JPH029196A - 金属パターン製造方法とそれを用いた金属配線の製造方法 - Google Patents
金属パターン製造方法とそれを用いた金属配線の製造方法Info
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- JPH029196A JPH029196A JP63160062A JP16006288A JPH029196A JP H029196 A JPH029196 A JP H029196A JP 63160062 A JP63160062 A JP 63160062A JP 16006288 A JP16006288 A JP 16006288A JP H029196 A JPH029196 A JP H029196A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、金属パターン利用分野に関するものである。
特に、印刷、コーティング、防蝕、配線、電極などに関
するものである。
するものである。
従来の技術
従来の金属パターンの製造は、所定の金属を基板上に蒸
着して金属薄膜を形成する。つぎに、フォトレジストプ
ロセスにより、所定のパターンをフォトレジストにより
形成する。つぎに、フォトレジストをマスクにして金属
薄膜をエツチング処理して除去する。つぎに、フォトレ
ジストを除去して、金属パターンを形成する。
着して金属薄膜を形成する。つぎに、フォトレジストプ
ロセスにより、所定のパターンをフォトレジストにより
形成する。つぎに、フォトレジストをマスクにして金属
薄膜をエツチング処理して除去する。つぎに、フォトレ
ジストを除去して、金属パターンを形成する。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、従来の方法は、フォトレジストをマスク
にして間接的に金属パターンを形成するもので、処理工
程が複雑であった。
にして間接的に金属パターンを形成するもので、処理工
程が複雑であった。
課題を解決するための手段
本発明では、金属微粒子を用いその金属微粒子の表面を
覆うように化学吸着法で放射線重合性官能基を持つ単分
子膜を設け、前記金属微粒子の薄膜を基板表面に形成す
る。ついで金属パターンを形成する部分に放射線を照射
し、隣接する金属微粒子表面の単分子膜の官能基同志で
重合反応を起こさせる。ついで重合反応を起こさなかっ
た金属微粒子を除去して金属パターンを形成する。
覆うように化学吸着法で放射線重合性官能基を持つ単分
子膜を設け、前記金属微粒子の薄膜を基板表面に形成す
る。ついで金属パターンを形成する部分に放射線を照射
し、隣接する金属微粒子表面の単分子膜の官能基同志で
重合反応を起こさせる。ついで重合反応を起こさなかっ
た金属微粒子を除去して金属パターンを形成する。
作用
本発明に用いる金属微粒子表面に形成している単分子膜
を構成している分子鎖の先端には重合性を有する官能基
があり、エネルギービームの照射により、隣接する金属
微粒子の単分子膜の官能基が結合し、金属パターンを形
成することができる。
を構成している分子鎖の先端には重合性を有する官能基
があり、エネルギービームの照射により、隣接する金属
微粒子の単分子膜の官能基が結合し、金属パターンを形
成することができる。
つまり、フォトレジストを用いずに直接的に金属パター
ンを形成することができる。
ンを形成することができる。
実施例
以下に、本発明の金属パターン形成方法の一実施例を模
式断面図面第１図、第２図、第３図、第４図および第５
図を用いて詳細に説明する。
式断面図面第１図、第２図、第３図、第４図および第５
図を用いて詳細に説明する。
金属微粒子１として、例えば、アルミニウムシリコン合
金からなる微粒子をシラン系界面活性剤２として、たと
えば、ＣＨ２：Ｃ）Ｉ−（ＣＨ２）ｎ−ＳＩＣＩａ（こ
こでｎは正の整数）を適宜溶解させたｎ−へキサンを主
成分とする非水系の溶液に浸漬する。ここで、シラン系
界面活性剤２は、末端には一５ＩＣｈ基と直鎖状炭化水
素鎖および先端には官能基として、たとえば、ビニル基
３からなっている。通常、金属微粒子表面には自然酸化
膜の薄膜が形成されているため表面に、水酸基が露出し
ている。したがって、非水系の溶液中で一５ＩＣＩ３基
と水酸基とが脱塩酸反応を起こして ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＨ２） 。−３ｉ−０−が金属微粒
子表面に一様に形成され、７ラン系界面活性剤からなる
単分子膜４が一層（厚みとして２〜３ｎｍ）形成される
。く第１図および第２図（ただし、第２図は第１図の円
Ａ内の拡大図である。 ）〉 つぎに、シラン系界面活性剤の単分子膜４で一様に覆わ
れたアルミニウムシリコン合金からなる金属微粒子１を
取り出し、前記金属微粒子１を非水系溶液として、たと
えばクロロホルムに溶かして塗布し、クロロホルムを蒸
発させて、金属パターンを保持する基板５上に前記金属
微粒子からなる膜を形成する。つぎに、金属パターンを
形成するところのみ選択的にエネルギービームが照射さ
れるようマスク８を前記基板５上に設置し、マスク８を
介してエネルギービームとして、たとえば、Ｘ線７を照
射する。
金からなる微粒子をシラン系界面活性剤２として、たと
えば、ＣＨ２：Ｃ）Ｉ−（ＣＨ２）ｎ−ＳＩＣＩａ（こ
こでｎは正の整数）を適宜溶解させたｎ−へキサンを主
成分とする非水系の溶液に浸漬する。ここで、シラン系
界面活性剤２は、末端には一５ＩＣｈ基と直鎖状炭化水
素鎖および先端には官能基として、たとえば、ビニル基
３からなっている。通常、金属微粒子表面には自然酸化
膜の薄膜が形成されているため表面に、水酸基が露出し
ている。したがって、非水系の溶液中で一５ＩＣＩ３基
と水酸基とが脱塩酸反応を起こして ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＨ２） 。−３ｉ−０−が金属微粒
子表面に一様に形成され、７ラン系界面活性剤からなる
単分子膜４が一層（厚みとして２〜３ｎｍ）形成される
。く第１図および第２図（ただし、第２図は第１図の円
Ａ内の拡大図である。 ）〉 つぎに、シラン系界面活性剤の単分子膜４で一様に覆わ
れたアルミニウムシリコン合金からなる金属微粒子１を
取り出し、前記金属微粒子１を非水系溶液として、たと
えばクロロホルムに溶かして塗布し、クロロホルムを蒸
発させて、金属パターンを保持する基板５上に前記金属
微粒子からなる膜を形成する。つぎに、金属パターンを
形成するところのみ選択的にエネルギービームが照射さ
れるようマスク８を前記基板５上に設置し、マスク８を
介してエネルギービームとして、たとえば、Ｘ線７を照
射する。
エネルギービームとして、たとえば、Ｘ線７を照射する
ことにより、隣接するアルミニウムシリコン合金からな
る金属微粒子１．１′の表面に形成されたシラン系界面
活性剤２よりなる単分子膜４．４゛の先端のビニル基同
志が重合反応を起こして、化学結合部８を形成する。こ
のように、エネルギービームを選択的に照射することで
、隣接するアルミニウムシリコン合金からなる金属微粒
子は、たがいに、化学結合部を介して選択的に固定され
る。く第３図および第４図（ただし、第４図は第３図の
円Ｂ内の拡大図である。）〉つぎに、エネルギービーム
を選択的に照射した金属微粒子からなる膜を溶媒として
、たとえば、クロロホルムに浸漬する。浸漬することに
より、エネルギービームが照射されずに金属微粒子表面
の単分子膜のビニル基同志で化学結合部が形成されなか
った金属微粒子は除去される。その結果、基板５上には
エネルギービームが照射された部分のみ金属微粒子１が
残り、金属パターンが形成される。〈第５図〉 以下に、本発明の金属パターンの形成方法を用いた金属
配線の形成方法および金属配線の一実施例を模式断面図
面第５図および第６図を用いて詳細に説明する。
ことにより、隣接するアルミニウムシリコン合金からな
る金属微粒子１．１′の表面に形成されたシラン系界面
活性剤２よりなる単分子膜４．４゛の先端のビニル基同
志が重合反応を起こして、化学結合部８を形成する。こ
のように、エネルギービームを選択的に照射することで
、隣接するアルミニウムシリコン合金からなる金属微粒
子は、たがいに、化学結合部を介して選択的に固定され
る。く第３図および第４図（ただし、第４図は第３図の
円Ｂ内の拡大図である。）〉つぎに、エネルギービーム
を選択的に照射した金属微粒子からなる膜を溶媒として
、たとえば、クロロホルムに浸漬する。浸漬することに
より、エネルギービームが照射されずに金属微粒子表面
の単分子膜のビニル基同志で化学結合部が形成されなか
った金属微粒子は除去される。その結果、基板５上には
エネルギービームが照射された部分のみ金属微粒子１が
残り、金属パターンが形成される。〈第５図〉 以下に、本発明の金属パターンの形成方法を用いた金属
配線の形成方法および金属配線の一実施例を模式断面図
面第５図および第６図を用いて詳細に説明する。
まず、上述の金属パターンの形成方法により金属配線を
形成する基板５上に配線に用いられる金属微粒子１から
なる金属パターンを形成する。つぎに、前記金属パター
ンが形成された基板を不活性ガス雰囲気中として、たと
えば、窒素ガス雰囲気中で摂氏４００度まで加熱する。
形成する基板５上に配線に用いられる金属微粒子１から
なる金属パターンを形成する。つぎに、前記金属パター
ンが形成された基板を不活性ガス雰囲気中として、たと
えば、窒素ガス雰囲気中で摂氏４００度まで加熱する。
不活性ガス中での加熱処理により、導電性を妨げるシラ
ン系界面活性剤２からなる単分子膜４を分解除去するこ
とができ、基板５上に配線金属からなる金属微粒子１の
金属配線が形成される。く第５図、第６図〉本発明に用
いる金属微粒子としては、アルミニウム、アルミニウム
シリコン合金、アルミニウム鋼合金、アルミニウムシリ
コン鋼合金、プラチナ、パラジウム、チタン、タンタル
、クロム、スズ、タングステン、モリブデン等を用いる
ことができる。
ン系界面活性剤２からなる単分子膜４を分解除去するこ
とができ、基板５上に配線金属からなる金属微粒子１の
金属配線が形成される。く第５図、第６図〉本発明に用
いる金属微粒子としては、アルミニウム、アルミニウム
シリコン合金、アルミニウム鋼合金、アルミニウムシリ
コン鋼合金、プラチナ、パラジウム、チタン、タンタル
、クロム、スズ、タングステン、モリブデン等を用いる
ことができる。
なお、本実施例ではシラン系界面活性剤を用いたが、水
酸基に対して結合性のある基であれば、７ラン系界面活
性剤に限らない。
酸基に対して結合性のある基であれば、７ラン系界面活
性剤に限らない。
また、本実施例ではシラン系界面活性剤の先端の官能基
としてビニル基を用いたが、他の官能基、たとえばアセ
チレン基、ジアセチレン基、エボキン基のような重合反
応を起こすものであってもよい。
としてビニル基を用いたが、他の官能基、たとえばアセ
チレン基、ジアセチレン基、エボキン基のような重合反
応を起こすものであってもよい。
さらにまた、本実施例ではエネルギービームとしてＸ線
を用いたが紫外線、遠紫外線、電子線、ガンマ線などシ
ラン系界面活性剤の先端に設けられた官能基の放射線重
合反応に応じて適宜変えられることは言うまでもない。
を用いたが紫外線、遠紫外線、電子線、ガンマ線などシ
ラン系界面活性剤の先端に設けられた官能基の放射線重
合反応に応じて適宜変えられることは言うまでもない。
さらにまた、本発明の実施例では加熱処理条件として摂
氏４００度としたが、シラン系界面活性剤に応じて適宜
除去できつる条件に変更してもよいことは言うまでもな
い。
氏４００度としたが、シラン系界面活性剤に応じて適宜
除去できつる条件に変更してもよいことは言うまでもな
い。
なお、本発明の金属パターン形成方法を用いた実施例で
は金属配線について記載したが、そのほか、金属電極、
特に、微細な金属パターンを必要とするバンプボンディ
ング、マイクロバンプボンディングなどの用途などにも
応用される。
は金属配線について記載したが、そのほか、金属電極、
特に、微細な金属パターンを必要とするバンプボンディ
ング、マイクロバンプボンディングなどの用途などにも
応用される。
さらにまた、本発明の実施例では、選択的にエネルギー
ビームを照射するためマスクを介したが、電子線などの
場合では、直接描画法が用いられており、本発明でも直
接描画法により選択的！（（１射を行っても差し支えな
い。
ビームを照射するためマスクを介したが、電子線などの
場合では、直接描画法が用いられており、本発明でも直
接描画法により選択的！（（１射を行っても差し支えな
い。
発明の効果
本発明の金属パターンの製造方法とそれを用いた金属配
線の製造方法は、金属パターンの新しい形成方法を提供
するものであり、従来のようにスパッタ法などのように
高価な設備を持ちうろことなく金属薄膜を形成すること
ができる。さらに、従来のフォトレジストパターン形成
、金属薄膜ドライエツチング、フォトレジスト除去等の
工程を経ずして、直接的に金属パターン、金属配線が形
成でき、本発明の産業に与える効果は大である。
線の製造方法は、金属パターンの新しい形成方法を提供
するものであり、従来のようにスパッタ法などのように
高価な設備を持ちうろことなく金属薄膜を形成すること
ができる。さらに、従来のフォトレジストパターン形成
、金属薄膜ドライエツチング、フォトレジスト除去等の
工程を経ずして、直接的に金属パターン、金属配線が形
成でき、本発明の産業に与える効果は大である。
第１図、第２図、第３図、第４図および第５図は本発明
の金属パターンの製造方法を説明する工程断面図、第６
図は本発明の金属配線の製造方法および金属配線を説明
する工程断面図である。 １．１′・・・金属微粒子、２・・・シラン系界面活性
剤、３・・・ビニル基、４．４“・・・単分子膜、５・
・・基板、６・・・マスク、７・・・Ｘ線、８・・・化
学結合部。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 はか１名第 図 第 図
の金属パターンの製造方法を説明する工程断面図、第６
図は本発明の金属配線の製造方法および金属配線を説明
する工程断面図である。 １．１′・・・金属微粒子、２・・・シラン系界面活性
剤、３・・・ビニル基、４．４“・・・単分子膜、５・
・・基板、６・・・マスク、７・・・Ｘ線、８・・・化
学結合部。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 はか１名第 図 第 図
Claims (8)
- （１）重合性を有する単分子膜で覆われた金属微粒子を
金属パターンを施す基板上に成膜する工程と、金属パタ
ーンを形成する部位にエネルギービームを選択的に照射
する工程と、エネルギービームを照射しなかった部位の
金属微粒子を除去する工程とからなることを特徴とする
金属パターンの製造方法。 - （２）単分子膜を形成する分子が重合性を有する官能基
を含むシラン系界面活性剤からなることを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載の金属パターンの製造方法。 - （３）シラン系界面活性剤として、その分子の末端に −ＳｉＣｌ基を含む化学物質を用いることを特徴とする
特許請求の範囲第２項記載の金属パターンの製造方法。 - （４）シラン系界面活性剤が直鎖状炭化水素鎖又は重合
性を有する官能基を含むことを特徴とする特許請求の範
囲第２項記載の金属パターンの製造方法。 - （５）シラン系界面活性剤の直鎖状炭化水素鎖の炭素原
子数が１０以上であることを特徴とする特許請求の範囲
第２項記載の金属パターンの製造方法。 - （６）シラン系界面活性剤の重合性を有する官能基が直
鎖状炭化水素鎖の先端にあることを特徴とする特許請求
の範囲第２項記載の金属パターンの製造方法。 - （７）シラン系界面活性剤として、ＣＨ＿２＝ＣＨ−（
ＣＨ＿２）＿ｎ−ＳｉＣｌ＿３（ｎ：正の整数）で表さ
れる化学物質を用いることを特徴とする特許請求の範囲
第２項、第３項、第４項、第５項又は第６項記載の金属
パターンの製造方法。 - （８）重合性を有する単分子膜で覆われた金属微粒子を
金属パターンを施す基板上に成膜する工程と、金属パタ
ーンを形成する部位にエネルギービームを選択的に照射
する工程と、エネルギービームを照射しなかった部位の
金属微粒子を除去する工程と、加熱処理を施して単分子
膜を除去する工程とからなることを特徴とする金属配線
の製造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16006288A JPH0719947B2 (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 | 金属パターン製造方法とそれを用いた金属配線の製造方法 |
| US07/361,261 US4985273A (en) | 1988-06-07 | 1989-06-05 | Method of producing fine inorganic particles |
| EP19890305701 EP0346074B1 (en) | 1988-06-07 | 1989-06-06 | Mass of fine particles of inorganic material and method of producing the same, ultrathin film of the inorganic fine particles and method of making the same, magnetic recording medium and method of providing the same method of manufacturing patterns of inorganic material, and method of manufacturing wirings of inorganic material |
| DE1989624198 DE68924198T2 (de) | 1988-06-07 | 1989-06-06 | Masse aus feinen Teilchen eines anorganischen Materials und Verfahren zu ihrer Herstellung, ultradünner Film aus feinen anorganischen Teilchen und Verfahren zu seiner Herstellung, magnetischer Aufnahmeträger und Verfahren zu seiner Herstellung, Verfahren zur Herstellung von Motiven aus anorganischem Material und Verfahren zur Herstellung von Verdrahtungen aus anorganischem Material. |
| US07/606,620 US5277980A (en) | 1988-06-07 | 1990-10-31 | Mass of fine particles of inorganic material and a film of the fine inorganic particles |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16006288A JPH0719947B2 (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 | 金属パターン製造方法とそれを用いた金属配線の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH029196A true JPH029196A (ja) | 1990-01-12 |
| JPH0719947B2 JPH0719947B2 (ja) | 1995-03-06 |
Family
ID=15707078
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16006288A Expired - Fee Related JPH0719947B2 (ja) | 1988-06-07 | 1988-06-28 | 金属パターン製造方法とそれを用いた金属配線の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0719947B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7220482B2 (en) | 2001-01-24 | 2007-05-22 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Aligned fine particles, method for producing the same and device using the same |
| JP2007275376A (ja) * | 2006-04-07 | 2007-10-25 | Takano Co Ltd | 便座用クッション |
| WO2008111537A1 (ja) * | 2007-03-09 | 2008-09-18 | Kazufumi Ogawa | 保護膜およびその製造方法 |
| WO2008111529A1 (ja) * | 2007-03-09 | 2008-09-18 | Kazufumi Ogawa | 微粒子膜およびその製造方法 |
| JP2009212181A (ja) * | 2008-03-03 | 2009-09-17 | Toshiba Corp | ナノ粒子薄膜、ナノ粒子薄膜の製造方法、ナノ粒子薄膜パターン形成方法および回路パターン形成方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50161672A (ja) * | 1974-06-19 | 1975-12-27 | ||
| JPS5516386A (en) * | 1978-07-22 | 1980-02-05 | Omron Tateisi Electronics Co | Proximity switching circuit |
-
1988
- 1988-06-28 JP JP16006288A patent/JPH0719947B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50161672A (ja) * | 1974-06-19 | 1975-12-27 | ||
| JPS5516386A (en) * | 1978-07-22 | 1980-02-05 | Omron Tateisi Electronics Co | Proximity switching circuit |
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| WO2008111529A1 (ja) * | 2007-03-09 | 2008-09-18 | Kazufumi Ogawa | 微粒子膜およびその製造方法 |
| JP2008221521A (ja) * | 2007-03-09 | 2008-09-25 | Kagawa Univ | 保護膜およびその製造方法 |
| JP2008221081A (ja) * | 2007-03-09 | 2008-09-25 | Kagawa Univ | 微粒子膜およびその製造方法 |
| JP2009212181A (ja) * | 2008-03-03 | 2009-09-17 | Toshiba Corp | ナノ粒子薄膜、ナノ粒子薄膜の製造方法、ナノ粒子薄膜パターン形成方法および回路パターン形成方法 |
| JP4734360B2 (ja) * | 2008-03-03 | 2011-07-27 | 株式会社東芝 | ナノ粒子薄膜、ナノ粒子薄膜の製造方法、ナノ粒子薄膜パターン形成方法および回路パターン形成方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0719947B2 (ja) | 1995-03-06 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |