JPH10142063A - 単結晶表面の温度測定方法 - Google Patents

単結晶表面の温度測定方法

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JPH10142063A
JPH10142063A JP31879196A JP31879196A JPH10142063A JP H10142063 A JPH10142063 A JP H10142063A JP 31879196 A JP31879196 A JP 31879196A JP 31879196 A JP31879196 A JP 31879196A JP H10142063 A JPH10142063 A JP H10142063A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 チョクラルスキー法炉内で成長中の単結晶表
面温度を簡易な方法で正確に求めることのできる方法を
提供すること。 【解決手段】 チョクラルスキー法により単結晶を製造
する方法において、単結晶ロッドと溶融液との境界部に
発現するブライトリングを、近赤外までの感度を有する
二次元CCD赤外線カメラを用いて観測し、ブライトリ
ングの輝度温度分布を求め、その最高放射輝度から求め
られる外乱光反射成分を差し引くことにより求められる
ことを特徴とする単結晶表面の温度測定方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体用シリコン
などの単結晶をチョクラルスキー法(CZ法という。)
により製造する際の単結晶表面の温度測定方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】IC、LSIなどの製造に用いるシリコ
ンなどの単結晶は、通常CZ法により製造されている。
CZ法は、図6に示すように高純度の石英坩堝2の中に
シリコン多結晶を入れ、回転軸7により石英坩堝2を回
転させながら外部からヒータにより加熱溶融し、このシ
リコン多結晶の溶融液9中に引き上げワイヤー6の先端
部に支持されたシリコン多結晶(種結晶)を浸漬して、
次いで引き上げワイヤー6をゆっくりと引き上げながら
徐冷し、シリコンの多結晶を単結晶10に転化すること
によりシリコン単結晶を製造するものである。
【0003】この場合、引き上げ時のシリコン単結晶表
面温度を正確に求めることは、生産ロスを防止して製品
歩留まりを高めるうえで極めて重要であり、信頼性の高
い温度測定方法が求められている。
【0004】従来、かかる測定方法としてはヒーター温
度、溶融液内温度、溶融液と結晶との界面温度から結晶
中の温度勾配を測定する方法(特開昭59−22779
7号公報)が提案されている。また、歩留まりを向上さ
せるために結晶の直径、振れ幅、溶融液面の高さ及び振
動等を検知する手段としてCCDカメラ等が用いられて
いる(特開昭63−100097号公報、特開昭63−
170296号公報、特開平2−102187号公報及
び特開平4−12233号公報)。しかしながら、図6
に示すようにCZ炉内で成長中の単結晶表面温度をCC
Dカメラ3を用いて測定しようとしても、該単結晶表面
の放射像と側面ヒーターからの放射の高輝度反射像等が
重畳しているため複雑な補正が必要となるとともに正確
な温度を求めることはできなかった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、CZ炉内で成長中の単結晶表面温度を簡易な方法で
正確に求めることのできる方法を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】かかる実情において、本
発明者は鋭意検討を行った結果、意外にも単結晶表面
部、すなわちブライトリング上方でかつ近傍の高放射率
部とブライトリングの輝度温度分布の最高輝度部が外乱
の反射光量を同一量受けていることを見い出し、本発明
を完成するに至った。すなわち、本発明は、チョクラル
スキー法により単結晶を製造する方法において、単結晶
ロッドと溶融液との境界部に発現するブライトリング
を、近赤外までの感度を有する二次元CCD赤外線カメ
ラを用いて観測し、ブライトリングの輝度温度分布を求
め、その最高放射輝度から求められる外乱光反射成分を
差し引くことにより求めることを特徴とする単結晶表面
の温度測定方法を提供するものである。
【0007】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図1〜図5
を参照しながら説明する。図1及び図2はブライトリン
グとその観測範囲を示した模式図である。図3はCCD
カメラにより観測されるブライトリング近傍の輝度温度
分布曲線を示し、横軸はY軸方向に沿う位置を、縦軸は
放射輝度の強さを示す。CCDカメラの映像をパソコン
に取り込み画像処理を行う場合の座標設定は通常画面の
左から右へX軸(正)、画面上から下へY軸(正)にと
るため、窓部の方がブライトリングよりもY軸上原点に
近い位置となる。図4は単結晶の窓部の放射輝度とブラ
イトリングの最高放射輝度の関係を示す図である。図5
は単結晶窓部の温度分布を示す図である。図中、窓部と
ブライトリングの境界付近はヒーター等からの反射の影
響が大きく窓部温度分布を計測する方法では正確な温度
測定は行えないため、一部が破断した表示となる。図1
に示すように観測するブライトリング13は、チョクラ
ルスキー法により単結晶を製造する際、単結晶ロッド1
1と側面ヒーターからの熱反射像が重畳して形成される
ものであり、単結晶ロッド11と溶融液12との界面部
に発現するものである。
【0008】本発明の方法では、近赤外までの感度を有
する二次元CCD赤外線カメラを用いて上記ブライトリ
ング13を観測する。これは、外乱光である黒鉛ヒータ
ーなどの反射光の影響をできるだけ排除するためであ
る。また、近赤外までの波長帯域としては、特に制限さ
れないが、700〜1100nmとするのが好ましい。
【0009】さらに、本発明は上記二次元CCDカメラ
を用いるため、ブライトリングの観測範囲16におい
て、図1に示すように二次元で輝度を観測することがで
きる。観測方向としては、特に制限されないが、矢印方
向(Y軸方向)に観測することが好ましい。観測範囲1
6の一部を拡大したものを図2に、また、観測結果で得
られたY軸方向の輝度温度の分布曲線を図3に示した。
図3のブライトリングの輝度温度分布の最高放射輝度1
4は単結晶の凝固点と一致する。図1及び図3から、単
結晶の表面温度、すなわちブライトリングの上方でかつ
近傍に位置し、外乱光が極めて少ない高放射率部15
(図1中、一点鎖線で示された部分であり、以下説明の
便宜上「窓部」という)とブライトリング部13は、後
者が高い放射輝度勾配を示すことから、図3中の鉛直方
向に描いた一点鎖線を境界として明確に区別できること
がわかる。
【0010】次に、本発明において、窓部15の温度分
布は次の手順で求めることができる。まず、ブライトリ
ング部における外乱光による反射成分を求める。すなわ
ち、図3において、上記の如く、ブライトリング部の最
高放射輝度14が単結晶の凝固点と一致するが、この凝
固点温度は文献より明らかであるので(Si単結晶の凝
固点は1420℃)、輝度−温度交換式により求められ
る温度と該凝固点を比較し、その差を外乱光による反射
成分として求めておく。
【0011】次に、ブライトリング内の最高放射輝度と
窓部の放射輝度の関係を求めたところ図4の破線で示さ
れるように、その関係は比例関係にあることからブライ
トリングの部分と窓部では同量の外乱光を受け反射して
いることがわかる。従って、ブライトリングの温度変換
より求められた反射光成分量が窓部にも加わっていると
し、その成分を差し引いた輝度より温度変換を行うこと
により、窓部の正確な温度が求められる。窓部全体につ
いてこの計算を行えば、温度分布が求められY軸に沿っ
た温度勾配も計算できる。
【0012】ここで外乱光の反射成分とは、外乱光放射
が単結晶に反射してカメラに入射する成分をいう。
【0013】
【実施例】
実施例1 CZ炉内で成長中のシリコン単結晶の表面温度を下記仕
様のCCDカメラを用いて測定した。ブライトリングか
ら窓部に至る放射輝度分布の結果は、前記図3のとおり
であった。Si単結晶の凝固点温度を輝度−温度変換式
から輝度に変換し、これと点14の最高放射輝度の差を
外乱光による反射成分15として求めた。次に窓部の放
射輝度分布B(Z)から縦軸の下方へ外乱光反射成分量
を平行移動し、修正された輝度分布B′(Z)を求め
た。このB′(Z)を輝度−温度交換式を用いて、図5
に示す窓部の温度分布を求めた。
【0014】(CCDカメラの仕様) 検出素子:Si−CCD(500×400画素) 視野:1mで5cm中(拡大倍率変更可能) 対物レンズ外径:40mm 測定波長:0.9〜1.1μm 温度範囲:1200〜1500℃ 精度:0.5℃/cm 分解能:1.0℃
【0015】
【発明の効果】本発明方法によれば、CZ炉内で成長中
の単結晶表面温度を簡易な方法で直接的に正確に求める
ことができるため精密な制御が可能となり、品質向上が
図れる。また、該CCDカメラは固定した状態で結晶の
温度分布を測定できるため移動機構等の設置が不要であ
るとともに、非接触式であるため結晶ロッドや結晶溶融
液を汚染しない。さらにまた、1台のCCDカメラで温
度監視用と直径制御用の2種類の測定が行える。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明におけるブライトリングとその観測範囲
を示した模式図である。
【図2】図1の一部を拡大して示したブライトリングの
観測範囲を示した模式図である。
【図3】本発明のCCDカメラにより観測される輝度温
度の分布曲線を示す図である。
【図4】単結晶の窓部の放射輝度とブライトリングの最
高放射輝度の関係を示す図である。
【図5】単結晶窓部の温度分布を示す図である。
【図6】単結晶の引き上げ装置とCCDカメラを示す図
である。
【符号の説明】
1 CZ炉 2 石英坩堝 3 CCDカメラ 4 パソコン 9 シリコン単結晶の溶融液 10 単結晶 11 単結晶ロッド 12 溶融液 13 ブライトリング 14 ブライトリングの最高放射輝度部(凝固点) 15 窓部(ブライトリング上部の高放射率部) 16 観測範囲

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 チョクラルスキー法により単結晶を製造
    する方法において、単結晶ロッドと溶融液との境界部に
    発現するブライトリングを、近赤外までの感度を有する
    二次元CCD赤外線カメラを用いて観測し、ブライトリ
    ングの輝度温度分布を求め、この最高放射輝度から求め
    られる外乱光反射成分を差し引くことにより求めること
    を特徴とする単結晶表面の温度測定方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2002001170A1 (fr) * 2000-06-26 2002-01-03 Nec Corporation Procede et appareil de mesure de la temperature
CN112301421A (zh) * 2019-07-31 2021-02-02 内蒙古中环光伏材料有限公司 一种适用于大尺寸单晶硅的感光快速收尾方法

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