JPH0291661A - 静電像現像剤 - Google Patents
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- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims abstract description 81
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 52
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims abstract description 50
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims abstract description 28
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 13
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims abstract description 12
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 12
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims abstract description 7
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 23
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims description 14
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 13
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 claims description 5
- 238000012661 block copolymerization Methods 0.000 claims description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 17
- 238000002156 mixing Methods 0.000 abstract description 13
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 abstract description 11
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 abstract description 6
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 abstract description 5
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 230000006378 damage Effects 0.000 abstract description 4
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- BDAGIHXWWSANSR-NJFSPNSNSA-N hydroxyformaldehyde Chemical compound O[14CH]=O BDAGIHXWWSANSR-NJFSPNSNSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910000018 strontium carbonate Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 238000001354 calcination Methods 0.000 abstract 1
- -1 ethylene, propylene Chemical group 0.000 description 50
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 34
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 29
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 29
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 28
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 23
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 23
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 description 18
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 17
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 description 17
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 15
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 15
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 14
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 12
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 11
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 11
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 11
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 10
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 9
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 8
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 8
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 8
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 8
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000011161 development Methods 0.000 description 7
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 7
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 7
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 7
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 7
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 6
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 239000006249 magnetic particle Substances 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 5
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 5
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 5
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- UZDMJPAQQFSMMV-UHFFFAOYSA-N 4-oxo-4-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)butanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC(=O)OCCOC(=O)C=C UZDMJPAQQFSMMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 4
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 4
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 4
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 4
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2,4-trimethylpentyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)COC(=O)C(C)=C JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 229920006125 amorphous polymer Polymers 0.000 description 3
- 229940067597 azelate Drugs 0.000 description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 3
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 3
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N iron(II,III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]O[Fe]=O SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- 229920001281 polyalkylene Polymers 0.000 description 3
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 3
- UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(C=C)C=C1 UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RKYJPYDJNQXILT-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxycarbonyl)benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCOC(=O)C=C RKYJPYDJNQXILT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001308 Zinc ferrite Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- AYJRCSIUFZENHW-UHFFFAOYSA-L barium carbonate Chemical compound [Ba+2].[O-]C([O-])=O AYJRCSIUFZENHW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 2
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 2
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 2
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229940090961 chromium dioxide Drugs 0.000 description 2
- IAQWMWUKBQPOIY-UHFFFAOYSA-N chromium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Cr+4] IAQWMWUKBQPOIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AYTAKQFHWFYBMA-UHFFFAOYSA-N chromium(IV) oxide Inorganic materials O=[Cr]=O AYTAKQFHWFYBMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TVZPLCNGKSPOJA-UHFFFAOYSA-N copper zinc Chemical compound [Cu].[Zn] TVZPLCNGKSPOJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 238000000113 differential scanning calorimetry Methods 0.000 description 2
- GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 2
- 230000005307 ferromagnetism Effects 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229910001291 heusler alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N lauryl acrylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920000921 polyethylene adipate Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001909 styrene-acrylic polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC=C1CN=C=O FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJQFWAQRPATHTR-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloro-4-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=C(C=C)C=C1Cl BJQFWAQRPATHTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=C(C=C)C=C1 KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMADTXMQLFQQII-UHFFFAOYSA-N 1-decyl-4-ethenylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCC1=CC=C(C=C)C=C1 DMADTXMQLFQQII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJNKJKGZKFOLOJ-UHFFFAOYSA-N 1-dodecyl-4-ethenylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=C(C=C)C=C1 WJNKJKGZKFOLOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLOUDBQOEJSUPI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2,3-dimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C=C)=C1C HLOUDBQOEJSUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHFHDVDXYKOSKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=C(C=C)C=C1 WHFHDVDXYKOSKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCNAQVGAHQVWIN-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-hexylbenzene Chemical compound CCCCCCC1=CC=C(C=C)C=C1 LCNAQVGAHQVWIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LUWBJDCKJAZYKZ-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-nonylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=C(C=C)C=C1 LUWBJDCKJAZYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLRQDIVVLOCZPH-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-octylbenzene Chemical compound CCCCCCCCC1=CC=C(C=C)C=C1 HLRQDIVVLOCZPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IVORCBKUUYGUOL-UHFFFAOYSA-N 1-ethynyl-2,4-dimethoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(C#C)C(OC)=C1 IVORCBKUUYGUOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFFXLYHRNRKAPM-UHFFFAOYSA-N 2,4,5-trichloro-n-(5-methyl-1,2-oxazol-3-yl)benzenesulfonamide Chemical compound O1C(C)=CC(NS(=O)(=O)C=2C(=CC(Cl)=C(Cl)C=2)Cl)=N1 HFFXLYHRNRKAPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXPKASQEUYICBF-UHFFFAOYSA-N 2-(3-prop-2-enoyloxypropoxycarbonyl)benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCOC(=O)C=C BXPKASQEUYICBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 2-(diethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCN(CC)CCOC(=O)C(C)=C SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C(C)=C JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHBAYNMEIXUTJV-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl prop-2-enoate Chemical compound ClCCOC(=O)C=C WHBAYNMEIXUTJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WROUWQQRXUBECT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylacrylic acid Chemical compound CCC(=C)C(O)=O WROUWQQRXUBECT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C(C)=C RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C=C CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYPNJNDODFVZLE-UHFFFAOYSA-N 3-methylbut-2-enoic acid Chemical compound CC(C)=CC(O)=O YYPNJNDODFVZLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBSXSAXOLABXMF-UHFFFAOYSA-N 4-Vinylaniline Chemical compound NC1=CC=C(C=C)C=C1 LBSXSAXOLABXMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASUUJFUXBYWYBG-UHFFFAOYSA-N 4-oxo-4-(3-prop-2-enoyloxypropoxy)butanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC(=O)OCCCOC(=O)C=C ASUUJFUXBYWYBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOSWJHAQGUOYOR-UHFFFAOYSA-N 5-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]-5-oxopentanoic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)CCCC(O)=O JOSWJHAQGUOYOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPDQDSFHCDCRFC-UHFFFAOYSA-N 5-oxo-5-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)pentanoic acid Chemical compound OC(=O)CCCC(=O)OCCOC(=O)C=C FPDQDSFHCDCRFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTHZUSWLNCPZLX-UHFFFAOYSA-N 6-fluoro-3-methyl-2h-indazole Chemical compound FC1=CC=C2C(C)=NNC2=C1 JTHZUSWLNCPZLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-M Chlorate Chemical class [O-]Cl(=O)=O XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001289 Manganese-zinc ferrite Inorganic materials 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QECVIPBZOPUTRD-UHFFFAOYSA-N N=S(=O)=O Chemical class N=S(=O)=O QECVIPBZOPUTRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001053 Nickel-zinc ferrite Inorganic materials 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical class [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920007962 Styrene Methyl Methacrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000002174 Styrene-butadiene Substances 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical group [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWLCFADDJOPOQC-UHFFFAOYSA-N [Mn].[Cu].[Sn] Chemical compound [Mn].[Cu].[Sn] NWLCFADDJOPOQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIYIUPFAJUGHNL-UHFFFAOYSA-N [O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[Mn++].[Mn++].[Mn++].[Fe+3].[Fe+3].[Fe+3].[Fe+3].[Fe+3].[Fe+3].[Fe+3].[Fe+3].[Fe+3].[Fe+3].[Zn++].[Zn++] Chemical compound [O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[Mn++].[Mn++].[Mn++].[Fe+3].[Fe+3].[Fe+3].[Fe+3].[Fe+3].[Fe+3].[Fe+3].[Fe+3].[Fe+3].[Fe+3].[Zn++].[Zn++] JIYIUPFAJUGHNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- PWAXUOGZOSVGBO-UHFFFAOYSA-N adipoyl chloride Chemical compound ClC(=O)CCCCC(Cl)=O PWAXUOGZOSVGBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 1
- IRERQBUNZFJFGC-UHFFFAOYSA-L azure blue Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Al+3].[Al+3].[Al+3].[Al+3].[Al+3].[Al+3].[S-]S[S-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] IRERQBUNZFJFGC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- FDQSRULYDNDXQB-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3-dicarbonyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC(C(Cl)=O)=C1 FDQSRULYDNDXQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHIHQLCVLOXUJW-UHFFFAOYSA-N benzoic anhydride Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OC(=O)C1=CC=CC=C1 CHIHQLCVLOXUJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003842 bromide salts Chemical class 0.000 description 1
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- AOWKSNWVBZGMTJ-UHFFFAOYSA-N calcium titanate Chemical compound [Ca+2].[O-][Ti]([O-])=O AOWKSNWVBZGMTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 1
- 150000001722 carbon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- WMPOZLHMGVKUEJ-UHFFFAOYSA-N decanedioyl dichloride Chemical compound ClC(=O)CCCCCCCCC(Cl)=O WMPOZLHMGVKUEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012217 deletion Methods 0.000 description 1
- 230000037430 deletion Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N diphenylmethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC1=CC=CC=C1 CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000010556 emulsion polymerization method Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene Chemical group FC(F)=C(F)C(F)(F)F HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006158 high molecular weight polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 150000004694 iodide salts Chemical class 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006233 lamp black Substances 0.000 description 1
- MOUPNEIJQCETIW-UHFFFAOYSA-N lead chromate Chemical compound [Pb+2].[O-][Cr]([O-])(=O)=O MOUPNEIJQCETIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940057995 liquid paraffin Drugs 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M malachite green Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940107698 malachite green Drugs 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- AWJZTPWDQYFQPQ-UHFFFAOYSA-N methyl 2-chloroprop-2-enoate Chemical compound COC(=O)C(Cl)=C AWJZTPWDQYFQPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADFPJHOAARPYLP-UHFFFAOYSA-N methyl 2-methylprop-2-enoate;styrene Chemical compound COC(=O)C(C)=C.C=CC1=CC=CC=C1 ADFPJHOAARPYLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLGXILFCIXHCMC-JHGZEJCSSA-N methyl cellulose Chemical compound COC1C(OC)C(OC)C(COC)O[C@H]1O[C@H]1C(OC)C(OC)C(OC)OC1COC YLGXILFCIXHCMC-JHGZEJCSSA-N 0.000 description 1
- CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M methylene blue Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004200 microcrystalline wax Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- BSCJIBOZTKGXQP-UHFFFAOYSA-N n-(2-hydroxyethyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCCO BSCJIBOZTKGXQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUORTJUPDJJXST-UHFFFAOYSA-N n-(2-hydroxyethyl)prop-2-enamide Chemical compound OCCNC(=O)C=C UUORTJUPDJJXST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052605 nesosilicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N octadecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N octyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C(C)=C NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940065472 octyl acrylate Drugs 0.000 description 1
- ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N octyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C=C ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004762 orthosilicates Chemical class 0.000 description 1
- 150000003891 oxalate salts Chemical class 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDBWAWNLGGMZRQ-UHFFFAOYSA-N p-Vinylbiphenyl Chemical compound C1=CC(C=C)=CC=C1C1=CC=CC=C1 HDBWAWNLGGMZRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRNFFDZCBYOZJY-UHFFFAOYSA-N p-quinodimethane Chemical group C=C1C=CC(=C)C=C1 NRNFFDZCBYOZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019809 paraffin wax Nutrition 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019271 petrolatum Nutrition 0.000 description 1
- QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N phenyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1 QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N phenyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=CC=C1 WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004986 phenylenediamines Chemical class 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L phthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 230000000750 progressive effect Effects 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 150000003856 quaternary ammonium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000012488 sample solution Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003346 selenoethers Chemical class 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011115 styrene butadiene Substances 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 229920005792 styrene-acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L succinate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCC([O-])=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical class [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 1
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 1
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000010558 suspension polymerization method Methods 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004772 tellurides Chemical class 0.000 description 1
- LXEJRKJRKIFVNY-UHFFFAOYSA-N terephthaloyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=C(C(Cl)=O)C=C1 LXEJRKJRKIFVNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013799 ultramarine blue Nutrition 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOSXWYQMOYSSKB-LDKJGXKFSA-L water blue Chemical compound CC1=CC(/C(\C(C=C2)=CC=C2NC(C=C2)=CC=C2S([O-])(=O)=O)=C(\C=C2)/C=C/C\2=N\C(C=C2)=CC=C2S([O-])(=O)=O)=CC(S(O)(=O)=O)=C1N.[Na+].[Na+] XOSXWYQMOYSSKB-LDKJGXKFSA-L 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は電子写真複写に関し、更にその現像剤に関する
。
。
(従来技術)
従来においては、トナーを構成するバインダ樹脂として
特開昭50−87032号等に開示されているように、
融点が45〜150℃の少なくとも1つの結晶性重合体
部分を、ガラス転移点が0℃以下の非晶質重合体部分に
化学的に連結してなる重合体を用いる技術、或いは特開
昭59−3446号に開示されているように、融点が4
5〜90°Cの結晶質ブロックおよびガラス転移点が前
記結晶質ブロックの融点より少なくとも10℃高い非晶
質ブロックを分子中に含有し、前記結晶質ブロックの含
有量が70〜95wt%である熱可塑性重合体を用いる
技術が提案されている。
特開昭50−87032号等に開示されているように、
融点が45〜150℃の少なくとも1つの結晶性重合体
部分を、ガラス転移点が0℃以下の非晶質重合体部分に
化学的に連結してなる重合体を用いる技術、或いは特開
昭59−3446号に開示されているように、融点が4
5〜90°Cの結晶質ブロックおよびガラス転移点が前
記結晶質ブロックの融点より少なくとも10℃高い非晶
質ブロックを分子中に含有し、前記結晶質ブロックの含
有量が70〜95wt%である熱可塑性重合体を用いる
技術が提案されている。
また、特開昭56−154740号にはエチレン、プロ
ピレンおよび酢酸ビニルから選ばれる1種または2種以
上の単量体から成る結晶性重合体とビニル重合体の1種
または2種以上から成る無定形重合体とからなるグラフ
ト共重合体を含有するトナーが開示され、更に特開昭5
7−8549号にはエチレン、プロピレンおよび酢酸ビ
ニルから選ばれる少なくとも1種の単量体から成る結晶
性重合体部分と不飽和ポリエステル幹重合体部分とビニ
ル系技重合体部分とから成るグラフト共重合体を含有す
るトナーが開示されている。
ピレンおよび酢酸ビニルから選ばれる1種または2種以
上の単量体から成る結晶性重合体とビニル重合体の1種
または2種以上から成る無定形重合体とからなるグラフ
ト共重合体を含有するトナーが開示され、更に特開昭5
7−8549号にはエチレン、プロピレンおよび酢酸ビ
ニルから選ばれる少なくとも1種の単量体から成る結晶
性重合体部分と不飽和ポリエステル幹重合体部分とビニ
ル系技重合体部分とから成るグラフト共重合体を含有す
るトナーが開示されている。
更に特開昭60−32060号にはスチレン−アクリル
樹脂又はスチレン−ブタジェン樹脂をバインダ樹脂とし
て含有してなる粒子と、BET比表面積が0.5〜30
m”/ gの無機微粉体とにより構成された静電像現像
剤が開示されている。
樹脂又はスチレン−ブタジェン樹脂をバインダ樹脂とし
て含有してなる粒子と、BET比表面積が0.5〜30
m”/ gの無機微粉体とにより構成された静電像現像
剤が開示されている。
しかしながら、前記特開昭50−87032号に開示さ
れたトナーは、軟質な結晶性重合体部分と、ガラス転移
点が0℃以下の粘着性かつ軟質である非晶質重合体部分
とが化学的に結合された共重合体によって構成されたト
ナーであるため、常温においても、現像器中等でブロッ
キング現象を起し、また摩擦帯電性および流動性が悪く
現像性の悪化を招き、得られる画像はかぶりの多い不鮮
明な画質のものとなる。またトナーの軟質が災して、多
数回の複写によってキャリア粒子や感光体表面へトナー
が付着するフィルミング現象が発生し、更に、クリーニ
ングブレード等のクリーニング部材へも融着し、得られ
る画像はかぶりが多く、濃度の低い不鮮明なものとなる
。また軟質であることは、常温での粉砕に際して粉砕機
中での塊状化、粉砕の困難を生じ、所望の粒径のトナー
が得られず、生産性の悪化とコスト高を招く。さらにそ
の粘着性のため、オイルを塗布しない熱ローラ定着器に
おいては、オフセット現象が発生しやすい。
れたトナーは、軟質な結晶性重合体部分と、ガラス転移
点が0℃以下の粘着性かつ軟質である非晶質重合体部分
とが化学的に結合された共重合体によって構成されたト
ナーであるため、常温においても、現像器中等でブロッ
キング現象を起し、また摩擦帯電性および流動性が悪く
現像性の悪化を招き、得られる画像はかぶりの多い不鮮
明な画質のものとなる。またトナーの軟質が災して、多
数回の複写によってキャリア粒子や感光体表面へトナー
が付着するフィルミング現象が発生し、更に、クリーニ
ングブレード等のクリーニング部材へも融着し、得られ
る画像はかぶりが多く、濃度の低い不鮮明なものとなる
。また軟質であることは、常温での粉砕に際して粉砕機
中での塊状化、粉砕の困難を生じ、所望の粒径のトナー
が得られず、生産性の悪化とコスト高を招く。さらにそ
の粘着性のため、オイルを塗布しない熱ローラ定着器に
おいては、オフセット現象が発生しやすい。
また特開昭59−3446号に開示された技術において
は、ガラス転移点が100℃以上と高い非晶質ブロック
を用いるので、低温での熔融性を満たす方法として結晶
質ブロックを70〜95wt%と多量に使用する必要が
あり、このため常温で塑性変形性を有する軟質な結晶質
ブロックの性質がトナーに反映されることとなる。即ち
、軟質結晶質ブロックのI;め摩擦帯電性および流動性
、現像性が不良となり、画像はかぶりの多い不鮮明なも
のとなる。
は、ガラス転移点が100℃以上と高い非晶質ブロック
を用いるので、低温での熔融性を満たす方法として結晶
質ブロックを70〜95wt%と多量に使用する必要が
あり、このため常温で塑性変形性を有する軟質な結晶質
ブロックの性質がトナーに反映されることとなる。即ち
、軟質結晶質ブロックのI;め摩擦帯電性および流動性
、現像性が不良となり、画像はかぶりの多い不鮮明なも
のとなる。
また、多数回に亘る複写に於ては、フィルミング現象が
発生し、更に摩擦帯電性不良を冗進し、クリーニングブ
レード等のクリーニング部材へ融着累積し、益々画像は
かぶりが多く濃度の低い不鮮明なものとなる。更にオイ
ルを多量に塗布しない熱ローラ定着器のような短時間で
の加熱による定着方法においては、上記非晶質ブロック
の高ガラス転移点に起因して定着下@温度が高くなると
共に、多量に混和された結晶質ブロックによってオフセ
ット現象が発生し易い。
発生し、更に摩擦帯電性不良を冗進し、クリーニングブ
レード等のクリーニング部材へ融着累積し、益々画像は
かぶりが多く濃度の低い不鮮明なものとなる。更にオイ
ルを多量に塗布しない熱ローラ定着器のような短時間で
の加熱による定着方法においては、上記非晶質ブロック
の高ガラス転移点に起因して定着下@温度が高くなると
共に、多量に混和された結晶質ブロックによってオフセ
ット現象が発生し易い。
更にまた、特開昭56−154740号及び同57−8
549号に開示されたトナーは流動性が悪く、トナーと
キャリアとの均一混合分散が困難で、結局トナーに十分
な摩擦帯電性および良好な現像性がなく、画像ぬけ等が
発生して画像は不鮮明となる。更にトナーの流動性不良
は多数回に亘る複写において現像剤の不均一性゛を累進
し、著しい画質劣化を呼ぶ。
549号に開示されたトナーは流動性が悪く、トナーと
キャリアとの均一混合分散が困難で、結局トナーに十分
な摩擦帯電性および良好な現像性がなく、画像ぬけ等が
発生して画像は不鮮明となる。更にトナーの流動性不良
は多数回に亘る複写において現像剤の不均一性゛を累進
し、著しい画質劣化を呼ぶ。
前記したような多くの技術努力によってそれなりの効果
は挙げて来たが、未だ満足すべきレベルには到らず、更
に続いて結晶性ポリエステルと、化学的に結合する数平
均分子量Mnと重量平均分子量Mwの比M w/ M
nが3.5以上である無定形ビニル重合体(特開昭63
−27855号)もしくは分子量分布に2つ以上のピー
クを有する無定形ビニル重合体(特開昭63−2785
6号)とのブロックもしくはグラフト共重合体をバイン
ダの主成分として含むトナーが提案された。該2つの提
案については更に機能向上の可能性が認められる。
は挙げて来たが、未だ満足すべきレベルには到らず、更
に続いて結晶性ポリエステルと、化学的に結合する数平
均分子量Mnと重量平均分子量Mwの比M w/ M
nが3.5以上である無定形ビニル重合体(特開昭63
−27855号)もしくは分子量分布に2つ以上のピー
クを有する無定形ビニル重合体(特開昭63−2785
6号)とのブロックもしくはグラフト共重合体をバイン
ダの主成分として含むトナーが提案された。該2つの提
案については更に機能向上の可能性が認められる。
また、特開昭60−32060号に開示された技術では
、無機微粉体の粒径が大きくなる程、トナー粒子に対す
る付着力が弱まるうえ、比表面積の小さな無機微粉体は
一般に正帯電性のものが多く、しかもトナーのバインダ
樹脂が負帯電性の弱いスチレン−アクリル等であるため
、比表面積の小さな無機微粉体のトナーに対する付着力
が相当に弱められる。
、無機微粉体の粒径が大きくなる程、トナー粒子に対す
る付着力が弱まるうえ、比表面積の小さな無機微粉体は
一般に正帯電性のものが多く、しかもトナーのバインダ
樹脂が負帯電性の弱いスチレン−アクリル等であるため
、比表面積の小さな無機微粉体のトナーに対する付着力
が相当に弱められる。
従って、トナー粒子から離脱した比表面積の小さな無機
微粉体により、潜像担持体の表面、クリニングブレード
等が早期に損傷される問題点がある。まI;、比表面積
り小さな無機微粉体が存在することによりトナー粒子の
熱定着性が悪化する問題点がある。
微粉体により、潜像担持体の表面、クリニングブレード
等が早期に損傷される問題点がある。まI;、比表面積
り小さな無機微粉体が存在することによりトナー粒子の
熱定着性が悪化する問題点がある。
(発明の目的)
本発明の目的は前述の状況に照し、低温定着性、耐オフ
セット性が良好であり、しかも比表面積の小さな無機微
粉体のトナーからの離脱がなく潜像担持体の早期損傷、
クリーニング不良、潜像担持体へのトナーフィルミング
及び紙粉の付着による画像流れ(特に有機感光体)、現
像スリーブへのトナーフィルミングによる画像不良を起
さぬ静電像現像剤を提供する二とにある。更には耐ブロ
ッキング性の良好な高耐久性現像剤を提供することにあ
る。
セット性が良好であり、しかも比表面積の小さな無機微
粉体のトナーからの離脱がなく潜像担持体の早期損傷、
クリーニング不良、潜像担持体へのトナーフィルミング
及び紙粉の付着による画像流れ(特に有機感光体)、現
像スリーブへのトナーフィルミングによる画像不良を起
さぬ静電像現像剤を提供する二とにある。更には耐ブロ
ッキング性の良好な高耐久性現像剤を提供することにあ
る。
上記目的に沿い検討した結果、トナーと、窒素吸着法に
よって定めるBET比表面積が0.5〜30+i!/g
の無機微粉体とを有してなる静電像現像剤において、前
記トナーが、結晶性ポリエステルと、数平均分子量Mu
と重量子均分+tMwとの比Mw/Hnが3゜5以上で
あるイオン架橋された無定形ビニル重合体とのブロック
共重合体またはグラフト共重合体をバインダ樹脂として
含有することを特徴とする静電像現像剤により本発明の
目的は達成される。
よって定めるBET比表面積が0.5〜30+i!/g
の無機微粉体とを有してなる静電像現像剤において、前
記トナーが、結晶性ポリエステルと、数平均分子量Mu
と重量子均分+tMwとの比Mw/Hnが3゜5以上で
あるイオン架橋された無定形ビニル重合体とのブロック
共重合体またはグラフト共重合体をバインダ樹脂として
含有することを特徴とする静電像現像剤により本発明の
目的は達成される。
更に本発明に於ては、前記イオン架橋された無定形ビニ
ル重合体と結晶性ポリエステルとのブロック共重合また
はグラフト共重合に関与する官能基は、カルボキシル基
、水酸基、アミノ基まI;はエポキシ基から選ばれた少
なくとも1つであることが好ましい。
ル重合体と結晶性ポリエステルとのブロック共重合また
はグラフト共重合に関与する官能基は、カルボキシル基
、水酸基、アミノ基まI;はエポキシ基から選ばれた少
なくとも1つであることが好ましい。
更に前記イオン架橋された無定形ビニル重合体は、ビニ
ル重合体の有するカルボキシル基に多価金属化合物が反
応してイオン架橋結合が形成されたものである。
ル重合体の有するカルボキシル基に多価金属化合物が反
応してイオン架橋結合が形成されたものである。
また前記イオン架橋される無定形ビニル重合体は分子量
分布に於て少なくとも2つの極大値を有することが好ま
しい。
分布に於て少なくとも2つの極大値を有することが好ま
しい。
〔111I成発明の作用効果〕
本発明の要件を備えたトナーは、Mw/ Inが3.5
以上のイオン架橋された無定形ビニル重合体成分により
良好な定着性、耐オフセット性が得られる上、結晶性ポ
リエステル成分を導入しているため、その低熔融粘度の
特性が付加され更°なる定着性の向上をもたらす。
以上のイオン架橋された無定形ビニル重合体成分により
良好な定着性、耐オフセット性が得られる上、結晶性ポ
リエステル成分を導入しているため、その低熔融粘度の
特性が付加され更°なる定着性の向上をもたらす。
また、結晶性ポリエステルをブロックまたはグラフト共
重合することにより、結晶性ポリエステルの硬度が無定
形重合体よりも低くなり、付着力の弱い比表面積の小さ
な無機微粉体であっても強固に固着され、無機微粉体の
トナー粒子からの離脱を抑制することができる。従って
、潜像担持体等の損傷を防止できる。更に強固な固着に
より、無機微粉体のクリーニング効果が上るとともに耐
ブロッキング性も向上する。
重合することにより、結晶性ポリエステルの硬度が無定
形重合体よりも低くなり、付着力の弱い比表面積の小さ
な無機微粉体であっても強固に固着され、無機微粉体の
トナー粒子からの離脱を抑制することができる。従って
、潜像担持体等の損傷を防止できる。更に強固な固着に
より、無機微粉体のクリーニング効果が上るとともに耐
ブロッキング性も向上する。
更には無機微粉体の研磨効果が充分に発揮され現像スリ
ーブ、潜像担持体へのトナーフィルミング及び紙粉の潜
像担持体への付着等が防止され、画像不良、画像流れ等
の問題も解決される。
ーブ、潜像担持体へのトナーフィルミング及び紙粉の潜
像担持体への付着等が防止され、画像不良、画像流れ等
の問題も解決される。
また、上記結晶性ポリエステルを導入したグラフトまた
はブロック共重合体は優れた熱熔融性を示し無機微粉体
の存在にもかかわらず熱定着性の悪化を防止できる。
はブロック共重合体は優れた熱熔融性を示し無機微粉体
の存在にもかかわらず熱定着性の悪化を防止できる。
次に本発明の構成を更に具体的に説明する。
前記結晶性ポリエステルとブロックまたはグラフト共重
合に関与するカルボキシル基、水酸基、アミノ基または
エポキシ基を有する無定形ビニル重合体を与える単量体
としては、例えばアクリル酸、β、β−ジメチルアクリ
ル酸、α−エチルアクリル酸、メタクリル酸、7マル酸
、イタコン酸、マレイン酸、クロトン酸、ヒドロキシエ
チルメタクリレート、フタル酸モノアクリロイルオキシ
エチルエステル、琥珀酸モノアクリロイルオキシエチル
エステル、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−
ヒドロキシエチルメタクリルアミド、N−メチロールア
クリルアミド、p−アミノスチレン、グリシジルメタク
リレート、その他を挙げることができる。このような官
能基を有する単量体は、無定形ビニル重合体を得るため
の単量体組成物中に、0.1〜20モル%、好ましくは
0.5〜lOモル%の範囲内で用いられる。
合に関与するカルボキシル基、水酸基、アミノ基または
エポキシ基を有する無定形ビニル重合体を与える単量体
としては、例えばアクリル酸、β、β−ジメチルアクリ
ル酸、α−エチルアクリル酸、メタクリル酸、7マル酸
、イタコン酸、マレイン酸、クロトン酸、ヒドロキシエ
チルメタクリレート、フタル酸モノアクリロイルオキシ
エチルエステル、琥珀酸モノアクリロイルオキシエチル
エステル、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−
ヒドロキシエチルメタクリルアミド、N−メチロールア
クリルアミド、p−アミノスチレン、グリシジルメタク
リレート、その他を挙げることができる。このような官
能基を有する単量体は、無定形ビニル重合体を得るため
の単量体組成物中に、0.1〜20モル%、好ましくは
0.5〜lOモル%の範囲内で用いられる。
斯かる官能基を有する単量体成分を含有するものであれ
ば、無定形ビニル重合体の主体部分を構成するビニル重
合体としては特に制限されるものではなく、ポリスチレ
ン、ポリメタクリル酸メチル、ポリアクリル酸メチル、
ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリロニトリ
ル、その他を挙げることができる。なかでも、スチレン
系単量体、アクリル酸系単量体、メタクリル酸系単量体
から選択される少なくとも1種を用いて得られるビニル
重合体であることが好ましい。特に、カルボキシル基を
有するビニル重合体のカルボキシル基に多価金属化合物
が反応してイオン架橋結合が形成されていることが好ま
しい。斯かるカルボキシル基を有するビニル重合体は、
上記単量体のほかに、アクリル酸もしくはメタクリル酸
およびこれらの誘導体から選択される単量体を必須成分
として用いて重合すればよい。
ば、無定形ビニル重合体の主体部分を構成するビニル重
合体としては特に制限されるものではなく、ポリスチレ
ン、ポリメタクリル酸メチル、ポリアクリル酸メチル、
ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリロニトリ
ル、その他を挙げることができる。なかでも、スチレン
系単量体、アクリル酸系単量体、メタクリル酸系単量体
から選択される少なくとも1種を用いて得られるビニル
重合体であることが好ましい。特に、カルボキシル基を
有するビニル重合体のカルボキシル基に多価金属化合物
が反応してイオン架橋結合が形成されていることが好ま
しい。斯かるカルボキシル基を有するビニル重合体は、
上記単量体のほかに、アクリル酸もしくはメタクリル酸
およびこれらの誘導体から選択される単量体を必須成分
として用いて重合すればよい。
例えば水酸基を有するアクリル酸エステルもしくはメタ
クリル酸エステルまたはこれらの誘導体と、ジカルボン
酸化合物とのエステル化反応によって得られる構造の半
エステル化合物を好ましいものとして挙げることができ
る。斯かる半エステル化合物によれば、主鎖構成に影響
の少ない位置にカルボキシル基が導入されているので、
化学構造の立体障害が小さくカルボキシル基と多価金属
化合物との反応が効率よく進行し、良好な架橋構造のイ
オン架橋無定形ビニル重合体を得ることができる。
クリル酸エステルまたはこれらの誘導体と、ジカルボン
酸化合物とのエステル化反応によって得られる構造の半
エステル化合物を好ましいものとして挙げることができ
る。斯かる半エステル化合物によれば、主鎖構成に影響
の少ない位置にカルボキシル基が導入されているので、
化学構造の立体障害が小さくカルボキシル基と多価金属
化合物との反応が効率よく進行し、良好な架橋構造のイ
オン架橋無定形ビニル重合体を得ることができる。
上記ビニル重合体を得るためのスチレン系単量体として
は、例えばスチレン、0−メチルスチレン、■−メチル
スチレン、p−メチルスチレン、a−メチルスチレン、
p−エチルスチレン、2.3−ジメチルスチレン、2.
4−ジメチルスチレン、I)−フェルスチレン、p−ヘ
キシルスチレン、p−オクチルスチレン、p−ノニルス
チレン、p−デシルスチレン、p−ドデシルスチレン、
p−メトキシスチレン、p−フェニルスチレン、p−ク
ロルスチレン、3.4−ジクロルスチレン等を挙げるこ
とができる。これらの単量体は単独で用いてもよいし、
あるいは複数のものを組合せて用いてもよい。
は、例えばスチレン、0−メチルスチレン、■−メチル
スチレン、p−メチルスチレン、a−メチルスチレン、
p−エチルスチレン、2.3−ジメチルスチレン、2.
4−ジメチルスチレン、I)−フェルスチレン、p−ヘ
キシルスチレン、p−オクチルスチレン、p−ノニルス
チレン、p−デシルスチレン、p−ドデシルスチレン、
p−メトキシスチレン、p−フェニルスチレン、p−ク
ロルスチレン、3.4−ジクロルスチレン等を挙げるこ
とができる。これらの単量体は単独で用いてもよいし、
あるいは複数のものを組合せて用いてもよい。
上記ビニル重合体を得るためのアクリル酸エステルもし
くはメタクリル酸エステルとしては、例えばアクリル酸
メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリ
ル酸イソブチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸オク
チル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸ラウリル、アク
リル酸−2−エチルヘキシル、アクリル酸ステアリル、
アクリル酸−2−クロルエチル、アクリル酸フェニル、
a−クロルアクリル酸メチル等のアクリル酸エステル類
;例えばメタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メ
タクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル
酸イソブチル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸ド
デシル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸−2−エ
チルヘキシル、メタクリル酸ステアリル、メタクリル酸
フェニル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、メタク
リル酸ジエチルアミノエチル等のメタクリル酸エステル
類;等を挙げることができる。
くはメタクリル酸エステルとしては、例えばアクリル酸
メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリ
ル酸イソブチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸オク
チル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸ラウリル、アク
リル酸−2−エチルヘキシル、アクリル酸ステアリル、
アクリル酸−2−クロルエチル、アクリル酸フェニル、
a−クロルアクリル酸メチル等のアクリル酸エステル類
;例えばメタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メ
タクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル
酸イソブチル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸ド
デシル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸−2−エ
チルヘキシル、メタクリル酸ステアリル、メタクリル酸
フェニル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、メタク
リル酸ジエチルアミノエチル等のメタクリル酸エステル
類;等を挙げることができる。
前記半エステル化合物を形成するカルボキシル基を有す
る化合物としては、例えばマロン酸、琥珀酸、グルタル
酸等の脂肪族ジカルボン酸化合物、例えばフタル酸等の
芳香族ジカルボン酸化合物等を挙げることができる。こ
れらの化合物と、水酸基を有するアクリル酸エステルも
しくはメタクリル酸エステルまたはこれらの誘導体とを
エステル化反応させることにより半エステル化合物を得
ることができる。上記ジカルボン酸化合物はハロゲン族
元素、低級アルキル基、アルコキシ基等によって水素原
子が置換されていてもよく、また酸無水物であってもよ
い。
る化合物としては、例えばマロン酸、琥珀酸、グルタル
酸等の脂肪族ジカルボン酸化合物、例えばフタル酸等の
芳香族ジカルボン酸化合物等を挙げることができる。こ
れらの化合物と、水酸基を有するアクリル酸エステルも
しくはメタクリル酸エステルまたはこれらの誘導体とを
エステル化反応させることにより半エステル化合物を得
ることができる。上記ジカルボン酸化合物はハロゲン族
元素、低級アルキル基、アルコキシ基等によって水素原
子が置換されていてもよく、また酸無水物であってもよ
い。
水酸基を有するアクリル酸もしくはメタクリル酸の誘導
体としては、アクリル酸もしくはメタクリル酸にエチレ
ンオキサイド、プロピレンオキサイド等のアルキレンオ
キサイドを1モルまたは2モル以上付加せしめたもので
もよく、あるいはアクリル酸もしくはメタクリル酸グロ
ビレングリコ−ル等の2価アルコールをエステル化反応
させたヒドロキシアルキルエステルであってもよい。
体としては、アクリル酸もしくはメタクリル酸にエチレ
ンオキサイド、プロピレンオキサイド等のアルキレンオ
キサイドを1モルまたは2モル以上付加せしめたもので
もよく、あるいはアクリル酸もしくはメタクリル酸グロ
ビレングリコ−ル等の2価アルコールをエステル化反応
させたヒドロキシアルキルエステルであってもよい。
好ましい半エステル化合物としては、例えば琥珀酸モノ
アクリロイルオキシエチルエステル、琥珀酸モノアクリ
ロイルオキシプロピルエステル、グルタル酸モノアクリ
ロイルオキシエチルエステル、フタル酸モノアクリロイ
ルオキシエチルエステル、フタル酸モノアクリロイルオ
キシプロピルエステル、琥珀酸モノメタアクリロイルオ
キシエチレステル、琥珀酸モノメタアクリロイルオキシ
グロピルエステル、グルタル酸モノメタアクリロイルオ
キシエチルエステル、7タル酸モノメタアクリロイルオ
キシエチルエステル、フタル酸モノメタアクリロイルオ
キシグロピルエステル等を挙げることができる。
アクリロイルオキシエチルエステル、琥珀酸モノアクリ
ロイルオキシプロピルエステル、グルタル酸モノアクリ
ロイルオキシエチルエステル、フタル酸モノアクリロイ
ルオキシエチルエステル、フタル酸モノアクリロイルオ
キシプロピルエステル、琥珀酸モノメタアクリロイルオ
キシエチレステル、琥珀酸モノメタアクリロイルオキシ
グロピルエステル、グルタル酸モノメタアクリロイルオ
キシエチルエステル、7タル酸モノメタアクリロイルオ
キシエチルエステル、フタル酸モノメタアクリロイルオ
キシグロピルエステル等を挙げることができる。
カルボキシル基を有するビニル重合体のカルボキシル基
と反応させる多価金属化合物の金属元素としては、例え
ばCu、Ag、Be、Mg、Ca、Sr、Ba。
と反応させる多価金属化合物の金属元素としては、例え
ばCu、Ag、Be、Mg、Ca、Sr、Ba。
Z n、Cd、A I、T i、G e、S n、V
、 Cr、Mo、Mn、F e。
、 Cr、Mo、Mn、F e。
Ni、Go、Zr、Se等を挙げることができる。これ
らの中でもアルカリ土類金属(B e、Mg+c a、
S r。
らの中でもアルカリ土類金属(B e、Mg+c a、
S r。
Ba)および亜鉛族元素(Zo、Cd)が好ましく、特
にMgおよびZnが好ましい。
にMgおよびZnが好ましい。
これらの金属を含む多価金属化合物としては、例えば、
上記金属元素の弗化物、塩化物、塩素酸塩、臭化物、沃
化物、酸化物、水酸化物、硫化物、亜硫酸塩、硫酸塩、
セレン化物、テルル化物、窒化物、硝酸塩、燐化物、ホ
スフィン酸塩、燐酸塩、炭酸塩、オルト珪酸塩、酢酸塩
、蓚酸塩、メチル化合物もしくはエチル化合物等の低級
アルキル金属化合物等を挙げることができ、特に上記金
属元素の酢酸塩、或は酸化物が好ましい。
上記金属元素の弗化物、塩化物、塩素酸塩、臭化物、沃
化物、酸化物、水酸化物、硫化物、亜硫酸塩、硫酸塩、
セレン化物、テルル化物、窒化物、硝酸塩、燐化物、ホ
スフィン酸塩、燐酸塩、炭酸塩、オルト珪酸塩、酢酸塩
、蓚酸塩、メチル化合物もしくはエチル化合物等の低級
アルキル金属化合物等を挙げることができ、特に上記金
属元素の酢酸塩、或は酸化物が好ましい。
多価金属化合物の添加量は、カルボキシル基を有するビ
ニル重合体を構成する単量体の種類およびその量により
相違するので一種に規定することはできないが、例えば
ビニル重合体の1モルに対して、0.1−1モル程度で
ある。
ニル重合体を構成する単量体の種類およびその量により
相違するので一種に規定することはできないが、例えば
ビニル重合体の1モルに対して、0.1−1モル程度で
ある。
カルボキシル基を有するビニル重合体にカルボキシル基
を介してイオン架橋するには、例えば溶液重合法により
重合して得られたカルボキシル基を有するビニル重合体
を含有する溶液に、前記多価金属化合物もしくはその分
散溶液を混合し、昇温して約1〜3時間にわたり脱溶剤
処理を行い、反応系内の温度が150−180℃程度に
達した状態で1時間以上この温度に維持して反応を完結
させるのがよい。また場合によっては、カルボキシル基
を有するビニル重合体の重合を開始する前に多価金属化
合物を溶剤と共に反応系内に存在させてもよく、あるい
は上記脱溶剤処理を行って得られたカルボキシル基を有
するビニル重合体と多価金属化合物とをロールミル、ニ
ーダ、押出機等により熔融混錬することにより反応させ
てもよい。
を介してイオン架橋するには、例えば溶液重合法により
重合して得られたカルボキシル基を有するビニル重合体
を含有する溶液に、前記多価金属化合物もしくはその分
散溶液を混合し、昇温して約1〜3時間にわたり脱溶剤
処理を行い、反応系内の温度が150−180℃程度に
達した状態で1時間以上この温度に維持して反応を完結
させるのがよい。また場合によっては、カルボキシル基
を有するビニル重合体の重合を開始する前に多価金属化
合物を溶剤と共に反応系内に存在させてもよく、あるい
は上記脱溶剤処理を行って得られたカルボキシル基を有
するビニル重合体と多価金属化合物とをロールミル、ニ
ーダ、押出機等により熔融混錬することにより反応させ
てもよい。
このようにしてカルボキシル基を有するビニル重合体と
多価金属化合物とが反応して得られるイオン架橋無定形
ビニル重合体は、このイオン結合による一種の架橋構造
が形成されたものとなる。
多価金属化合物とが反応して得られるイオン架橋無定形
ビニル重合体は、このイオン結合による一種の架橋構造
が形成されたものとなる。
このイオン結合は、共有結合に比して遥かに緩かな結合
である。
である。
また、低温定着性、耐オフセット性のより一層の向上を
図る観点から、無定形ビニル重合体は、分子量分布にお
いて少なくとも2一つ以上の極大値を有することが好ま
しい。即ち少なくとも低分子量成分と高分子量成分の2
群に分けられる分子量分布を有し、かつゲル・パーミュ
エーション・クロマトグラフィ(GPC)により測定さ
れた分子量分布曲線において、少なくとも1つの極大値
が2×103〜2X 10’の範囲内にあり、少なくと
も1つの極大値がIX 10’−IX 10@の範囲内
にあるような、少なくとも2つの極大値を有することが
好ましい。
図る観点から、無定形ビニル重合体は、分子量分布にお
いて少なくとも2一つ以上の極大値を有することが好ま
しい。即ち少なくとも低分子量成分と高分子量成分の2
群に分けられる分子量分布を有し、かつゲル・パーミュ
エーション・クロマトグラフィ(GPC)により測定さ
れた分子量分布曲線において、少なくとも1つの極大値
が2×103〜2X 10’の範囲内にあり、少なくと
も1つの極大値がIX 10’−IX 10@の範囲内
にあるような、少なくとも2つの極大値を有することが
好ましい。
上記高分子量成分により無定形ビニル重合体は一層強靭
なものとなり、キャリアとの摩擦あるいは現像器内での
撹拌等の機械的な外力によるトナー粒子の破壊が防止さ
れ、フィルミング現象の原因となる微砕粉の発生が抑制
される。なお、上記無定形ビニル重合体中の高分子量成
分の割合は、15wt%以上であることが好ましく、特
に15〜5(let%が好ましい。
なものとなり、キャリアとの摩擦あるいは現像器内での
撹拌等の機械的な外力によるトナー粒子の破壊が防止さ
れ、フィルミング現象の原因となる微砕粉の発生が抑制
される。なお、上記無定形ビニル重合体中の高分子量成
分の割合は、15wt%以上であることが好ましく、特
に15〜5(let%が好ましい。
無定形ビニル重合体が、イオン架橋無定形ビニル重合体
であり、かつ上記の如く高分子量成分と低分子量成分と
によ、り構成される場合には、多価金属化合物と反応す
るカルボキシル基は少なくとも低分子量成分に導入され
ていることが好ましい。
であり、かつ上記の如く高分子量成分と低分子量成分と
によ、り構成される場合には、多価金属化合物と反応す
るカルボキシル基は少なくとも低分子量成分に導入され
ていることが好ましい。
すなわち、キャリアとの摩擦あるいは現像器内での撹拌
等の機械的外力によって生ずるトナー粒子の破壊は、主
としてトナー粒子中における低分子量の比較的もろい成
分に起因するため、このような低分子量成分をイオン架
橋して強靭なものとしトナー粒子に耐破壊性を与えるこ
とが好ましい。
等の機械的外力によって生ずるトナー粒子の破壊は、主
としてトナー粒子中における低分子量の比較的もろい成
分に起因するため、このような低分子量成分をイオン架
橋して強靭なものとしトナー粒子に耐破壊性を与えるこ
とが好ましい。
また、無定形ビニル重合体において、重量平均分子量M
wと数平均分子量Mnの比M w/ M nの値が3.
5以上であることが必要であり、特に4〜40が好まし
い。比M w/ M nが過小のときには、十分な耐オ
フセット性および耐久性が得られない。ここで、重量平
均分子量Mwおよび数平均分子量Mnの値は、種々の方
法により求めることができ、測定方法の相違によって若
干の差異があるが、本発明においては下記の測定方法に
よって求めたものである。
wと数平均分子量Mnの比M w/ M nの値が3.
5以上であることが必要であり、特に4〜40が好まし
い。比M w/ M nが過小のときには、十分な耐オ
フセット性および耐久性が得られない。ここで、重量平
均分子量Mwおよび数平均分子量Mnの値は、種々の方
法により求めることができ、測定方法の相違によって若
干の差異があるが、本発明においては下記の測定方法に
よって求めたものである。
すなわち、ゲル・バーミュエーション・クロマトグラフ
((GPC)によって以下に記す条件で重量平均分子量
Mw、数平均分子量Mn、ピーク分子量を測定する。温
度40℃において、溶媒(テトラヒドロ7ラン)を毎分
1.2mfiの流速で流し、濃度0.2g / 20t
aQのテトラヒドロフラン試料溶液を試料重量として3
mg注入し測定を行う。試料の分子量測定にあたっては
、試料の有する分子量が数種の単分散ポリスチレン標準
試料により、作製された検量線の分子量の対数とカウン
ト数が直線となる範囲内に包含される測定条件を選択す
る。なお、測定結果の信頼性は、上述の測定条件で測定
したNB5706ボリスチレン標準試料(重量平均分子
量M1−28.8X lG’、数平均分子量Mn−13
,7X 10’、 Mw/Mn=2.l1)の比M W
/ Mnの値が2.11tO,IOとなることにより
確認する。
((GPC)によって以下に記す条件で重量平均分子量
Mw、数平均分子量Mn、ピーク分子量を測定する。温
度40℃において、溶媒(テトラヒドロ7ラン)を毎分
1.2mfiの流速で流し、濃度0.2g / 20t
aQのテトラヒドロフラン試料溶液を試料重量として3
mg注入し測定を行う。試料の分子量測定にあたっては
、試料の有する分子量が数種の単分散ポリスチレン標準
試料により、作製された検量線の分子量の対数とカウン
ト数が直線となる範囲内に包含される測定条件を選択す
る。なお、測定結果の信頼性は、上述の測定条件で測定
したNB5706ボリスチレン標準試料(重量平均分子
量M1−28.8X lG’、数平均分子量Mn−13
,7X 10’、 Mw/Mn=2.l1)の比M W
/ Mnの値が2.11tO,IOとなることにより
確認する。
また、用いるGPCのカラムとしては、前記条件を満足
するものであるならばいかなるカラムを採用してもよい
。具体的には、例えばTSK−GEL、 GMH(東洋
曹達社製)等を用いることができる。なお、溶媒および
測定温度は、上記条件に限定されるものではなく、適宜
能の条件に変更してもよい。
するものであるならばいかなるカラムを採用してもよい
。具体的には、例えばTSK−GEL、 GMH(東洋
曹達社製)等を用いることができる。なお、溶媒および
測定温度は、上記条件に限定されるものではなく、適宜
能の条件に変更してもよい。
無定形ビニル重合体として、既述のように分子量分布曲
線において少なくとも2つの極大値を有するものを好ま
しく用いることができるが、このようなビニル重合体を
得る方法としては特に限定されない。例えば高分子量成
分もしくは低分子量成分のいずれか一方を得るための第
1段目の重合を行い、これにより得られた一方の成分を
、他方の成分を得るための単量体組成物中に溶解させて
第2段目の重合を行い、これにより他方の成分を生成さ
せることにより、結果として分子量分布曲線において少
なくとも2つの極大値を有する重合体を得ることができ
る。このように2段重合により得られる重合体は、低分
子量成分と高分子量成分とが、分子レベルで均一に混合
してなるものと推定される。この2段重合は、例えば溶
液重合法、懸濁重合法、乳化重合法等の方法により行う
ことができるが、特に溶液重合法が好ましい。
線において少なくとも2つの極大値を有するものを好ま
しく用いることができるが、このようなビニル重合体を
得る方法としては特に限定されない。例えば高分子量成
分もしくは低分子量成分のいずれか一方を得るための第
1段目の重合を行い、これにより得られた一方の成分を
、他方の成分を得るための単量体組成物中に溶解させて
第2段目の重合を行い、これにより他方の成分を生成さ
せることにより、結果として分子量分布曲線において少
なくとも2つの極大値を有する重合体を得ることができ
る。このように2段重合により得られる重合体は、低分
子量成分と高分子量成分とが、分子レベルで均一に混合
してなるものと推定される。この2段重合は、例えば溶
液重合法、懸濁重合法、乳化重合法等の方法により行う
ことができるが、特に溶液重合法が好ましい。
また、分子量分布曲線において少なくとも2つの極大値
を有する重合体は、低分子量の重合体成分と、高分子量
の重合体成分とを混合することによっても得ることがで
きるが、混合により得られる重合体は、分子レベルにお
いては、均一に混合されていない場合があるので、上記
2段重合によるのが好ましい。
を有する重合体は、低分子量の重合体成分と、高分子量
の重合体成分とを混合することによっても得ることがで
きるが、混合により得られる重合体は、分子レベルにお
いては、均一に混合されていない場合があるので、上記
2段重合によるのが好ましい。
また、低温定着性、耐オフセット性、耐久性の点から、
無定形ビニル重合体のガラス転移点Tgは、5o−io
o℃が好ましく、特に!y0〜85℃が好ましい。ここ
で、ガラス転移点Tgとは、示差走査熱量測定法(DS
C)に基いて測定された値であり、具体的に例えばrD
SC−20J (セイコー電子工業社製)を用い、昇温
速度lO℃/sinで測定した際に、ガラス転移点以下
のベースラインの延長線とピークの立ち上がり部分から
ピークの頂点までの間での最大傾斜を示す接線との交点
の温度をいう。
無定形ビニル重合体のガラス転移点Tgは、5o−io
o℃が好ましく、特に!y0〜85℃が好ましい。ここ
で、ガラス転移点Tgとは、示差走査熱量測定法(DS
C)に基いて測定された値であり、具体的に例えばrD
SC−20J (セイコー電子工業社製)を用い、昇温
速度lO℃/sinで測定した際に、ガラス転移点以下
のベースラインの延長線とピークの立ち上がり部分から
ピークの頂点までの間での最大傾斜を示す接線との交点
の温度をいう。
以上のイオン架橋無定形ビニル重合体とブロック共重合
体またはグラフト共重合体を形成する結晶性ポリエステ
ルは特に限定されるものではないが、特にポリアルキレ
ンポリエステルが好ましい。
体またはグラフト共重合体を形成する結晶性ポリエステ
ルは特に限定されるものではないが、特にポリアルキレ
ンポリエステルが好ましい。
斯かるポリアルキレンポリエステルの具体例としては、
例えばポリエチレンセバケート、ポリエチレンアジペー
ト、ポリエチレンアジペート、ボリエチレンサクシネー
ト、ポリエチレン−p−(カルボフェノキシ)ウンデカ
エート、ポリへキサメチレンセバケ−ト、ポリへキサメ
チレンセバケート、ポリへキサメチレンデカンジオエー
ト、ポリオクタメチレンドデカンジオエート、ポリノナ
メチレンアゼレート、ポリデカメチレンアジペート、ポ
リデカメチレンアゼレート、ポリデカメチレンアジペ−
ト、ポリデカメチレンセバケート、ポリデカメチレンサ
クシネート、ポリデカメチレンドデカンジオエート、ポ
リデカメチレンオクタデカンジオエート、ポリテトラメ
チレンセバケート、ポリトリメチレンドデカンジオエー
ト、ポリトリメチレンオクタデカンジオエート、ポリデ
カメチレンアゼレート、ポリへキサメチレン−デカメチ
レン−セバケート、ポリオキシデカメチレン−2−メチ
ル−1,3−プロバンードデドカンジオエート、その他
を挙げることができる。
例えばポリエチレンセバケート、ポリエチレンアジペー
ト、ポリエチレンアジペート、ボリエチレンサクシネー
ト、ポリエチレン−p−(カルボフェノキシ)ウンデカ
エート、ポリへキサメチレンセバケ−ト、ポリへキサメ
チレンセバケート、ポリへキサメチレンデカンジオエー
ト、ポリオクタメチレンドデカンジオエート、ポリノナ
メチレンアゼレート、ポリデカメチレンアジペート、ポ
リデカメチレンアゼレート、ポリデカメチレンアジペ−
ト、ポリデカメチレンセバケート、ポリデカメチレンサ
クシネート、ポリデカメチレンドデカンジオエート、ポ
リデカメチレンオクタデカンジオエート、ポリテトラメ
チレンセバケート、ポリトリメチレンドデカンジオエー
ト、ポリトリメチレンオクタデカンジオエート、ポリデ
カメチレンアゼレート、ポリへキサメチレン−デカメチ
レン−セバケート、ポリオキシデカメチレン−2−メチ
ル−1,3−プロバンードデドカンジオエート、その他
を挙げることができる。
以上の如きポリアルキレンポリエステル類を用いること
により、トナーの低温定着性が有効に得られるようにな
り、またその流動性を良好にすることができる。
により、トナーの低温定着性が有効に得られるようにな
り、またその流動性を良好にすることができる。
前記結晶性ポリエステルは、その融点TIlが50〜1
20°C1特に50−100℃の範囲であることが好ま
しい。用いる結晶性ポリエステルの融点Tmが50℃未
満の場合には得られるトナーの耐ブロッキング性が不良
となり、また120°Cを超える場合にはトナーの低温
における熔融流動性が低下して定着性が悪くなるおそれ
がある。なお、結晶性ポリエステルの融点Trnは、無
定形ビニル重合体と結合されていない状態における結晶
性ポリエステルの融点を意味する。この結晶性ポリエス
テルは、その重量平均分子量Mwiが5 X 10”〜
5 X 10’、数平均分子量Mnが2 X 10”〜
2 X 10’であることが好ましい。分子量がこの範
囲にある場合には、トナーの耐オフセット性およびトナ
ーの製造における粉砕効率が更に良好となる。
20°C1特に50−100℃の範囲であることが好ま
しい。用いる結晶性ポリエステルの融点Tmが50℃未
満の場合には得られるトナーの耐ブロッキング性が不良
となり、また120°Cを超える場合にはトナーの低温
における熔融流動性が低下して定着性が悪くなるおそれ
がある。なお、結晶性ポリエステルの融点Trnは、無
定形ビニル重合体と結合されていない状態における結晶
性ポリエステルの融点を意味する。この結晶性ポリエス
テルは、その重量平均分子量Mwiが5 X 10”〜
5 X 10’、数平均分子量Mnが2 X 10”〜
2 X 10’であることが好ましい。分子量がこの範
囲にある場合には、トナーの耐オフセット性およびトナ
ーの製造における粉砕効率が更に良好となる。
以上の結晶性ポリエステルの使用割合は、無定形ビニル
重合体とのブロック重合体またはグラフト共重合体にお
いて3〜5Qvt%、好ましくは5〜4Qvt%である
。この割合が3vt%未満の場合には、得られるトナー
は定着下限温度が高くなり、また50vt%を越える場
合には、定着時における熔融弾性率が小さく耐オフセッ
ト性が悪くなる。
重合体とのブロック重合体またはグラフト共重合体にお
いて3〜5Qvt%、好ましくは5〜4Qvt%である
。この割合が3vt%未満の場合には、得られるトナー
は定着下限温度が高くなり、また50vt%を越える場
合には、定着時における熔融弾性率が小さく耐オフセッ
ト性が悪くなる。
前記結晶性ポリエステルと無定形ビニル重合体は、互い
に相溶性であっても非相溶性であってもよいが、トナー
の粉砕性、耐ブロッキング性等の観点から非相溶性であ
ることが好ましい。ここに「非相溶性」とは、両者の化
学構造が同一または類似しあるいは官能基の作用により
両者が十分に分散する性質のないことをいい、溶解性パ
ラメータ例えば、7エドースの方法によるs、p、値(
R,F。
に相溶性であっても非相溶性であってもよいが、トナー
の粉砕性、耐ブロッキング性等の観点から非相溶性であ
ることが好ましい。ここに「非相溶性」とは、両者の化
学構造が同一または類似しあるいは官能基の作用により
両者が十分に分散する性質のないことをいい、溶解性パ
ラメータ例えば、7エドースの方法によるs、p、値(
R,F。
Fedors、 Po1y+m、 Eng、 Sci、
、14. (2)147(1974))の差が0.5よ
り大きいものである。
、14. (2)147(1974))の差が0.5よ
り大きいものである。
本発明に係るトナーにおいては、以上の結晶性ポリエス
テルと無定形ビニル重合体との共重合体を、少なくとも
3Qvt%以上、更に50〜100wt%の範囲で含有
されることが好ましい。
テルと無定形ビニル重合体との共重合体を、少なくとも
3Qvt%以上、更に50〜100wt%の範囲で含有
されることが好ましい。
本発明における結晶性ポリエステルの融点Tmの値は示
差走査熱量測定法(DSC)に従い、例えば「DSC−
20J (セイコー電子工業社製)によって測定でき、
測定条件は、試料約10mgを一定の昇温速度lO℃/
sinで加熱したときの融解ピーク値を融点とする。
差走査熱量測定法(DSC)に従い、例えば「DSC−
20J (セイコー電子工業社製)によって測定でき、
測定条件は、試料約10mgを一定の昇温速度lO℃/
sinで加熱したときの融解ピーク値を融点とする。
前記結晶性ポリエステルとイオン架橋無定形ビニル重合
体を化学的に連結してなる共重合体を得るためには、例
えば各重合体に存在する末端官能基間のカップリング反
応により頭−尾様式で互いに直接に結合させることがで
きる。あるいは、各重合体の末端官能基と二官能性カブ
プリング剤によって結合することができ、例えば、末端
基がヒドロキシル基である重合体とジイソシアネートと
の反応により形成されるウレタン結合または末端基がヒ
ドロキシル基である重合体とジカルボン酸との反応また
は末端基がカルボキシル基である重合体とグリコールと
の反応により形成されるエステル結合または末端基がヒ
ドロキシル基である重合体とホスゲン、ジクロルジメチ
ルシランとの反応により形成される結合等によって結合
することができる。
体を化学的に連結してなる共重合体を得るためには、例
えば各重合体に存在する末端官能基間のカップリング反
応により頭−尾様式で互いに直接に結合させることがで
きる。あるいは、各重合体の末端官能基と二官能性カブ
プリング剤によって結合することができ、例えば、末端
基がヒドロキシル基である重合体とジイソシアネートと
の反応により形成されるウレタン結合または末端基がヒ
ドロキシル基である重合体とジカルボン酸との反応また
は末端基がカルボキシル基である重合体とグリコールと
の反応により形成されるエステル結合または末端基がヒ
ドロキシル基である重合体とホスゲン、ジクロルジメチ
ルシランとの反応により形成される結合等によって結合
することができる。
前記カップリング剤の具体例としては、ヘキサメチレン
ジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネ−1
へ、トリレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネ
ート、ナフチレンジイソシアネート、イソホロンジイソ
シアネート、キシリレンジイソシアネートなどの二官能
性インシアネート;エチレンジアミン、ヘキサメチレン
ジアミン、フェニレンジアミンなどの二官能性アミン;
蓚酸、琥珀酸、アジピン酸、セバシン酸、テレフタル酸
、イソフタル酸などの二官能性カルボン酸;エチレング
リコール、フロピレンゲリコール、ブタンジオール、ベ
ンタンジオール、ヘキサンジオール、シクロヘキサンジ
メタツール、p−キシリレングリコールなどの二官能性
アルコール;テレフタル酸クロリド、イソフタル酸クロ
リド、アジピン酸クロリド、セバシン酸クロリドなどの
二官能性酸塩化物;ジイソチオシアナート、ビスケテン
、ビスカルボジイミドなどの他の二官能性カップリング
剤等を挙げることができる。
ジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネ−1
へ、トリレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネ
ート、ナフチレンジイソシアネート、イソホロンジイソ
シアネート、キシリレンジイソシアネートなどの二官能
性インシアネート;エチレンジアミン、ヘキサメチレン
ジアミン、フェニレンジアミンなどの二官能性アミン;
蓚酸、琥珀酸、アジピン酸、セバシン酸、テレフタル酸
、イソフタル酸などの二官能性カルボン酸;エチレング
リコール、フロピレンゲリコール、ブタンジオール、ベ
ンタンジオール、ヘキサンジオール、シクロヘキサンジ
メタツール、p−キシリレングリコールなどの二官能性
アルコール;テレフタル酸クロリド、イソフタル酸クロ
リド、アジピン酸クロリド、セバシン酸クロリドなどの
二官能性酸塩化物;ジイソチオシアナート、ビスケテン
、ビスカルボジイミドなどの他の二官能性カップリング
剤等を挙げることができる。
カップリング剤は、結晶性ポリエステルとイオン架橋無
定形ビニル重合体との総重量に対して1〜10wt%、
好ましくは2〜7wt%の割合で使用すればよい。19
wt%を超えると、得られる共重合体が高分子量化しす
ぎるためにその軟化点が高くなり、これによるトナーは
低温定着性が劣る。また、1wt%未満の場合は共重合
体の分子量が小さいためにトナーの耐オフセット性、耐
フィルミング性、耐久性が損なわれる傾向がある。
定形ビニル重合体との総重量に対して1〜10wt%、
好ましくは2〜7wt%の割合で使用すればよい。19
wt%を超えると、得られる共重合体が高分子量化しす
ぎるためにその軟化点が高くなり、これによるトナーは
低温定着性が劣る。また、1wt%未満の場合は共重合
体の分子量が小さいためにトナーの耐オフセット性、耐
フィルミング性、耐久性が損なわれる傾向がある。
本発明の静電像現像剤を構成するトナーは、基本的には
、上記の結晶性ポリエステルと特定の無定形ビニル重合
体とのブロック共重合体又はグラフト共重合体よりなる
バインダ樹脂中に、例えば着色剤、荷電制御剤、オフセ
ット防止剤等の添加剤が分散含有されてなる粒子粉末か
らなり、その平均粒径は5.0〜15.0μIl程度が
好ましい。
、上記の結晶性ポリエステルと特定の無定形ビニル重合
体とのブロック共重合体又はグラフト共重合体よりなる
バインダ樹脂中に、例えば着色剤、荷電制御剤、オフセ
ット防止剤等の添加剤が分散含有されてなる粒子粉末か
らなり、その平均粒径は5.0〜15.0μIl程度が
好ましい。
着色剤としては、例えばカーボンブラック、ニグロシン
染料(C,1,No、50415B)、アニリンブルー
(C61,No、50405)、カルコオイルブルーa
zoic Blue3 )、クロムイエロー(C.lN
o.14090)、ウルトラマリンブルー(C.I 、
No.77103)、デュポンオイルレッド (C.
1.No.26105)、キノリンイエo −(C.1
.No.47005)、メチレンブルークロライド(C
. 1.No.52015)、フタロシアニンブルー
(C.I。
染料(C,1,No、50415B)、アニリンブルー
(C61,No、50405)、カルコオイルブルーa
zoic Blue3 )、クロムイエロー(C.lN
o.14090)、ウルトラマリンブルー(C.I 、
No.77103)、デュポンオイルレッド (C.
1.No.26105)、キノリンイエo −(C.1
.No.47005)、メチレンブルークロライド(C
. 1.No.52015)、フタロシアニンブルー
(C.I。
No.74160)、マラカイトグリーンオフサレート
(C。
(C。
1、No.42000)、ランプブラック (C 、
I 、 No 、 77266)、ローズベンガル(C
. 1.No.45435)、これらの混合物、その他
を用いることができる。着色剤の配合割合は、バインダ
樹脂100重量部に対して1〜20重量部程度が好まし
い。
I 、 No 、 77266)、ローズベンガル(C
. 1.No.45435)、これらの混合物、その他
を用いることができる。着色剤の配合割合は、バインダ
樹脂100重量部に対して1〜20重量部程度が好まし
い。
荷電制御剤として負帯電性のものとしては、例えば特開
昭57−141452号、同58−7645号、同58
−111049号、同58・185653号、同57−
167033号、特公昭44−6397号等に開示され
ている2:lu含金属アゾ染料 ;例えば特開昭57−
104940号、同・57−111541号、同57−
124357号、同53−127726号等に開示され
ている芳香族オキシカルボン酸、芳香族ジカルボン酸の
金属錯体;例えば特開昭52−45931号に開示され
ている銅フタロシアニン染料のスルホニルアミン誘導体
あるいは銅フタロシアニンのスルホンアミド誘導体染料
、銅フタロシアニンのスルホンアミド及びスルホン酸又
はスルホン酸塩誘導体染料;等を用いることができる。
昭57−141452号、同58−7645号、同58
−111049号、同58・185653号、同57−
167033号、特公昭44−6397号等に開示され
ている2:lu含金属アゾ染料 ;例えば特開昭57−
104940号、同・57−111541号、同57−
124357号、同53−127726号等に開示され
ている芳香族オキシカルボン酸、芳香族ジカルボン酸の
金属錯体;例えば特開昭52−45931号に開示され
ている銅フタロシアニン染料のスルホニルアミン誘導体
あるいは銅フタロシアニンのスルホンアミド誘導体染料
、銅フタロシアニンのスルホンアミド及びスルホン酸又
はスルホン酸塩誘導体染料;等を用いることができる。
又、正帯電性のものとしては、例えば特開昭49−51
951号、同52−10141号等に開示されている第
4級アンモニウム化合物;例えば特開昭56−1146
1号、同54−158932号、米国特許4,254.
205号等に開示されているアルキルピリジニウム化合
物、アルキルピコリニウム化合物:例えばニグロシンS
O、ニグロシン染料等のニグロシン系染料;例えば特公
昭49−80320号に開示されている付加縮合体等を
用いることができる。
951号、同52−10141号等に開示されている第
4級アンモニウム化合物;例えば特開昭56−1146
1号、同54−158932号、米国特許4,254.
205号等に開示されているアルキルピリジニウム化合
物、アルキルピコリニウム化合物:例えばニグロシンS
O、ニグロシン染料等のニグロシン系染料;例えば特公
昭49−80320号に開示されている付加縮合体等を
用いることができる。
オフセット防止剤としては、例えばポリエチレン、ポリ
プロピレンなどの低軟化点オレフィン重合体もしくは共
重合体、例えばマイクロワックス、フィッシャートロプ
シュワックスなどの高融点パラフィンワックス、常温で
液状の飽和あるいは不飽和パラフィンである流動パラフ
ィン、例えばメチルシリコーンワニス、フェニルシリコ
ーンワニスなどのシリコーンワニス、例えば四弗化エチ
レン、六弗化プロピレンの低重合化合物などの脂肪族7
0口カーボン化合物、例えば脂肪酸の低級アルコールエ
ステル、脂肪酸の多価アルフールエステル、脂肪酸の高
級アルコールエステル、脂肪酸と多価アルコールの部分
エステル、混合系エステルなどの脂肪酸エステル類及び
その部分鹸化物類、アルキレンビス脂肪酸アミド類、高
級脂肪酸類、脂肪酸金属塩、高級アルコール類、例えば
特開昭55−124428号に記載された含弗素界面活
性剤などを挙げることができる。斯かるオフセット防止
剤は一種又は二種以上のものを組合せて使用することが
でき、その使用割合は、バインダ樹脂に対して例えば1
〜2Qwt%が好ましく、特に1−IQwt%が好まし
い。
プロピレンなどの低軟化点オレフィン重合体もしくは共
重合体、例えばマイクロワックス、フィッシャートロプ
シュワックスなどの高融点パラフィンワックス、常温で
液状の飽和あるいは不飽和パラフィンである流動パラフ
ィン、例えばメチルシリコーンワニス、フェニルシリコ
ーンワニスなどのシリコーンワニス、例えば四弗化エチ
レン、六弗化プロピレンの低重合化合物などの脂肪族7
0口カーボン化合物、例えば脂肪酸の低級アルコールエ
ステル、脂肪酸の多価アルフールエステル、脂肪酸の高
級アルコールエステル、脂肪酸と多価アルコールの部分
エステル、混合系エステルなどの脂肪酸エステル類及び
その部分鹸化物類、アルキレンビス脂肪酸アミド類、高
級脂肪酸類、脂肪酸金属塩、高級アルコール類、例えば
特開昭55−124428号に記載された含弗素界面活
性剤などを挙げることができる。斯かるオフセット防止
剤は一種又は二種以上のものを組合せて使用することが
でき、その使用割合は、バインダ樹脂に対して例えば1
〜2Qwt%が好ましく、特に1−IQwt%が好まし
い。
又、磁性トナーを構成する場合にはトナー粒子中に磁性
体粒子が分散含有される。斯かる磁性体としては、鉄、
フェライト、マグネタイトを始めとする鉄、コバルト、
ニッケル等の強磁性を示す金属もしくは合金又はこれら
の元素を含む化合物、或いは強磁性元素を含まないが適
当な熱処理を施すことによって強磁性を示すようになる
合金、例エバマンガン−銅−アルミニウム、マンガン−
銅−錫等のマンガンと銅とを含むホイスラ合金と呼ばれ
る種類の合金、又は二酸化クロム、その他を挙げること
ができる。これらの磁性体は平均粒径0.1−1μmの
微粉末の形で用いられ、その割合は、トナー100重量
部当たり20〜70重量部が好ましく、特に30〜60
重量部が好ましい。
体粒子が分散含有される。斯かる磁性体としては、鉄、
フェライト、マグネタイトを始めとする鉄、コバルト、
ニッケル等の強磁性を示す金属もしくは合金又はこれら
の元素を含む化合物、或いは強磁性元素を含まないが適
当な熱処理を施すことによって強磁性を示すようになる
合金、例エバマンガン−銅−アルミニウム、マンガン−
銅−錫等のマンガンと銅とを含むホイスラ合金と呼ばれ
る種類の合金、又は二酸化クロム、その他を挙げること
ができる。これらの磁性体は平均粒径0.1−1μmの
微粉末の形で用いられ、その割合は、トナー100重量
部当たり20〜70重量部が好ましく、特に30〜60
重量部が好ましい。
更に本発明の静電像現像剤は窒素吸着によるBET比表
面積が0.5〜30m”/gの無機微粉体を必須成分と
して含有してなる。
面積が0.5〜30m”/gの無機微粉体を必須成分と
して含有してなる。
ここで、窒素吸着によるBET比表面積の測定は、マイ
クロメリティック社製の装置r2200型」を用いて適
正な条件下で行なった。
クロメリティック社製の装置r2200型」を用いて適
正な条件下で行なった。
本発明の無機微粉体は、潜像担持体の表面に付着する紙
粉、オゾン付加物等の低電気抵抗物質及びトナー物質等
を研磨除去する機能を発揮する。
粉、オゾン付加物等の低電気抵抗物質及びトナー物質等
を研磨除去する機能を発揮する。
無機微粉体は、トナー粒子の表面に被着して存在すれば
よい。具体的には、トナー粒子と無機微粉体とを混合す
ることによりトナー粒子の表面に被着させることができ
る。
よい。具体的には、トナー粒子と無機微粉体とを混合す
ることによりトナー粒子の表面に被着させることができ
る。
無機微粉体の配合割合は、トナー全体の0.1〜30w
t%が好ましく、特に0.2〜10wt%が好ましい。
t%が好ましく、特に0.2〜10wt%が好ましい。
当該配合割合が過大のときにはトナーからの離脱が生じ
クリーニングブレード、潜像担持体を損傷し、クリーニ
ング不良、画像キズ等の不良を招く。
クリーニングブレード、潜像担持体を損傷し、クリーニ
ング不良、画像キズ等の不良を招く。
一方当該配合割合が過小のときには紙粉、トナー物質等
を研磨除去する効果を発揮できず、画質流れ(画像ぼけ
)、クリーニング不良が生じる。更にはトナーフィルミ
ング防止効果が不充分となり、画像不良(ハキメ)が発
生する。
を研磨除去する効果を発揮できず、画質流れ(画像ぼけ
)、クリーニング不良が生じる。更にはトナーフィルミ
ング防止効果が不充分となり、画像不良(ハキメ)が発
生する。
本発明の無機微粉体の構成材料としては、高温高湿の環
境条件下においてトナーの摩擦帯電性を阻害しないため
に離水溶性であることが好ましい。
境条件下においてトナーの摩擦帯電性を阻害しないため
に離水溶性であることが好ましい。
具体的には、例えば酸化鉄、酸化クロム、チタン酸カル
シウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウム、
チタン酸マグネシウム、酸化セリウム、酸化ジルコニウ
ム、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、炭酸カ
ルシウム、窒化珪素、炭化珪素、窒化硼素等を用いるこ
とができる。又、無機微粉体は、潜像担持体表面よりも
硬いことが好ましいが、特にモース硬度におけるタルク
よりも硬いことが好ましい。
シウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウム、
チタン酸マグネシウム、酸化セリウム、酸化ジルコニウ
ム、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、炭酸カ
ルシウム、窒化珪素、炭化珪素、窒化硼素等を用いるこ
とができる。又、無機微粉体は、潜像担持体表面よりも
硬いことが好ましいが、特にモース硬度におけるタルク
よりも硬いことが好ましい。
本発明において、二成分系現像剤を構成する場合には、
上記トナー及び無機微粉体とともに、さらにキャリアを
用いる。
上記トナー及び無機微粉体とともに、さらにキャリアを
用いる。
斯かるキャリアとしては特に限定されないが、磁性体粒
子よりなる非被覆キャリア、磁性体粒子の表面を樹脂に
より被覆してなる樹脂被覆キャリア、バインダ樹脂中に
磁性体粒子を分散含有させてなる磁性体分散型キャリア
等を用いることができる。
子よりなる非被覆キャリア、磁性体粒子の表面を樹脂に
より被覆してなる樹脂被覆キャリア、バインダ樹脂中に
磁性体粒子を分散含有させてなる磁性体分散型キャリア
等を用いることができる。
キャリアを構成する磁性体粒子としては、磁場によって
その方向に強く磁化する物質、例えば鉄、フェライト、
マグネタイトをはじめとする鉄、ニッケル、コバルト等
の強磁性を示す金属もしくは合金又はこれらの元素を含
む化合物、強磁性元素を含まないが適当に熱処理するこ
とによって強磁性を示すようになる合金、例えばマンガ
ン−銅−アルミニウムもしくはマンガン−銅−錫等のホ
イスラ合金とよばれる種類の合金又は二酸化クロム等よ
りなる粒子を用いることができる。
その方向に強く磁化する物質、例えば鉄、フェライト、
マグネタイトをはじめとする鉄、ニッケル、コバルト等
の強磁性を示す金属もしくは合金又はこれらの元素を含
む化合物、強磁性元素を含まないが適当に熱処理するこ
とによって強磁性を示すようになる合金、例えばマンガ
ン−銅−アルミニウムもしくはマンガン−銅−錫等のホ
イスラ合金とよばれる種類の合金又は二酸化クロム等よ
りなる粒子を用いることができる。
ここで、フェライトとは、鉄を含有する磁性酸化物の総
称であり、MO=Fezes (Mは2価の金属)の化
学式で示されるスピネル型フェライトに限定されない。
称であり、MO=Fezes (Mは2価の金属)の化
学式で示されるスピネル型フェライトに限定されない。
斯かるフェライトは、含有金属成分の組成を変更するこ
とにより種々の磁気特性が得られることから、本発明に
おいて好適に用いることができる。なかでも、マンガン
−亜鉛系フェライト、ニッケルー亜鉛系フェライトより
も電気抵抗が高くて優れた摩擦帯電能が発揮されること
から銅−亜鉛系フェライトが特に好ましい。又、フェラ
イトは酸化物であるため、その比重が鉄やニッケル等の
金属より小さくて軽量であり、そのためトナーとの混合
、攪拌が容易であり、トナー濃度の均一化、摩擦帯電量
の均一化を達成するうえで好適である。
とにより種々の磁気特性が得られることから、本発明に
おいて好適に用いることができる。なかでも、マンガン
−亜鉛系フェライト、ニッケルー亜鉛系フェライトより
も電気抵抗が高くて優れた摩擦帯電能が発揮されること
から銅−亜鉛系フェライトが特に好ましい。又、フェラ
イトは酸化物であるため、その比重が鉄やニッケル等の
金属より小さくて軽量であり、そのためトナーとの混合
、攪拌が容易であり、トナー濃度の均一化、摩擦帯電量
の均一化を達成するうえで好適である。
樹脂被覆キャリアの被覆用樹脂あるいは磁性体分散型キ
ャリアのバインダ樹脂としては、例えばスチレン−アク
リル系共重合体、シリコーン系化合物弗素系樹脂等を好
適に用いることができる。
ャリアのバインダ樹脂としては、例えばスチレン−アク
リル系共重合体、シリコーン系化合物弗素系樹脂等を好
適に用いることができる。
キャリアの平均粒径は、20〜200μ■が好ましく、
特に40〜150μ−が好ましい。当該平均粒径が過小
のときにはキャリアが静電潜像に付着して定着画像を構
成するいわゆるキャリア付着現象が発生し、その結果画
像が不鮮明となる場合があり、一方平均粒径が過大のと
きには画像流れが発生する場合がある。ここで、キャリ
アの平均粒径(重量)とは、rマイクロトラック」(日
機装社製)を用いて測定された値をいう。
特に40〜150μ−が好ましい。当該平均粒径が過小
のときにはキャリアが静電潜像に付着して定着画像を構
成するいわゆるキャリア付着現象が発生し、その結果画
像が不鮮明となる場合があり、一方平均粒径が過大のと
きには画像流れが発生する場合がある。ここで、キャリ
アの平均粒径(重量)とは、rマイクロトラック」(日
機装社製)を用いて測定された値をいう。
又、現像方法も特に限定されず、公知の種々の現像方法
を採用することができる。具体的には、(1)現像剤の
磁気ブラシを例えば現像領域の間隙より層厚の大きい状
態で現像剤搬送担体上に担持させ、この磁気ブラシを現
像領域に搬入させて磁気ブラシにより潜像を摺擦しなが
ら磁気ブラシ中のトナー粒子或いは粒子群を潜像に付着
させて現像を行う接触型磁気ブラシ法、 (2)現像剤の磁気ブラシを例えば現像領域の間隙より
層厚の小さい状態で現像剤搬送担体上に担持させ、この
磁気ブラシを現像領域に搬入させると共に現像領域に例
えば振動電界などを作用させてこれにより磁気ブラシ中
のトナー粒子あるいは粒子群を飛翔させながち当該トナ
ー粒子あるいは粒子群を潜像に付着させて現像を行う非
接触型磁気ブラシ法、 (3)カスケード法、 等の現像方法を採用して現像することができる。
を採用することができる。具体的には、(1)現像剤の
磁気ブラシを例えば現像領域の間隙より層厚の大きい状
態で現像剤搬送担体上に担持させ、この磁気ブラシを現
像領域に搬入させて磁気ブラシにより潜像を摺擦しなが
ら磁気ブラシ中のトナー粒子或いは粒子群を潜像に付着
させて現像を行う接触型磁気ブラシ法、 (2)現像剤の磁気ブラシを例えば現像領域の間隙より
層厚の小さい状態で現像剤搬送担体上に担持させ、この
磁気ブラシを現像領域に搬入させると共に現像領域に例
えば振動電界などを作用させてこれにより磁気ブラシ中
のトナー粒子あるいは粒子群を飛翔させながち当該トナ
ー粒子あるいは粒子群を潜像に付着させて現像を行う非
接触型磁気ブラシ法、 (3)カスケード法、 等の現像方法を採用して現像することができる。
以下、本発明の実施例を具体的に説明するが、本発明が
これらの実施例に限定されるものではない。
これらの実施例に限定されるものではない。
く結晶性ポリエステルの製造〉
(1)結晶性ポリエステルl
セバシンM1500gと、ヘキサメチレングリコール9
64gとを、温度計、ステンレススチール製撹拌器、ガ
ラス製窒素導入管および流下式コンデンサを備えた容量
5Qの丸底フラスコに入れ、次いでこのフラスコをマン
トルヒータにセットし、ガラス製窒素導入管より窒素ガ
スを導入して反応器内を不活性雰囲気に保った状態で昇
温させた。そして13.2gのp−トルエンスルホン酸
を加えて温度150℃で反応させた。留出した水の量が
250+sffに達した時に反応を停止させ、反応系を
室温に冷却して分子末端に水酸基を有するポリへキサメ
チレンセバケートよりなる結晶性ポリエステル1を製造
した。この結晶性ポリエステルlの融点Ta1t64℃
、重量平均分子量Mwは14.000である。
64gとを、温度計、ステンレススチール製撹拌器、ガ
ラス製窒素導入管および流下式コンデンサを備えた容量
5Qの丸底フラスコに入れ、次いでこのフラスコをマン
トルヒータにセットし、ガラス製窒素導入管より窒素ガ
スを導入して反応器内を不活性雰囲気に保った状態で昇
温させた。そして13.2gのp−トルエンスルホン酸
を加えて温度150℃で反応させた。留出した水の量が
250+sffに達した時に反応を停止させ、反応系を
室温に冷却して分子末端に水酸基を有するポリへキサメ
チレンセバケートよりなる結晶性ポリエステル1を製造
した。この結晶性ポリエステルlの融点Ta1t64℃
、重量平均分子量Mwは14.000である。
(2)結晶性ポリエステル2
結晶性ポリエステルlと同様にして、融点Taが72℃
、重量平均分子量Mwが12.800のポリエチレンセ
バケートよりなる結晶性ポリエステル2を製造した。
、重量平均分子量Mwが12.800のポリエチレンセ
バケートよりなる結晶性ポリエステル2を製造した。
(3)結晶性ポリエステル3
結晶性ポリエステルlと同様にして、融点T−が92℃
、重量平均分子量Mwが14,800のポリエチレンサ
クシネートよりなる結晶性ポリエステル3を製造した。
、重量平均分子量Mwが14,800のポリエチレンサ
クシネートよりなる結晶性ポリエステル3を製造した。
(4)結晶性ポリエステル4
結晶性ポリエステル1と同様にして、融点Tmが77℃
、重量平均分子量Mwが8 、370のポリデカメチレ
ンアジペートよりなる結晶性ポリエステル4を製造した
。
、重量平均分子量Mwが8 、370のポリデカメチレ
ンアジペートよりなる結晶性ポリエステル4を製造した
。
く無定形ビニ゛ル重合体の製造〉
(1)無定形ビニル重合体l
容量lQのセパラブルフラスコにトルエン100!!量
部を入れ、その中に、高分子量成分用単量体として、ス
チレン75重量部と、ブチルアクリレート25重量部と
、過酸化ベンゾイル0.2重量部、とを加えて懸濁分散
し、フラスコ内の気相を窒素ガスによって置換した後、
温度80℃に昇温しで該温度に15時間保って第1段重
合を行なった。なお、該高分子量成分用単量体の単独重
合体における重量平均分子量Mwは461,000、ガ
ラス転移点Tgは61’0である。
部を入れ、その中に、高分子量成分用単量体として、ス
チレン75重量部と、ブチルアクリレート25重量部と
、過酸化ベンゾイル0.2重量部、とを加えて懸濁分散
し、フラスコ内の気相を窒素ガスによって置換した後、
温度80℃に昇温しで該温度に15時間保って第1段重
合を行なった。なお、該高分子量成分用単量体の単独重
合体における重量平均分子量Mwは461,000、ガ
ラス転移点Tgは61’0である。
その後、フラスコ内を温度40°Cに冷却して、その中
に、低分子量成分用単量体として、スチレン85!重量
部と、ブチルアクリレート20重量部と、アクリル酸5
重量部と、過酸化ベンゾイル4重量部とを加えて、温度
40℃において2時間攪拌を続けた後、温度を80℃に
再昇温してその温度に8時間保って第2段重合を行なっ
た。なお、該低分子量成分用単量体の単独重合体におけ
る重量平均分子量Mwは8,200、ガラス転移点Tg
は64℃である。
に、低分子量成分用単量体として、スチレン85!重量
部と、ブチルアクリレート20重量部と、アクリル酸5
重量部と、過酸化ベンゾイル4重量部とを加えて、温度
40℃において2時間攪拌を続けた後、温度を80℃に
再昇温してその温度に8時間保って第2段重合を行なっ
た。なお、該低分子量成分用単量体の単独重合体におけ
る重量平均分子量Mwは8,200、ガラス転移点Tg
は64℃である。
次に、フラスコ内に、多価金属化合物である酸化亜鉛0
.5gを添加し、還流温度に保持して攪拌しながら2時
間にわたり反応を行なった。
.5gを添加し、還流温度に保持して攪拌しながら2時
間にわたり反応を行なった。
その後、反応系を冷却して固形物を分離し、脱水および
洗浄を繰返した後、乾燥して、ビニル重合体のカルボキ
シル基に酸化亜鉛が反応してイオン架橋結合が形成され
てなる無定形ビニル重合体1を製造した。なお、この無
定形ビニル重合体lハ結晶性ポリエステルとの結合用の
官能基としてカルボキシル基を有するものである。
洗浄を繰返した後、乾燥して、ビニル重合体のカルボキ
シル基に酸化亜鉛が反応してイオン架橋結合が形成され
てなる無定形ビニル重合体1を製造した。なお、この無
定形ビニル重合体lハ結晶性ポリエステルとの結合用の
官能基としてカルボキシル基を有するものである。
この無定形ビニル重合体lは、GPCによる分子量分布
においてピークが2つ存在し、高分子量側のピーク分子
量は363,000、低分子量側のピーク分子量は7,
590である。また、重量平均分子量Mwは1fi5,
000.比M w/ M nの値は25.9、ガラス転
移点Tgは62℃、軟化点Tspは130℃である。
においてピークが2つ存在し、高分子量側のピーク分子
量は363,000、低分子量側のピーク分子量は7,
590である。また、重量平均分子量Mwは1fi5,
000.比M w/ M nの値は25.9、ガラス転
移点Tgは62℃、軟化点Tspは130℃である。
(2)無定形ビニル重合体2
容量1ffのセパラブルフラスコにトルエン100ff
i量部を入れ、その中に、スチレン85重量部と、ブチ
ルアクリレ−1−10重量部と、琥珀酸モノアクリロイ
ルオキシエチルエステル5重量部と、過酸化ベンゾイル
1重量部とを加えて懸濁分散し、フラスコ内の気相を窒
素ガスによって置換した後、温度80℃に昇温して該温
度に5時間保って重合を行なった。
i量部を入れ、その中に、スチレン85重量部と、ブチ
ルアクリレ−1−10重量部と、琥珀酸モノアクリロイ
ルオキシエチルエステル5重量部と、過酸化ベンゾイル
1重量部とを加えて懸濁分散し、フラスコ内の気相を窒
素ガスによって置換した後、温度80℃に昇温して該温
度に5時間保って重合を行なった。
その後、さらに過酸化ベンゾイル4重量部を添加して温
度80℃で10時間にわたり重合を継続して行なった。
度80℃で10時間にわたり重合を継続して行なった。
次に、フラスコ内に、多価金属化合物である酸化亜鉛0
.5gを添加し、還流温度に保持して攪拌しながら2時
間にわたり反応を行なった。
.5gを添加し、還流温度に保持して攪拌しながら2時
間にわたり反応を行なった。
その後、トルエンをアスピレータおよび真空ポンプによ
り留去して、ビニル重合体のカルボキシル基に酸化亜鉛
が反応してイオン架橋結合が形成されてなる無定形ビニ
ル重合体2を製造した。なお、この無定形ビニル重合体
2は結晶性ポリエステルとの結合用の官能基としてカル
ボキシル基を有するものである。
り留去して、ビニル重合体のカルボキシル基に酸化亜鉛
が反応してイオン架橋結合が形成されてなる無定形ビニ
ル重合体2を製造した。なお、この無定形ビニル重合体
2は結晶性ポリエステルとの結合用の官能基としてカル
ボキシル基を有するものである。
この無定形ビニル重合体2は、GPCによる分子量分布
においてピークが1つであり、重量平均分子量Mwは8
3,000.比M w/ M nの値は7.5、ガラス
転移点Tgは67°C1軟化点Tspは127°Cであ
る。
においてピークが1つであり、重量平均分子量Mwは8
3,000.比M w/ M nの値は7.5、ガラス
転移点Tgは67°C1軟化点Tspは127°Cであ
る。
(3)無定形ビニル重合体3
上記無定形ビニル重合体lの製造において、高分子量成
分用単量体として、スチレン75重量部と、ブチルアク
リレート20重量部と、グリシジルメタクリレート5重
量部と、過酸化ベンゾイル0.2重量部との混合物30
gを用い、低分子量成分用単量体として、スチレン75
重量部と、ブチルアクリレ−1−10重量部と、メチル
メタクリレート10重量部と、グリシジルメタクリレー
ト2.5重量部と、琥珀酸モノアクリロイルオキシエチ
ルエステル2.5重量部と、過酸化ベンゾイル4重量部
との混合物100gを用いたほかは同様に処理して、ビ
ニル重合体のカルボキシル基に酸化亜鉛が反応してイオ
ン架橋結合が形成されてなる無定形ビニル重合体3を製
造した。なお、この無定形ビニル重合体3は結晶性ポリ
エステルとの結合用の官能基としてエポキシ基を有する
ものである。
分用単量体として、スチレン75重量部と、ブチルアク
リレート20重量部と、グリシジルメタクリレート5重
量部と、過酸化ベンゾイル0.2重量部との混合物30
gを用い、低分子量成分用単量体として、スチレン75
重量部と、ブチルアクリレ−1−10重量部と、メチル
メタクリレート10重量部と、グリシジルメタクリレー
ト2.5重量部と、琥珀酸モノアクリロイルオキシエチ
ルエステル2.5重量部と、過酸化ベンゾイル4重量部
との混合物100gを用いたほかは同様に処理して、ビ
ニル重合体のカルボキシル基に酸化亜鉛が反応してイオ
ン架橋結合が形成されてなる無定形ビニル重合体3を製
造した。なお、この無定形ビニル重合体3は結晶性ポリ
エステルとの結合用の官能基としてエポキシ基を有する
ものである。
この無定形ビニル重合体3は、GPCによる分子量分布
においてピークが2つ存在し、高分子量側のピーク分子
量は473,000、低分子量側のピーク分子量は7.
940である。また、重量平均分子量Mwは186,0
00、比M w/ M nの値は33.1.ガラス転移
点Tgは62℃、軟化点Tspは136℃である。
においてピークが2つ存在し、高分子量側のピーク分子
量は473,000、低分子量側のピーク分子量は7.
940である。また、重量平均分子量Mwは186,0
00、比M w/ M nの値は33.1.ガラス転移
点Tgは62℃、軟化点Tspは136℃である。
なお、上記高分子量成分用単量体の単独重合体における
重量平均分子量Mwは925,000、ガラス転移点T
gは62°Cであり、上記低分子量成分用単量体の単独
重合体における重量平均分子量Mwは9.610、ガラ
ス転移点Tgは63℃である。
重量平均分子量Mwは925,000、ガラス転移点T
gは62°Cであり、上記低分子量成分用単量体の単独
重合体における重量平均分子量Mwは9.610、ガラ
ス転移点Tgは63℃である。
(4)無定形ビニル重合体4(比較例)上記無定形ビニ
ル重合体lの製造において、酸化亜鉛を添加しないほか
は同様に処理して、比較用の無定形ビニル重合体4を製
造した。この比較用の無定形ビニル重合体4は、結晶性
ポリエステルとの結合用の官能基としてカルボキシル基
を有するものである。
ル重合体lの製造において、酸化亜鉛を添加しないほか
は同様に処理して、比較用の無定形ビニル重合体4を製
造した。この比較用の無定形ビニル重合体4は、結晶性
ポリエステルとの結合用の官能基としてカルボキシル基
を有するものである。
この比較用の無定形ビニル重合体4は、GPCによる分
子量分布においてピークが2つ存在し、高分子量側のピ
ーク分子量は355.000.低分子量側のピーク分子
量は6.840である。また重量平均分子量Mwは14
2,000、比M w/ M nの値は24.5、ガラ
ス転移点Tgは60℃、軟化点Tspは128.5℃で
ある。
子量分布においてピークが2つ存在し、高分子量側のピ
ーク分子量は355.000.低分子量側のピーク分子
量は6.840である。また重量平均分子量Mwは14
2,000、比M w/ M nの値は24.5、ガラ
ス転移点Tgは60℃、軟化点Tspは128.5℃で
ある。
くトナー用樹脂の製造〉
(1) トナー用樹脂A
結晶性ポリエステルlの15重量部と、無定形ビニル重
合体lの85重量部と、p−トルエンスルホン酸0.0
51i量部と、キシレン100重量部とを、容量3Qの
セパラブルフラスコ内に入れ、温度150 ”Cで1時
間にわたり還流させ、その後キシレンをアスピレータお
よび真空ポンプにより留去して、結晶性ポリエステルと
イオン架橋無定形ビニル重合体とのグラフト共重合体よ
りなるトナー用樹脂Aを製造した。
合体lの85重量部と、p−トルエンスルホン酸0.0
51i量部と、キシレン100重量部とを、容量3Qの
セパラブルフラスコ内に入れ、温度150 ”Cで1時
間にわたり還流させ、その後キシレンをアスピレータお
よび真空ポンプにより留去して、結晶性ポリエステルと
イオン架橋無定形ビニル重合体とのグラフト共重合体よ
りなるトナー用樹脂Aを製造した。
(2) トナー用樹脂B−E
上記トナー用樹脂Aの製造において、結晶性ポリエステ
ルおよび無定形ビニル重合体を後記第1表に示す組合せ
に変更したほかは同様にして結晶性ポリエステルとイオ
ン架橋無定形ビニル重合体とのグラフト共重合体よりな
る各トナー用樹脂B〜Eを製造した。
ルおよび無定形ビニル重合体を後記第1表に示す組合せ
に変更したほかは同様にして結晶性ポリエステルとイオ
ン架橋無定形ビニル重合体とのグラフト共重合体よりな
る各トナー用樹脂B〜Eを製造した。
(3)トナー用樹脂F (比較例)
上記トナー用樹脂Aの製造において、無定形ビニル重合
体lの代わりに比較用の無定形ビニル重合体4を用いた
ほかは同様にしてグラフト共重合体よりなるトナー用樹
脂Fを製造した。
体lの代わりに比較用の無定形ビニル重合体4を用いた
ほかは同様にしてグラフト共重合体よりなるトナー用樹
脂Fを製造した。
〈無機微粉体の製造〉
(1) 無機微粉体l
炭酸ストロンチウム147.6gと酸化チタン79.9
gをボールミルにより8時間混式混合した後、濾過、乾
燥した。次いでこの混合物の20gを5kg/am”の
圧力で成型し、1100℃で入時間仮焼した。その後機
械粉砕により、窒素吸着によるBET比表面積が2゜4
+a’/ gのチタン酸ストロンチウム御粉体を製造し
た。これを 「無機微粉体l」とする。
gをボールミルにより8時間混式混合した後、濾過、乾
燥した。次いでこの混合物の20gを5kg/am”の
圧力で成型し、1100℃で入時間仮焼した。その後機
械粉砕により、窒素吸着によるBET比表面積が2゜4
+a’/ gのチタン酸ストロンチウム御粉体を製造し
た。これを 「無機微粉体l」とする。
(2)無機微粉体2
水酸化ジルコニウム20gを50kg/am”の圧力で
成型し、1800℃で8時間仮焼した。その後機械粉砕
により、窒素吸着によるBET比表面積が2.0m”/
gの酸化ジルコニウム御粉体を製造した。これを 「
無機微粉体2」とする。
成型し、1800℃で8時間仮焼した。その後機械粉砕
により、窒素吸着によるBET比表面積が2.0m”/
gの酸化ジルコニウム御粉体を製造した。これを 「
無機微粉体2」とする。
(3)無機微粉体3
炭酸バリウム197.3gと酸化チタン79.9gをボ
ールミルにより8時間混式混合した後、濾過、乾燥した
。次いでこの混合物の20gを5 kg/ cm”の圧
力で成型し、1200℃で8時間仮焼した。その後機械
粉砕により、窒素吸着によるBET比表面積力(3,0
m”7gのチタン酸バリウム微粉体を製造しt二。これ
を 「無機微粉体3」とする。
ールミルにより8時間混式混合した後、濾過、乾燥した
。次いでこの混合物の20gを5 kg/ cm”の圧
力で成型し、1200℃で8時間仮焼した。その後機械
粉砕により、窒素吸着によるBET比表面積力(3,0
m”7gのチタン酸バリウム微粉体を製造しt二。これ
を 「無機微粉体3」とする。
(4)無機微粉体4
昭和電工社製炭化珪素微粉体A −2CBETBET比
表面積m”7g)を無機微粉体4とする。
表面積m”7g)を無機微粉体4とする。
実施例1
〈トナーの製造〉
トナー用樹脂A 100重量部低分
子量ポリプロピレン 「ビスコール660PJ(三洋化
成工業社製) 5重量部マグネタイト
rnL−1OOJ(チタン工業社製)60重量部 荷電制御剤「ニゲ、ロジンSO」(オリエント化製)2
重量部 上記材料を、混合、混練、冷却した後、ノ1ンマーミル
により粗粉砕し、さらにジェットミルにより微粉砕し、
次いで分級して、平均粒径が11.0μ−のトナーlを
製造した。
子量ポリプロピレン 「ビスコール660PJ(三洋化
成工業社製) 5重量部マグネタイト
rnL−1OOJ(チタン工業社製)60重量部 荷電制御剤「ニゲ、ロジンSO」(オリエント化製)2
重量部 上記材料を、混合、混練、冷却した後、ノ1ンマーミル
により粗粉砕し、さらにジェットミルにより微粉砕し、
次いで分級して、平均粒径が11.0μ−のトナーlを
製造した。
く現像剤の製造〉
このトナーlの100重量部と、無機微粉体l(窒素吸
着によるBET比表面積; 2.4m″/g)の2.0
重量部を■を混合機により混合して本発明の現像剤lを
製造した。
着によるBET比表面積; 2.4m″/g)の2.0
重量部を■を混合機により混合して本発明の現像剤lを
製造した。
実施例2
くトナーの製造〉
実施例1のトナーlの製造において、トナー用樹脂Aを
トナー用樹脂Bの100重量部に変更したほかは同様に
してトナー2を製造した。
トナー用樹脂Bの100重量部に変更したほかは同様に
してトナー2を製造した。
〈現像剤の製造〉
上記トナー2の100重量部と、無機微粉体lの2.0
μ量部をV型混合機により混合して本発明の現像剤2を
製造した。
μ量部をV型混合機により混合して本発明の現像剤2を
製造した。
実施例3
くトナーの製造〉
実施例1のトナー1の製造において、トナー用樹脂Aを
トナー用樹脂Cの100重量部に変更したほかは同様に
してトナー3を製造した。
トナー用樹脂Cの100重量部に変更したほかは同様に
してトナー3を製造した。
〈現像剤の製造〉
上記トナー3の1ooi量部と、無機微粉体2の2.5
重量部を■型混合機により混合して本発明の現像剤3を
製造した。
重量部を■型混合機により混合して本発明の現像剤3を
製造した。
実施例4
くトナーの製造〉
実施例1のトナーlの製造において、トナー用樹脂Aを
トナー用樹脂りの100重量部に変更しI;ほかは同様
にしてトナー4を製造した。
トナー用樹脂りの100重量部に変更しI;ほかは同様
にしてトナー4を製造した。
く現像剤の製造〉
上記トナー4の100重量部に、無機微粉体3の2.0
重量部を■型混合機により混合して本発明の現像剤4を
製造した。
重量部を■型混合機により混合して本発明の現像剤4を
製造した。
実施例5
〈トナーの製造〉
実施例Iのトナーlの製造において、トナー用樹脂Aを
トナー用樹脂Eの100重量部に変更したほかは同様に
してトナー5を製造した。
トナー用樹脂Eの100重量部に変更したほかは同様に
してトナー5を製造した。
く現像剤の製造〉
上記トナー5の100重量部に、無機微粉体4の1.5
重量部を■型混合機により混合して本0発明の現像剤5
を製造した。
重量部を■型混合機により混合して本0発明の現像剤5
を製造した。
実施例6
くトナーの製造〉
実施例1のトナーの製造に於て、正の荷電制御剤「ニグ
ロシンSOJを負の荷電制御剤「スビロンブラックTR
HJ (採土ケ谷化学製)に代えるほかは同様にしてト
ナー6を製造した。
ロシンSOJを負の荷電制御剤「スビロンブラックTR
HJ (採土ケ谷化学製)に代えるほかは同様にしてト
ナー6を製造した。
く現像剤の製造〉
上記トナー6の100重量部に、実施例1と同様にして
無機微粉体lを混合して本発明の現像剤6を製造した。
無機微粉体lを混合して本発明の現像剤6を製造した。
実施例7
くトナーの製造〉
トナー用樹脂A100重量部
低分子量ポリプロピレン 「ビスコール660PJ(三
洋化成工業社製)21を1部 ワックス 「ヘキストワックスC」 (ヘキスト社製) 2重量部カーボン
ブラック 「モーガルL」 (キャポット社製)10It量部 荷電制御剤「スピロシブラックTR旧(床土ケ谷化学)
2重量部上記材料を、混
合、混練、冷却した後、ハンマーミルにより粗粉砕し、
さらにジェットミルにより微粉砕し、次いで分級して、
平均粒径が11.0μmのトナー7を製造した。
洋化成工業社製)21を1部 ワックス 「ヘキストワックスC」 (ヘキスト社製) 2重量部カーボン
ブラック 「モーガルL」 (キャポット社製)10It量部 荷電制御剤「スピロシブラックTR旧(床土ケ谷化学)
2重量部上記材料を、混
合、混練、冷却した後、ハンマーミルにより粗粉砕し、
さらにジェットミルにより微粉砕し、次いで分級して、
平均粒径が11.0μmのトナー7を製造した。
くキャリアの製造〉
スチレン−メチルメタクリレート共重合体(共重合重量
比−30: 70、重量平均分子量MW−82,000
、数平均分子量Mn−25,000、ガラス転移点Tg
−110℃)をメチルエチルケトン300n++2に熔
解して被覆液を調製し、この被覆液を用いてスピラコー
タ(開田精工社製)により、銅−亜鉛系フェライト(日
本鉄粉工業社製)からなる磁性体粒子の表面に厚さが1
.0μmの樹脂被覆層を形成し、もってギヤリア1を製
造した。このキャリアlの平均粒径は80μ層であった
。
比−30: 70、重量平均分子量MW−82,000
、数平均分子量Mn−25,000、ガラス転移点Tg
−110℃)をメチルエチルケトン300n++2に熔
解して被覆液を調製し、この被覆液を用いてスピラコー
タ(開田精工社製)により、銅−亜鉛系フェライト(日
本鉄粉工業社製)からなる磁性体粒子の表面に厚さが1
.0μmの樹脂被覆層を形成し、もってギヤリア1を製
造した。このキャリアlの平均粒径は80μ層であった
。
〈現像剤の製造〉
上記トナー7の100重量部に、無機微粉体lの3.0
重量部をv塁混合機により混合した。
重量部をv塁混合機により混合した。
この混合体4重量部にさらに96重量部の上記キャリア
lを混合してトナー濃度が4wt%の本発明の現像剤5
を製造した。
lを混合してトナー濃度が4wt%の本発明の現像剤5
を製造した。
比較例(1)
実施例1の現像剤の製造において、無機微粉体lを除い
たほかは同様にして比較現像剤(1)を製造した。
たほかは同様にして比較現像剤(1)を製造した。
比較例(2)
実施例1の現像剤の製造において、無機微粉体lの代わ
りに市販のシリカ rRA−200HJ (BET比表
面積130m”/ g)0.5重量部を用いて同様にし
て比較現像剤(2)を製造した。
りに市販のシリカ rRA−200HJ (BET比表
面積130m”/ g)0.5重量部を用いて同様にし
て比較現像剤(2)を製造した。
比較例(3)
実施例1のトナーの製造において、トナー用樹脂Aを比
較用トナー樹脂Fに変更したほかは同様にして比較トナ
ー(3)を製造しI;。この比較トナーを用いたほかは
実施例1と同様にして比較現像剤(3)を製造した。
較用トナー樹脂Fに変更したほかは同様にして比較トナ
ー(3)を製造しI;。この比較トナーを用いたほかは
実施例1と同様にして比較現像剤(3)を製造した。
比較例(4)
実施例1のトナー製造に於てトナー用樹脂として結晶性
ポリエステルと無定形ビニル重合体をトナー用樹脂Aと
同じ比率で単なる混合物に変更したほかは同様にして比
較トナー4を製造した。この比較トナーを用いたほかは
実施例1と同様にして比較現像剤(4)を製造した。
ポリエステルと無定形ビニル重合体をトナー用樹脂Aと
同じ比率で単なる混合物に変更したほかは同様にして比
較トナー4を製造した。この比較トナーを用いたほかは
実施例1と同様にして比較現像剤(4)を製造した。
比較例(5)
実施例1のトナーの製造においてトナー用樹脂Aをスチ
レン−ブチルアクリレート共重合体(単量体組成比;7
0:30)の100重量部に変更したほかは同様にして
比較トナー(5)を製造した。この比較トナーを用いた
ほかは実施例1と同様にして比較現像剤(5)を製造し
た。
レン−ブチルアクリレート共重合体(単量体組成比;7
0:30)の100重量部に変更したほかは同様にして
比較トナー(5)を製造した。この比較トナーを用いた
ほかは実施例1と同様にして比較現像剤(5)を製造し
た。
く評価〉
(1)定着性の評価
加熱ローラ定着器を備え、加熱ローラの設定温度を可変
調整できるように改造した電子写真複写機 rU −B
ix 1550MRJ (コニカ(株)製)改造機によ
り、加熱ローラの線速度を139m+a/秒に設定し、
圧着ローラの温度を加熱ローラの設定温度よりも低く保
った状態で加熱ローラの設定温度を100〜240℃の
範囲内で段階的に変化させながら、上記各現像剤を用い
て定着トナー画像を形成する実写テストを行ない、得ら
れた定着トナー画像の端部を、こすり試験機により一定
荷重をかけてこすった後、マイクロデンシトメータで該
端部の画像の残存率を測定して、十分な残存率を示す最
低の設定温度(最低定着温度)を求めた。なお、上記加
熱ローラ定着器は、表層がPFA (テトラフルオルエ
チレン−パーフルオルアルキルビニルエーテル共重合体
)よりなる直径30m−の加熱ローラと、表層がPFA
により被覆されたシリコーンゴム rKE−1300R
TVJ(信越化学工業社11)よりなる圧着ローラとを
有してなり、線圧は0.8Kg/c+a、ニップ輻は4
.3m+sで、シリコーンオイル等の離型剤の塗布機構
は備えていないものである。
調整できるように改造した電子写真複写機 rU −B
ix 1550MRJ (コニカ(株)製)改造機によ
り、加熱ローラの線速度を139m+a/秒に設定し、
圧着ローラの温度を加熱ローラの設定温度よりも低く保
った状態で加熱ローラの設定温度を100〜240℃の
範囲内で段階的に変化させながら、上記各現像剤を用い
て定着トナー画像を形成する実写テストを行ない、得ら
れた定着トナー画像の端部を、こすり試験機により一定
荷重をかけてこすった後、マイクロデンシトメータで該
端部の画像の残存率を測定して、十分な残存率を示す最
低の設定温度(最低定着温度)を求めた。なお、上記加
熱ローラ定着器は、表層がPFA (テトラフルオルエ
チレン−パーフルオルアルキルビニルエーテル共重合体
)よりなる直径30m−の加熱ローラと、表層がPFA
により被覆されたシリコーンゴム rKE−1300R
TVJ(信越化学工業社11)よりなる圧着ローラとを
有してなり、線圧は0.8Kg/c+a、ニップ輻は4
.3m+sで、シリコーンオイル等の離型剤の塗布機構
は備えていないものである。
(2)巻きつき特性の評価
いわゆるべた黒の原稿を用いて加熱ローラの設定温度を
順次下降させながら上記低温定着性の評価と同様にして
実写テストを行ない、記録材の加熱ローラへの巻付きが
生じたときの最高の温度(巻付き発生温度)を求めた。
順次下降させながら上記低温定着性の評価と同様にして
実写テストを行ない、記録材の加熱ローラへの巻付きが
生じたときの最高の温度(巻付き発生温度)を求めた。
(3)耐ホツトオフセット性の評価
圧着ローラを加熱ローラの設定温度に近い温度に保った
状態としたほかは上記低温定着性の評価と同様にして定
着トナー画像を形成し、その直後、白紙の記録材を同様
の条件下で加熱ローラ定着器に送ってこれにトナー汚れ
が生ずるか否かを目視により観察する操作を、加熱ロー
ラの各設定温度において行ない、トナー汚れが生じたと
きの最低の設定温度(オフセット発生温度)を求めた。
状態としたほかは上記低温定着性の評価と同様にして定
着トナー画像を形成し、その直後、白紙の記録材を同様
の条件下で加熱ローラ定着器に送ってこれにトナー汚れ
が生ずるか否かを目視により観察する操作を、加熱ロー
ラの各設定温度において行ない、トナー汚れが生じたと
きの最低の設定温度(オフセット発生温度)を求めた。
(4)保存性の評価
各トナー2gをサンプル管に採り、タフプデンサにより
500回タッピングした後、温度55℃、相対湿度26
%雰囲気下に2時間にわたり放置し、その後48メツシ
ユの篩により分別し、篩に残留した凝集物の割合を測定
した。
500回タッピングした後、温度55℃、相対湿度26
%雰囲気下に2時間にわたり放置し、その後48メツシ
ユの篩により分別し、篩に残留した凝集物の割合を測定
した。
(5)耐久性の評価
実施例1〜5及び比較例1〜5については負帯電性有機
潜像担持体を搭載した複写機r U −Bix1200
J (コニカ(株)製)改造機により、連続して6万回
の実写テストを、常温常湿(20℃、60%R)1)、
高温高湿(33℃、80%RH) 、低温低質(10℃
、20%R)I)の3つの環境下において行なった。
潜像担持体を搭載した複写機r U −Bix1200
J (コニカ(株)製)改造機により、連続して6万回
の実写テストを、常温常湿(20℃、60%R)1)、
高温高湿(33℃、80%RH) 、低温低質(10℃
、20%R)I)の3つの環境下において行なった。
なお、上記複写機の現像器の概要は第1図に示す通りで
ある。第1図において、lθは負帯電性有機潜像担持体
、21は外径50mmのステンレス製円筒型の現像スリ
ーブ、22はマグネット、23は現像剤層の厚さ規制ブ
レード、24はバイアス電源、25は現像領域、30は
現像剤である。現像スリーブ21の表面の磁束密度は7
00ガウス、厚さ規制ブレード23と現像スリーブ21
との間隙は0.25腸■、現像領域25における有機潜
像担持体10と現像スリーブ21との最小間隙は0−2
5mmである。
ある。第1図において、lθは負帯電性有機潜像担持体
、21は外径50mmのステンレス製円筒型の現像スリ
ーブ、22はマグネット、23は現像剤層の厚さ規制ブ
レード、24はバイアス電源、25は現像領域、30は
現像剤である。現像スリーブ21の表面の磁束密度は7
00ガウス、厚さ規制ブレード23と現像スリーブ21
との間隙は0.25腸■、現像領域25における有機潜
像担持体10と現像スリーブ21との最小間隙は0−2
5mmである。
有機潜像担持体lOは矢印Aで示す方向に回転移動され
て有機潜像担持体lO上に形成された静電潜像が現像領
域25に移動される。現像スリーブ21は矢印Bで示ず
方向に回転移動されて現像スリーブ21上に磁気力によ
り担持された現像剤層が現像領域25に搬送される。マ
グネット22は現像スリーブ21内において固定されて
いる。現像時においては、現像領域25に、バイアス電
源24により、周波数1600 Hz 、電圧1400
V、−、の交流電圧と、−150〜−300vの直流電
圧を印加した。
て有機潜像担持体lO上に形成された静電潜像が現像領
域25に移動される。現像スリーブ21は矢印Bで示ず
方向に回転移動されて現像スリーブ21上に磁気力によ
り担持された現像剤層が現像領域25に搬送される。マ
グネット22は現像スリーブ21内において固定されて
いる。現像時においては、現像領域25に、バイアス電
源24により、周波数1600 Hz 、電圧1400
V、−、の交流電圧と、−150〜−300vの直流電
圧を印加した。
以上の構成の現像器により有機潜像担持体lO上に形成
された静電潜像の現像を行ってトナー像を形成し、次い
で転写領域において転写紙の裏面から一7kVの直流コ
ロナを作用させてトナー像を転写紙に転写し、さらに定
着して複写画像を形成した。
された静電潜像の現像を行ってトナー像を形成し、次い
で転写領域において転写紙の裏面から一7kVの直流コ
ロナを作用させてトナー像を転写紙に転写し、さらに定
着して複写画像を形成した。
実施例6については、アモルファスシリコン感光体採用
の市販の普通紙複写機r N P 7550J (キ
ャノン社製)によりlO万回の実写テストを、常温常湿
(20℃、60%RH) 、高温高温(33℃、80%
RH)、低温低湿(10℃、20%RH)の3つの環境
下において行った。
の市販の普通紙複写機r N P 7550J (キ
ャノン社製)によりlO万回の実写テストを、常温常湿
(20℃、60%RH) 、高温高温(33℃、80%
RH)、低温低湿(10℃、20%RH)の3つの環境
下において行った。
実施例7については、アモルファスシリコン感光体を搭
載した複写機r U −B ix 5000J (コ
ニカ(株)製)改造機により、常温常湿(20℃、60
%RH) 、高温高湿(33°0.80%RH) 、低
温低湿(10℃、20%RH)の3つの環境下において
それぞれ連第1表かられかるように本発明の現像剤は定
着特性、耐凝集性に優れ、長期使用に於ても優れた画像
を維持しており、クリーニング性等他の特性に問題とな
る欠点はみあたらない。
載した複写機r U −B ix 5000J (コ
ニカ(株)製)改造機により、常温常湿(20℃、60
%RH) 、高温高湿(33°0.80%RH) 、低
温低湿(10℃、20%RH)の3つの環境下において
それぞれ連第1表かられかるように本発明の現像剤は定
着特性、耐凝集性に優れ、長期使用に於ても優れた画像
を維持しており、クリーニング性等他の特性に問題とな
る欠点はみあたらない。
第1図は実写テストで使用した現像器の具体的構成例を
示す説明図である。 lO・・・負帯電性有機潜像担持体 21・・・現像スリーブ 22・・・マグネッ
ト23・・・現像剤層の厚さ規制ブレード24・・・バ
イアス電源 25・・・現像領域30・・・現
像剤
示す説明図である。 lO・・・負帯電性有機潜像担持体 21・・・現像スリーブ 22・・・マグネッ
ト23・・・現像剤層の厚さ規制ブレード24・・・バ
イアス電源 25・・・現像領域30・・・現
像剤
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)結晶性ポリエステルと、数平均分子量Mnと重量平
均分子量Mwとの比Mw/Mnの値が3.5以上である
イオン架橋された無定形ビニル重合体とのブロック共重
合体またはグラフト共重合体を含むトナーと、窒素吸着
によるBET比表面積が0.5〜30m^2/gの無機
微粉体とを含有してなることを特徴とする静電像現像剤
。 2)前記イオン架橋された無定形ビニル重合体と結晶性
ポリエステルとのブロック共重合またはグラフト共重合
に関与する官能基は、カルボキシル基、水酸基、アミノ
基またはエポキシ基から選ばれた少なくとも1つである
ことを特徴とする請求項1に記載の静電像現像剤。 3)前記イオン架橋された無定形ビニル重合体が、ビニ
ル重合体の有するカルボキシル基に多価金属化合物が反
応してイオン架橋結合を形成してなることを特徴とする
請求項1または2記載の静電像現像剤。 4)前記イオン架橋された無定形ビニル重合体は、分子
量分布において少なくとも2つの極大値を有することを
特徴とする請求項1〜3のいづれかに記載の静電像現像
剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63245437A JPH0291661A (ja) | 1988-09-28 | 1988-09-28 | 静電像現像剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63245437A JPH0291661A (ja) | 1988-09-28 | 1988-09-28 | 静電像現像剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0291661A true JPH0291661A (ja) | 1990-03-30 |
Family
ID=17133649
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63245437A Pending JPH0291661A (ja) | 1988-09-28 | 1988-09-28 | 静電像現像剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0291661A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5422217A (en) * | 1992-01-09 | 1995-06-06 | Sekisui Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Resin composition for toner, method of preparing the same and toner |
-
1988
- 1988-09-28 JP JP63245437A patent/JPH0291661A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5422217A (en) * | 1992-01-09 | 1995-06-06 | Sekisui Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Resin composition for toner, method of preparing the same and toner |
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