結晶ダイを検知することが
できる。
法とは別に、結晶のまわりの融液の様子から逆に凸壁線
の有無を検知することができないかどうかと考え、ビー
ム光を結晶付近の融液表面に当てて、その反射の挙動を
調べた結果、凸壁線があるときとないときとでその反射
の挙動が明らかに異なることが判明した。その反射の挙
動が異なる原因は、凸壁線の形状が表面流れに影響を及
ぼしているためと考えられ、したがって、その挙動を正
確にとらえることによって、結晶ダイを検知することが
できる。
すなわち、本発明によれば、結晶と融液の界面の間に照
射したビーム光の反射位置または反射光強度の変化を時
系列的に解析するようにしたので、凸壁線の発生の有無
を判別することができ、これによって、結晶ダイの有無
を検知することが可能である。
射したビーム光の反射位置または反射光強度の変化を時
系列的に解析するようにしたので、凸壁線の発生の有無
を判別することができ、これによって、結晶ダイの有無
を検知することが可能である。
〈実施例〉
以下に、本発明の実施例について、第1図を参照して説
明する。なお、図中、従来例と同一のものは同一の符号
を付して説明を省略する。
明する。なお、図中、従来例と同一のものは同一の符号
を付して説明を省略する。
図に示すように、炉本体Iの一部に、石英ルツボ3内の
結晶16と融液2の界面との間のメニスカスにビーム光
を投光する投光窓17とその照射像へを観測する観察窓
18とが設けられ、投光窓17の外部にはビーム光投光
器19が、また観察窓18の外側には2次元光学素子2
0がそれぞれ取付けられる。
結晶16と融液2の界面との間のメニスカスにビーム光
を投光する投光窓17とその照射像へを観測する観察窓
18とが設けられ、投光窓17の外部にはビーム光投光
器19が、また観察窓18の外側には2次元光学素子2
0がそれぞれ取付けられる。
なお、メニスカスの照射像Aは、光学フィルタ21を通
過した後、カメラレンズ22により2次元光学素子20
の撮像面に結像するように予め調整される。
過した後、カメラレンズ22により2次元光学素子20
の撮像面に結像するように予め調整される。
2次元光学素子20による像はアナログ電気信号として
測定制御装置23に人力されて演算処理が施される。こ
の測定制御装置23は、光学素子インターフェース24
.フレームメモリ25.共通バス26゜中央演算処理装
置271時系列データメモリ28.スペクトルデータメ
モリ29.デイスプレィ30.プリンタ31.記録装置
32から構成される。
測定制御装置23に人力されて演算処理が施される。こ
の測定制御装置23は、光学素子インターフェース24
.フレームメモリ25.共通バス26゜中央演算処理装
置271時系列データメモリ28.スペクトルデータメ
モリ29.デイスプレィ30.プリンタ31.記録装置
32から構成される。
そして、2次元光学素子20からのアナログ電気信号は
、光学素子インターフェース24に人力されてサンプル
ホールド、アナログ/デジタル変換がなされてフレーム
メモリ25に格納され、このフレームメモリ25での画
像信号を共通バス26を介して中央演算処理装置27が
アクセスして、照射画像Aの位置を決めるため必要な計
算を行い、そのXy平面におけるX軸方向およびX軸方
向の位置信号の値を時系列データメモリ28にメモリさ
せる。
、光学素子インターフェース24に人力されてサンプル
ホールド、アナログ/デジタル変換がなされてフレーム
メモリ25に格納され、このフレームメモリ25での画
像信号を共通バス26を介して中央演算処理装置27が
アクセスして、照射画像Aの位置を決めるため必要な計
算を行い、そのXy平面におけるX軸方向およびX軸方
向の位置信号の値を時系列データメモリ28にメモリさ
せる。
この位置信号を時系列的に採取し、適当なデータ数に達
したところで再度中央演算処理装置27に送り込み、必
要なスペクトル解析を行ってスペクトルデータメモリ2
9にメモリさせるとともに、デイスプレィ30やプリン
タ31に出力表示し、また記録装置32に記録させる。
したところで再度中央演算処理装置27に送り込み、必
要なスペクトル解析を行ってスペクトルデータメモリ2
9にメモリさせるとともに、デイスプレィ30やプリン
タ31に出力表示し、また記録装置32に記録させる。
これと同時に、スペクトルに影響を与える諸量を綱べる
ために、シード回転数センサ33.シード引上速度セン
サ34.ルツボ回転数センサ35.を通してセンサイン
クフェース36で変換された後、必要とあれば中央演算
処理装置27でデイスプレィ30やプリンタ31に出力
表示し、あるいは記録装置32に記録させることができ
る。
ために、シード回転数センサ33.シード引上速度セン
サ34.ルツボ回転数センサ35.を通してセンサイン
クフェース36で変換された後、必要とあれば中央演算
処理装置27でデイスプレィ30やプリンタ31に出力
表示し、あるいは記録装置32に記録させることができ
る。
そこで、投光器19でメニスカス部にビーム光を照射し
、2次元光学素子20として例えば画面のゆがみを生じ
ることのない固体撮像型カメラあるいは2次元PSDな
どを用いて、その反射位置を写した。2次元光学素子2
0の照射像Aの一例を第2図に示した。
、2次元光学素子20として例えば画面のゆがみを生じ
ることのない固体撮像型カメラあるいは2次元PSDな
どを用いて、その反射位置を写した。2次元光学素子2
0の照射像Aの一例を第2図に示した。
この照射像への中には、結晶の凸壁線のない部分で観察
される反射位lA、 、凸壁線のある部分で観察される
反射位置へ〇の他に、結晶16と融液2の接触面で生じ
る面積の大きい高輝度部分を含んでおり、したがって、
画像全面にわたって重心をとると好ましくないデータと
なる。これを避けるためには、以下の2つの方法により
対処した。
される反射位lA、 、凸壁線のある部分で観察される
反射位置へ〇の他に、結晶16と融液2の接触面で生じ
る面積の大きい高輝度部分を含んでおり、したがって、
画像全面にわたって重心をとると好ましくないデータと
なる。これを避けるためには、以下の2つの方法により
対処した。
■ 照射像へのとらえる範囲は第2図のままとして、高
輝度部分が複数あるときにその面積を算出し、一定面積
以下の高輝度部分のみを取り出すハードウェアあるいは
ソフトウェアを付加して常時とらえる方法。
輝度部分が複数あるときにその面積を算出し、一定面積
以下の高輝度部分のみを取り出すハードウェアあるいは
ソフトウェアを付加して常時とらえる方法。
■ 照射像へのとらえる範囲は第2図より小さくし、そ
の領域に照射像があるかないかで判定する方法。
の領域に照射像があるかないかで判定する方法。
まず、方法■について説明すると、第2図で照射像Aと
判断された点について、その点の画素の重心を求める。
判断された点について、その点の画素の重心を求める。
その結果を時系列的にならべたものが第3図である。そ
のときの条件は結晶回転数が12 rp+w、結晶方位
は(100)である、このため、結晶は4回対称となり
、凸壁線は4木生じる。したがって、点を固定すると、
結晶が回転に要する時間は5 s (=60/12)で
あるから、1.25秒(=5/4)毎に凸壁が通過する
ことになり、位置も1゜25秒毎に変わることが予想さ
れる。第3図によれば、1.25秒毎に位置が変わって
いるため、この予想が正しいことを裏づけでいる。
のときの条件は結晶回転数が12 rp+w、結晶方位
は(100)である、このため、結晶は4回対称となり
、凸壁線は4木生じる。したがって、点を固定すると、
結晶が回転に要する時間は5 s (=60/12)で
あるから、1.25秒(=5/4)毎に凸壁が通過する
ことになり、位置も1゜25秒毎に変わることが予想さ
れる。第3図によれば、1.25秒毎に位置が変わって
いるため、この予想が正しいことを裏づけでいる。
その検出の具体的方法として、例えばスペクトルをとっ
てピークが所定の位置に生じているかどうかを確かめれ
ばよい、このスペクトルをとるには、FFTあるいは線
型予測法を用いればよい。
てピークが所定の位置に生じているかどうかを確かめれ
ばよい、このスペクトルをとるには、FFTあるいは線
型予測法を用いればよい。
また、ピークの来たるべき位置は、結晶回転数と結晶方
位によつて決まるため、回転数をモニタすればよい、第
4図は、第3図における照射像位置の時間的変化のパワ
ースペクトル強度を示したものであり、振動数0.75
11zにおいてピークが出現していることがわかる。
位によつて決まるため、回転数をモニタすればよい、第
4図は、第3図における照射像位置の時間的変化のパワ
ースペクトル強度を示したものであり、振動数0.75
11zにおいてピークが出現していることがわかる。
結晶性が消失した場合、すなわちダイか起こった場合の
照射像への位置変化を第5図に示す、このときは凸壁が
ないため、絶えず照射像Aは一定の位置にある。これを
スペクトル解析すると、第6図のようになり、ピークは
生じない。
照射像への位置変化を第5図に示す、このときは凸壁が
ないため、絶えず照射像Aは一定の位置にある。これを
スペクトル解析すると、第6図のようになり、ピークは
生じない。
以上から、結晶性の消失が起こった位置をショルダ位置
からの距離として調べたのが、第7図である0本方法は
従来法と比べてよい結果が得られることが明白である。
からの距離として調べたのが、第7図である0本方法は
従来法と比べてよい結果が得られることが明白である。
なお、図中における実結晶は、引き上げが終わったのち
に結晶を取り出し、凸壁が生じている部分の長さを正常
部として測定した値である。
に結晶を取り出し、凸壁が生じている部分の長さを正常
部として測定した値である。
つぎに、方法■の場合については、まず小さい領域内の
光の強度に着目して、その有無を検出する。その結果を
第8図に示す、この図でも周期性が生じていることがわ
かる。結晶性が消失した場合の状況は、前出第5図と同
様である。また周期性の判定も同様である。
光の強度に着目して、その有無を検出する。その結果を
第8図に示す、この図でも周期性が生じていることがわ
かる。結晶性が消失した場合の状況は、前出第5図と同
様である。また周期性の判定も同様である。
〈発明の効果〉
以上説明したように、本発明によれば、ダイを早期にし
かも人手の介入によらず検知することができるから、製
品の歩留りの向上や省力化の面などにおいて大なる効果
があり、その有用性は大きい。
かも人手の介入によらず検知することができるから、製
品の歩留りの向上や省力化の面などにおいて大なる効果
があり、その有用性は大きい。
第1図は、本発明方法を実施する具体的な構成図、第2
図は、本発明の実施の過程で得られる照射像とフユージ
qンリングの像を示す模式図、第3図は、ダイか起こっ
ていないときの照射像位置の時間的変化を示す特性図、
第4図は、第3図での時間的変化のパワースペクトル強
度分布を示す特性図、第5図は、ダイか起こったときの
照射像位置の時間的変化を示す特性図、第6図は、第5
図での時間的変化のパワースペクトル強度分布を示す特
性図、第7図は、従来方法と本発明によるダイ位置の検
出例を比較して示す特性図、第8図は、光の強度分布を
示す特性図、第9図は、単結晶引上機の従来例を示す構
成図である。 2・・・融液、 3・・・石英ルツボ、 13・・
・ワイヤ。 15・・・シード(種結晶)、16・・・結晶、17・
・・投光窓、18・・・観察窓、19・・・ビーム光投
光器。 20・・・2次元光学素子(2次元1最像装置)、21
・・・光学フィルタ、22・・・カメラレンズ、23・
・・測定制御装置、24・・・光学素子インターフェー
ス、25・・・フレームメモリ、27・・・中央演算処
理装置、2日・・・時系列データメモリ、29・・・ス
ペクトルデータメモリ、33・・・シード回転数センサ
、34・・・シード引上速度センサ、35・・・ルツボ
回転数センサ、36・・・センサインタフェース、 A
・・・観測像。
図は、本発明の実施の過程で得られる照射像とフユージ
qンリングの像を示す模式図、第3図は、ダイか起こっ
ていないときの照射像位置の時間的変化を示す特性図、
第4図は、第3図での時間的変化のパワースペクトル強
度分布を示す特性図、第5図は、ダイか起こったときの
照射像位置の時間的変化を示す特性図、第6図は、第5
図での時間的変化のパワースペクトル強度分布を示す特
性図、第7図は、従来方法と本発明によるダイ位置の検
出例を比較して示す特性図、第8図は、光の強度分布を
示す特性図、第9図は、単結晶引上機の従来例を示す構
成図である。 2・・・融液、 3・・・石英ルツボ、 13・・
・ワイヤ。 15・・・シード(種結晶)、16・・・結晶、17・
・・投光窓、18・・・観察窓、19・・・ビーム光投
光器。 20・・・2次元光学素子(2次元1最像装置)、21
・・・光学フィルタ、22・・・カメラレンズ、23・
・・測定制御装置、24・・・光学素子インターフェー
ス、25・・・フレームメモリ、27・・・中央演算処
理装置、2日・・・時系列データメモリ、29・・・ス
ペクトルデータメモリ、33・・・シード回転数センサ
、34・・・シード引上速度センサ、35・・・ルツボ
回転数センサ、36・・・センサインタフェース、 A
・・・観測像。
Claims (1)
- 結晶融液を引き上げ凝固させて単結晶を製造するに際し
、結晶と融液の界面の間にビーム光を照射し、その反射
位置と反射光強度を所定の周期でサンプリングし、前記
反射位置または反射光強度の変化をもとにして結晶ダイ
を検知することを特徴とする単結晶引き上げ時の結晶ダ
イの検知方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24810089A JPH03112885A (ja) | 1989-09-26 | 1989-09-26 | 単結晶引き上げ時の結晶ダイの検知方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24810089A JPH03112885A (ja) | 1989-09-26 | 1989-09-26 | 単結晶引き上げ時の結晶ダイの検知方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03112885A true JPH03112885A (ja) | 1991-05-14 |
Family
ID=17173220
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24810089A Pending JPH03112885A (ja) | 1989-09-26 | 1989-09-26 | 単結晶引き上げ時の結晶ダイの検知方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03112885A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06271389A (ja) * | 1993-03-23 | 1994-09-27 | Sumitomo Sitix Corp | シリコン単結晶の製造方法およびその装置 |
US5656078A (en) * | 1995-11-14 | 1997-08-12 | Memc Electronic Materials, Inc. | Non-distorting video camera for use with a system for controlling growth of a silicon crystal |
US5665159A (en) * | 1995-06-02 | 1997-09-09 | Memc Electronic Materials, Inc. | System for controlling growth of a silicon crystal |
US5846318A (en) * | 1997-07-17 | 1998-12-08 | Memc Electric Materials, Inc. | Method and system for controlling growth of a silicon crystal |
US6171391B1 (en) | 1998-10-14 | 2001-01-09 | Memc Electronic Materials, Inc. | Method and system for controlling growth of a silicon crystal |
JP2009256156A (ja) * | 2008-04-21 | 2009-11-05 | Sumco Corp | シリコン単結晶の育成方法 |
-
1989
- 1989-09-26 JP JP24810089A patent/JPH03112885A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06271389A (ja) * | 1993-03-23 | 1994-09-27 | Sumitomo Sitix Corp | シリコン単結晶の製造方法およびその装置 |
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US6171391B1 (en) | 1998-10-14 | 2001-01-09 | Memc Electronic Materials, Inc. | Method and system for controlling growth of a silicon crystal |
JP2009256156A (ja) * | 2008-04-21 | 2009-11-05 | Sumco Corp | シリコン単結晶の育成方法 |
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