JPH0297502A - カルボキシル基を含有するバインダを有する光重合可能組成物 - Google Patents

カルボキシル基を含有するバインダを有する光重合可能組成物

Info

Publication number
JPH0297502A
JPH0297502A JP1111885A JP11188589A JPH0297502A JP H0297502 A JPH0297502 A JP H0297502A JP 1111885 A JP1111885 A JP 1111885A JP 11188589 A JP11188589 A JP 11188589A JP H0297502 A JPH0297502 A JP H0297502A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photopolymerizable composition
ethylenically unsaturated
copolymer
alkyl
structural units
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1111885A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0420923B2 (ja
Inventor
Manfred Adelhard Josef Sondergeld
マンフレート・アデルハルト・ヨーゼフ・ゾンダーゲルト
Jonathan W Goodin
ジョナサン・ウイリアム・グッデイン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
EIDP Inc
Original Assignee
EI Du Pont de Nemours and Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=6353225&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JPH0297502(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by EI Du Pont de Nemours and Co filed Critical EI Du Pont de Nemours and Co
Publication of JPH0297502A publication Critical patent/JPH0297502A/ja
Publication of JPH0420923B2 publication Critical patent/JPH0420923B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
    • G03C1/04—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with macromolecular additives; with layer-forming substances
    • G03C1/053—Polymers obtained by reactions involving only carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106—Binder containing
    • Y10S430/107—Polyamide or polyurethane

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 この発明は、付加重合ｉｉＪ能エチレン性不飽和化合物
、光開始剤又は光開始剤系、少なくとち１の重合性バイ
ンダを含（−ｉする像記録のための光重合可能ｉｌｌ成
物であって、これらのバインダの少なくとも１が、それ
ぞれ、ｌ以トの異なる横Ｍ　’ｌ’位ＡおよびＢおよび
カルボキシル基をＤ　（−Ｔする少なくとも１の付加的
構造１１１位から形成されるものに関する。
光重合可能組成物は像記録材料、特にフォト１ノジスト
、ソルダーレジストおよび印刷板（ｐｒｌｎｔｌｎｇ　
ｐｌａｔｅ）の製造において広く使用すしている。
光重合ｉｉＪ能レジスト材料は例えば米国特許第３．４
１３９．９８２号、および第３．５４７，７３０号によ
り知られ一〇いる。それにはカバーシートと一時支持体
との間に光ＩＲ会合＋−１能層をザンドイッチした構造
のフィルムレジストが工己載されている。このフィルム
レジストは、例えば、銅のベースに積層され、像様露光
され、現像され、それによりレジスト層を形成すること
ができる。
そのようにして製造されたレジスト層は、今度基板上で
選択的にエツチングされ電気めっきされ又は半田処理さ
れることができる。半田レジストとして使用される場合
には、非常に高い要求かフォトレジストフィルムに課せ
られる。この場合、現像され光重合された層は３００　
’Ｃまでの２１ｖ度に耐えなければならない。現在の技
術の状態では、そのようなソルダーレジストは、液体組
成物の基板上へのｌ１ｆｉ　霧、コーティング、又はカ
レンダリングにより、または基板上への乾燥フィルムの
積層により製造されることができる。
記載されているフォトレジストフィルムは通常、−時又
は永久支持体、１ｒｆ合性バインダ、付加ｉｒＩ合可能
化合物および光開始剤を含有する光重合可能層、および
カバー層からなる。像様露光の後、および場合により基
体への積層の後、該カバー層は除去され、光重合可能層
は現像されることができる。多くの光！Ｒ合可能組成物
は有機溶媒で、多くは水溶液で現像されることができる
。
しばしば、そのような光１ｆｉ合可能像記録祠料、特に
水性現像可能なものの重合性バインダは、酸官能基、主
にカルボキシル官能基を含有する。しかしながら、それ
らの基は多くの処理工程において欠点がある。フォトレ
ジストの場合、アルカリエツチング又は金めつきにおい
てレジストの積層剥がれが観察され、ソルダーレジスト
の場合、不適当な湿気および絶縁の性質が見られる。
特に、高い洗い落し速度および時々素早いノリ取り作用
を有する完全水性現像可能光重合体系は、それらの親水
性のため、他の処理工程における弱さ、例えば狭い現像
ラチチュード、アルカリエツチングおよび金めつきにお
ける剥がれ又は不充分な耐候性を示す。
フォトレジストの分野において、挙げられた欠点を克服
するためメラミン化合物でのカルボキシル基の修飾が知
られている（ＥＰ　０１１５３５４および米国時：’Ｆ
　４．２４７．６２１）。しかしながら、メラミン化合
物の添加は光重合可能組成物の感光性を低下するので、
そのような組成物はより長い露光時間をμ！する。さら
に、これらの化合物の多くは、光重合可能組成物の長い
保存の間に結晶化する傾向があるので、それから製造さ
れる記録用材料は使用することかできない。
発明の概要 本発明における問題は、カルボキシル基をｇ　−ｆ−ｊ
−するバインダを基礎とした像記録のための光重合ｉ’
＋Ｊ能組成物であって、その組成物の性質か露光および
現像後の熱ポスト処理により変化して、向」二された化
学的および物理的性質例えば加水分解安定性およびエツ
チング系、金めつきおよび半田における高い機械的安定
性を有するレジス１−か製造される組成物を製造するこ
とである。同時に、般的性質のプロファイルは悪影響を
受けるべきてない。良好な保存安定性、高い処理および
使用ラチチュードおよび小さい像素子（ｓｍａｌ　１ｅ
ｓｔ　Ｉｍａｇｅｅｌｅ＋＋＋ｅｎＬ）であっても正確
な再現性が製品に与えられるべきである。
この問題は、少なくとら１の付加重合＋１Ｊ能工チレン
性不飽和化合物、光開始剤又は光開始剤系、および少な
くとも１の重合性（ｐｏｌｙｍｃｒｉｃ　）バインダを
含有し、これらのバインダの少なくともいくつかがそれ
ぞれ１以上の異なる構造単位ＡおよびＢおよびカルボキ
シル基を含ｑする少なくとも１のイ、ｊ加的構造ｊ、ｌ
ｊ位（ａｄｄｉｔｉｏｎａｌ　５ｔｒｕｃｔｕｒａｌｕ
ｏｉＬ）を含ａする、像記録のための光１Ｒ合可能組成
物によって解決される。
本発明は、 ■）該共重合体の５乃至５０１Ｆ瓜パーセントがカルボ
キシル基を含有する１以上の異なる構造単位Ｃ１および
／又はＣ２から形成され、ＩＩ）１以上の異なる構造単
位Ａの割合が５乃至９５重量パーセントであり、 １ＩＩ）１以上の異なる構造単位Ｂの割合が０乃至５０
重ロバ−セントであり、そしてＩＶ）Ａ、Ｂ５Ｃｌおよ
びＣ２が下記構造を白゛することを牛１徴とする。
式中、 Ｒ，＝ＨＳＣＨう、Ｃ９Ｈ５、フェニル、およびアルキ
ルフェニル、 Ｒ２−Ｈｓ　ＣＨ３ｘ　７　、ｒ−’−／Ｉｚ、−ＣＯ
ＯＲ９、−ＣＯＮＲＩＯＲ１１％および−ＣＮ。
Ｒ３、Ｒ４、Ｒｓ　、およびＲｂ＝Ｈおよびアルキル、
および Ｒ７、ＲＢ　、Ｒ９％　ＲｈｏｓおよびＲＩ＋　””　
Ｈｓアルキルおよびアーリル、であって、ヒドロキシ、
エステル、ハロゲン、ケト、エーテルおよび／又はチオ
エーテル、７Ａで置換されることができるものである。
発明の詳細 な説明の光重合可能組成物は、重合性バインダを有し、
その構造は露光゛および現像の後に修飾されることがで
きる。これらのバインダは、特に、近接したカルボキシ
ルおよびアミド基を有する構造単位を釘し、それは光重
合ｉ＋Ｊ能像記録材料の像様露光（ｉｍａｇｃｗｉｓｃ
　ｃｘｐｏｓｕｒｏ）および現像の後１３０乃至２００
℃の熱後処理（ｔｈｅｒＩＩｌａｌ　ｐｏｓｔ　−１ｒ
ｃａｔｍｃｎｔ　）により疎水性のイミド基に変化する
ことができる。したがって、熱処理前はカルボキシル基
の存在により良好な現像性が保証される一方、他方では
、先の（１’ｏｒＩ！１ｅｒ）カルボキシル基の欠点は
熱後処理によるこれらの基のイミド基への変化により除
去される。
驚くべきことに、像記録のための本発明の組成物におい
て挙げられた重合性バインダを使用することにより、記
録材料自身の性質は悪影響を受けることなく金めつきお
よび半田においてエツチング溶液に対して改溌された化
学的および物理的安定性を示すレジストを得ることかで
きた。こうして、本発明により製造された光重合可能な
記録材料は特に、室温において良好な保存安定性を有し
、およびそれらはまた１２０°Ｃの積層温度においても
安定である。後の熱後処理におけるわずかな（ｎｅｇｌ
ｉｇｉｂｌｅ）　？ＸＡ度上昇でイミド基が形成される
ことはさらに驚くべきことである。さらに、熱後処理に
おける’ＩＬＬ度が高すぎないことおよび処理時間は長
過ぎないことが必要である。さもなければ光重合記録材
料全体が無用（ｕｓｅ！ｅｓｓ　）となる。
ＤＥ　　２５　１２　６９３によって、スチレンマレイ
ン酸無水物共重合体とンアルキルアミンとの反応生成物
、これは近接するカルボキシルとアミド官能括をｑする
共重合体となる、を、重合性バインダとして使用するこ
とは実際既知であるか、二級アミンが使用されるので、
露光および現像後の熱後処理により修飾されることがで
きる性質を釘するバインダを得ることができない。さら
に、前述の文献において最大で無水物基の３分の２かア
ミンと反応される。さもなければ過剰数のカルボキシル
）λか導入されて熱コーティング工程の間金属性基体上
の感光層の良好な接４１性を妨げる。したがって、当業
者はジカルボン酸無水物が存在しない本発明の記録材料
が困難なく基体上に積層できることを予想することがで
きなかった。
ＥＰ　　００　７１　７８９には、金属性基体の表面へ
の接着性を改良した光重合可能レジスト層が５己載され
ている。これはアミノ基をあるパーセント導入すること
によりｉ１７られる。これらは特にマレイン酸無水物を
含有するバインダを脂肪族ジアミンと反応することによ
り導入することができるので、本発明の教示において要
求されるされるように近接したカルボキシルおよびアミ
ド官能基が得られる。しかし、該発明の概念の見地にお
いて反応成分としてジアミンは適当ではない。というの
は、これらは熱後処理の前でさえ銅の変色（ｄｌｓｅｏ
ｌｏｒａＬＩｏｎ　）を引き起こし、ジカルボン酸無水
物を３自°するバインダへのそれらの導入は制御するこ
とができず、架橋が生じることがあり、さらに、それら
が生む改焙された接着性により弓き起こされる現像残留
物（ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ　ｒ８ｓｉｄｕａｓ）を導
くことがあるからである。
ＤＤ　　２１９　３０５には、アルカリ現像可能な光重
合可能組成物が記載されている。これはバインダとして
、特に、アンモニアと不飽和炭化水素、マレイン酸無水
物尿素付加体およびマレイン酸無水物から製造された共
重合体の反応生成物を含ａすることができる。しかしな
がら、前述のジアミンのように、尿素を含Ｕするバイン
ダちまた銅の変色を導く。さらに、掲げた特許によれば
、これらの光重合可能組成物はポリエステル支持体上で
の良好な接着性が［Ｉ立っている。しかしながら、本発
明の光重合可能組成物の重要な用途は層転写材料（ｌａ
ｙｅｒ　Ｌｒａｎｓｌ”ｅｒ　１ｌｌａｔｅｒｉａｌｓ
）の製造であると考えられるので、尿素付加体を含有す
るバインダはこの目的には適当ではない。
現在の技術の状態において、当業者は該発明の光重合可
能組成物で製造されたレジストが記録材料自身の性質が
悪影響を受けることなく、向」ニした化学的および物理
的安定性を示すことは予期することかできなかった。
本発明で重要なバインダ共重合体は、それぞれ１以」−
の異なる構造単位ＡおよびＢおよび５乃至５０Ｉｒｔ量
パーセンｒ好ま゛しくは１０乃至３０重量パーセントの
カルボキシル基を含有する１以−にの異なる構造単位Ｃ
１および／又はＣ２から製造される。
式中、 Ｒ，−Ｈ，ＣＨ３、Ｃ２Ｈ５フェニル、およびアルキル
フェニル、好ましくはＨおよびＣＨ３、 Ｒ，！−Ｈ％ＣＨ３、フェニル、−ＣＯＯＲ９、−ＣＯ
ＮＲ，、Ｒ，、、および−ＣＮ、好ましくはフェニル、
Ｃ０ＯＲ，、、およびＣ０ＮＲ，。Ｒｏ、Ｉく３、Ｒ４
、Ｒ５、およびＲ，−Ｈおよびアルキル、および Ｒ７、Ｒ８、Ｒ損、およびＲ，、−Ｈ，アルキルおよび
アーリル、であって、ヒドロキシ、エステル、ハロゲン
、ケ［・、エーテルおよび／又はチオエーテル基で置換
されていてもよいものであって、好ましくは置換されて
いないおよびヒドロキシ置換されたアルキルおよびアリ
ール基。
構造単位Ａの割合は５乃至９５重はパーセント好ましく
は１０乃至９０重量パーセントであり、構造単位ＢはＯ
乃至５０重瓜パーセント好ましくは０乃至３０重量パー
セントであるべきである。
本発明の共重合体は、直接の共重合により、および−級
アミンの、１以上のエチレン性不飽和ジカルボン酸無水
物および１以上のコモノマーの共重合により製造された
共重合体との反応によって製造されることができる。本
発明において適当なエチレン性不飽和ジカルボン酸力１
（水物は例えは、マレイン酸無水物、イタコン酸無水物
およびシトラコン酸無水物である。エチレン性不飽和ジ
カルボン酸無水物の共重合体における割合は、５乃至５
〔］重量パーセント好ましくは１０乃至３０重量パーセ
ントである。
一級脂肪族又は芳香族の場合により置換されたアミンを
本発明においてアミンとして使用することができる。置
換基は次の官能ｈ（であることができる。：ヒドロキシ
、エステル、ハロゲン、ケ！・、エーテルおよび／又は
チオエーテル基である。プロピルアミン、ブチルアミン
、アミノプロパツール、４−メトキシアニリン、４−ア
ミノフエノル、デシルアミンおよび／又はシクロヘキシ
ルアミンが好ましい。本発明において重要な共重合体の
（１４造単位ＡおよびＢを形成する適当なコモノマーは
不飽和炭化水素例えばエチレン、プロピレン、置換され
たスチレン、ブタジェンおよびイソプレン、および不飽
和カルボン酸およびその誘導体例えば・　（入夕）７フ
リルｈ安（ｔｍｅｔｋ’）ｃｗｎ１７ｔ　Ｍ−’Ｊ−）
、（メ７）アフリ１し７４％アミド、および（メタ）ア
クリレートである。メチルメタクリレート、メチルアク
リレート、アクリルアミド、エチルアクリレート、ブチ
ルアクリレート、スチレン、イソプレンおよびブタジェ
ンが好ましい。本発明の共重合体は１０，０００以り好
ましくは３０．０００乃至８０，０００の分子はをａす
るべきである。
近接するカルボキシルおよびアミド基をａする本発明で
Ｉｒ＋′要ｌよ共重合体の割合は全バインダの１００パ
ーセント・まで可能である。全バインダのｍは混合物の
全成分に対して一般に２０乃至９０重巳パーセントであ
る。
本発明で重要なバインダとの組合わせにおいて例えば次
のバインダを使用することかできる。エチルおよびポリ
アミドである。メチルアクリレー、（メタ）アクリル酸
又はマレイン酸ノ＼−フエステルのスチレンとの共重合
体およびメタクリル酸およびアクリルメタクリレートの
共重合体が好ましい。
適当な（−Ｊ加重合可能なエチレン性不飽和化合物は単
独で又は他の１１１量体との組合わせで使用することが
できるもので、これには、（−ブチルアクリレ−１−、
エチレングリコールジアクリレート、２−ヒドロキシプ
ロピルメタクリレート、トリエチレングリコールジアク
リレート、トリメチロールプロパントリアクリレート １−　、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパント
リアクリレートおよびメタクリレート、ポリオキシエチ
ル化トリメチロールプロパントリアクリレート、１，４
−ジイソプロペニルベンゼン、１。
４−ジヒドロキシベンゼンジメタクリレート、デカメチ
１ノングリコールジアクリレート、スチレン、ジアリル
フマレ−１・、ラウリルアクリレート、メタクリルアミ
ド又はキシリレンビスアクリルアミドが含まれる。
光市会Ｉ′ｉＩ化組成物中における単量体の余計は混合
物の全成分に対して１０乃至８０重量パーセントである
。
本発明の光重合可能組成物中の光開始剤又は光開始剤系
としては、実際上この目的のために既知の全ての化合物
を使用することができる。例としてはり一フェニルアク
リジン、９，１０−ジメチルベンズ（ザ）フェナジン、
ベンゾフェノン／ミヒラーケトン、ヘキサアリールビス
イミダゾール／メルカプトベンズオキサゾール、ベンジ
ルジメチルケタール、チオキサントン／アミンがある。
光開始剤は一般に０．０１乃至１０重量パーセントのｍ
で使用される。
光重合ｌＩＪ能組成物およびそれから製造された像記ｕ
４４料はさらに添加剤、例えば色素、顔料、柔軟剤、粘
着剤、フィラーおよび／又は安定化剤を含ｆ−ｊするこ
とができる。
本発明の先口重合可能組成物は、支持体上の感光層の形
（「ｏｒｍ　ＯｒＩＩｇｌ＋Ｌ　ｓｃｎｓｌＬｖｅ　ｌ
ａｙｅｒ）すなわち像記録材料の形で使用されることが
好ましい。
適当な支持体は例えば紙、金属性支持体、金属クラッド
支ｒｊｊ体、ガラス、セラミック支持体又は、例えばポ
リエチレン、ポリカーボネート、ポリアミド又はポリエ
ステル等の合成樹脂フィルムである。光重合Ｉ−＋Ｊ能
組成物は、支持体−にに例えば溶液から、１１ｒＩ霧、
浸漬又はコーティングにより適用することかできる。層
厚さは通常５乃至２　０　０　ＡＩｒｎである。
本発明の光重合可能組成物は、特に、レジスト材料の製
造のために主に層転写材料（　ｌａｙｅｒＬｒａｎｓ「
ｅｒ　　ａ＋ａＬｅｒ］ａｌ）として使用される。この
ために、光重合可能組成物は一時（　ｔｅｍｐｏｒａｒ
ｙ　）支持体好ましくはポリエステルフィルム上に適用
され、除去可能な合成樹脂シートがカバーとして積層さ
れる。レジスト像の製造のために、該カバーシートは除
去され、感光層が永久支持体上主に銅表面、に積層され
る。ついで材料は像様に露光され、現像される。−時支
持体は、該露光の前又は後に除去されることができる。
現像は重合されない像領域を適当な溶液例えば水性アル
カリ溶液、有機溶媒および溶媒混合物それぞれ又は類似
の水溶液であって、界面活性剤を含ｑすることもできる
もの、で洗い去ることによって行われる。
現像工程の後、材料は熱後処理に付される。これは、材
料を電気炉、乾燥器で加熱することによって又は赤外ラ
ンプの方法で達成される。加熱の温度および時間は、使
用されるレジスト材料の組成に依存する。材料は一般に
１０乃至６０分間１２０℃乃至２００℃に加熱される。
次に、こうして製造されたレジスト層は、レジストか剥
がされず又はアンダープレイティング（ＵｎｄＱｒｐｌ
ａｔｉｎｇ）が生じない限り、既知の７上気めっき、エ
ツチング、および？Ｉ’田方法によって、通常の方法で
さらに処理されることができる。支持体−１−に残され
ている光重合した層は場合により容Ｕに従来の除去（５
ｔｒｉｐ　）液での処理によって除去されることができ
る。この目的に適した例は、通常３０乃至９０°Ｃに高
められた温度で連続処理ユニット又はタンクで使用され
る強アルカリ性水溶戚、又はメチレンクロライドのよう
な有機溶媒である。
本発明はフォトレジストのための層転写材料としての使
用が好ましいと前に記載したが、この用途に限定される
ものではない。特に高い化学的および物理的耐久性のあ
るイメージワイズテンプレート又はリリーフ（ｒａｌｉ
ｃ「）材木１の製造か期待される全ての場合に有用であ
る。
次の例は本発明を説明することを助ける。全てのパーセ
ントおよび部は特に示さない限り重量に基づくものであ
る。
例１ ２〔］ｇのメチルメタクリレ−１・／スチレン／マレイ
ン酸無水物（酸敗（ａｃｉｄ　ｎｕｍｌ＋ｃｒ　）　−
１１５＝２０．４−うａ＋ｍｏ　ｌマレイン酸／　２０
　ｇ重合体）か室温で１００１１１１のメチレンクロラ
イドに溶解された。１００ｍ１メチレンクロライド中の
１．３ｇ（＝　２２．４７＋ｎｍｏｌ）のプロピルアミ
ンが、該重合体溶液に添加された。温度が２５℃に−１
−げられた。至温での４時間の撹拌の後、重合体は、該
溶液を１ｇ石浦エーテル（４０−６０℃）に注ぐことに
より沈澱され、濾過され、真空乾燥された。ＩＲスペク
トルは、１８６０ｃｎビｌおよび１７８０　ｃｎビｌの
カルボニルのピークを示さなかった。
Ｂ）　乾燥レジストフィルムの製造 次のコーティング溶液が製造された。
４４■１　　メチレンクロライド ６．７１　メタノール ９．１４ｇのＡ）により製造された重合体ｅ、ｌｏｇの
メチルメタクリレ−１・７′エチルアクリレ−］・／ア
クリル酸の共重合体、酸敗−８０、分子Ｉｎ−３０，０
００、Ｔｇ　−５０’Ｃ０５、７５ｇ　　３−（４−ヒ
ドロキシベンゾイルオキシ−）−２−ヒドロキシ−プロ
ピルメタクリレート２．９８ｇ）リメチロールプロパン
トリアクリレー！・ ４゜２３　ｇ　　ポリオキンエチル化トリメチロルプロ
パントリアクリレート、分子Ｅｌ−１１１３２２０モル
エチレンオキンド ２、０１　ｇ　　ベンジルジメチルケタール０．１７ｇ
　　ジエタノールアミン ３．５９ｇｘアロジル（Ａ　ｅｒｏｓｌｌ）　　２００
、ンリカ：　Ｓ　１０２含瓜＞９９．８％、ＢＥＴによ
る面積２００　ｍ　２／　ｇ、主（ｐｒｉｍａｒｙ　）
粒子サイズ１２［１１１１１ ２８１ｍｇ　　ナイルブル （Ｎｌｌｃ　ｂｌｕｅ　（Ｃ，１、５１１８０）　）コ
ーティング溶液は、２５μｎ１厚さのポリエステルフィ
ルム上に適用され、乾燥層厚さ４２ｊ／ｍ２か得られた
。
Ｃ）　　Ｂ）により製造された乾燥レジストフィルムの
使用 Ｂ）により製造された乾燥レジストフィルムは、３５μ
口１銅がかぶされたベースクラッド（ｂａｓｅｃｌａｄ
）　　ｌ−に１１０℃で２．　０Ｉ＋ｌ／ｍｉｎで積層
され、５０　ｍｊ／　ｃｍ２で電気めっき透明陽画（ｃ
ｌｃｅｔｒｏ゛ｐｌａＬｉＢ　ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｃ
ｙ　）を通して露光され、Ｎａ２　ＣＯ３溶液で３０　
℃で通続処理で現像された。洗浄時間は２５秒であった
。現像されたボードは、熱処理なしでＩＡ／ｄｍ２の電
流アンペアで金の浴（１、Ｑａ　ＲＯｎｎｌ八ｕｒｏへ
　ＭＲＣｇｏｌｄ　ｂａｔｈ）で処理された。２μｍ未
満の金の電気沈着（ｃｌｃｃＬｒｏｄｃｐｏｓｌｔｉｏ
ｎ　）に対応する、６分後、レジス］・のｉｌ＋かれお
よびひどいアンダープレイティングが観察された。しが
しながら、」二記のように現像されたボードが１５０　
’Ｃで５分間熱処理された場合、レジストのｊｌ＋かれ
又はアンダープレイティングなしで６μｍ以ｌ二の金の
電気沈着が１８分後に達成された。
両方のボードは３％Ｋ　ＯＨで５０　’Ｃで完全におよ
びきれいに除去（５ｔｒｉｐ　）された。
例２ Ａ）　重合体の製造 ２０ｇ　（＝２０．４３ｍｍｏ　１のマレイン酸）の例
ＩＡの共重合体が、室温で３００ｍ１のメチレンクロラ
イドに溶解された。１．５３ｇ（−２０，４ｍｍｏ　１
）の１−アミノ−２−プロパツールが５０ちりのメチレ
ンクロライドに溶解され、該重合体溶液に撹拌されなが
ら滴下された。温度が２７°Ｃに−１−げられた。４時
間の反応時間の後、重合体は、２．５ｇの石油エーテル
（４０−６０”Ｃ）に注ぐことにより沈澱され、濾過さ
れ、真空乾燥された。ＩＲスペクトルの１８６０ｃｍ−
’および１’７８０ｃロビｌにカルボニルの曲線は見ら
れなかった。
除去時間 ａ）熱処理なし　　　２５秒 ｂ）熱処理あり　　　３５秒 Ｂ）　乾燥レジストフィルムの製造 次のコーティング溶液が製造された。
４４■１　　メチレンクロライド ６．７１　メタノール ７、　Ｇｌ　ｇのＡ）により製造された重合体７、　６
１　ｇのメチルメタクリレート／エチルアクリレート／
アクリル酸の共重合体、酸敗−８０、分子Ｗ−３０，０
００、Ｔｇ　＝５０’Ｃ。
５、７５　ｇ　　３−　（４−ヒドロキシベンゾイルオ
キシ−）−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート７．
１９ｇトリメチロールプロパン！・リアクリレート ２、旧ｇ　ベンジルジメチルケタール ０．１７ｇ　　ジェタノールアミン ３、３３　ｇ　　エアロジル２００、 シリカ＋５ｉ０２３瓜＞９９．８％、ＢＥＴによる面積
２００　ｍ　’　／　ｇ、七ｔη子サイズ１２ａ＋ｉ２
８　　　ｍｇ　　ナイルブルー （Ｎ　Ｉｌｅ　ｂｌｕｅ　（Ｃ，Ｉ　、　５１１８０　
）　）Ｃ）　　Ｂ）により製造された乾燥レジストフィ
ルムの使用 乾燥レジストフィルムは、例ＩＣのようにして、銅クラ
ツドペーストに積層され、露光され現像された。現像さ
れたボードは熱処理なしで例１ｃに記載した金の浴で処
理された。５分後（２μ汀１未満の金の沈着に対応）、
レジストの剥がれが観察された。
これに対して、１５０℃での１０分間熱処理の後は、２
２分後に、レジストの剥がれ又はアンダープレイティン
グなしで８μｍ以上の金が沈着した。
両方のボードは３％Ｋ　ＯＨで５０　’Ｃで満足にきれ
いに除去された。
乾燥レジストフィルムの製造を例１Ｂのようにして行っ
た。
除去時間 ａ）熱処理なし　　　３０秒 ｂ）熱処理あり　　　４０秒 例３ Ａ）　重合体の製造 １００ｇ　（＝０．１０２ｍｏｌのマレイン酸）の例Ｉ
Ａの共重合体が、室温で５００１のテトラヒドロフラン
に溶解された。１２ｇ（−０，１１ｍ　ｏ　ｌ　）のｐ
−アミノフェノールが１００ｍ１のテトラヒドロフラン
に溶解され、該重合体溶液に添加された。４０℃に加熱
されこの温度で４時間撹拌された。重合体は、該溶液を
３ｇの石油エチル（４０°−６０℃）に注ぐことにより
沈澱され、ａ過され、真空乾燥された。ＩＲスペクトル
の１８６０ｃｍ−’および１７８０ｃｍ−’にカルボニ
ルの曲線は見られなかった。
アクリレート／アクリル酸の共重合体、酸敗−８０、分
子ロー３０．０００　、　　Ｔｇ　−５０℃。
Ｇ、　　１９　ｇ　　３−（４−ヒドロキシベンゾイル
オキシ−）−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート７
．４５ｇ　トリメチロールプロパントリアクリレート ２、０７　ｇ　　ベンジルジメチルケタール０．１７　
ｇ　　へキサメチレンジアミン５．４　ｇ　エアロジル
２００、 シリカ；５ｉ０２含量＞　’ＩＱ、　Ｂ　％、ＢＥＴに
よる面積２００　ｍ２／　ｇ−、主粒子サイズ１２ｍｍ
２ｇ’Ｂ　　ナイルブル （Ｎｌｌｅ　ｂｌｕｅ　（Ｃ，１、５１１８０）　）Ｂ
）　乾燥レジストフィルムの製造 次のコーティング溶液が製造された。
４４　１　メチレンクロライド ６．７１　メタノール ７、２４　ｇのＡ）により製造された重合体７．２４　
ｇのメチルメタクリレート／エチル乾燥レジストフィル
ムを例１Ｂのようにして製造した。
Ｃ） Ｂ）により製造された乾燥レジストフィルムの使用 乾燥レジス；・フィルムが、例ＩＣのように処理された
。こうして現像されたボードは熱処理なしで例ＩＣに記
載した金の浴で処理された。６分後（２μｍ未満の金の
沈谷に対応）、レジストの剥がれが観察された。１５０
℃での１０分間熱処理の後は、１８分後に、レジストの
剥がれ又はアンダープレイティングなしで６ｇ０１以上
の金が比容し　ｔこ。
両方のボードは３％Ｋ　ＯＨで５０℃できれいにおよび
満足に除去された。
除去時間 ａ）熱処理なし　　　２５秒 ｂ）熱処理あり　　　３５秒 例４ 次のコーティング溶液が製造された。１５．３ｇのメチ
ルメタクリレート／ブチルアクリレート／イタコン酸無
水物（４０／４４／１６）　、酸敗−１６０、分子量−
３６，０００、Ｔｇ−２９℃の共重合体が、４４ｍ　ｌ
メチレンクロライドおよび６．７ｍｌのメタノールに溶
解された。
１．６４ｇのイソプロパツールアミンか添加され１　ｕ
：３間撹拌された。この溶液に次のものを添加した。
５ｇ３−（４−ヒドロキンベンゾイルオキシ−）−２−
ヒドロキシプロピルメタクリレート２．９３ｇトリメチ
ルプロパントリア クリレート ４、Ｈ　ｇ　ポリオキシエチル化トリメチロルブロバン
トリアクリレート、分−ｆｆｌｕ＝１１［ｉ２２０モル
エチレンオキシド ２　　ｇ　ベンジルジメチルケタール ０、１７ｇ　　ジェタノールアミン ３、　２８　ｇ　　エアロジル２００、シ’）　カニ　
Ｓ　ｒ　０　２含ｍ　＞　９９．　８　％、Ｂ　Ｅ　Ｔ
　ニヨる面積２００ｍ２／ｇ、主粒子サイズ１２ｍｍ２
８ＩＩ１ｇ　　ナイルブル （Ｎ１１ｃ　ｂｌｕｏ（Ｃ，　　１．　５１１８０　）
　）コーティング重Ｒ　４　２　ｇ　／　ｍ　２の乾燥
したレジストフィルムがこのコーティング溶液から例１
のようにして製造された。乾燥したレジストフィルムは
例ＩＣのように積層され、５ｇｍｊ／ｃｍ２で露光され
３０　’Ｃで１％Ｎａ２ＣＯ３溶液で現像された。洗浄
時間は２０秒であった。
こうして現像されたボードは熱処理なしで例ＩＣのに記
載した金の浴で処理された。レジストのＪｌｌれが６分
後（２μｍ未満の金沈着に対応）に観察された。１５０
℃での１０分間の熱処理後は７μｆＴｌ以−にの金が２
０分後にレジストの剥がれ又はアンダープレイティング
なしに沈イアされた。
両ボードは５５℃で３９６　ｋ　ＯＨ溶液で満足にきれ
いに除去された。
除去時間 ａ）熱処理なし　　　３０秒 ｂ）熱処理あり　　　５０秒 ２１、Ｏｇのメチルメタクリレート／スチレン／マレイ
ン酸無水物の共重合体、酸敗−１１５、分子量−３０，
０００ １，２４ｇ　　イソプロピルアミン この溶液を１時間撹拌した。次いで次のものを添加した
。
１０、０９　ｇ　　ポリオキシエチル化！・リメチロー
ルプロパントリアクリレート、分子ｆｉｌ　−１１Ｇ２
２０ａＩｏｌエチレンオキシド ２．１ｇ　　ポリプロピレングリコール−４２０−ジア
クリレート １．４ｇ　ベンゾフェノン ０、０５　ｇ　　エチルミヒラーケトン４０　　　ｍｇ
　　ナイルブルー （Ｎｉｃｂｌｕｅ　（Ｃ，１、５１１８０）　）例５ 次のコーティング溶液が製造された。
４４１１　　メチレンクロライド ６、７　ｉｆ　　メタノール コーティングＰａ　’ｔｌｌは２５μｍ厚さポリエステ
ルベース上に乾燥層重ｆｉ１４２　ｇ　／　ｍ　２で適
用された。
乾燥したレジストフィルムは従来の条件で１１０℃ロー
ラ？ＡＬ度で２．０ｍ／分で３５８℃銅を釘するベース
クラッドに積層され、６０ｍｊ／Ｃｎ１２でめっき透明
陽画（ｐｌａｔｉｎｇ　ｔｒ６ｐａｒｃｎｃｙ）を通し
て露光され、１，１．１−トリクロロエタンで商業的方
法で現像された。
乾燥レジストフィルムは例ＩＣのように処理された。こ
うして現像されたボードは熱処理なしで例１Ｃに記載し
た金の浴で処理された。８分後（３μ【ｎ未満の金沈着
に対応）、レジストのノリがれか観察された。１５０℃
での１０分間の熱処理後は、８μｍ以」二の金が２２分
後にレジストの剥がれ又はアンダープレイティングなし
に沈着された。
両ボードはメチレンクロライド／メタノール（９５１５
）で満足にきれいに除去された。
例し 次のコーティング溶液を製造した。
メチレンクロライド メタノール 例ＩＡの共重合体 エチルメタクリレート／エチルア クリレート／メタクリル酸 （２Ｇ／　ＧＯ／　Ｉｔ）の共重合体 酸１ｊ！！−ｇｏ、Ｔｇ−３５°Ｃ ペンタエリスリトールテトラアク リレート ベンゾフェノン １６ｇ ｔｇ ０ｇ 　ｇ ０ｇ ｇ １６ｇ １ｇ Ｊ ０ｇ ｇ エチルミヒラーケトン ０．２ｇ　　０．２ｇ ３−メルカプ１−−１．２．４−ト リアゾール シェフアミン（Ｊ　ｃｆ’ｒａｍｉｎｅ）　　Ｄｏ、２
ｇ　　０．２ｇ ０ｇ １０ｇ ｍ　−Ｔ　Ｍ　　Ｉ　　” ７．５ｇ　　７．５ｇ ダイブｏ　（Ｄａｙｇｌｏ　）　　１２２−９ｇ５ｇ ＮＧＯ ３＝緑顔料 Ｕ３ ２．０ して８　Ｏｎ＋　ｊ　／　ｃ　ｍ　２で露光されＮ　ａ
　２　ＣＯ３溶液で３０℃で現像された。
両方のボードは現像の後１時間それぞれ１５０°Ｃで処
理され４　ｍ　ｊ　／　ｃ　ｍ　２で露光された。湿気
および絶縁の性質のＡＰＩ定がＩＰＣクラスＩ　Ｉ　Ｉ
　試験の条件で行イつれた。次の抵抗がＡｌ１定された
。
処方Ａ　　　　Ｉ　Ｘ　１０９Ω 処方Ｂ　　　　６Ｘ１０７Ω コーティング溶液は２５μｍ厚さのポリエステルフィル
ム上に適用され、乾燥フィルム厚さ５０μ［ｎが１ワら
れた。
乾燥レジストフィルムＡおよびＢは最初にトリプロピレ
ングリコールジアクリレートでスプレーされたＩＰＣ−
ＳＭ　　８４０Ａに対応したＣＯＭＢ回路線試料（ｃｉ
ｒｃｕｉｔ　１ｉｎｅ　ｓａａ＋ｐｌｏ　）上に聞届さ
れた。
両ボードはそれぞれ対応する試験透明陽画を通出願人代
理人　弁理１：　鈴ｌＬ武彦 手続補正書 平成元年８・）１１４日 特許庁長官　吉　１）文　毅　殿 １゜ 事件の表示 特願平１−１１１．８８５号 ２゜ 発明の名称 ３゜ カルボキシル基を含有するバインダを有する光重合可能
組成物 補正をする者 事件との関係　　特許出願人 名称　イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド
・カンパニー ４、代理人 東京都千代田区霞が関３丁目７番２号 ６゜ 補正の対象 ２、特許請求の範囲 １、ａ）少なくとも１の付加重合可能エチレン性不飽和
化合物、 ｂ）光開始剤又は光開始剤系、および ｃ）１以上の構造単位ＡおよびＢおよびカルボキシル基
を含有する少なくとも１の付加的構造単位Ｃ１又はＣ２
を含有する少なくとも１の共重合性バインダ、を包含す
る像記録のための光重合可能組成物であって、 ■）該共重合体の５乃至５０重量パー セントがカルボキシル基を含有する１以上の異なる構造
単位Ｃ１、Ｃ２、又はその組合わせから形成され、 ＩＩ）１以上の異なる構造単位Ａの割合が５乃至９５重
量パーセントであり、 １ＩＩ）１以上の異なる構造単位Ｂの割合が０乃至５０
重量パーセントであり、そしてＩＶ）Ａ、Ｂ、Ｃ１およ
びＣ２が次の構造を有することを特徴とする組成物。
式中、 Ｒ１躊ＨＳＣＨ３、Ｃ２Ｈ６、フェニル、およびアルキ
ルフェニル、 Ｒ２−Ｈ５ＣＨ，、フェニル、−ＣＯＯＲ９、−ＣＯＮ
Ｒ，、Ｒ，、、および−ＣＮ。
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ１、およびＲ６−Ｈおよびアルキル、お
よび Ｒ，、Ｒ，、Ｒ，、Ｒ，、、およびＲＩｒ　−Ｈ。
アルキルおよびアーリル、であって、無置換又は１以上
のヒドロキシ、エステル、ハロゲン、ケート、エーテル
又はチオエーテル基で置換されたもの。
２、該特定された共重合体がバインダとしてのみ存在す
る請求項１記載の光重合可能組成物。
３、該特定された共重合体が１以上のエチレン性不飽和
ジカルボン酸無水物および１以上のエチレン性不飽和化
合物から形成された共重合体の一級アミンとの反応生成
物である請求項１記載の光重合可能組成物。
４、マレイン酸無水物、イタコン酸無水物、又はシトラ
コン酸無水物がエチレン性不飽和ジカルボン酸無水物と
して使用される請求項３記載の光重合可能組成物。
５、無置換の又はヒドロキシ置換されたアルキル又はア
リールアミンが使用される請求項３記載の光重合可能組
成物。
固体層の形態である請求項１記載の光重合可能組成物。
出顆入代理人弁理土鈴江武彦 ６．１以上のスチレン、イソプレン、ブタジェン、（メ
タ）アクリル酸、（メタ）アクリルアミド、又は（メタ
）アクリレートがコモノマーとし７、合成樹脂フィルム
の支持体上の固体の転写可能層の形態である請求項１記
載の光重合可能組成物。
８゜ 金属性支持体又は金属クラ ド支持体上の

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、ａ）少なくとも１の付加重合可能エチレン性不飽和
    化合物、 ｂ）光開始剤又は光開始剤系、および ｂ）１以上の構造単位ＡおよびＢおよびカルボキシル基
    を含有する少なくとも１の付加的構造単位Ｃ１又はＣ２
    を含有する少なくとも１の共重合性バインダ、を包含す
    る像記録のための光重合可能組成物であって、 I ）該共重合体の５乃至５０重量パーセントがカルボ
    キシル基を含有する１以上の異なる構造単位Ｃ１、Ｃ２
    、又はその組合わせから形成され、 II）１以上の異なる構造単位Ａの割合が５乃至９５重量
    パーセントであり、 III）１以上の異なる構造単位Ｂの割合が０乃至５０重
    量パーセントであり、そして IV）Ａ、Ｂ、Ｃ１およびＣ２が次の構造を有することを
    特徴とする組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼Ａ ▲数式、化学式、表等があります▼Ｂ ▲数式、化学式、表等があります▼Ｃ１ ▲数式、化学式、表等があります▼Ｃ２ 式中、 Ｒ＿１＝Ｈ、ＣＨ＿３、Ｃ＿２Ｈ＿５、フェニル、およ
    びアルキルフェニル、 Ｒ＿２＝Ｈ、ＣＨ＿３、フェニル、−ＣＯＯＲ＿９、−
    ＣＯＮＲ＿１＿０Ｒ＿１＿１、および−ＣＮ、Ｒ＿３、
    Ｒ＿４、Ｒ＿５、およびＲ＿６＝Ｈおよびアルキル、お
    よび Ｒ＿７、Ｒ＿８、Ｒ＿９、Ｒ＿１＿０およびＲ＿１＿１
    ＝Ｈ、アルキルおよびアーリル、であって、無置換又は
    １以上のヒドロキシ、エステル、ハロゲン、ケト、エー
    テル又はチオエーテル基で置換されたもの。 ２、該特定された共重合体がバインダとしてのみ存在す
    る請求項１記載の光重合可能組成物。 ３、該特定された共重合体が１以上のエチレン性不飽和
    ジカルボン酸無水物および１以上のエチレン性不飽和化
    合物から形成された共重合体の一級アミンとの反応生成
    物である請求項１記載の光重合可能組成物。 ４、マレイン酸無水物、イタコン酸無水物、又はシトラ
    コン酸無水物がエチレン性不飽和ジカルボン酸無水物と
    して使用される請求項３記載の光重合可能組成物。 ５、無置換の又はヒドロキシ置換されたアルキル又はア
    リールアミンが使用される請求項３記載の光重合可能組
    成物。 ６、１以上のスチレン、イソプレン、ブタジエン、（メ
    タ）アクリル酸、（メタ）アクリルアミド、又は（メタ
    ）アクリレートがコモノマーとして使用される請求項３
    記載の光重合可能組成物。 ７、合成樹脂フィルムの支持体上の固体の転写可能層の
    形態である請求項１記載の光重合可能組成物。 ８、金属性支持体又は金属クラッド支持体上の固体層の
    形態である請求項１記載の光重合可能組成物。
JP1111885A 1988-04-29 1989-04-28 カルボキシル基を含有するバインダを有する光重合可能組成物 Granted JPH0297502A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3814567A DE3814567A1 (de) 1988-04-29 1988-04-29 Photopolymerisierbare zusammensetzungen mit carboxylgruppen enthaltenden bindemitteln
DE3814567.7 1988-04-29

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0297502A true JPH0297502A (ja) 1990-04-10
JPH0420923B2 JPH0420923B2 (ja) 1992-04-07

Family

ID=6353225

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1111885A Granted JPH0297502A (ja) 1988-04-29 1989-04-28 カルボキシル基を含有するバインダを有する光重合可能組成物

Country Status (6)

Country Link
US (1) US4987054A (ja)
EP (1) EP0339306B2 (ja)
JP (1) JPH0297502A (ja)
KR (1) KR900016798A (ja)
BR (1) BR8901961A (ja)
DE (1) DE3814567A1 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06349978A (ja) * 1993-05-28 1994-12-22 Internatl Business Mach Corp <Ibm> 基板から金属を選択的にエッチングする方法
JP2005331618A (ja) * 2004-05-18 2005-12-02 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法
JP2006154740A (ja) * 2004-07-14 2006-06-15 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物、パターン形成材料、感光性積層体、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2700933B2 (ja) * 1989-11-28 1998-01-21 日本石油株式会社 永久保護膜用樹脂組成物および永久保護膜の製造方法
DE4004620C1 (en) * 1990-02-15 1991-09-05 Du Pont De Nemours (Deutschland) Gmbh, 6380 Bad Homburg, De Photo-structured layer of three=dimensional object prodn. - by using fusible plastisol or organosol contg. unsatd. monomer, photoinitiator and thermally reactive cpd.
DE4017863C1 (ja) * 1990-06-02 1991-07-18 Du Pont De Nemours (Deutschland) Gmbh, 4000 Duesseldorf, De
JPH0497152A (ja) * 1990-08-09 1992-03-30 Kansai Paint Co Ltd 光重合性組成物からパターンを形成する方法
JPH0511439A (ja) * 1990-09-13 1993-01-22 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
EP0628180B1 (en) * 1992-02-24 1998-09-16 E.I. Du Pont De Nemours And Company Pliable, aqueous processable, photoimageable permanent coatings for printed circuits
US5514502A (en) * 1993-08-16 1996-05-07 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photopolymerizable composition, color filter, and production of color filter
US5576145A (en) * 1995-02-10 1996-11-19 Morton International, Inc. Esterified styrene/maleic anhydride polymer and polymer-containing photoimageable composition having improved alkaline process resistance
US5609991A (en) * 1995-02-10 1997-03-11 Morton International, Inc. Photoimageable composition having improved alkaline process resistance and tack-free surface for contact imaging
US5643657A (en) * 1995-04-28 1997-07-01 E. I. Du Pont De Nemours And Company Aqueous processable, multilayer, photoimageable permanent coatings for printed circuits
JPH08319456A (ja) * 1995-04-28 1996-12-03 E I Du Pont De Nemours & Co 印刷回路用の水系処理可能な軟質の光画像化可能耐久被覆材
US6232364B1 (en) * 1999-02-18 2001-05-15 Shimizu Co., Ltd. Ultraviolet curable coating compositions for cationic electrodeposition applicable to metallic materials and electrically conductive plastic materials
TW594381B (en) 2000-07-12 2004-06-21 Du Pont Process for patterning non-photoimagable ceramic tape
US6649321B2 (en) * 2001-06-21 2003-11-18 Great Eastern Resin Industrial Co., Ltd. Styrene-anhydride copolymer containing amido group, the process for producing the same and use thereof
US7762310B2 (en) * 2006-04-13 2010-07-27 Novelis Inc. Cladding superplastic alloys
US20180201703A1 (en) * 2015-07-07 2018-07-19 Iowa State University Research Foundation, Inc. Vanillin methacrylates and polymers therefrom

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2313565A (en) * 1939-10-31 1943-03-09 Eastman Kodak Co Resin and its preparation
US2402604A (en) * 1942-11-03 1946-06-25 Du Pont Polymeric hydroxamic acids
US3684777A (en) * 1970-03-20 1972-08-15 Nathan D Field Novel interpolymers useful as thickening agents
US3873319A (en) * 1974-01-31 1975-03-25 Minnesota Mining & Mfg Dry-film negative photoresist having amidized styrene-maleic anhydride binder material
DE2512693A1 (de) * 1975-03-20 1976-09-30 Minnesota Mining & Mfg Negativer trockenfilmphotoaetzgrund mit amidisiertem styrol-maleinsaeureanhydrid-bindemittelmaterial
FR2304941A1 (fr) * 1975-03-21 1976-10-15 Minnesota Mining & Mfg Pellicule seche de reserve anti-acide negative contenant un liant de copolymere styrene-anhydride maleique amidise
DK198077A (da) * 1976-05-06 1977-11-07 Japan Synthetic Rubber Co Ltd Fotosensitive kompositioner og trykkeplader der indeholder disse
CA1127340A (en) * 1977-12-30 1982-07-06 Kohtaro Nagasawa Photocurable light-sensitive composition and material
JPS57211146A (en) * 1981-06-23 1982-12-24 Fuji Photo Film Co Ltd Photopolymerizable composition
DE3329443A1 (de) * 1983-08-16 1985-03-07 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes kopiermaterial
JPS6141141A (ja) * 1984-08-02 1986-02-27 Kuraray Co Ltd 新規共重合体および該共重合体よりなるポジ型レジスト材料
JPS61128243A (ja) * 1984-11-28 1986-06-16 Asahi Chem Ind Co Ltd 感光性樹脂組成物
US4775597A (en) * 1987-06-15 1988-10-04 Ppg Industries, Inc. Ultraviolet light curable compositions for application to porous substrates based on unsaturated polyesters reacted with amino alcohols
US4868246A (en) * 1987-08-12 1989-09-19 Pennwalt Corporation Polymer bound UV stabilizers

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06349978A (ja) * 1993-05-28 1994-12-22 Internatl Business Mach Corp <Ibm> 基板から金属を選択的にエッチングする方法
JP2005331618A (ja) * 2004-05-18 2005-12-02 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法
JP2006154740A (ja) * 2004-07-14 2006-06-15 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物、パターン形成材料、感光性積層体、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP0339306A3 (en) 1990-01-17
EP0339306B2 (de) 1999-10-06
KR900016798A (ko) 1990-11-14
DE3814567C2 (ja) 1990-05-17
US4987054A (en) 1991-01-22
JPH0420923B2 (ja) 1992-04-07
BR8901961A (pt) 1989-12-05
DE3814567A1 (de) 1989-11-09
EP0339306B1 (de) 1993-02-10
EP0339306A2 (de) 1989-11-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0297502A (ja) カルボキシル基を含有するバインダを有する光重合可能組成物
JPS595241A (ja) 放射線重合可能な混合物
JPH0352855B2 (ja)
US8460853B2 (en) Photosensitive resin composition, photosensitive element, resist pattern manufacturing method, and printed circuit board manufacturing method
JPH0447812B2 (ja)
WO2007123062A1 (ja) 感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
JPH0756337A (ja) 光重合性組成物
JP3040202B2 (ja) 水系感光性樹脂組成物及びそれを用いたプリント回路板の製造方法
US6511789B2 (en) Photosensitive polyimide precursor compositions
JP5793924B2 (ja) 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造方法、及びプリント配線板の製造方法
WO1987004271A1 (en) Photosensitive resin composition for screen process
KR101409030B1 (ko) 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 감광성 엘리먼트, 레지스트 패턴의 형성 방법 및 인쇄 배선판의 제조 방법
JP2002322277A (ja) 新規な末端修飾したポリアミック酸及びそれを含む感光性樹脂組成物
TWI262360B (en) Light sensitive film for forming circuit and method for manufacturing printed circuit board
JPH04116557A (ja) 感光性樹脂組成物のパターン形成方法
JP2720238B2 (ja) 光重合性組成物、それを用いたカラーフイルター及びその製造方法
JP2004341354A (ja) 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
EP2063318A1 (en) Photosensitive resin composition, photosensitive element, method for forming resist pattern, and method for producing printed wiring board
JP3611616B2 (ja) 光重合性組成物、それを用いたカラーフィルター及びその製造方法
JPS60240715A (ja) 感光性樹脂組成物
JPH07209865A (ja) 光重合性組成物、それを用いたカラーフィルター及びその製造方法
JPH02311846A (ja) 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性積層体
WO2006009076A1 (ja) 感光性エレメント、これを用いたレジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
JPH0259170B2 (ja)
TWI250378B (en) Photosensitive resin composition