JPH029471B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH029471B2
JPH029471B2 JP60043482A JP4348285A JPH029471B2 JP H029471 B2 JPH029471 B2 JP H029471B2 JP 60043482 A JP60043482 A JP 60043482A JP 4348285 A JP4348285 A JP 4348285A JP H029471 B2 JPH029471 B2 JP H029471B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer pattern
inner layer
pattern portion
copper
outer layer
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP60043482A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS61201497A (ja
Inventor
Yoshihiro Hojo
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JTEKT Column Systems Corp
Original Assignee
Fuji Kiko Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Kiko Co Ltd filed Critical Fuji Kiko Co Ltd
Priority to JP60043482A priority Critical patent/JPS61201497A/ja
Publication of JPS61201497A publication Critical patent/JPS61201497A/ja
Publication of JPH029471B2 publication Critical patent/JPH029471B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
    • H05K3/06Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4644Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits
    • H05K3/4652Adding a circuit layer by laminating a metal foil or a preformed metal foil pattern

Landscapes

  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 イ 発明の目的 a 産業上の利用分野 本発明は民生・産業用に広く用いられているプ
リント基板のうち、特に開口凹所(キヤビテイ
部)から内層パターン部が露出した多層プリント
基材の製造法に関するものである。
b 従来の技術 近時一般にこの種のプリント基板は、ガラスエ
ポキシ、ポリイミド等を材料とした基材の両面に
銅箔が張付され、それの開口凹所から内層パター
ン部(例えばダイパツト部)の一部分が露出さ
れ、一次穴加工とスルホール銅メツキが施される
とともに、内層パターン部を除く外層銅箔に、エ
ツチングにより外層パターン部が形成されたもの
である。
このプリント基板の製造時において、外層パタ
ーン部をエツチング形成する際に内層パターン部
が侵食されるようなことがあつてはならない。そ
こでそのエツチング時に内層パターン部を保護す
る手段として、例えばスルホールをエツチングレ
ジストでテンテイングするのと同様に、内層パタ
ーン部の露出する開口凹所にもテンテイングする
ことが考えられる。しかしこれはスルホールに比
べて開口凹所が大きく、かつテンテイングスペー
ス等の問題もあつて困難である。また半田剥離等
による逆パターン形成で内層パターン部を保事す
ることも考えられるが、これは別に半田等の剥離
工程が必要となる。さらに、開口凹所の内側面に
半田メツキ等が付着すると、開口凹所周辺のパタ
ーンと接触するおそれがある問題点も解決せねば
ならない。
c 発明が解決しようとする問題点 内層パターン部の一部が露出したプリント基板
の製造時に、開口凹所内の内層パターン部を保護
するには、上記の如き手段では実施が困難であつ
たり工程数が増えて、不良率が高くなるし生産性
も低くなつてしまう等の問題点がある。
本発明は内層パターン部の一部が露出したプリ
ント基板の製造法において、上記の如き問題点を
解決しようとするものである。即ちその目的とす
るところは、比較的シンプルな構成ながら、開口
凹所から露出した内層パターン部をエツチング液
から完全に保護でき、かつ周辺の外層パターン部
との絶縁不良を生ずることをなくし、歩どまりと
生産性の向上を図れるような、内層パターン部が
露出するプリント基板の製造法を提供することに
ある。
ロ 発明の構成 a 問題点を解決するための手段 本発明は、両面に銅箔2,2が張付され、開口
凹所3から内層パターン部4の一部が露出する如
く形成された基材1に、スルホール6用の一次穴
加工を施した後にスルホール銅メツキ処理を行な
い、次いでエツチングレジスト5を塗付して、エ
ツチングにより外層パターン部9を形成する、内
層パターン部が露出するプリント基板の製造法に
おいて、遅くとも前記エツチングレジスト5の塗
布前に、内層パターン部4を外層部分の銅厚より
も厚くなる如く銅層8を形成しておくものであ
り、これによりエツチング時にその銅厚の差で内
層パターン部4を残すようにしたことを特徴とす
るものである。
上記構成において、内層パターン部4を外層の
銅厚より厚くなるように形成するには、例えば内
層パターン部4を除いてメツキレジスト10を塗
布しておき、内層パターン部4に通電して電気銅
メツキ等で銅層8の形成を行なうのがよい。メツ
キレジスト10は直後に剥離しておくのは勿論で
ある。また全面銅メツキをするのは、前記内層パ
ターン部4を外層の銅厚より厚く形成した後でよ
いが、内層パターン部4に電気銅メツキ等するた
め外層にメツキレジスト10を塗布する前であつ
てもよい。スルホール6用の一次穴加工は、内層
パターン部4を外層より厚くする電気銅メツキ等
の前でも後でもよいが、いずれの場合もスルホー
ル銅メツキをする前である。内層パターン部4を
外層の銅厚より厚くする度合は、通常数倍程度と
する。
b 作用 上記本発明によれば、基材1外層への全面メツ
キの前または後で、遅くとも外層パターン部9形
成用のエツチングレジスト5を塗布前において、
内層パターン部4が外層の銅厚より厚くなる如
く、例えば電気銅メツキ銅層8を形成してある。
そのため、外層パターン部9を形成すべくエツチ
ングした場合において、外層部分が外層パターン
部9を残して食刻された後でも、内層パターン部
4は銅厚が厚いので何ら影響を受けず残ることに
なる。したがつて、内層パターン部4が開口凹所
3から露出したプリント基板において、その外層
パターン形成用のエツチング時に、内層パターン
部4は完全に保護される。
なお上記場合に、内層パターン部4の銅厚を外
層より厚くするための例えば電気銅メツキは、内
層パターン部4のパターン上には厚く付き、パタ
ーン以外の部分には仮に付着して薄いので、その
不要部分の薄い銅層8は次のエツチング時に除去
されている。
c 実施例 上記本発明の代表的な実施例を2つ挙げると次
のようになる。まず第1番目のものは、第1図か
ら第9図に示すものであり、両面に銅箔2,2が
張付され、開口凹所3から内層パターン部4の一
部が露出する如く形成された基材1に、遅くとも
外層パターン部形成用のエツチングレジスト5の
塗布前に、スルホール6用の一次穴加工と、スル
ホール銅メツキによる銅膜7の形成と、前記内層
パターン部4が外層の銅厚より厚くなる如く電気
銅メツキ等による銅層8の形成とを行ない、その
後エツチングにて外層パターン部9を形成して、
その際に銅厚の差で内層パターン部4は残し、続
いてエツチングレジスト5を剥離するものであ
る。
また第2番目の方法は第10図から第17図に
示すものであり、内層パターン部4を予じめ銅箔
により厚い銅層8に形成しておき、プレス加工に
て開口凹所3から内層パターン部4の一部が露出
する如く形成した基材1に、遅くとも外層パター
ン部形成用のエツチングレジスト5の塗布前に、
スルホール6用の一次穴加工とスルホール銅メツ
キによる銅膜7を形成し、その後エツチングにて
外層パターン部9を形成して、その際に銅厚の差
で内層パターン部4は残し、続いてエツチングレ
ジスト5を剥離するものである。
ハ 効果 以上で明らかなように本発明は、遅くとも外層
パターン部形成用にメツキレジストを塗布する前
に、内層パターン部を外層部分より銅厚が厚くな
る如く形成しておき、エツチング時にも銅厚の差
で内層パターン部を残すようにするものである。
それゆえ、内層パターン部の銅厚を厚く形成する
という単に1工程を加えるだけで、エツチング時
にも内層パターン部を完全に保護できることにな
る。また開口凹所の内側面に銅が付着するような
ことがあつたとしても、それはエツチング時に取
除かれて銅厚の厚い内層パターン部だけを残すこ
とになり、開口凹所周辺の外層パターンとの間で
絶縁不良が生じることもなくなつている。したが
つて、この種のプリント基板の製造において、歩
どまりと生産性を大幅に向上できるものである。
【図面の簡単な説明】
図は本発明の製造方法の実施例を示すもので、
第1図から第9図の各図は工程順に示した本発明
によるプリント基板の拡大縦断正面図、第10図
から第17図の各図は他の実施例を工程順に示し
たプリント基板の拡大縦断正面図である。 図面符号1…基材、2…銅箔、3…開口凹所、
4…内層パターン部、5…エツチングレジスト、
6…スルホール、7…銅膜、8…銅層、9…外層
パターン部。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 両面に銅箔2,2が張付され、開口凹所3か
    ら内層パターン部4の一部が露出する如く形成さ
    れた基材1に、スルホール6用の一次穴加工を施
    した後にスルホール銅メツキ処理を行ない、次い
    でエツチングレジスト5を塗布して、エツチング
    により外層パターン部9を形成するようにした内
    層パターン部が露出するプリント基板の製造法に
    おいて、遅くとも前記エツチングレジスト5の塗
    付前に、内層パターン部4を外層部分の銅厚より
    も厚くなる如く銅層8を形成しておくことによ
    り、エツチング時に銅厚の差で内層パターン部4
    を残すようにしたことを特徴とする、内層パター
    ン部が露出するプリント基板の製造法。
JP60043482A 1985-03-04 1985-03-04 内層パタ−ン部が露出するプリント基板の製造法 Granted JPS61201497A (ja)

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JP60043482A JPS61201497A (ja) 1985-03-04 1985-03-04 内層パタ−ン部が露出するプリント基板の製造法

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JP60043482A JPS61201497A (ja) 1985-03-04 1985-03-04 内層パタ−ン部が露出するプリント基板の製造法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61201497A JPS61201497A (ja) 1986-09-06
JPH029471B2 true JPH029471B2 (ja) 1990-03-02

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ID=12664941

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JP60043482A Granted JPS61201497A (ja) 1985-03-04 1985-03-04 内層パタ−ン部が露出するプリント基板の製造法

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JPS61201497A (ja) 1986-09-06

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