JPH0298631U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0298631U JPH0298631U JP703589U JP703589U JPH0298631U JP H0298631 U JPH0298631 U JP H0298631U JP 703589 U JP703589 U JP 703589U JP 703589 U JP703589 U JP 703589U JP H0298631 U JPH0298631 U JP H0298631U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- processing liquid
- replenisher
- replenisher supply
- liquid
- processing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 4
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 claims 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Weting (AREA)
Description
第１図は本考案の第１実施例装置を示す概略図
、第２図は第１実施例装置に適用する補充液供給
ノズルを示す斜視図、第３図は本考案の第２実施
例装置を示す概略図、第４図Ａは第２実施例装置
に適用する補充液供給ノズルの縦断面図、Ｂは同
じく横断面図、第５図は他の実施例を示す概略図
である。 １０……燐酸液、１１……処理槽、１２……ヒ
ータ、１３……補充液供給ノズル、１４……補充
タンク、１５……補充液給送管、１６……定量ポ
ンプ、１８……微細通孔、２０……燐酸液、２１
……処理槽、２２……管、２３……循環ポンプ、
２４……フイルタ、２５……ヒータ、２６……管
路、２７……補充タンク、２８……定量ポンプ、
２９……液媒給送管、３０……液媒供給ノズル、
３１……槽本体、３２……カバー蓋、３３，３４
……冷却用蛇管。
、第２図は第１実施例装置に適用する補充液供給
ノズルを示す斜視図、第３図は本考案の第２実施
例装置を示す概略図、第４図Ａは第２実施例装置
に適用する補充液供給ノズルの縦断面図、Ｂは同
じく横断面図、第５図は他の実施例を示す概略図
である。 １０……燐酸液、１１……処理槽、１２……ヒ
ータ、１３……補充液供給ノズル、１４……補充
タンク、１５……補充液給送管、１６……定量ポ
ンプ、１８……微細通孔、２０……燐酸液、２１
……処理槽、２２……管、２３……循環ポンプ、
２４……フイルタ、２５……ヒータ、２６……管
路、２７……補充タンク、２８……定量ポンプ、
２９……液媒給送管、３０……液媒供給ノズル、
３１……槽本体、３２……カバー蓋、３３，３４
……冷却用蛇管。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 複数種の液を組合せてなる処理液を処理槽に貯
溜し、処理液の温度を、処理液を構成する複数種
の液の中の少なくとも１種の液の沸点以上に加熱
して、処理液中に被処理基板を浸漬する基板表面
処理装置において、 前記処理液を構成する複数種の液の中、沸点が
処理液の温度より低い液を補充液として貯溜する
補充タンクと、 多数の微細通孔を形成した耐蝕性材料の壁体を
もつて中空状に構成され、前記処理液中に浸漬し
た補充液供給ノズルと、 前記補充タンクと前記補充液供給ノズルとを連
通する補充液給送管と、 該補充液給送管の管路に配設されたポンプとか
らなり、 前記補充タンクから補充液を前記ポンプにより
前記補充液供給ノズルを介して、処理液中に補充
するようにした基板表面処理装置の液補充装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989007035U JPH0741152Y2 (ja) | 1989-01-26 | 1989-01-26 | 基板表面処理装置の液補充装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989007035U JPH0741152Y2 (ja) | 1989-01-26 | 1989-01-26 | 基板表面処理装置の液補充装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0298631U true JPH0298631U (ja) | 1990-08-06 |
| JPH0741152Y2 JPH0741152Y2 (ja) | 1995-09-20 |
Family
ID=31211709
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1989007035U Expired - Lifetime JPH0741152Y2 (ja) | 1989-01-26 | 1989-01-26 | 基板表面処理装置の液補充装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0741152Y2 (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5452985A (en) * | 1977-10-04 | 1979-04-25 | Kyushu Nippon Electric | Etching device |
| JPS5984839U (ja) * | 1982-11-30 | 1984-06-08 | 日本電気ホームエレクトロニクス株式会社 | 半導体製造装置 |
| JPS62213257A (ja) * | 1986-03-14 | 1987-09-19 | Mitsubishi Electric Corp | 湿式処理槽 |
-
1989
- 1989-01-26 JP JP1989007035U patent/JPH0741152Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5452985A (en) * | 1977-10-04 | 1979-04-25 | Kyushu Nippon Electric | Etching device |
| JPS5984839U (ja) * | 1982-11-30 | 1984-06-08 | 日本電気ホームエレクトロニクス株式会社 | 半導体製造装置 |
| JPS62213257A (ja) * | 1986-03-14 | 1987-09-19 | Mitsubishi Electric Corp | 湿式処理槽 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0741152Y2 (ja) | 1995-09-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0396357U (ja) | ||
| KR100241081B1 (ko) | 기판처리방법 및 장치 | |
| JPH0298631U (ja) | ||
| JPS6090522A (ja) | 浴槽ユニツト | |
| JPH0197335U (ja) | ||
| JPS57159027A (en) | Wafer cleaning device | |
| JPS61111514U (ja) | ||
| JPS63149521U (ja) | ||
| JPH0425704Y2 (ja) | ||
| JPS5812835Y2 (ja) | 脱脂処理装置 | |
| JPH0183545U (ja) | ||
| JPS5810833U (ja) | 脱臭用洗浄塔における洗浄薬液のｐｈ値測定装置 | |
| JPH02132661U (ja) | ||
| JPH0160532U (ja) | ||
| JP2593484Y2 (ja) | ビーム染色機 | |
| JPS6033349U (ja) | 乾式ジアゾ現像機のアンモニア水供給装置 | |
| JPH0397095U (ja) | ||
| JPS5528454A (en) | Vaporizer | |
| JPH0222056Y2 (ja) | ||
| JPS57172185A (en) | Vaporizer | |
| JPH0314156U (ja) | ||
| JPS63185227U (ja) | ||
| JPS62181149U (ja) | ||
| JPH044678U (ja) | ||
| JPH02160001A (ja) | バッチ式濃縮器の循環槽 |