JPH03107149A - 自動現像機およびその水洗槽の水あか発生防止方法 - Google Patents
自動現像機およびその水洗槽の水あか発生防止方法Info
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- JPH03107149A JPH03107149A JP24361289A JP24361289A JPH03107149A JP H03107149 A JPH03107149 A JP H03107149A JP 24361289 A JP24361289 A JP 24361289A JP 24361289 A JP24361289 A JP 24361289A JP H03107149 A JPH03107149 A JP H03107149A
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Landscapes
- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、水洗槽を有する自動現像機と、特に自動現像
機の水洗槽に水あかが発生するのを防止する方法とに関
する。
機の水洗槽に水あかが発生するのを防止する方法とに関
する。
〈従来の技術〉
例えばハロゲン化銀黒白写真感光材料は露光後、現像一
定着−水洗という工程で処理されるが、このような処理
に関しては近年環境保全の問題や、水資源の問題が重要
視されている。
定着−水洗という工程で処理されるが、このような処理
に関しては近年環境保全の問題や、水資源の問題が重要
視されている。
このため、大量に−例えば−感光材料1m2当り6〜2
ON使用される水洗水を減少する方法が提案されている
。
ON使用される水洗水を減少する方法が提案されている
。
このうち、水洗槽を多槽構成にして向流水洗する技術と
して、S、R,Goldwasser、 ”Water
flow rate in immersion−Wa
shing or motionpicture fi
lm、 ”J、SMPTE、 64,248−253.
May(1955)の方法が知られており、この方法
はカラー写真感光材料の自動現像機で一般的に使用され
ている。
して、S、R,Goldwasser、 ”Water
flow rate in immersion−Wa
shing or motionpicture fi
lm、 ”J、SMPTE、 64,248−253.
May(1955)の方法が知られており、この方法
はカラー写真感光材料の自動現像機で一般的に使用され
ている。
また、X−レイ感光材料の自動現像機では省エネルギー
型として、処理する時間だけ水洗水の電磁弁が開いて水
洗水を供給して、少しでも節水しようとする装置上の工
夫が一般化されつつある。
型として、処理する時間だけ水洗水の電磁弁が開いて水
洗水を供給して、少しでも節水しようとする装置上の工
夫が一般化されつつある。
しかし、X−レイ感光材料や印刷用感光材料のようなシ
ート状感光材料を、処理する自動現像機において、上記
のような多槽向流水洗法を適用すると、水洗槽の数に応
じたローラ、ラックを装着せねばならず、そのための自
動現像機のイニシャルコストの負荷が大きくなりすぎる
ため現実的には実用不能である。
ート状感光材料を、処理する自動現像機において、上記
のような多槽向流水洗法を適用すると、水洗槽の数に応
じたローラ、ラックを装着せねばならず、そのための自
動現像機のイニシャルコストの負荷が大きくなりすぎる
ため現実的には実用不能である。
そこで、これらのシート状の黒白感光材料をローラ搬送
して処理する自動現像機では、−槽式か、これに予備水
洗槽をつけたものか、あるいは高々2槽式の水洗槽とし
て、感光材料1m”あたり31より多い水洗水補充量と
する大量水洗方式を採らざるを得ない。
して処理する自動現像機では、−槽式か、これに予備水
洗槽をつけたものか、あるいは高々2槽式の水洗槽とし
て、感光材料1m”あたり31より多い水洗水補充量と
する大量水洗方式を採らざるを得ない。
ところで、水洗槽内にて、水洗水が滞留すると、水あか
が発生し2.3週間もすると、水が腐敗して悪臭を生じ
たりする。 また、自動現像機を停止し数日間放置する
と浮遊物が発生しついには感光材料に付着したり、また
フィルターの目づまりを引き起こしたりする。
が発生し2.3週間もすると、水が腐敗して悪臭を生じ
たりする。 また、自動現像機を停止し数日間放置する
と浮遊物が発生しついには感光材料に付着したり、また
フィルターの目づまりを引き起こしたりする。
このため、定期的にこれらを除去するために水洗槽を洗
浄しなくてはならない。
浄しなくてはならない。
特に、ローラ搬送系では、水あかが一旦発生すると、搬
送機構部品が多いため、ローラ、ラックの洗浄はきわめ
て大変な作業となる。
送機構部品が多いため、ローラ、ラックの洗浄はきわめ
て大変な作業となる。
そこで、これらの除去のため、L、 E、 West。
Water Quality Cr1teria Ph
ot、Sci、、 andEng5. vol 9
No、 6. 398頁(1965)、 M、 E、
Beach。
ot、Sci、、 andEng5. vol 9
No、 6. 398頁(1965)、 M、 E、
Beach。
”Miorobiological Growth i
n Motion−PictureProcessin
g SMPTE Journal、 vol、
85 Mar。
n Motion−PictureProcessin
g SMPTE Journal、 vol、
85 Mar。
(1976)およびR,0,Deegan、 +Pho
toproceesingWash Water Bi
ocides” J、 Imaging Tech、
vol。
toproceesingWash Water Bi
ocides” J、 Imaging Tech、
vol。
10、 No、 6.239頁Dec(1984)には
、水洗水へのキレート財や殺菌財の点かが記載されてい
る。
、水洗水へのキレート財や殺菌財の点かが記載されてい
る。
また、特開昭57−8542号、同58−105145
号、同57−157244号等には、チアゾリルベンズ
イミダゾール系化合物、インチアゾロン系化合物等の各
種防パイ剤の添加が、記載されている。
号、同57−157244号等には、チアゾリルベンズ
イミダゾール系化合物、インチアゾロン系化合物等の各
種防パイ剤の添加が、記載されている。
しかし、これら各種化合物を水洗水に添加しても、その
水あか発生防止効果は不十分であり、特に大量水洗方式
では、防菌、防ばい効果を発揮するような必要濃度を維
持することも、実際上は困難であるばかりかその効果も
ほとんどない。
水あか発生防止効果は不十分であり、特に大量水洗方式
では、防菌、防ばい効果を発揮するような必要濃度を維
持することも、実際上は困難であるばかりかその効果も
ほとんどない。
また、コストや、化合物自身の毒性に関して種々の問題
があり、満足な結果は得られていない。
があり、満足な結果は得られていない。
一方、各種ラボでは、夜間の非使用時に、水洗槽の水を
抜くことが行われている。
抜くことが行われている。
これは特にローラ等の搬送系等を夜間乾燥させて、水あ
かの発生ないし付着を防止するためである。
かの発生ないし付着を防止するためである。
しかし、従来の自動現像機の水洗槽は、いずれもその底
部がフラットである。
部がフラットである。
このため、−日の処理が済んだあとで、底部の排水口か
ら水を抜いても、水が抜は切れずに底部に付着し、そこ
に水あかが発生してしまうということが判明した。
ら水を抜いても、水が抜は切れずに底部に付着し、そこ
に水あかが発生してしまうということが判明した。
〈発明が解決しようとする課題〉
本発明は、水あかの発生がきわめて少ない自動現像機と
、その水洗槽の水あか発生防止方法を提供することにあ
る。
、その水洗槽の水あか発生防止方法を提供することにあ
る。
く課題を解決するための手段〉
このような目的は、下記(1)〜(5)の本発明によっ
て達成される。
て達成される。
(1)現像槽、定着機能を有する槽および水洗槽を少な
くとも有する自動現像機において、少なくとも水洗槽は
、その底部が傾斜を有しており、その最も低い部分に排
水口を有していることを特徴とする自動現像機。
くとも有する自動現像機において、少なくとも水洗槽は
、その底部が傾斜を有しており、その最も低い部分に排
水口を有していることを特徴とする自動現像機。
(2)自動現像機の水洗槽の底部に傾斜を設け、その最
も低い部分に排水口を設け、この排水口から排水するこ
とによって、処理終了後の水あかの発生を防止すること
を特徴とする自動現像様の水洗槽の水あか発生防止方法
。
も低い部分に排水口を設け、この排水口から排水するこ
とによって、処理終了後の水あかの発生を防止すること
を特徴とする自動現像様の水洗槽の水あか発生防止方法
。
(3)自動現像機の水洗槽の底部に排水口を設け、非稼
働時に水洗槽内の水を一旦排水したのち、新鮮水を少な
くとも1回水洗槽内に満たしてから再び排水することに
よって、非稼働時の水あかの発生を防止することを特徴
とする自動現像機の水洗槽の水あか発生防止方法。
働時に水洗槽内の水を一旦排水したのち、新鮮水を少な
くとも1回水洗槽内に満たしてから再び排水することに
よって、非稼働時の水あかの発生を防止することを特徴
とする自動現像機の水洗槽の水あか発生防止方法。
(4)自動現像機の水洗槽の底部に排水口を設け、非稼
働時に水洗槽内の水を排水したのち、水洗槽内の搬送ロ
ーラを回転させて、このローラに付着している水を振り
切ることによって非稼働時の水あかの発生を防止するこ
とを特徴とする自動現像機の水洗槽の水あか発生防止方
法。
働時に水洗槽内の水を排水したのち、水洗槽内の搬送ロ
ーラを回転させて、このローラに付着している水を振り
切ることによって非稼働時の水あかの発生を防止するこ
とを特徴とする自動現像機の水洗槽の水あか発生防止方
法。
(5)自動現像機の水洗槽の底部に排水口を設け、スタ
ンバイ状態が一定時間をこえるごとに水洗水を入れ換え
ることによって、非稼働時の水あかの発生を防止するこ
とを特徴とする自動現像機の水洗槽の水あか発生防止方
法。
ンバイ状態が一定時間をこえるごとに水洗水を入れ換え
ることによって、非稼働時の水あかの発生を防止するこ
とを特徴とする自動現像機の水洗槽の水あか発生防止方
法。
〈作用〉
本発明では、水洗槽の底部に傾斜を設け、さらにその最
も低い部分に排水口を設けたので、水が容易かつ完全に
抜ける。 従って、夜間に水垢が発生することがない。
も低い部分に排水口を設けたので、水が容易かつ完全に
抜ける。 従って、夜間に水垢が発生することがない。
この水あか発生防止効果は、きわめて完全に近いもので
あって、従来の各種水あか対策技術では実現しなかった
ものである。
あって、従来の各種水あか対策技術では実現しなかった
ものである。
この場合、本発明のような底部構造は、例えば浴槽等で
は公知のものである。
は公知のものである。
しかしながら、前記のとおり、従来の自動現像機の水洗
槽の底部はいずれもフラット構造である。
槽の底部はいずれもフラット構造である。
これは、従来、水抜き時に少量の水が底部に残っても、
水あか発生上問題ないと考えられていたからである。
水あか発生上問題ないと考えられていたからである。
しかし、実際には、水抜きが不完全で、底部に少量でも
水が残ると水あかが発生し、これが増殖し、重大な問題
となる。
水が残ると水あかが発生し、これが増殖し、重大な問題
となる。
本発明では、上記の底部構造として、水抜きを完全に行
うことにより、非使用時に水あかが微量といえども発生
することを防止し、このような効果を実現したものであ
る。
うことにより、非使用時に水あかが微量といえども発生
することを防止し、このような効果を実現したものであ
る。
この他、本発明では、非使用時の水あか発生防止法のシ
ーケンスを提案するものでもある。
ーケンスを提案するものでもある。
〈実施例〉
以下、図面に示される実施例に従い、本発明の詳細な説
明する。
明する。
第1図および第2図に示される本発明の自動現像機の水
洗槽1には、水洗水を満たし、搬送ローラ51から構成
される搬送系5により、現像、定着後のハロゲン化銀写
真感光材料を搬送して、水洗を行うものである。
洗槽1には、水洗水を満たし、搬送ローラ51から構成
される搬送系5により、現像、定着後のハロゲン化銀写
真感光材料を搬送して、水洗を行うものである。
このような本発明における水洗槽1は、その底部構造を
除いて、公知の各種の構造のものいずれであってよい。
除いて、公知の各種の構造のものいずれであってよい。
また、本発明の自動現像機は、水洗槽を複数有するもの
であってもよく、そして、水洗槽の前段には、現像槽お
よび定着機能を有する槽があればよく、公知の各種の構
成とすればよい。
であってもよく、そして、水洗槽の前段には、現像槽お
よび定着機能を有する槽があればよく、公知の各種の構
成とすればよい。
本発明における水洗槽lの底部は傾斜構造を有するもの
である。 すなわち、底部15は、第1図および第2図
に示されるように、傾斜面151.153をもつ。
である。 すなわち、底部15は、第1図および第2図
に示されるように、傾斜面151.153をもつ。
しかも、傾斜した最低部には、第1図に示されるように
排水口2を設けるものである。
排水口2を設けるものである。
より具体的には、第1図および第2図に示される例では
、底部を4面の傾斜面151゜153から逆回角錐状に
形成し、その底部のほぼ中央の最低位置を排水口2設置
位置としている。
、底部を4面の傾斜面151゜153から逆回角錐状に
形成し、その底部のほぼ中央の最低位置を排水口2設置
位置としている。
すなわち、最低位置の排水口2から、好ましくは水洗槽
1の側壁11および側壁13にそれぞれ連接する底面1
51および底面153は、異なる傾斜角をもっている。
1の側壁11および側壁13にそれぞれ連接する底面1
51および底面153は、異なる傾斜角をもっている。
この場合、排水口2は、第3図に示されるように、一方
の側壁17に連接して設け、他の三方の側壁15.16
等から排水口位置を頂点として、傾斜した底面155.
156を設けている。
の側壁17に連接して設け、他の三方の側壁15.16
等から排水口位置を頂点として、傾斜した底面155.
156を設けている。
なお、第3図の例では、搬送系の図示を省略している。
このように、各底面の傾斜角は、方向によって異なって
いてもよい。
いてもよい。
ただし、最も長い方向に延在する底面(第1図の底面1
53、第2図の底面の傾斜角αは3°以上、特に5〜1
5°とすることが好ましい。
53、第2図の底面の傾斜角αは3°以上、特に5〜1
5°とすることが好ましい。
また、排水口2の設置位置から側壁の最低位置までの高
さhは、槽サイズにもよるが、通常、10〜100+n
m、好ましくは15〜80mm、さらに好ましくは20
〜60++m程度とする。
さhは、槽サイズにもよるが、通常、10〜100+n
m、好ましくは15〜80mm、さらに好ましくは20
〜60++m程度とする。
なお、側壁11,12.13等と底面15との連接屈曲
部および底面15と排水口との連接部ハ、所定の曲率を
有して湾曲していることが好ましい。
部および底面15と排水口との連接部ハ、所定の曲率を
有して湾曲していることが好ましい。
また、傾斜底面は、図示例では平面上であるが、これら
はわん曲していてもよく、また図示例とは異なり互いに
連続する曲面であってもよい。
はわん曲していてもよく、また図示例とは異なり互いに
連続する曲面であってもよい。
このようなときには、最低傾斜角が5°以上であればよ
い。
い。
さらに排水口2には、弁3が設けられている。
そして、処理終了後、例えば−日の処理が済んだ後、こ
の弁3を開として、水洗槽1内の水洗水4を抜くもので
ある。
の弁3を開として、水洗槽1内の水洗水4を抜くもので
ある。
このとき、本発明の底部構造では、水が容易かつ安全に
抜けることになり、水あかの発生はきわめて少ないもの
となる。
抜けることになり、水あかの発生はきわめて少ないもの
となる。
このような場合、自動現像機を稼働するためのプログラ
ムには、−日の処理が済んだあとで、水を抜くというシ
ーケンスを組み込んでおくことが好ましい。
ムには、−日の処理が済んだあとで、水を抜くというシ
ーケンスを組み込んでおくことが好ましい。
また、−日の処理が済んだあとで、水を抜き、さらに新
鮮な水をはり、その水を抜くというシーケンスを組み込
んでおけば、水あかの発生はより一層少な(なり、機内
の汚れが落ち、より好ましい結果を得る。
鮮な水をはり、その水を抜くというシーケンスを組み込
んでおけば、水あかの発生はより一層少な(なり、機内
の汚れが落ち、より好ましい結果を得る。
また、水を抜いたあと、搬送ローラを空回りさせてロー
ラに付いている水を振り切り、この水を排水口から排出
すると、水あかの発生はきわめて少ないものとなる。
ラに付いている水を振り切り、この水を排水口から排出
すると、水あかの発生はきわめて少ないものとなる。
または、稼動時に、スタンバイ状態が、例えば1時間を
越λたら自動的に水、先水を入れ換久るシーケンスを採
用すると、水あかの発生はきわめて少ないものとなる。
越λたら自動的に水、先水を入れ換久るシーケンスを採
用すると、水あかの発生はきわめて少ないものとなる。
これらの操作は組み合わせてもよい。
また、これらに組み合わせて好ましい操作としては、以
下のようなものがある。
下のようなものがある。
第1は、−日の処理が済んだあとで、水を抜き、シャワ
ー状に水を吹きかけ、その後この水を排水口から落とす
と、水あかの発生はより一層有効に防止される。
ー状に水を吹きかけ、その後この水を排水口から落とす
と、水あかの発生はより一層有効に防止される。
第2は、乾燥風を吹きつけて槽壁面、底面、ローラなど
に残っている水を乾かすものである。
に残っている水を乾かすものである。
これらの1種以上を組み合わせることにより、水あか発
生はより一層有効に防止される。
生はより一層有効に防止される。
これらの操作は、ため水水洗方式ではなく、水の交換が
行われる水洗方式において有効である。
行われる水洗方式において有効である。
なお、防菌防ばい剤を水洗水に含有させることも好まし
い。 その例としては特願平1−91533号に記載さ
れている銀徐放剤や、前記した公知の防菌防ばい剤が挙
げられる。
い。 その例としては特願平1−91533号に記載さ
れている銀徐放剤や、前記した公知の防菌防ばい剤が挙
げられる。
また、稼動中、水を循環させることも好ましい。
さらには、現像液温コントロールのための冷却水を水洗
槽に導き、オーバーフローさせて、水の撹拌を行うこと
も好ましい。
槽に導き、オーバーフローさせて、水の撹拌を行うこと
も好ましい。
なお、本発明における水洗水け、狭義の水洗水みのでは
なく、いわゆる安定化液も含む概念である。
なく、いわゆる安定化液も含む概念である。
本発明の自動現像機に用いる写真感光材料としては、特
に限定はな(、一般の黒白感光材料が主として用いられ
る。
に限定はな(、一般の黒白感光材料が主として用いられ
る。
特に医療画像のレーザープリンター用写真利料や印刷用
感材並びに、医療用直接撮影X−レイ感材、医療用間接
撮影X−レイ感材、CRT画像記録用感材などに用いる
ことができる。
感材並びに、医療用直接撮影X−レイ感材、医療用間接
撮影X−レイ感材、CRT画像記録用感材などに用いる
ことができる。
この他、カラー感光材料であってもよい。
〈発明の効果〉
本発明では、水洗槽の底部に傾斜を設け、さらに最も低
い部分に排水口を設けたので、水が容易かつ完全に抜け
る。
い部分に排水口を設けたので、水が容易かつ完全に抜け
る。
従って、夜間などの非使用ないし非稼動時に水あかが発
生することがない。
生することがない。
また、本発明のシーケンスを用いても、水あかの発生が
きわめて少なくなる。
きわめて少なくなる。
本発明者は1本発明の効果を確認するため種々実験を行
った。 以下にその1例を示す。
った。 以下にその1例を示す。
実験例1
富士フィルムX−レイ写真用感材RX(富士写真フィル
ム(株)製)を像様露光した後、第1図に示されろロー
ラ搬送型自動現像機で連続補充処理(ランニング処理)
した。
ム(株)製)を像様露光した後、第1図に示されろロー
ラ搬送型自動現像機で連続補充処理(ランニング処理)
した。
この際、Dry to Dryの処理時間は86秒、現
像時間は25秒、定着時間は20秒、水洗時間は11秒
とした。
像時間は25秒、定着時間は20秒、水洗時間は11秒
とした。
補充液量は四切フィルム1枚当り、現像液は585 m
l、定着液は780mε、水洗水は、517m”とした
。
l、定着液は780mε、水洗水は、517m”とした
。
夜間および休日に水をタンクから抜いた。
1日の現像処理量は各々について西明フィルム100枚
(約7.7m”)である。
(約7.7m”)である。
また、水洗水の補充は、水道から行った。
このような前提で、従来例は水洗槽の容量を16℃とし
、底面面積760 am”のフラット構造とした。
、底面面積760 am”のフラット構造とした。
これに対し、本発明例ではα=5°、h=25mmとし
た第1図に示される構造とした。
た第1図に示される構造とした。
これらにつき水あかの発生状況を調べた。
この結果、本発明例では10週間後も水あかが発生しな
かったのに対し、従来例では1週間後に水あかが発生し
た。
かったのに対し、従来例では1週間後に水あかが発生し
た。
次に、底部フラット構造の従来例において、1日の処理
後の排水に加え、スタンバイ状態が1時間続いたら水を
入れ換えるシーケンスを実施したところ、水あか発生が
認められる時点を3週間後まで延ばすことができた。
後の排水に加え、スタンバイ状態が1時間続いたら水を
入れ換えるシーケンスを実施したところ、水あか発生が
認められる時点を3週間後まで延ばすことができた。
また、この従来例において、1日の処理後排水後、新鮮
水をみたしてから排水したところ水あか発生時点を2週
間後まで延ばすことができた。
水をみたしてから排水したところ水あか発生時点を2週
間後まで延ばすことができた。
さらに、底部に傾斜をつけた本発明の水洗槽にて、排水
後に新鮮水をみたしてこれを排水するシーケンス、排水
後にローラ付着水を振り切るシーケンスおよびスタンバ
イ1時間継続ごとに排水するシーケンスを実施したとこ
ろ、いずれもより一層の水あか発生防止効果が認められ
た。
後に新鮮水をみたしてこれを排水するシーケンス、排水
後にローラ付着水を振り切るシーケンスおよびスタンバ
イ1時間継続ごとに排水するシーケンスを実施したとこ
ろ、いずれもより一層の水あか発生防止効果が認められ
た。
第1図は、本発明における水洗槽の1例を示す正面図で
あり、第2図は第1図の側面図である。 第3図は、水洗槽の異なる例を示す正面図である。 符号の説明 ■・・・水洗槽 11.13.16.17・・・壁面 15・・・底部 151.153.155.156・・・底面2・・・排
水口 3・・・弁 1G、1 FIG、2 FIG、3 手続ネ甫正書(自発) 平成元年10月24E 3゜ 補正をする者 4゜ 代 理 人 6、補正の内容 (1)明細書第3頁第17行の「64」をr64jと補
正する。 (2)同第5頁第13行のr Water Quali
tyCriteriaJをr”Water Quali
ty Cr1teria”Jと補正する。 (3)同第5頁第13行のrsci、、 Jをrsci
、Jと補正する。 (4)同第5頁第14行のrvo19Jをrvol、
9. Jと補正する。 (5)同第5頁第17行のrPhotoprocees
ingJをr Photoprocessing Jと
補正する。 (6)同第5頁第20行の「キレート財や滅菌材の点か
」を「キレート剤や滅菌剤の添加」と補正する。 (7)同第7頁第8行の「本発明は、」をr本発明の目
的は、」と補正する。 (8)同第9頁第8行の「発生」を「発生生長」と補正
する。 (9)同第12頁第12行〜第15行の「(第1図・・
・好ましい。」を下記のとおり補正する。 「(第2図の底面151、第3図の底面156)の傾斜
角αは1°以上、特に2〜15°、更に好ましくは2〜
10″とすることが好ましい。」 (10)同第12頁第18行〜第19行の「10〜10
0mm・・・20〜60mm程度」を下記のとおり補正
する。 r 10〜150mm、好ましくは10〜100mm、
さらに好ましくは10〜80m111程度」(11)同
第15頁第20行目と第16頁第1行目の間に下記の記
載を挿入する。 「さらにまた、水洗水の供給は、例えば第2図の排水口
2から行ない、水洗槽の中央部から上方に噴き出すよう
にするのが水洗水全体の循環がよく好ましい。 また第1図の搬送部ローラに付設するガイド板の補強材
は中空にしないで、密な棒状または板状にする方が、汚
れが蓄積しないので好ましい。」 (12)同第18頁第3行の「第1図」の後に、「およ
び第2図」を加入する。
あり、第2図は第1図の側面図である。 第3図は、水洗槽の異なる例を示す正面図である。 符号の説明 ■・・・水洗槽 11.13.16.17・・・壁面 15・・・底部 151.153.155.156・・・底面2・・・排
水口 3・・・弁 1G、1 FIG、2 FIG、3 手続ネ甫正書(自発) 平成元年10月24E 3゜ 補正をする者 4゜ 代 理 人 6、補正の内容 (1)明細書第3頁第17行の「64」をr64jと補
正する。 (2)同第5頁第13行のr Water Quali
tyCriteriaJをr”Water Quali
ty Cr1teria”Jと補正する。 (3)同第5頁第13行のrsci、、 Jをrsci
、Jと補正する。 (4)同第5頁第14行のrvo19Jをrvol、
9. Jと補正する。 (5)同第5頁第17行のrPhotoprocees
ingJをr Photoprocessing Jと
補正する。 (6)同第5頁第20行の「キレート財や滅菌材の点か
」を「キレート剤や滅菌剤の添加」と補正する。 (7)同第7頁第8行の「本発明は、」をr本発明の目
的は、」と補正する。 (8)同第9頁第8行の「発生」を「発生生長」と補正
する。 (9)同第12頁第12行〜第15行の「(第1図・・
・好ましい。」を下記のとおり補正する。 「(第2図の底面151、第3図の底面156)の傾斜
角αは1°以上、特に2〜15°、更に好ましくは2〜
10″とすることが好ましい。」 (10)同第12頁第18行〜第19行の「10〜10
0mm・・・20〜60mm程度」を下記のとおり補正
する。 r 10〜150mm、好ましくは10〜100mm、
さらに好ましくは10〜80m111程度」(11)同
第15頁第20行目と第16頁第1行目の間に下記の記
載を挿入する。 「さらにまた、水洗水の供給は、例えば第2図の排水口
2から行ない、水洗槽の中央部から上方に噴き出すよう
にするのが水洗水全体の循環がよく好ましい。 また第1図の搬送部ローラに付設するガイド板の補強材
は中空にしないで、密な棒状または板状にする方が、汚
れが蓄積しないので好ましい。」 (12)同第18頁第3行の「第1図」の後に、「およ
び第2図」を加入する。
Claims (5)
- (1)現像槽、定着機能を有する槽および水洗槽を少な
くとも有する自動現像機において、少なくとも水洗槽は
、その底部が傾斜を有しており、その最も低い部分に排
水口を有していることを特徴とする自動現像機。 - (2)自動現像機の水洗槽の底部に傾斜を設け、その最
も低い部分に排水口を設け、この排水口から排水するこ
とによって、処理終了後の水あかの発生を防止すること
を特徴とする自動現像機の水洗槽の水あか発生防止方法
。 - (3)自動現像機の水洗槽の底部に排水口を設け、非稼
働時に水洗槽内の水を一旦排水したのち、新鮮水を少な
くとも1回水洗槽内に満たしてから再び排水することに
よって、非稼働時の水あかの発生を防止することを特徴
とする自動現像機の水洗槽の水あか発生防止方法。 - (4)自動現像機の水洗槽の底部に排水口を設け、非稼
働時に水洗槽内の水を排水したのち、水洗槽内の搬送ロ
ーラを回転させて、このローラに付着している水を振り
切ることによって非稼働時の水あかの発生を防止するこ
とを特徴とする自動現像機の水洗槽の水あか発生防止方
法。 - (5)自動現像機の水洗槽の底部に排水口を設け、スタ
ンバイ状態が一定時間をこえるごとに水洗水を入れ換え
ることによって、非稼働時の水あかの発生を防止するこ
とを特徴とする自動現像機の水洗槽の水あか発生防止方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24361289A JPH03107149A (ja) | 1989-09-20 | 1989-09-20 | 自動現像機およびその水洗槽の水あか発生防止方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24361289A JPH03107149A (ja) | 1989-09-20 | 1989-09-20 | 自動現像機およびその水洗槽の水あか発生防止方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03107149A true JPH03107149A (ja) | 1991-05-07 |
Family
ID=17106408
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24361289A Pending JPH03107149A (ja) | 1989-09-20 | 1989-09-20 | 自動現像機およびその水洗槽の水あか発生防止方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03107149A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0540334A (ja) * | 1991-08-05 | 1993-02-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光材料処理装置の水あか発生防止方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55147179A (en) * | 1979-05-04 | 1980-11-15 | Iida Toshirou | Method of washing treating tank of automatic developing machine |
JPS632943B2 (ja) * | 1978-06-07 | 1988-01-21 | Nippon Zeon Co |
-
1989
- 1989-09-20 JP JP24361289A patent/JPH03107149A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS632943B2 (ja) * | 1978-06-07 | 1988-01-21 | Nippon Zeon Co | |
JPS55147179A (en) * | 1979-05-04 | 1980-11-15 | Iida Toshirou | Method of washing treating tank of automatic developing machine |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0540334A (ja) * | 1991-08-05 | 1993-02-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光材料処理装置の水あか発生防止方法 |
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