JPH01163756A - 画像形成方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 40
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims abstract description 88
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims abstract description 44
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 22
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 15
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims abstract description 13
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 30
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims description 18
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 8
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 abstract description 26
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract description 22
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 11
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 abstract description 10
- 238000011161 development Methods 0.000 abstract description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 2
- -1 ethylene, propylene Chemical group 0.000 description 52
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 52
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 52
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 31
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 21
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 18
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 17
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 17
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 15
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 15
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 15
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 12
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 12
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 12
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 11
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 10
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 8
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 7
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 7
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 7
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 7
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 6
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 6
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 6
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 6
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 6
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 6
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 6
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 5
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 5
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical group C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 4
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 4
- 239000006249 magnetic particle Substances 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 4
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 4
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 4
- UZDMJPAQQFSMMV-UHFFFAOYSA-N 4-oxo-4-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)butanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC(=O)OCCOC(=O)C=C UZDMJPAQQFSMMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 3
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 3
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 3
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 3
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 description 3
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 3
- JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2,4-trimethylpentyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)COC(=O)C(C)=C JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(C=C)C=C1 UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 244000007853 Sarothamnus scoparius Species 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical group [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Chemical compound O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940067597 azelate Drugs 0.000 description 2
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 2
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 229940090961 chromium dioxide Drugs 0.000 description 2
- IAQWMWUKBQPOIY-UHFFFAOYSA-N chromium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Cr+4] IAQWMWUKBQPOIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AYTAKQFHWFYBMA-UHFFFAOYSA-N chromium(IV) oxide Inorganic materials O=[Cr]=O AYTAKQFHWFYBMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 238000000113 differential scanning calorimetry Methods 0.000 description 2
- GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005307 ferromagnetism Effects 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001291 heusler alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N iron(II,III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]O[Fe]=O SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920000921 polyethylene adipate Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 2
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 2
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC=C1CN=C=O FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJQFWAQRPATHTR-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloro-4-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=C(C=C)C=C1Cl BJQFWAQRPATHTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOVCUELHTLHMEN-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-4-ethenylbenzene Chemical compound CCCCC1=CC=C(C=C)C=C1 QOVCUELHTLHMEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMADTXMQLFQQII-UHFFFAOYSA-N 1-decyl-4-ethenylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCC1=CC=C(C=C)C=C1 DMADTXMQLFQQII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJNKJKGZKFOLOJ-UHFFFAOYSA-N 1-dodecyl-4-ethenylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=C(C=C)C=C1 WJNKJKGZKFOLOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C=C)=C1 JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHFHDVDXYKOSKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=C(C=C)C=C1 WHFHDVDXYKOSKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCNAQVGAHQVWIN-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-hexylbenzene Chemical compound CCCCCCC1=CC=C(C=C)C=C1 LCNAQVGAHQVWIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LUWBJDCKJAZYKZ-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-nonylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=C(C=C)C=C1 LUWBJDCKJAZYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLRQDIVVLOCZPH-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-octylbenzene Chemical compound CCCCCCCCC1=CC=C(C=C)C=C1 HLRQDIVVLOCZPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEDJMOONZLUIMC-UHFFFAOYSA-N 1-tert-butyl-4-ethenylbenzene Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(C=C)C=C1 QEDJMOONZLUIMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKYJPYDJNQXILT-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxycarbonyl)benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCOC(=O)C=C RKYJPYDJNQXILT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXPKASQEUYICBF-UHFFFAOYSA-N 2-(3-prop-2-enoyloxypropoxycarbonyl)benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCOC(=O)C=C BXPKASQEUYICBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 2-(diethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCN(CC)CCOC(=O)C(C)=C SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C(C)=C JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJUYCLIQJYAIKG-UHFFFAOYSA-N 2-[3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propoxycarbonyl]benzoic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O HJUYCLIQJYAIKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WROUWQQRXUBECT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylacrylic acid Chemical compound CCC(=C)C(O)=O WROUWQQRXUBECT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMZNXRYIFGTWPF-UHFFFAOYSA-N 2-nitrosoacetic acid Chemical compound OC(=O)CN=O RMZNXRYIFGTWPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYPNJNDODFVZLE-UHFFFAOYSA-N 3-methylbut-2-enoic acid Chemical compound CC(C)=CC(O)=O YYPNJNDODFVZLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBSXSAXOLABXMF-UHFFFAOYSA-N 4-Vinylaniline Chemical compound NC1=CC=C(C=C)C=C1 LBSXSAXOLABXMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQHKCNMTLZRXIP-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxycarbonyl]benzoic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 HQHKCNMTLZRXIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZQRVRFRYQYWBI-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propoxy]-4-oxobutanoic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCOC(=O)CCC(O)=O AZQRVRFRYQYWBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASUUJFUXBYWYBG-UHFFFAOYSA-N 4-oxo-4-(3-prop-2-enoyloxypropoxy)butanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC(=O)OCCCOC(=O)C=C ASUUJFUXBYWYBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOSWJHAQGUOYOR-UHFFFAOYSA-N 5-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]-5-oxopentanoic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)CCCC(O)=O JOSWJHAQGUOYOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPDQDSFHCDCRFC-UHFFFAOYSA-N 5-oxo-5-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)pentanoic acid Chemical compound OC(=O)CCCC(=O)OCCOC(=O)C=C FPDQDSFHCDCRFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTHZUSWLNCPZLX-UHFFFAOYSA-N 6-fluoro-3-methyl-2h-indazole Chemical compound FC1=CC=C2C(C)=NNC2=C1 JTHZUSWLNCPZLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYLBTCQBKAKUTJ-UHFFFAOYSA-N 7-methyl-6,8-bis(methylsulfanyl)pyrrolo[1,2-a]pyrazine Chemical compound C1=CN=CC2=C(SC)C(C)=C(SC)N21 MYLBTCQBKAKUTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 238000004438 BET method Methods 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-M Chlorate Chemical class [O-]Cl(=O)=O XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004129 EU approved improving agent Substances 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 229920002319 Poly(methyl acrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920007962 Styrene Methyl Methacrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002433 Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004110 Zinc silicate Substances 0.000 description 1
- BWVAOONFBYYRHY-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)phenyl]methanol Chemical compound OCC1=CC=C(CO)C=C1 BWVAOONFBYYRHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWLCFADDJOPOQC-UHFFFAOYSA-N [Mn].[Cu].[Sn] Chemical compound [Mn].[Cu].[Sn] NWLCFADDJOPOQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] Chemical compound [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- PWAXUOGZOSVGBO-UHFFFAOYSA-N adipoyl chloride Chemical compound ClC(=O)CCCCC(Cl)=O PWAXUOGZOSVGBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003868 ammonium compounds Chemical class 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGEHNUUBUQTUJB-UHFFFAOYSA-N anthanthrone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=C4C=CC=C5C(=O)C6=CC=C1C2=C6C3=C54 PGEHNUUBUQTUJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- IRERQBUNZFJFGC-UHFFFAOYSA-L azure blue Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Al+3].[Al+3].[Al+3].[Al+3].[Al+3].[Al+3].[S-]S[S-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] IRERQBUNZFJFGC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYJRCSIUFZENHW-DEQYMQKBSA-L barium(2+);oxomethanediolate Chemical compound [Ba+2].[O-][14C]([O-])=O AYJRCSIUFZENHW-DEQYMQKBSA-L 0.000 description 1
- FDQSRULYDNDXQB-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3-dicarbonyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC(C(Cl)=O)=C1 FDQSRULYDNDXQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 150000003842 bromide salts Chemical class 0.000 description 1
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- CJZGTCYPCWQAJB-UHFFFAOYSA-L calcium stearate Chemical compound [Ca+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O CJZGTCYPCWQAJB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000008116 calcium stearate Substances 0.000 description 1
- 235000013539 calcium stearate Nutrition 0.000 description 1
- AOWKSNWVBZGMTJ-UHFFFAOYSA-N calcium titanate Chemical compound [Ca+2].[O-][Ti]([O-])=O AOWKSNWVBZGMTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 1
- 150000001716 carbazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- QJNYIFMVIUOUSU-UHFFFAOYSA-N chloroethene;ethenyl acetate;furan-2,5-dione Chemical compound ClC=C.CC(=O)OC=C.O=C1OC(=O)C=C1 QJNYIFMVIUOUSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 229920006038 crystalline resin Polymers 0.000 description 1
- WMPOZLHMGVKUEJ-UHFFFAOYSA-N decanedioyl dichloride Chemical compound ClC(=O)CCCCCCCCC(Cl)=O WMPOZLHMGVKUEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- ZOIVSVWBENBHNT-UHFFFAOYSA-N dizinc;silicate Chemical compound [Zn+2].[Zn+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] ZOIVSVWBENBHNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000010556 emulsion polymerization method Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006158 high molecular weight polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000007857 hydrazones Chemical class 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004694 iodide salts Chemical class 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 239000006233 lamp black Substances 0.000 description 1
- PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N lauryl acrylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MOUPNEIJQCETIW-UHFFFAOYSA-N lead chromate Chemical compound [Pb+2].[O-][Cr]([O-])(=O)=O MOUPNEIJQCETIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N magnesium orthosilicate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000391 magnesium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052919 magnesium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019792 magnesium silicate Nutrition 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M malachite green Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940107698 malachite green Drugs 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000000434 metal complex dye Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000113 methacrylic resin Substances 0.000 description 1
- AWJZTPWDQYFQPQ-UHFFFAOYSA-N methyl 2-chloroprop-2-enoate Chemical compound COC(=O)C(Cl)=C AWJZTPWDQYFQPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWVKTOUOPHGZRX-UHFFFAOYSA-N methyl 2-methylprop-2-enoate;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O.COC(=O)C(C)=C IWVKTOUOPHGZRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADFPJHOAARPYLP-UHFFFAOYSA-N methyl 2-methylprop-2-enoate;styrene Chemical compound COC(=O)C(C)=C.C=CC1=CC=CC=C1 ADFPJHOAARPYLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M methylene blue Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- UUORTJUPDJJXST-UHFFFAOYSA-N n-(2-hydroxyethyl)prop-2-enamide Chemical compound OCCNC(=O)C=C UUORTJUPDJJXST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052605 nesosilicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N octadecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N octyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C(C)=C NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940065472 octyl acrylate Drugs 0.000 description 1
- ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N octyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C=C ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000004762 orthosilicates Chemical class 0.000 description 1
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 1
- 150000004866 oxadiazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000003891 oxalate salts Chemical class 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDBWAWNLGGMZRQ-UHFFFAOYSA-N p-Vinylbiphenyl Chemical compound C1=CC(C=C)=CC=C1C1=CC=CC=C1 HDBWAWNLGGMZRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 235000019809 paraffin wax Nutrition 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- 235000019271 petrolatum Nutrition 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N phenyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1 QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N phenyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=CC=C1 WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920001281 polyalkylene Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003219 pyrazolines Chemical class 0.000 description 1
- IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N quinoline yellow Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C3C(C4=CC=CC=C4C3=O)=O)=CC=C21 IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004172 quinoline yellow Substances 0.000 description 1
- 229940051201 quinoline yellow Drugs 0.000 description 1
- 235000012752 quinoline yellow Nutrition 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 229940081623 rose bengal Drugs 0.000 description 1
- 229930187593 rose bengal Natural products 0.000 description 1
- STRXNPAVPKGJQR-UHFFFAOYSA-N rose bengal A Natural products O1C(=O)C(C(=CC=C2Cl)Cl)=C2C21C1=CC(I)=C(O)C(I)=C1OC1=C(I)C(O)=C(I)C=C21 STRXNPAVPKGJQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDNLFJGJEQUWRB-UHFFFAOYSA-N rose bengal free acid Chemical compound OC(=O)C1=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C1C1=C2C=C(I)C(=O)C(I)=C2OC2=C(I)C(O)=C(I)C=C21 VDNLFJGJEQUWRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012488 sample solution Substances 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 125000003748 selenium group Chemical group *[Se]* 0.000 description 1
- 150000003346 selenoethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019794 sodium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical class C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001909 styrene-acrylic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical class [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000010558 suspension polymerization method Methods 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 150000004772 tellurides Chemical class 0.000 description 1
- LXEJRKJRKIFVNY-UHFFFAOYSA-N terephthaloyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=C(C(Cl)=O)C=C1 LXEJRKJRKIFVNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 235000013799 ultramarine blue Nutrition 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOSXWYQMOYSSKB-LDKJGXKFSA-L water blue Chemical compound CC1=CC(/C(\C(C=C2)=CC=C2NC(C=C2)=CC=C2S([O-])(=O)=O)=C(\C=C2)/C=C/C\2=N\C(C=C2)=CC=C2S([O-])(=O)=O)=CC(S(O)(=O)=O)=C1N.[Na+].[Na+] XOSXWYQMOYSSKB-LDKJGXKFSA-L 0.000 description 1
- 239000010456 wollastonite Substances 0.000 description 1
- 229910052882 wollastonite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 235000019352 zinc silicate Nutrition 0.000 description 1
- XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L zinc stearate Chemical compound [Zn+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、例えば電子写真法、静電印刷法、静電記録法
等に適用される画像形成方法に関するものである。
等に適用される画像形成方法に関するものである。
例えば電子写真法においては、通常、光導電性感光体よ
りなる静電潜像担持体に、帯電、露光により静電潜像を
形成し、次いでこの静電潜像を、着色粒子であるトナー
によって現像し、得られたトナー像を通常は紙等の記録
材に転写した後、定着して可視画像を形成する。
りなる静電潜像担持体に、帯電、露光により静電潜像を
形成し、次いでこの静電潜像を、着色粒子であるトナー
によって現像し、得られたトナー像を通常は紙等の記録
材に転写した後、定着して可視画像を形成する。
トナー像を定着する方法としては、従来、ヒーターによ
りトナーを非接触の状態で加熱溶融して定着する方法、
有機溶剤によりトナーを溶解して定着する方法、トナー
を加圧して定着する方法、加熱ローラをトナーに直接接
触させてこれを溶融圧着して定着するいわゆる加熱ロー
ラ定着法等が知られているが、熱効率が高くて高速定着
が可能である観点から、加熱ローラ定着法が好ましい。
りトナーを非接触の状態で加熱溶融して定着する方法、
有機溶剤によりトナーを溶解して定着する方法、トナー
を加圧して定着する方法、加熱ローラをトナーに直接接
触させてこれを溶融圧着して定着するいわゆる加熱ロー
ラ定着法等が知られているが、熱効率が高くて高速定着
が可能である観点から、加熱ローラ定着法が好ましい。
しかるに、最近においては、(イ)複写機の過熱劣化を
抑制すること、(ロ)加熱ローラ定着器を作動させてか
ら加熱ローラが定着可能な温度にまで上昇するに要する
ウオームアツプタイムを短くすること、(ハ)紙等の記
録材に熱が吸収されることによる加熱ローラの温度低下
を小さくして連続して多数回にわたる安定した画像の形
成を可能にすること、(ニ)複写機の小型化および安全
性の向上の観点から、定着器に組み込まれるヒーターの
消費電力を低減させて加熱ローラの温度をより低くした
状態で定着処理を可能にすること、等が強く要求されて
いる。
抑制すること、(ロ)加熱ローラ定着器を作動させてか
ら加熱ローラが定着可能な温度にまで上昇するに要する
ウオームアツプタイムを短くすること、(ハ)紙等の記
録材に熱が吸収されることによる加熱ローラの温度低下
を小さくして連続して多数回にわたる安定した画像の形
成を可能にすること、(ニ)複写機の小型化および安全
性の向上の観点から、定着器に組み込まれるヒーターの
消費電力を低減させて加熱ローラの温度をより低くした
状態で定着処理を可能にすること、等が強く要求されて
いる。
従って、トナーにおいては、(1)より低温で良好な定
着を達成し得るものであること、すなわち優れた低温定
着性を有すること、が要請され、さらに、基本的に、次
のような条件が必要である。
着を達成し得るものであること、すなわち優れた低温定
着性を有すること、が要請され、さらに、基本的に、次
のような条件が必要である。
(2)定着法として好ましい加熱ローラ定着法において
は、オフセット現象すなわち定着時に像を構成するトナ
ーの一部が加熱ローラの表面に転移し、これが次に送ら
れて来る記録材に再転移して画像を汚すという現象(加
熱不足のときに生ずるアンダーオフセットと、加熱過剰
のときに生ずるホットオフセットとがある)が発生しや
すいので、トナーに加熱ローラへの転移が生じにくい性
能すなわち耐オフセット性を付与せしめること。
は、オフセット現象すなわち定着時に像を構成するトナ
ーの一部が加熱ローラの表面に転移し、これが次に送ら
れて来る記録材に再転移して画像を汚すという現象(加
熱不足のときに生ずるアンダーオフセットと、加熱過剰
のときに生ずるホットオフセットとがある)が発生しや
すいので、トナーに加熱ローラへの転移が生じにくい性
能すなわち耐オフセット性を付与せしめること。
(3)使用もしくは貯蔵環境条件下において凝集せずに
粉体として安定に存在し得ること、すなわち保存性が優
れていること。
粉体として安定に存在し得ること、すなわち保存性が優
れていること。
(4)摩擦帯電の安定性が良好であって、現像性が優れ
ていること。
ていること。
しかして、従来においては、以下のような技術が提案さ
れている。
れている。
■トナー用樹脂として、融点Tmが45〜150℃の結
晶性部分とガラス転移点Tgが0℃以下の非品性部分と
を化学的に結合してなる樹脂を用いる技術(特開昭50
−87032号公報参照)。
晶性部分とガラス転移点Tgが0℃以下の非品性部分と
を化学的に結合してなる樹脂を用いる技術(特開昭50
−87032号公報参照)。
■トナー用樹脂として、融点T1Tlが45〜90℃の
結晶性部分と、当該結晶性部分の融点Tmより10℃高
い温度以下のガラス転移点Tgを有する非品性部分とを
化学的に結合してなる樹脂を用いる技術(特開昭59−
3446号公報参照)。
結晶性部分と、当該結晶性部分の融点Tmより10℃高
い温度以下のガラス転移点Tgを有する非品性部分とを
化学的に結合してなる樹脂を用いる技術(特開昭59−
3446号公報参照)。
■トナー用樹脂として、エチレン、プロピレン、酢酸ビ
ニルから得られる結晶性重合体と、ビニル重合体とのグ
ラフト重合体を用いる技術(特開昭56−154740
号公報参照)。
ニルから得られる結晶性重合体と、ビニル重合体とのグ
ラフト重合体を用いる技術(特開昭56−154740
号公報参照)。
■トナー用樹脂として、エチレン、プロピレン、酢酸ビ
ニルから得られる結晶性重合体と、不飽和ポリエステル
と、ビニル重合体とのグラフト重合体を用いる技術(特
開昭57−8549号公報参照)。
ニルから得られる結晶性重合体と、不飽和ポリエステル
と、ビニル重合体とのグラフト重合体を用いる技術(特
開昭57−8549号公報参照)。
■トナー用樹脂として、硬質成分と軟質成分とのブロッ
ク共重合体あるいはグラフト共重合体と、ガラス転移点
Tgが50℃以上で前記硬質成分と相溶性のある非品性
樹脂と、融点Tmが60℃以上で前記硬質成分と非相溶
性の結晶性樹脂との混合物を用いる技術(特開昭57−
32447号公報参照)。
ク共重合体あるいはグラフト共重合体と、ガラス転移点
Tgが50℃以上で前記硬質成分と相溶性のある非品性
樹脂と、融点Tmが60℃以上で前記硬質成分と非相溶
性の結晶性樹脂との混合物を用いる技術(特開昭57−
32447号公報参照)。
■トナー用樹脂として、エチレン、プロピレン、酢酸ビ
ニルから得られる結晶性重合体にビニル系重合体をグラ
フト重合させて得られるグラフト共重合体と、当該グラ
フト共重合体の単量体と共通の単量体を過半量含むビニ
ル系単量体とジビニル系単量体とを共重合させて得られ
る架橋重合体との混合物を用いる技術(特開昭60−2
63953号公報参照)。
ニルから得られる結晶性重合体にビニル系重合体をグラ
フト重合させて得られるグラフト共重合体と、当該グラ
フト共重合体の単量体と共通の単量体を過半量含むビニ
ル系単量体とジビニル系単量体とを共重合させて得られ
る架橋重合体との混合物を用いる技術(特開昭60−2
63953号公報参照)。
■トナー用樹脂として、主鎖を構成する重合体および側
鎖を構成する重合体の一方の重合体の表面張力γ、が3
4以上であり他方の重合体の表面張力Tsが34未満で
あるグラフト重合体を用いる技術(特開昭59−135
478号公報参照)。
鎖を構成する重合体の一方の重合体の表面張力γ、が3
4以上であり他方の重合体の表面張力Tsが34未満で
あるグラフト重合体を用いる技術(特開昭59−135
478号公報参照)。
(*コメント:特開昭50−92139号は、液体現像
剤であり、従来技術として直接比較できませんので、言
及する必要はないと思います。)〔発明が解決しようと
する問題点〕 しかしながら、上記技術■乃至■においては、〔1)低
温定着性、(2〕耐オフセツト性、(3)保存性、(4
)現像性のすべての点において十分満足できるトナーを
得ることがいまだ困難である。
剤であり、従来技術として直接比較できませんので、言
及する必要はないと思います。)〔発明が解決しようと
する問題点〕 しかしながら、上記技術■乃至■においては、〔1)低
温定着性、(2〕耐オフセツト性、(3)保存性、(4
)現像性のすべての点において十分満足できるトナーを
得ることがいまだ困難である。
すなわち、上記技術■では、トナー用樹脂の粘着性が高
いために常温下にふいても保存性が悪いうえ定着時にお
いてはオフセット現象が発生しやすく、また摩擦帯電の
安定性が悪いために現像性が不良となり、これらの結果
得られる画像がカブリの多い不鮮明なものとなる。
いために常温下にふいても保存性が悪いうえ定着時にお
いてはオフセット現象が発生しやすく、また摩擦帯電の
安定性が悪いために現像性が不良となり、これらの結果
得られる画像がカブリの多い不鮮明なものとなる。
上記技術■では、トナー用樹脂が軟質となるため摩擦帯
電の安定性が悪くて現像性が不良となるうえ、定着時に
おいてはオフセット現象が発生しやすく、これらの結果
得られる画像はカブリの多い不鮮明なものとなる。
電の安定性が悪くて現像性が不良となるうえ、定着時に
おいてはオフセット現象が発生しやすく、これらの結果
得られる画像はカブリの多い不鮮明なものとなる。
上記技術■、■および■では、摩擦帯電性が悪いために
現像性が不良となり、その結果得られる画像は画像ヌケ
等のある不鮮明なものとなる。
現像性が不良となり、その結果得られる画像は画像ヌケ
等のある不鮮明なものとなる。
上記技術■では、圧力定着用のトナーであるため、熱ロ
ーラ定着方式ではオフセット現象の発生が著しい問題点
がある。
ーラ定着方式ではオフセット現象の発生が著しい問題点
がある。
上記技術■では、低温での離型性が劣るためいわゆる耐
アンダーオフセット性が悪く、長期にわたって安定した
画像を得ることが困難である。
アンダーオフセット性が悪く、長期にわたって安定した
画像を得ることが困難である。
一方、低温定着性、耐オフセット性、保存性の向上を図
るために、 ■トナー用樹脂として、カルボキシル基を有する重合体
と、金属化合物とを反応させて得られる樹脂を用いる技
術(特開昭57−178250号公報、特開昭61−1
10155号公報、特開昭61−110156号公報参
照) が提案された。。
るために、 ■トナー用樹脂として、カルボキシル基を有する重合体
と、金属化合物とを反応させて得られる樹脂を用いる技
術(特開昭57−178250号公報、特開昭61−1
10155号公報、特開昭61−110156号公報参
照) が提案された。。
しかし、この技術■では、耐ホツトオフセット性および
保存性は良好であるが、低温での離型性および定着性が
劣るため耐アンダーオフセット性が悪い。
保存性は良好であるが、低温での離型性および定着性が
劣るため耐アンダーオフセット性が悪い。
これに対して、本発明者は、結晶性ポリエステルとイオ
ン結合した無定形ビニル重合体とが化学的に結合してな
るブロック共重合体またはグラフト共重合体をトナー用
樹脂として用いることにより、トナーの低温定着性、耐
オフセット性、耐ブロッキング性を向上させる技術を開
発した。
ン結合した無定形ビニル重合体とが化学的に結合してな
るブロック共重合体またはグラフト共重合体をトナー用
樹脂として用いることにより、トナーの低温定着性、耐
オフセット性、耐ブロッキング性を向上させる技術を開
発した。
しかしながら、斯かるトナーにおいて新たな問題点が判
明した。すなわち、上記トナーにおいては、結晶性ポリ
エステルを含むため、当該トナーを高温高湿下で適正な
帯電量で負に帯電させることが困難であり、そのため潜
像担持体として表面の帯電極性が正とされるセレン感光
体を用いて画像を形成すると、画像に箒で掃いたような
筋(ハキ目)が現れ、画質が不良となる問題点がある。
明した。すなわち、上記トナーにおいては、結晶性ポリ
エステルを含むため、当該トナーを高温高湿下で適正な
帯電量で負に帯電させることが困難であり、そのため潜
像担持体として表面の帯電極性が正とされるセレン感光
体を用いて画像を形成すると、画像に箒で掃いたような
筋(ハキ目)が現れ、画質が不良となる問題点がある。
本発明は、以上の如き事情に基づいてなされたものであ
って、(1)低温定着性、(2)耐オフセット性、(3
)保存性、(4)現像性のすべての点において十分満足
できる画像形成方法を提供するものである。
って、(1)低温定着性、(2)耐オフセット性、(3
)保存性、(4)現像性のすべての点において十分満足
できる画像形成方法を提供するものである。
本発明の画像形成方法は、結晶性ポリエステルとイオン
架橋された無定形ビニル重合体とが化学的に結合してな
るブロック共重合体またはグラフト共重合体を含有して
なるトナーを用い、有機光導電性半導体よりなる潜像担
持体上に形成された静電潜像を現像することを特徴とす
る。
架橋された無定形ビニル重合体とが化学的に結合してな
るブロック共重合体またはグラフト共重合体を含有して
なるトナーを用い、有機光導電性半導体よりなる潜像担
持体上に形成された静電潜像を現像することを特徴とす
る。
本発明の画像形成方法によれば、特定のトナーを用いて
、有機光導電性半導体よりなる潜像担持体上に形成され
た静電潜像を現像するので、(1)低温定着性、(2)
耐オフセット性、(3)保存性、(4)現像性のすべて
の点において優れた効果が発揮される。
、有機光導電性半導体よりなる潜像担持体上に形成され
た静電潜像を現像するので、(1)低温定着性、(2)
耐オフセット性、(3)保存性、(4)現像性のすべて
の点において優れた効果が発揮される。
従って、より低温で良好な熱定着が可能であって、しか
もカブリおよびハキ目のない良好な画像を多数回にわた
り安定に形成することができる。
もカブリおよびハキ目のない良好な画像を多数回にわた
り安定に形成することができる。
すなわち、イオン架橋された無定形ビニル重合体は、非
加熱下においては、強固な架橋結合が形成された状態で
あって強靭な特性を有し、そのため結晶性ポリエステル
の有する粘着性の発現の抑制効果が著しく大きく、その
結果保存性、摩擦帯電の安定性の向上効果が発揮され、
そして熱定着による加熱下にふいては、イオン架橋され
た無定形ビニル重合体による適度な粘弾性により耐オフ
セット性の向上効果が発揮されると共に、当該無定形ビ
ニル重合体のイオン架橋結合は共有結合よりも結合力が
小さくて加熱により切れやすいうえ、結晶性ポリエステ
ルの有する良好な低温溶融性および紙等の記録材に対す
る良好な浸透性との相乗作用により優れた低温定着性が
発揮される。
加熱下においては、強固な架橋結合が形成された状態で
あって強靭な特性を有し、そのため結晶性ポリエステル
の有する粘着性の発現の抑制効果が著しく大きく、その
結果保存性、摩擦帯電の安定性の向上効果が発揮され、
そして熱定着による加熱下にふいては、イオン架橋され
た無定形ビニル重合体による適度な粘弾性により耐オフ
セット性の向上効果が発揮されると共に、当該無定形ビ
ニル重合体のイオン架橋結合は共有結合よりも結合力が
小さくて加熱により切れやすいうえ、結晶性ポリエステ
ルの有する良好な低温溶融性および紙等の記録材に対す
る良好な浸透性との相乗作用により優れた低温定着性が
発揮される。
このようにトナーが優れた低温定着性を発揮するため、
熱ローラ定着方式を適用するときには、熱ローラの設定
温度を従来より低くすることができ、そのため熱ローラ
の耐久性の向上を図ることができるうえ、ウオームアツ
プタイムの短縮化により迅速な画像形成が可能となる。
熱ローラ定着方式を適用するときには、熱ローラの設定
温度を従来より低くすることができ、そのため熱ローラ
の耐久性の向上を図ることができるうえ、ウオームアツ
プタイムの短縮化により迅速な画像形成が可能となる。
また、記録材の両面に画像を形成する場合にも、カール
、シワ等を招来せずに安定に画像を形成することができ
る。
、シワ等を招来せずに安定に画像を形成することができ
る。
そして、トナーに含有されるブロック共重合体またはグ
ラフト共重合体が、結晶性ポリエステルをその構成成分
としていることから、トナーの摩擦帯電性と有機光導電
性半導体よりなる潜像担持体の帯電特性との相性がよく
、その結果優れた現像性が発揮されてハキ目の発生が防
止される。
ラフト共重合体が、結晶性ポリエステルをその構成成分
としていることから、トナーの摩擦帯電性と有機光導電
性半導体よりなる潜像担持体の帯電特性との相性がよく
、その結果優れた現像性が発揮されてハキ目の発生が防
止される。
本発明に用いるトナーは、結晶性ポリエステルとイオン
架橋されてなる無定形ビニル重合体(以下「イオン架橋
無定形ビニル重合体」ともいう)とが化学的に結合して
なるブロック共重合体またはグラフト共重合体を必須成
分として含有してなる。
架橋されてなる無定形ビニル重合体(以下「イオン架橋
無定形ビニル重合体」ともいう)とが化学的に結合して
なるブロック共重合体またはグラフト共重合体を必須成
分として含有してなる。
本発明においては、トナーのみよりなる一成分現像剤、
またはトナーとキャリアとよりなる二成分現像剤のいず
れをも用いることができる。
またはトナーとキャリアとよりなる二成分現像剤のいず
れをも用いることができる。
イオン架橋無定形ビニル重合体は、結晶性ポリエステル
とブロック共重合体またはグラフト共重合体を形成する
ための官能基を有することが必要である。斯かる官能基
としては、例えばカルボキシル基、水酸基、アミノ基、
エポキシ基等を好ましいものとして挙げることができる
。
とブロック共重合体またはグラフト共重合体を形成する
ための官能基を有することが必要である。斯かる官能基
としては、例えばカルボキシル基、水酸基、アミノ基、
エポキシ基等を好ましいものとして挙げることができる
。
斯かる官能基を有する単量体としては、例えばアクリル
酸、β、β−ジメチルアクリル酸、α−エチルアクリル
酸、メタクリル酸、フマル酸、イタコン酸、マレイン酸
、クロトン酸、ヒドロキシエチルメタクリレート、こは
く酸モノアクリロイルオキシエチルエステル、N−ヒド
ロキシエチルアクリルアミド、N−メチロールアクリル
アミド、p−アミノスチレン、グリシジルメタクリレー
ト等を挙げることができる。このような官能基を有する
単量体は、イオン架橋無定形ビニル重合体を得るための
単量体組成物中に、0.1〜20モル%、好ましくは0
.5〜10モル%の割合で使用されることが好ましい。
酸、β、β−ジメチルアクリル酸、α−エチルアクリル
酸、メタクリル酸、フマル酸、イタコン酸、マレイン酸
、クロトン酸、ヒドロキシエチルメタクリレート、こは
く酸モノアクリロイルオキシエチルエステル、N−ヒド
ロキシエチルアクリルアミド、N−メチロールアクリル
アミド、p−アミノスチレン、グリシジルメタクリレー
ト等を挙げることができる。このような官能基を有する
単量体は、イオン架橋無定形ビニル重合体を得るための
単量体組成物中に、0.1〜20モル%、好ましくは0
.5〜10モル%の割合で使用されることが好ましい。
また、イオン架橋無定形ビニル重合体は、イオン結合に
より架橋された構造の無定形ビニル重合体であることが
必要である。イオン架橋構造を形成するための幹として
のビニル重合体としては、ポリスチレン、ポリメタクリ
ル酸メチル、ポリアクリル酸メチル、ポリ塩化ビニル、
ポリ酢酸ビニル、ポリアクリロニトリル、その他を挙げ
ることができる。なかでも、スチレン系単量体、アクリ
ル酸系単量体、メタクリル酸系単量体から選択される少
なくとも1種を必須成分として用いて得られるビニル重
合体であることが好ましい。そして、特に、カルボキシ
ル基を有するビニル重合体の当該カルボキシル基に多価
金属化合物が反応してイオン架橋結合が形成されている
ことが好ましい。
より架橋された構造の無定形ビニル重合体であることが
必要である。イオン架橋構造を形成するための幹として
のビニル重合体としては、ポリスチレン、ポリメタクリ
ル酸メチル、ポリアクリル酸メチル、ポリ塩化ビニル、
ポリ酢酸ビニル、ポリアクリロニトリル、その他を挙げ
ることができる。なかでも、スチレン系単量体、アクリ
ル酸系単量体、メタクリル酸系単量体から選択される少
なくとも1種を必須成分として用いて得られるビニル重
合体であることが好ましい。そして、特に、カルボキシ
ル基を有するビニル重合体の当該カルボキシル基に多価
金属化合物が反応してイオン架橋結合が形成されている
ことが好ましい。
斯かるカルボキシル基を有するビニル重合体を得るため
には、上記単量体のほかに、アクリル酸もしくはメタク
リル酸およびこれらの誘導体から選択される単量体を必
須成分として用いて重合すればよい。
には、上記単量体のほかに、アクリル酸もしくはメタク
リル酸およびこれらの誘導体から選択される単量体を必
須成分として用いて重合すればよい。
例えば水酸基を有するアクリル酸エステルもしくはメタ
クリル酸エステルまたはこれらの誘導体と、ジカルボン
酸化合物とのエステル化反応によって得られる構造の半
エステル化合物を好ましいものとして挙げることができ
る。斯かる半エステル化合物によれば、主鎖構成に影響
の少ない位置にカルボキシル基が導入されているので、
化学構造の立体障害が小さくなり、その結果カルボキシ
ル基と多価金属化合物との反応が効率よく進行してイオ
ン架橋結合が形成され、良好な架橋構造のイオン架橋無
定形ビニル重合体を得ることができる。
クリル酸エステルまたはこれらの誘導体と、ジカルボン
酸化合物とのエステル化反応によって得られる構造の半
エステル化合物を好ましいものとして挙げることができ
る。斯かる半エステル化合物によれば、主鎖構成に影響
の少ない位置にカルボキシル基が導入されているので、
化学構造の立体障害が小さくなり、その結果カルボキシ
ル基と多価金属化合物との反応が効率よく進行してイオ
ン架橋結合が形成され、良好な架橋構造のイオン架橋無
定形ビニル重合体を得ることができる。
上記ビニル重合体を得るためのスチレン系単量体として
は、例えばスチレン、0−メチルスチレン、m−メチル
スチレン、p−メチルスチレン、α−メチルスチレン、
p−エチルスチレン、2゜3−ジメチルスチレン、2.
4−ジメチルスチレン、p−n−ブチルスチレン、p−
tert−ブチルスチレン、p−n−へキシルスチレン
、p−n−オクチルスチレン、p−n−ノニルスチレン
、p−n−デシルスチレン、p−n−ドデシルスチレン
、p−メトキシスチレン、p−フェニルスチレン、p−
クロルスチレン、3.4−ジクロルスチレン等を挙げる
ことができる。これらの単量体は単独で用いてもよいし
、あるいは複数のものを組合わせて用いてもよい。
は、例えばスチレン、0−メチルスチレン、m−メチル
スチレン、p−メチルスチレン、α−メチルスチレン、
p−エチルスチレン、2゜3−ジメチルスチレン、2.
4−ジメチルスチレン、p−n−ブチルスチレン、p−
tert−ブチルスチレン、p−n−へキシルスチレン
、p−n−オクチルスチレン、p−n−ノニルスチレン
、p−n−デシルスチレン、p−n−ドデシルスチレン
、p−メトキシスチレン、p−フェニルスチレン、p−
クロルスチレン、3.4−ジクロルスチレン等を挙げる
ことができる。これらの単量体は単独で用いてもよいし
、あるいは複数のものを組合わせて用いてもよい。
上記ビニル重合体を得るためのアクリル酸エステルもし
くはメタクリル酸エステルとしては、例えばアクリル酸
メチノペアクリル酸エチル、アクリル酸プチノペアクリ
ル酸インブチノペアクリル酸プロピル、アクリル酸オク
チル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸ラウリル、アク
リル酸−2−エチルヘキシル、アクリル酸ステアリル、
アクリル112−2−クロルエチル、アクリル酸フェニ
ル、α−クロルアクリル酸メチル等のアクリル酸エステ
ル類;例えばメタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル
、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタク
リル酸イソブチノペメタクリル酸オクチル、メタクリル
酸ドデシル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸−2
−エチルヘキシノペメタクリル酸ステアリル、メタクリ
ル酸フェニル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、メ
タクリル酸ジエチルアミノエチル等のメタクリル酸エス
テル類;等を挙げることができる。
くはメタクリル酸エステルとしては、例えばアクリル酸
メチノペアクリル酸エチル、アクリル酸プチノペアクリ
ル酸インブチノペアクリル酸プロピル、アクリル酸オク
チル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸ラウリル、アク
リル酸−2−エチルヘキシル、アクリル酸ステアリル、
アクリル112−2−クロルエチル、アクリル酸フェニ
ル、α−クロルアクリル酸メチル等のアクリル酸エステ
ル類;例えばメタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル
、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタク
リル酸イソブチノペメタクリル酸オクチル、メタクリル
酸ドデシル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸−2
−エチルヘキシノペメタクリル酸ステアリル、メタクリ
ル酸フェニル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、メ
タクリル酸ジエチルアミノエチル等のメタクリル酸エス
テル類;等を挙げることができる。
前記半エステル化合物を形成するカルボキシル基を有す
る化合物としては、例えばマロン酸、こはく酸、グルタ
ル酸等の脂肪族ジカルボン酸化合物、例えばフタル酸等
の芳香族ジカルボン酸化合物等を挙げることができる。
る化合物としては、例えばマロン酸、こはく酸、グルタ
ル酸等の脂肪族ジカルボン酸化合物、例えばフタル酸等
の芳香族ジカルボン酸化合物等を挙げることができる。
これらの化合物と、水酸基を有するアクリル酸エステル
もしくはメタクリル酸エステルまたはこれらの誘導体と
をエステル化反応させることにより半エステル化合物を
得ることができる。上記ジカルボン酸化合物はハロゲン
族元素、低級アルキル基、アルコキシ基等によって水素
原子が置換されていてもよく、また酸無水物であっても
よい。そして、水酸基を有するアクリル酸もしくはメタ
クリル酸の誘導体としては、アクリル酸もしくはメタク
リル酸にエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド等
のアルキレンオキサイドを1モルまたは2モル以上付加
せしめたものでもよく、あるいはアクリル酸もしくはメ
タクリル酸にプロピレングリコール等の2価アルコール
をエステル化反応させたヒドロキシアルキルエステルで
あってもよい。
もしくはメタクリル酸エステルまたはこれらの誘導体と
をエステル化反応させることにより半エステル化合物を
得ることができる。上記ジカルボン酸化合物はハロゲン
族元素、低級アルキル基、アルコキシ基等によって水素
原子が置換されていてもよく、また酸無水物であっても
よい。そして、水酸基を有するアクリル酸もしくはメタ
クリル酸の誘導体としては、アクリル酸もしくはメタク
リル酸にエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド等
のアルキレンオキサイドを1モルまたは2モル以上付加
せしめたものでもよく、あるいはアクリル酸もしくはメ
タクリル酸にプロピレングリコール等の2価アルコール
をエステル化反応させたヒドロキシアルキルエステルで
あってもよい。
好ましい半エステル化合物としては、例えばこはく酸モ
ノアクリロイルオキシエチルエステル、こはく酸モノア
クリロイルオキシプロピルエステル、グルタル酸モノア
クリロイルオキシエチルエステル、フタル酸モノアクリ
ロイルオキシエチルエステル、フタル酸モノアクリロイ
ルオキシプロピルエステル、こはく酸モノメタアクリロ
イルオキシエチルエステル、こはく酸モノメタアクリロ
イルオキシプロピルエステル、グルタル酸モノメタアク
リロイルオキシエチルエステル、フタル酸モノメタアク
リロイルオキシエチルエステノペフタル酸モノメタアク
リロイルオキシプロピルエステル等を挙げることができ
る。
ノアクリロイルオキシエチルエステル、こはく酸モノア
クリロイルオキシプロピルエステル、グルタル酸モノア
クリロイルオキシエチルエステル、フタル酸モノアクリ
ロイルオキシエチルエステル、フタル酸モノアクリロイ
ルオキシプロピルエステル、こはく酸モノメタアクリロ
イルオキシエチルエステル、こはく酸モノメタアクリロ
イルオキシプロピルエステル、グルタル酸モノメタアク
リロイルオキシエチルエステル、フタル酸モノメタアク
リロイルオキシエチルエステノペフタル酸モノメタアク
リロイルオキシプロピルエステル等を挙げることができ
る。
カルボキシル基を有するビニル重合体の当該カルボキシ
ル基と反応させる多価金属化合物の金属元素としては、
例えばCu、 Ag、 Be、 Mg、 Ca、 Sr
。
ル基と反応させる多価金属化合物の金属元素としては、
例えばCu、 Ag、 Be、 Mg、 Ca、 Sr
。
Ba、 Zn、 Cd、 AI、 Ti、 Ge、 S
n、 V、 Cr、 Mo、 Mn、Fe、 Ni、
Co、 Zr、 Se等を挙げることができる。
n、 V、 Cr、 Mo、 Mn、Fe、 Ni、
Co、 Zr、 Se等を挙げることができる。
これらの中でもアルカリ土類金属(B e、 Mg、
Ca。
Ca。
Sr、 Ba )および亜鉛族元素(Zn、Cd)が好
ましく、特にMgおよびZnが好ましい。
ましく、特にMgおよびZnが好ましい。
これらの金属を含む多価金属化合物としては、例えば、
上記金属元素の、フッ化物、塩化物、塩素酸塩、臭化物
、ヨウ化物、酸化物、水酸化物、硫化物、亜硫酸塩、硫
酸塩、セレン化物、テルル化物、窒化物、硝酸塩、リン
化物、ホスフィン酸塩、リン酸塩、炭酸塩、オルトケイ
酸塩、酢酸塩、シュウ酸塩、メチル化合物もしくはエチ
ル化合物等の低級アルキル金属化合物等を挙げることが
できる。これらのなかでも、特に上記金属元素の酢酸塩
、上記金属元素の酸化物が好ましい。
上記金属元素の、フッ化物、塩化物、塩素酸塩、臭化物
、ヨウ化物、酸化物、水酸化物、硫化物、亜硫酸塩、硫
酸塩、セレン化物、テルル化物、窒化物、硝酸塩、リン
化物、ホスフィン酸塩、リン酸塩、炭酸塩、オルトケイ
酸塩、酢酸塩、シュウ酸塩、メチル化合物もしくはエチ
ル化合物等の低級アルキル金属化合物等を挙げることが
できる。これらのなかでも、特に上記金属元素の酢酸塩
、上記金属元素の酸化物が好ましい。
多価金属化合物の添加量は、カルボキシル基を有するビ
ニル重合体を構成する単量体の種類およびその量により
相違するので一種に規定することはできないが、例えば
当該ビニル重合体の1モルに対して、0.1〜1モル程
度である。
ニル重合体を構成する単量体の種類およびその量により
相違するので一種に規定することはできないが、例えば
当該ビニル重合体の1モルに対して、0.1〜1モル程
度である。
カルボキシル基ををするビニル重合体の当該カルボキシ
ル基に多価金属化合物を反応させるには、例えば溶液重
合法により重合して得られたカルボキシル基を有するビ
ニル重合体を含有する溶液に、前記多価金属化合物もし
くは当該多価金属化合物の分散溶液を混合し、昇温しで
約1〜3時間にわたり脱溶剤処理を行い、反応系内の温
度が150〜180℃程度に達した状態で1時間以上こ
の温度に維持して反応を完結させるのがよい。また場合
によっては、カルボキシル基を有するビニル重合体の重
合を開始する前に多価金属化合物を溶剤と共に反応系内
に存在させてもよく、あるいは上記脱溶剤処理を行って
得られたカルボキシル基を有するビニル重合体と多価金
属化合物とをロールミル、ニーダ、押出機等により熔融
混練することにより反応させてもよい。
ル基に多価金属化合物を反応させるには、例えば溶液重
合法により重合して得られたカルボキシル基を有するビ
ニル重合体を含有する溶液に、前記多価金属化合物もし
くは当該多価金属化合物の分散溶液を混合し、昇温しで
約1〜3時間にわたり脱溶剤処理を行い、反応系内の温
度が150〜180℃程度に達した状態で1時間以上こ
の温度に維持して反応を完結させるのがよい。また場合
によっては、カルボキシル基を有するビニル重合体の重
合を開始する前に多価金属化合物を溶剤と共に反応系内
に存在させてもよく、あるいは上記脱溶剤処理を行って
得られたカルボキシル基を有するビニル重合体と多価金
属化合物とをロールミル、ニーダ、押出機等により熔融
混練することにより反応させてもよい。
このようにして、カルボキシル基を有するビニル重合体
と多価金属化合物とが反応して得られるイオン架橋無定
形ビニル重合体は、当該カルボキシル基を有するビニル
重合体のカルボキシル基と多価金属原子とがイオン結合
により結合され、このイオン結合により一種の架橋構造
が形成されたものとなる。このイオン結合は、共有結合
に比してはるかにゆるやかな結合である。
と多価金属化合物とが反応して得られるイオン架橋無定
形ビニル重合体は、当該カルボキシル基を有するビニル
重合体のカルボキシル基と多価金属原子とがイオン結合
により結合され、このイオン結合により一種の架橋構造
が形成されたものとなる。このイオン結合は、共有結合
に比してはるかにゆるやかな結合である。
また、低温定着性、耐オフセット性のさらなる向上を図
る観点から、イオン架橋無定形ビニル重合体は、分子量
分布において少なくとも2つ以上の極大値を有すること
が好ましい。具体的には、分子量極大値の小さい低分子
量成分と分子量極大値の大きい高分子量成分の少なくと
も2群に分けられる分子量分布を有し、ゲル・バーミニ
ニージョン・クロマトグラフィ (GPC)により測定
された分子量分布曲線において、少なくとも1つの極大
値が2.000〜20.000程度の範囲内にあり、少
なくとも1つの極大値が100.000〜1.000.
000程度の範囲内にあるような、少なくとも2つの極
大値を有することが好ましい。また、上記高分子量成分
によりイオン架橋無定形ビニル重合体を一層強靭なもの
とすることが可能であるので、キャリアとの摩擦あるい
は潜像担持体との衝突においてトナー粒子破壊の抑制効
果が大きく、その結果フィルミング現象の原因となる微
粉の発生が抑制される。なお、上記高分子量成分の割合
は、イオン架橋無定形ビニル重合体の15重量%以上で
あることが好ましく、特に15〜50重量%が好ましい
。
る観点から、イオン架橋無定形ビニル重合体は、分子量
分布において少なくとも2つ以上の極大値を有すること
が好ましい。具体的には、分子量極大値の小さい低分子
量成分と分子量極大値の大きい高分子量成分の少なくと
も2群に分けられる分子量分布を有し、ゲル・バーミニ
ニージョン・クロマトグラフィ (GPC)により測定
された分子量分布曲線において、少なくとも1つの極大
値が2.000〜20.000程度の範囲内にあり、少
なくとも1つの極大値が100.000〜1.000.
000程度の範囲内にあるような、少なくとも2つの極
大値を有することが好ましい。また、上記高分子量成分
によりイオン架橋無定形ビニル重合体を一層強靭なもの
とすることが可能であるので、キャリアとの摩擦あるい
は潜像担持体との衝突においてトナー粒子破壊の抑制効
果が大きく、その結果フィルミング現象の原因となる微
粉の発生が抑制される。なお、上記高分子量成分の割合
は、イオン架橋無定形ビニル重合体の15重量%以上で
あることが好ましく、特に15〜50重量%が好ましい
。
イオン架橋無定形ビニル重合体が、上記の如く高分子量
成分と低分子量成分とにより構成される場合には、多価
金属化合物と反応するカルボキシル基が少なくとも低分
子量成分に導入されていることが好ましい。すなわち、
キャリアとの摩擦あるいは潜像担持体の表面との衝突に
よって生ずるトナー粒子の破壊は、主としてトナー粒子
中における低分子量の比較的もろい成分に起因するため
、このような低分子量成分を詳細は後述する多価金属化
合物によりいわばイオン結合により架橋して強靭なもの
とすることにより、トナー粒子の破壊によって生ずるフ
ィルミング現象の原因となる微粉の発生を有効に防止す
ることができる。
成分と低分子量成分とにより構成される場合には、多価
金属化合物と反応するカルボキシル基が少なくとも低分
子量成分に導入されていることが好ましい。すなわち、
キャリアとの摩擦あるいは潜像担持体の表面との衝突に
よって生ずるトナー粒子の破壊は、主としてトナー粒子
中における低分子量の比較的もろい成分に起因するため
、このような低分子量成分を詳細は後述する多価金属化
合物によりいわばイオン結合により架橋して強靭なもの
とすることにより、トナー粒子の破壊によって生ずるフ
ィルミング現象の原因となる微粉の発生を有効に防止す
ることができる。
また、イオン架橋無定形ビニル重合体において、重量平
均分子量Mwと数平均分子量Mnの比Mw/Mnの値が
3.5以上であることが好ましく、特に4〜40が好ま
しい。当該比Mw /Mnが過小のときには、十分な耐
オフセット性および耐久性が得られない。ここで、重量
平均分子IMwおよび数平均分子量Mnの値は、種々の
方法により求めることができ、測定方法の相異によって
若干の差異があるが、本発明においては下記の測定方法
によって求めたものである。
均分子量Mwと数平均分子量Mnの比Mw/Mnの値が
3.5以上であることが好ましく、特に4〜40が好ま
しい。当該比Mw /Mnが過小のときには、十分な耐
オフセット性および耐久性が得られない。ここで、重量
平均分子IMwおよび数平均分子量Mnの値は、種々の
方法により求めることができ、測定方法の相異によって
若干の差異があるが、本発明においては下記の測定方法
によって求めたものである。
スナワチ、ケル・パーミュエーンヨン・クロマトグラフ
ィ (G P C”) によって以下に記す条件で重
量平均分子量Mw、数平均分子量Mn 、ピーク分子量
を測定する。温度40℃において、溶媒(テトラヒドロ
フラン)を毎分1.2−の流速で流し、濃度0.2 g
/20−のテトラヒドロフラン試料溶液を試料重量と
して3mg注入し測定を行う。試料の分子量測定にあた
っては、当該試料の有する分子量が数種の単分散ポリス
チレン標準試料により、作製された検量線の分子量の対
数とカウント数が直線となる範囲内に包含される測定条
件を選択する。なお、測定結果の信頼性は、上述の測定
条件で測定したNB5706ポリスチレン標準試料(重
量平均分子量Mw =28.8X10’、数平均分子量
Mn=13.7 xio’、 Mw /Mn =2.1
1)の比MIII/Mnの値が2.11±0.10とな
ることにより確認する。
ィ (G P C”) によって以下に記す条件で重
量平均分子量Mw、数平均分子量Mn 、ピーク分子量
を測定する。温度40℃において、溶媒(テトラヒドロ
フラン)を毎分1.2−の流速で流し、濃度0.2 g
/20−のテトラヒドロフラン試料溶液を試料重量と
して3mg注入し測定を行う。試料の分子量測定にあた
っては、当該試料の有する分子量が数種の単分散ポリス
チレン標準試料により、作製された検量線の分子量の対
数とカウント数が直線となる範囲内に包含される測定条
件を選択する。なお、測定結果の信頼性は、上述の測定
条件で測定したNB5706ポリスチレン標準試料(重
量平均分子量Mw =28.8X10’、数平均分子量
Mn=13.7 xio’、 Mw /Mn =2.1
1)の比MIII/Mnの値が2.11±0.10とな
ることにより確認する。
また、用いるGPCOカラムとしては、前記条件を満足
するものであるならばいかなるカラムを採用してもよい
。具体的には、例えばTSK−GEL、GMH(東洋曹
達社製)等を用いることができる。なお、溶媒および測
定温度は、上記条件に限定されるものではなく、適宜性
の条件に変更してもよい。
するものであるならばいかなるカラムを採用してもよい
。具体的には、例えばTSK−GEL、GMH(東洋曹
達社製)等を用いることができる。なお、溶媒および測
定温度は、上記条件に限定されるものではなく、適宜性
の条件に変更してもよい。
イオン架橋無定形ビニル重合体として、既述のように分
子量分布曲線において少なくとも2つの極大値を有する
ものを好ましく用いることができるが、このようなイオ
ン架橋無定形ビニル重合体を得る方法としては特に限定
されない。例えば分子量極大値の大きい高分子量成分も
しくは分子量極大値の小さい低分子量成分のいずれか一
方を得るための第1段目の重合を行い、これにより得ら
れた一方の成分を、他方の成分を得るための単量体組成
物中に溶解させて第2段目の重合を行い、これにより他
方の成分を生成させることにより、結果として分子量分
布曲線において少なくとも2つの極大値を有する重合体
を得ることができる。
子量分布曲線において少なくとも2つの極大値を有する
ものを好ましく用いることができるが、このようなイオ
ン架橋無定形ビニル重合体を得る方法としては特に限定
されない。例えば分子量極大値の大きい高分子量成分も
しくは分子量極大値の小さい低分子量成分のいずれか一
方を得るための第1段目の重合を行い、これにより得ら
れた一方の成分を、他方の成分を得るための単量体組成
物中に溶解させて第2段目の重合を行い、これにより他
方の成分を生成させることにより、結果として分子量分
布曲線において少なくとも2つの極大値を有する重合体
を得ることができる。
このように2段重合により得られる重合体は、低分子量
成分と高分子量成分とが、分子レベルで均一に混合して
なるものと推定される。この2段重合は、例えば溶液重
合法、懸濁重合法、乳化重合法等の方法により行うこと
ができるが、特に溶液重合法が好ましい。
成分と高分子量成分とが、分子レベルで均一に混合して
なるものと推定される。この2段重合は、例えば溶液重
合法、懸濁重合法、乳化重合法等の方法により行うこと
ができるが、特に溶液重合法が好ましい。
また、分子量分布曲線において少なくとも2つの極大値
を有する重合体は、分子量極大値の小さい低分子量の重
合体成分と、分子量極大値の大きい高分子量の重合体成
分とを混合することによっても得ることができるが、混
合により得られる重合体は、分子レベルにおいては、均
一に混合されていない場合があるので、上記2段重合に
よるのが好ましい。
を有する重合体は、分子量極大値の小さい低分子量の重
合体成分と、分子量極大値の大きい高分子量の重合体成
分とを混合することによっても得ることができるが、混
合により得られる重合体は、分子レベルにおいては、均
一に混合されていない場合があるので、上記2段重合に
よるのが好ましい。
また、低温定着性、耐オフセット性、耐久性のさらなる
向上を図る観点から、イオン架橋無定形ビニル重合体の
ガラス転移点Tgは、50〜100℃が好ましく、特に
50〜85℃が好ましい。ここで、ガラス転移点Tgと
は、示差走査熱量測定法(DSC)に基づいて測定され
た値であり、具体的には例えばrDSC−20J (
セイコー電子工業社製)を用い、昇温速度10℃/m
i nで測定した際に、ガラス転移点以下のベースライ
ンの延長線とピークの立ち上がり部分からピークの頂点
までの間での最大傾斜を示す接線との交点の温度をいう
。
向上を図る観点から、イオン架橋無定形ビニル重合体の
ガラス転移点Tgは、50〜100℃が好ましく、特に
50〜85℃が好ましい。ここで、ガラス転移点Tgと
は、示差走査熱量測定法(DSC)に基づいて測定され
た値であり、具体的には例えばrDSC−20J (
セイコー電子工業社製)を用い、昇温速度10℃/m
i nで測定した際に、ガラス転移点以下のベースライ
ンの延長線とピークの立ち上がり部分からピークの頂点
までの間での最大傾斜を示す接線との交点の温度をいう
。
以上のイオン架橋無定形ビニル重合体とブロック共重合
体またはグラフト共重合体を形成する結晶性ポリエステ
ルは、少なくとも当該ポリエステルの一部に結晶構造を
有しているものであり、ホモポリマーあるいはコポリマ
ーにおいて少なくともl成分が結晶性すなわち部分的に
結晶しているものをも含み、鋭く明瞭な融点を示すもの
であり、融点以下の温度における固体状態においては結
晶化部分による白濁化を示すものである。
体またはグラフト共重合体を形成する結晶性ポリエステ
ルは、少なくとも当該ポリエステルの一部に結晶構造を
有しているものであり、ホモポリマーあるいはコポリマ
ーにおいて少なくともl成分が結晶性すなわち部分的に
結晶しているものをも含み、鋭く明瞭な融点を示すもの
であり、融点以下の温度における固体状態においては結
晶化部分による白濁化を示すものである。
斯かる結晶性ポリエステルとしては、低温定着性、流動
性の観点から特にポリアルキレンポリエステルが好まし
い。具体的には、例えばポリエチレンセバケート、ポリ
エチレンアジペート、ポリエチレンアジペート、ポリエ
チレンサクシネート、ポリエチレン−p−(カルボフェ
ノキシ)ウンデカエート、ポリへキサメチレンセバケ−
ト、ポリへキサメチレンセバケート、ポリへキサメチレ
ンデカンジオエート、ポリオクタメチレンドデカンジオ
エート、ポリノナメチレンアゼレート、ポリデカメチレ
ンアジペート、ポリデカメチレンアゼレート、ポリデカ
メチレンサクシネート、ポリデカメチレンセバケート、
ポリデカメチレンサクシネート、ポリデカメチレンドデ
カンジオエート、ポリデカメチレンオクタデカンジオエ
ート、ポリテトラメチレンセバケート、ポリトリメチレ
ンドデカンジオエート、ポリトリメチレンオクタデカン
ジオエート、ポリトリメチレンオクヂレート、ポリヘキ
サメチレン−デカメチレン−セバケート、ポリオ率シデ
カメチレンー2−メチル−1,3−プロパン−ドデカン
ジオエート等を挙げることができる。
性の観点から特にポリアルキレンポリエステルが好まし
い。具体的には、例えばポリエチレンセバケート、ポリ
エチレンアジペート、ポリエチレンアジペート、ポリエ
チレンサクシネート、ポリエチレン−p−(カルボフェ
ノキシ)ウンデカエート、ポリへキサメチレンセバケ−
ト、ポリへキサメチレンセバケート、ポリへキサメチレ
ンデカンジオエート、ポリオクタメチレンドデカンジオ
エート、ポリノナメチレンアゼレート、ポリデカメチレ
ンアジペート、ポリデカメチレンアゼレート、ポリデカ
メチレンサクシネート、ポリデカメチレンセバケート、
ポリデカメチレンサクシネート、ポリデカメチレンドデ
カンジオエート、ポリデカメチレンオクタデカンジオエ
ート、ポリテトラメチレンセバケート、ポリトリメチレ
ンドデカンジオエート、ポリトリメチレンオクタデカン
ジオエート、ポリトリメチレンオクヂレート、ポリヘキ
サメチレン−デカメチレン−セバケート、ポリオ率シデ
カメチレンー2−メチル−1,3−プロパン−ドデカン
ジオエート等を挙げることができる。
結晶性ポリエステルの融点Tmは、50〜120℃、特
に50〜100℃が好ましい。融点Tmが過小のときに
は耐ブロッキング性が悪化しやすく、また融点Tmが過
大のときには低温定着性が悪化しやすい。なお、この結
晶性ポリエステルの融点Tmは、イオン架橋無定形ビニ
ル重合体と結合されていない状態で測定されたものであ
る。なお、融点Tmとは、示差走査熱量測定法(DSC
)に従い、試料10mgを一定の昇温速度(10℃/m
1n)で加熱したときの融解ピーク値をいう。
に50〜100℃が好ましい。融点Tmが過小のときに
は耐ブロッキング性が悪化しやすく、また融点Tmが過
大のときには低温定着性が悪化しやすい。なお、この結
晶性ポリエステルの融点Tmは、イオン架橋無定形ビニ
ル重合体と結合されていない状態で測定されたものであ
る。なお、融点Tmとは、示差走査熱量測定法(DSC
)に従い、試料10mgを一定の昇温速度(10℃/m
1n)で加熱したときの融解ピーク値をいう。
また、結晶性ポリエステルとしては、その重量平均分子
量Mwが5.000〜50.000、数平均分子量Mn
が2.000〜20.000のものが好ましい。
量Mwが5.000〜50.000、数平均分子量Mn
が2.000〜20.000のものが好ましい。
結晶性ポリエステルの割合は、ブロック共重合体もしく
はグラフト共重合体において、3〜50重量%、特に5
〜40重量%が好ましい。結晶性ポリエステルの割合が
過小のときには低温定着性が悪化しやすく、逆に過大の
ときには耐オフセット性が悪化しやすい。
はグラフト共重合体において、3〜50重量%、特に5
〜40重量%が好ましい。結晶性ポリエステルの割合が
過小のときには低温定着性が悪化しやすく、逆に過大の
ときには耐オフセット性が悪化しやすい。
結晶性ポリエステルとイオン架橋無定形ビニル重合体と
は実質上非相溶であることが好ましい。
は実質上非相溶であることが好ましい。
なお、実質上非相溶とは、結晶性ポリエステルとイオン
架橋無定形ビニル重合体とが十分には分散しないことを
いい、具体的には例えばフエドースの方法によるS、
P、値(R,F、Fedors、 Polym。
架橋無定形ビニル重合体とが十分には分散しないことを
いい、具体的には例えばフエドースの方法によるS、
P、値(R,F、Fedors、 Polym。
Eng、 Sci、、 14. (2) 147 (
1974)]の差が0.5より、大きいことをいう。
1974)]の差が0.5より、大きいことをいう。
結晶性ポリエステルとイオン架橋無定形ビニル重合体と
を化学的に結合してなるブロック共重合体もしくはグラ
フト共重合体を得るためには、例えば末端官能基間のカ
ップリング反応により頭−尾様式で互いに直接に結合さ
せ、あるいは末端官能基と二官能性カップリング剤によ
って結合することができる。例えば末端基が水酸基であ
る重合体とジイソシアネートとの反応により形成される
ウレタン結合、末端基が水酸基である重合体とジカルボ
ン酸との反応または末端基がカルボキシル基である重合
体とグリコールとの反応により形成されるエステル結合
、末端基が水酸基である重合体とホスゲン、ジクロルジ
メチルシランとの反応によって形成される他の結合等に
よって結合することができる。
を化学的に結合してなるブロック共重合体もしくはグラ
フト共重合体を得るためには、例えば末端官能基間のカ
ップリング反応により頭−尾様式で互いに直接に結合さ
せ、あるいは末端官能基と二官能性カップリング剤によ
って結合することができる。例えば末端基が水酸基であ
る重合体とジイソシアネートとの反応により形成される
ウレタン結合、末端基が水酸基である重合体とジカルボ
ン酸との反応または末端基がカルボキシル基である重合
体とグリコールとの反応により形成されるエステル結合
、末端基が水酸基である重合体とホスゲン、ジクロルジ
メチルシランとの反応によって形成される他の結合等に
よって結合することができる。
斯かるカップリング剤としては、例えばヘキサメチレン
ジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート
、トリレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネー
ト、ナフチレンジイソシアネート、インホロンジイソシ
アネート、キシリレンジイソシアネート等の二官能性イ
ンシアネート:例えばエチレンジアミノ、ヘキサメチレ
ンジアミノ、フェニレンジアミノ等の二官能性アミノ;
例えばシュウ酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、
テレフタル酸、イソフタル酸等の二官能性カルボン酸;
例えばエチレングリコーノペプロピレングリコール、ブ
タンジオール、ベンタンジオール、ヘキサンジオール、
シクロヘキサンジメタツール、p−キシリレングリコー
ル等の二官能性アルコール;例えばテレフタル酸クロリ
ド、イソフタル酸クロリド、アジピン酸クロリド、セバ
シン酸クロリド等の二官能性酸塩化物;例えばジイソチ
オシアナート、ビスケテン、ビスカルボジイミド等の他
の二官能性カップリング剤等を挙げることができる。
ジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート
、トリレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネー
ト、ナフチレンジイソシアネート、インホロンジイソシ
アネート、キシリレンジイソシアネート等の二官能性イ
ンシアネート:例えばエチレンジアミノ、ヘキサメチレ
ンジアミノ、フェニレンジアミノ等の二官能性アミノ;
例えばシュウ酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、
テレフタル酸、イソフタル酸等の二官能性カルボン酸;
例えばエチレングリコーノペプロピレングリコール、ブ
タンジオール、ベンタンジオール、ヘキサンジオール、
シクロヘキサンジメタツール、p−キシリレングリコー
ル等の二官能性アルコール;例えばテレフタル酸クロリ
ド、イソフタル酸クロリド、アジピン酸クロリド、セバ
シン酸クロリド等の二官能性酸塩化物;例えばジイソチ
オシアナート、ビスケテン、ビスカルボジイミド等の他
の二官能性カップリング剤等を挙げることができる。
カップリング剤は、結晶性ポリエステルと、イオン架橋
無定形ビニル重合体との合計量に対して、1〜10重量
%、特に2〜7重量%の割合で使用することが好ましい
。カップリング剤の割合が過大のときには得られるブロ
ック共重合体もしくはグラフト共重合体の軟化点が高く
なりすぎて低温定着性が悪化しやすく、逆に過小のとき
には耐オフセット性が悪化しやすい。
無定形ビニル重合体との合計量に対して、1〜10重量
%、特に2〜7重量%の割合で使用することが好ましい
。カップリング剤の割合が過大のときには得られるブロ
ック共重合体もしくはグラフト共重合体の軟化点が高く
なりすぎて低温定着性が悪化しやすく、逆に過小のとき
には耐オフセット性が悪化しやすい。
本発明においては、以上の如き特定のブロック共重合体
またはグラフト共重合体をトナー用樹脂として用いるが
、必要に応じてその他の樹脂を併用してもよい。しかし
、上記ブロック共重合体またはグラフト共重合体のトナ
ーにおける割合が、30重量%以上であることが好まし
い。
またはグラフト共重合体をトナー用樹脂として用いるが
、必要に応じてその他の樹脂を併用してもよい。しかし
、上記ブロック共重合体またはグラフト共重合体のトナ
ーにおける割合が、30重量%以上であることが好まし
い。
トナーには、必要に応じて種々の添加剤が含有されてい
てもよい。斯かる添加剤としては、例えば着色剤、荷電
制御剤、定着性向上剤等がある。
てもよい。斯かる添加剤としては、例えば着色剤、荷電
制御剤、定着性向上剤等がある。
着色剤としては、例えばカーボンブラック、ニグロシン
染料、アニリンブルー、カルコオイルブルー、クロムイ
エロー、ウルトラマリンブルー、デュポンオイルレッド
、キノリンイエロー、メチレンブルークロライド、フタ
ロシアニンブルー、マラカイトグリーンオフサレート、
ランプブラック、ローズベンガル、これらの混合物、そ
の他を挙げることができる。
染料、アニリンブルー、カルコオイルブルー、クロムイ
エロー、ウルトラマリンブルー、デュポンオイルレッド
、キノリンイエロー、メチレンブルークロライド、フタ
ロシアニンブルー、マラカイトグリーンオフサレート、
ランプブラック、ローズベンガル、これらの混合物、そ
の他を挙げることができる。
荷電制御剤としては、例えば金属錯体系染料、ニグロシ
ン系染料、アンモニウム系化合物等を挙げるごとができ
る。
ン系染料、アンモニウム系化合物等を挙げるごとができ
る。
定着性向上剤としては、ポリオレフィン、脂肪酸金属塩
、脂肪酸エステル環よび脂肪酸エステル系ワックス、部
分ケン化脂肪酸エステル、高級脂肪酸、高級アルコール
、流動または固形のパラフィン系ワックス、ポリアミド
系ワックス、多価アルコールエステノペシリコーンフェ
ス、脂肪族フロロカーボン等を挙げることができる。特
に、環球法(JIS K 2531) による軟化点が
60〜150℃のワックスが好ましい。
、脂肪酸エステル環よび脂肪酸エステル系ワックス、部
分ケン化脂肪酸エステル、高級脂肪酸、高級アルコール
、流動または固形のパラフィン系ワックス、ポリアミド
系ワックス、多価アルコールエステノペシリコーンフェ
ス、脂肪族フロロカーボン等を挙げることができる。特
に、環球法(JIS K 2531) による軟化点が
60〜150℃のワックスが好ましい。
また、トナーには、さらに流動性向上剤あるいは研磨剤
として無機微粒子が添加混合されていてもよい。斯かる
無機微粒子の一次粒子(個々の単位粒子に分離した状態
の粒子)の平均径は5肩μ〜2μ贋が好ましく、特に5
屑U〜500屑μが好ましい。
として無機微粒子が添加混合されていてもよい。斯かる
無機微粒子の一次粒子(個々の単位粒子に分離した状態
の粒子)の平均径は5肩μ〜2μ贋が好ましく、特に5
屑U〜500屑μが好ましい。
また、BET法による比表面積は20〜500 m2/
gが好ましい。無機微粒子のトナーに対する添加割合
は0.01〜5重量%が好ましく、特に0.01〜2.
0重量%が好ましい。
gが好ましい。無機微粒子のトナーに対する添加割合
は0.01〜5重量%が好ましく、特に0.01〜2.
0重量%が好ましい。
無機微粒子の具体例としては、例えばシリカ、アルミナ
、酸化チタン、チタン酸バリウム、チタン酸マグネシウ
ム、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、酸
化亜鉛、ケイ砂、クレー、雲母、ケイ灰石、ケイソウ土
、酸化クロム、酸化セリウム、ベンガラ、三酸化アンチ
モン、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、硫酸バリ
ウム、炭酸バリウム、炭酸カルシウム、炭化ケイ素、窒
化ケイ素等を挙げることができる。特にシリカ微粉末が
好ましい。
、酸化チタン、チタン酸バリウム、チタン酸マグネシウ
ム、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、酸
化亜鉛、ケイ砂、クレー、雲母、ケイ灰石、ケイソウ土
、酸化クロム、酸化セリウム、ベンガラ、三酸化アンチ
モン、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、硫酸バリ
ウム、炭酸バリウム、炭酸カルシウム、炭化ケイ素、窒
化ケイ素等を挙げることができる。特にシリカ微粉末が
好ましい。
このシリカ微粉末は、5i−0−3i結合を有する微粉
末であり、乾式法または湿式法で製造されたものが含ま
れる。また、無水二酸化ケイ素のほか、ケイ酸アルミニ
ウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸マグ
ネシウム、ケイ酸亜鉛等であってもよいが、5uchを
85重量%以上含むものが好ましい。シリカの微粉末の
具体例としては、表面に疎水性基を有するものが好まし
く、例エバ「アエロジルR−9724、’アエロブルR
−974」、「アエロジルR−805J、「アエロジル
R−812J (以上、日本アエロジル社製)、「タ
ラノックス500J (タルコ社製)等の市販品を好
ましく用いることができる。また、これらのほか、シラ
ン系カップリング剤、チタン系カップリング剤、シリコ
ーンオイノペ側鎖にアミノを有するシリコーンオイル等
により表面処理されたシリカ微粉末等を用いることもで
きる。
末であり、乾式法または湿式法で製造されたものが含ま
れる。また、無水二酸化ケイ素のほか、ケイ酸アルミニ
ウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸マグ
ネシウム、ケイ酸亜鉛等であってもよいが、5uchを
85重量%以上含むものが好ましい。シリカの微粉末の
具体例としては、表面に疎水性基を有するものが好まし
く、例エバ「アエロジルR−9724、’アエロブルR
−974」、「アエロジルR−805J、「アエロジル
R−812J (以上、日本アエロジル社製)、「タ
ラノックス500J (タルコ社製)等の市販品を好
ましく用いることができる。また、これらのほか、シラ
ン系カップリング剤、チタン系カップリング剤、シリコ
ーンオイノペ側鎖にアミノを有するシリコーンオイル等
により表面処理されたシリカ微粉末等を用いることもで
きる。
また、トナーにはさらにクリーニング性向上剤が添加混
合されていてもよい。斯かるクリーニング性向上剤とし
ては、例えばステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウ
ム、ステアリン酸等脂肪酸金属塩、例えばメチルメタク
リレート微粒子、スチレン微粒子等のポリマー微粒子等
を挙げることができる。
合されていてもよい。斯かるクリーニング性向上剤とし
ては、例えばステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウ
ム、ステアリン酸等脂肪酸金属塩、例えばメチルメタク
リレート微粒子、スチレン微粒子等のポリマー微粒子等
を挙げることができる。
また、磁性トナーを得る場合には、磁性体の微粒子がト
ナー粒子中に含有される。trかる磁性体としては、鉄
、フェライト、マグネタイトをはじめとする鉄、ニッケ
ノペコバルト等の強磁性を示す金属もしくは合金または
これらの元素を含む化合物、強磁性元素を含まないが適
当な熱処理を施すことによって強磁性を示すようになる
合金、例エバマンガン−銅−アルミニウム、マンガン−
銅−錫等のマンガンと銅とを含むホイスラー合金と呼ば
れる種類の合金、二酸化クロム、その他を挙げることが
できる。磁性体は、平均粒径が0.1〜1μ屑の微粉末
の形態で均一に分散されて含有されることが好ましい。
ナー粒子中に含有される。trかる磁性体としては、鉄
、フェライト、マグネタイトをはじめとする鉄、ニッケ
ノペコバルト等の強磁性を示す金属もしくは合金または
これらの元素を含む化合物、強磁性元素を含まないが適
当な熱処理を施すことによって強磁性を示すようになる
合金、例エバマンガン−銅−アルミニウム、マンガン−
銅−錫等のマンガンと銅とを含むホイスラー合金と呼ば
れる種類の合金、二酸化クロム、その他を挙げることが
できる。磁性体は、平均粒径が0.1〜1μ屑の微粉末
の形態で均一に分散されて含有されることが好ましい。
そして磁性体の含有割合は、トナーの10〜70重量%
が好ましく、特に20〜50重量%が好ましい。
が好ましく、特に20〜50重量%が好ましい。
以上の如きトナーは例えば次のようにして製造すること
ができる。すなわち、トナー用樹脂あるいはさらに必要
に応じて添加剤を添加したものを、例えばエクストルー
ダーにより溶融混練し、冷却後ジェットミル等により微
粉砕し、これを分級して、所定の粒径のトナーを製造す
ることができる。
ができる。すなわち、トナー用樹脂あるいはさらに必要
に応じて添加剤を添加したものを、例えばエクストルー
ダーにより溶融混練し、冷却後ジェットミル等により微
粉砕し、これを分級して、所定の粒径のトナーを製造す
ることができる。
あるいはエクストルーダーにより溶融混練したものを溶
融状態のままスプレードライヤー等により噴霧もしくは
液体中に分散させることにより所定の粒径のトナーを製
造することができる。
融状態のままスプレードライヤー等により噴霧もしくは
液体中に分散させることにより所定の粒径のトナーを製
造することができる。
二成分現像剤とする場合においては、トナーと、キャリ
アとが混合されて現像剤が構成される。斯かるキャリア
としては特に閑定されず従来公知のキャリアを用いるこ
とができる。具体的には、磁性体粒子のみにより構成さ
れた非被覆キャリア、磁性体粒子の表面が樹脂により被
覆されてなる樹脂被覆キャリア、樹脂粒子中に磁性体粒
子が分散含有されてなる磁性体分散型キャリア等を用い
ることができる。キャリアの平均粒径は、20〜200
t1Mが好ましく、特に30〜15(l usが好まし
い。ここで、キャリアの平均粒径(重量)は、「マイク
ロトラック」 (日機装社製)を用いて測定された値で
ある。
アとが混合されて現像剤が構成される。斯かるキャリア
としては特に閑定されず従来公知のキャリアを用いるこ
とができる。具体的には、磁性体粒子のみにより構成さ
れた非被覆キャリア、磁性体粒子の表面が樹脂により被
覆されてなる樹脂被覆キャリア、樹脂粒子中に磁性体粒
子が分散含有されてなる磁性体分散型キャリア等を用い
ることができる。キャリアの平均粒径は、20〜200
t1Mが好ましく、特に30〜15(l usが好まし
い。ここで、キャリアの平均粒径(重量)は、「マイク
ロトラック」 (日機装社製)を用いて測定された値で
ある。
キャリアに用いられる磁性体微粒子としては、例えば鉄
、ニッケル、コバルト等の強磁性金属、これらの金属を
含む合金、フェライト、マグネタイト等の強磁性金属の
化合物、強磁性元素を含まないが適当に熱処理すること
によって強磁性を示すようになる合金、例えばマンガン
−銅−アルミニウム、マンガン−銅−錫等のホイスラー
合金と呼ばれる種類の合金または二酸化クロム等の微粒
子を挙げることができる。
、ニッケル、コバルト等の強磁性金属、これらの金属を
含む合金、フェライト、マグネタイト等の強磁性金属の
化合物、強磁性元素を含まないが適当に熱処理すること
によって強磁性を示すようになる合金、例えばマンガン
−銅−アルミニウム、マンガン−銅−錫等のホイスラー
合金と呼ばれる種類の合金または二酸化クロム等の微粒
子を挙げることができる。
樹脂被覆キャリアに用いられる樹脂としては、例えばフ
ッ化ビニリデン−四フッ化エチレン共重合体、テトラフ
ルオロエチレン、メチルメタクリレート−メタクリル?
112−1.1−ジヒドロキシパーフルオロエチル共重
合体、スチレン−メタクリル酸−1,1,3−)ジヒド
ロキシバーフルオロ−n−プロピル共重合体等のフッ素
系樹脂;例えばポリスチレン、スチレン−メチルメタク
リレート共重合体、スチレン−n−ブチルアクリレート
共重合体、スチレン−2−エチルヘキシル共重合体、ポ
リメチルメタクリレート、スチレンーブクジエン共重合
体等のビニル系樹脂;例えばシランカップリング剤、シ
リコーンオイル、シリコーンオイル、シリコーンゴム、
シリコーン樹脂、もしくはこれらの硬化物等のシリコー
ン系化合物;等を挙げることができる。以上の物質は単
独で用いてもよいし、あるいは複数種のものを適宜組合
せて用いてもよい。
ッ化ビニリデン−四フッ化エチレン共重合体、テトラフ
ルオロエチレン、メチルメタクリレート−メタクリル?
112−1.1−ジヒドロキシパーフルオロエチル共重
合体、スチレン−メタクリル酸−1,1,3−)ジヒド
ロキシバーフルオロ−n−プロピル共重合体等のフッ素
系樹脂;例えばポリスチレン、スチレン−メチルメタク
リレート共重合体、スチレン−n−ブチルアクリレート
共重合体、スチレン−2−エチルヘキシル共重合体、ポ
リメチルメタクリレート、スチレンーブクジエン共重合
体等のビニル系樹脂;例えばシランカップリング剤、シ
リコーンオイル、シリコーンオイル、シリコーンゴム、
シリコーン樹脂、もしくはこれらの硬化物等のシリコー
ン系化合物;等を挙げることができる。以上の物質は単
独で用いてもよいし、あるいは複数種のものを適宜組合
せて用いてもよい。
本発明においては、上記のトナーを用いて、有機潜像担
持体の表面に形成された負の静電潜像を現像して、画像
を形成する。
持体の表面に形成された負の静電潜像を現像して、画像
を形成する。
有機潜像担持体は、通常、有機化合物よりなる光導電性
半導体を含有してなる感光層を、導電性支持体上に積層
して構成される。当該感光層は、有機化合物よりなる光
導電性半導体を樹脂よりなるバインダー中に分散含有さ
せて構成することが好ましい。
半導体を含有してなる感光層を、導電性支持体上に積層
して構成される。当該感光層は、有機化合物よりなる光
導電性半導体を樹脂よりなるバインダー中に分散含有さ
せて構成することが好ましい。
当該感光層としては、可視光を吸収して荷電キャリアを
発生するキャリア発生物質を含有してなるキャリア発生
層と、このキャリア発生層において発生した正または負
のキャリアのいずれか一方または両方を輸送するキャリ
ア輸送物質を含有してなるキャリア輸送層とを組合せて
構成された、いわゆる機能分離型の感光層を用いること
が好ましい。このように、キャリアの発生と、その輸送
という感光層において必要な2つの基本的機能を別個の
層に分担させることにより、感光層の構成に用い得る物
質の選択範囲が広範となるうえ、各機能を最適に果たす
物質または物質系を独立に選定することが可能となり、
またそうすることによリ、画像形成プロセスにおいて要
求される諸特住、例えば帯電させたときの表面電位が高
く、電荷保持能が大きく、光感度が高く、また反復使用
における安定性が大きい等の優れた特性を有する有機潜
像担持体を構成することが可能となる。
発生するキャリア発生物質を含有してなるキャリア発生
層と、このキャリア発生層において発生した正または負
のキャリアのいずれか一方または両方を輸送するキャリ
ア輸送物質を含有してなるキャリア輸送層とを組合せて
構成された、いわゆる機能分離型の感光層を用いること
が好ましい。このように、キャリアの発生と、その輸送
という感光層において必要な2つの基本的機能を別個の
層に分担させることにより、感光層の構成に用い得る物
質の選択範囲が広範となるうえ、各機能を最適に果たす
物質または物質系を独立に選定することが可能となり、
またそうすることによリ、画像形成プロセスにおいて要
求される諸特住、例えば帯電させたときの表面電位が高
く、電荷保持能が大きく、光感度が高く、また反復使用
における安定性が大きい等の優れた特性を有する有機潜
像担持体を構成することが可能となる。
感光層におけるキャリア発生物質としては、例えばアン
スアンスロン系顔料、ペリレン誘導体、フタロシアニン
系顔料、ビスアゾ系顔料、インジゴイド系色素等を用い
ることができる。またキャリア輸送物質としては、例え
ばカルバゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、トリ
アリールアミノ誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、
ヒドラゾン誘導体、ピラゾリン誘導体、スチルベン誘導
体、スチリルトリアリールアミノ誘導体等を用いること
ができる。キャリア発生層の厚さは、通常0、旧〜2J
nRであることが好ましく、またキャリア輸送層の厚さ
は、通常1〜30μ清であることが好ましい。
スアンスロン系顔料、ペリレン誘導体、フタロシアニン
系顔料、ビスアゾ系顔料、インジゴイド系色素等を用い
ることができる。またキャリア輸送物質としては、例え
ばカルバゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、トリ
アリールアミノ誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、
ヒドラゾン誘導体、ピラゾリン誘導体、スチルベン誘導
体、スチリルトリアリールアミノ誘導体等を用いること
ができる。キャリア発生層の厚さは、通常0、旧〜2J
nRであることが好ましく、またキャリア輸送層の厚さ
は、通常1〜30μ清であることが好ましい。
有機化合物よりなる光導電性半導体を樹脂よりなるバイ
ンダー中に分散含有させて感光層を構成する場合におい
て、当該バインダーとして用いることができる樹脂とし
ては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル
樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹
脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂
、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、シリコーン樹脂、メラミン樹脂等の付加重合型
樹脂、重付加型樹脂、重縮合型樹脂、ならびにこれらの
樹脂の繰り返し単位のうちの2つ以上を含む共重合体樹
脂、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化
ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体樹脂、ス
チレン−アクリル共重合体樹脂等の絶縁性樹脂、あるい
はポIJ N−ビニルカルバゾール等の高分子有機半
導体等を挙げることができる。
ンダー中に分散含有させて感光層を構成する場合におい
て、当該バインダーとして用いることができる樹脂とし
ては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル
樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹
脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂
、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、シリコーン樹脂、メラミン樹脂等の付加重合型
樹脂、重付加型樹脂、重縮合型樹脂、ならびにこれらの
樹脂の繰り返し単位のうちの2つ以上を含む共重合体樹
脂、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化
ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体樹脂、ス
チレン−アクリル共重合体樹脂等の絶縁性樹脂、あるい
はポIJ N−ビニルカルバゾール等の高分子有機半
導体等を挙げることができる。
有機潜像担持体において、導電性支持体としては、例え
ばアルミニウム、ニッケル、銅、亜鉛、パラジウム、銀
、インジウム、スズ、白金、金、ステンレス、鋼、真鍮
等よりなる金属製シートを用いることができる。
ばアルミニウム、ニッケル、銅、亜鉛、パラジウム、銀
、インジウム、スズ、白金、金、ステンレス、鋼、真鍮
等よりなる金属製シートを用いることができる。
有機潜像担持体の具体的構成としては、特に限定されず
、種々の構成を採用することができる。
、種々の構成を採用することができる。
また帯電させたときの表面電位が、例えば−400〜−
1000Vとなるような有機潜像担持体を特に好ましく
用いることができる。
1000Vとなるような有機潜像担持体を特に好ましく
用いることができる。
定着工程においては、加熱ローラ定着方式を好ましく採
用することができる。加熱ローラ定着方式において用い
られる加熱ローラ定着器は、通常、加熱ローラと、これ
に対接配置された圧着ローラと、加熱源とにより構成さ
れる。また必要に応じてクリーニング用ローラが加熱ロ
ーラに対接配置される。加熱源により加熱ローラの温度
を一定範囲の温度に維持しながら、加熱ローラと圧着ロ
ーラとの間をトナーが転写された記録材を通過させるこ
とにより、トナーを直接加熱ローラに接触させて当該ト
ナーを記録材に熱定着する。なお、加熱ローラの表面の
材質はフッ素系物質もしくはシリコーン系物質であるこ
とが好ましく、上記特定のトナーとの相乗効果により加
熱ローラ定着器の耐久性を著しく向上することができる
。
用することができる。加熱ローラ定着方式において用い
られる加熱ローラ定着器は、通常、加熱ローラと、これ
に対接配置された圧着ローラと、加熱源とにより構成さ
れる。また必要に応じてクリーニング用ローラが加熱ロ
ーラに対接配置される。加熱源により加熱ローラの温度
を一定範囲の温度に維持しながら、加熱ローラと圧着ロ
ーラとの間をトナーが転写された記録材を通過させるこ
とにより、トナーを直接加熱ローラに接触させて当該ト
ナーを記録材に熱定着する。なお、加熱ローラの表面の
材質はフッ素系物質もしくはシリコーン系物質であるこ
とが好ましく、上記特定のトナーとの相乗効果により加
熱ローラ定着器の耐久性を著しく向上することができる
。
以下、本発明の実施例を具体的に説明するが、本発明が
これらの実施例に限定されるものではない。
これらの実施例に限定されるものではない。
く結晶性ポリエステルの製造〉
(1)結晶性ポリエステル1
セバシン酸1500 g ト、ヘキサメチレングリコー
ル964gとを、温度計、ステンレススチール製撹拌器
、ガラス製窒素導入管および流下式コンデンサーを備え
た容量5βの丸底フラスコに入れ、次いでこのフラスコ
をマントルヒーターにセットし、ガラス製窒素導入管よ
り窒素ガスを導入して反応器内を不活性雲囲気に保った
状態で昇温させた。
ル964gとを、温度計、ステンレススチール製撹拌器
、ガラス製窒素導入管および流下式コンデンサーを備え
た容量5βの丸底フラスコに入れ、次いでこのフラスコ
をマントルヒーターにセットし、ガラス製窒素導入管よ
り窒素ガスを導入して反応器内を不活性雲囲気に保った
状態で昇温させた。
そして13.2 gのp−)ルエンスルホン酸を加えて
温度150℃で反応させた。留出した水の量が250一
に達した時に反応を停止させ、反応系を室温に冷却して
分子末端に水酸基を有するポリへキサメチレンセバケー
トよりなる結晶性ポリエステル1を製造した。
温度150℃で反応させた。留出した水の量が250一
に達した時に反応を停止させ、反応系を室温に冷却して
分子末端に水酸基を有するポリへキサメチレンセバケー
トよりなる結晶性ポリエステル1を製造した。
この結晶性ポリエステル1の融点Tmは64℃、重量平
均分子量Mwは14.000である。
均分子量Mwは14.000である。
(2)結晶性ポリエステル2
結晶性ポリエステル1と同様にして、融点Tmが72℃
、重量平均分子量Mwが12.800のポリエチレンセ
バケートよりなる結晶性ポリエステル2を製造した。
、重量平均分子量Mwが12.800のポリエチレンセ
バケートよりなる結晶性ポリエステル2を製造した。
(3)結晶性ポリエステル3
結晶性ポリエステル1と同様にして、融点Tmが92℃
、重量平均分子量Mwが14.800のポリエチレンサ
クシネートよりなる結晶性ポリエステル3を製造した。
、重量平均分子量Mwが14.800のポリエチレンサ
クシネートよりなる結晶性ポリエステル3を製造した。
〈無定形ビニル重合体の製造〉
(1)無定形ビニル重合体1
gulfのセパラブルフラスコにトルエン100重量部
を入れ、その中に、高分子量成分用単量体として、スチ
レン75重量部と、n−ブチルアクリレート25重量部
と、過酸化ベンゾイル0.2重量部とを加えて懸濁分散
し、フラスコ内の気相を窒素ガスによって置換した後、
温度80℃に昇温しで当該温度に15時間保って第1段
重合を行なった。なお、当該高分子量成分用単量体の単
独重合体における重量平均分子量Mwは461.000
、ガラス転移点Tgは61℃である。
を入れ、その中に、高分子量成分用単量体として、スチ
レン75重量部と、n−ブチルアクリレート25重量部
と、過酸化ベンゾイル0.2重量部とを加えて懸濁分散
し、フラスコ内の気相を窒素ガスによって置換した後、
温度80℃に昇温しで当該温度に15時間保って第1段
重合を行なった。なお、当該高分子量成分用単量体の単
独重合体における重量平均分子量Mwは461.000
、ガラス転移点Tgは61℃である。
その後、フラスコ内を温度40℃に冷却して、その中に
、低分子量成分用単量体として、スチレン85重量部と
、n−ブチルメタクリレート10重量部と、アクリル酸
5重量部と、過酸化ベンゾイル4重量部とを加えて、温
度40℃において2時間撹拌を続けた後、温度を80℃
に再昇温してその温度に8時間保って第2段重合を行な
った。なお、当該低分子量成分用単量体の単独重合体に
おける重量平均分子fiMwは8.200、ガラス転移
点Tgは64℃である。
、低分子量成分用単量体として、スチレン85重量部と
、n−ブチルメタクリレート10重量部と、アクリル酸
5重量部と、過酸化ベンゾイル4重量部とを加えて、温
度40℃において2時間撹拌を続けた後、温度を80℃
に再昇温してその温度に8時間保って第2段重合を行な
った。なお、当該低分子量成分用単量体の単独重合体に
おける重量平均分子fiMwは8.200、ガラス転移
点Tgは64℃である。
次に、フラスコ内に、多価金属化合物である酸化亜鉛0
,5gを添加し、還流温度に保持して撹拌しながら2時
間にわたり反応を行なった。
,5gを添加し、還流温度に保持して撹拌しながら2時
間にわたり反応を行なった。
その後、反応系を冷却して固形物を分離し、脱水および
洗浄を繰り返した後、乾燥して、ビニル重合体のカルボ
キシル基に酸化亜鉛が反応してイオン架橋結合が形成さ
れてなる無定形ビニル重合体1を製造した。なお、この
無定形ビニル重合体1は結晶性ポリエステルとの結合用
の官能基としてカルボキシル基を有するものである。
洗浄を繰り返した後、乾燥して、ビニル重合体のカルボ
キシル基に酸化亜鉛が反応してイオン架橋結合が形成さ
れてなる無定形ビニル重合体1を製造した。なお、この
無定形ビニル重合体1は結晶性ポリエステルとの結合用
の官能基としてカルボキシル基を有するものである。
この無定形ビニル重合体1は、GPCによる分子量分布
においてピークが2つ存在し、高分子量側のピーク分子
量は363.000、低分子量側のピーク分子量は7.
590である。また、重量平均分子量Mwは165.0
00、比Mw/Mnの値は25.9、ガラス転移点Tg
は62℃、軟化点Tspは130℃である。
においてピークが2つ存在し、高分子量側のピーク分子
量は363.000、低分子量側のピーク分子量は7.
590である。また、重量平均分子量Mwは165.0
00、比Mw/Mnの値は25.9、ガラス転移点Tg
は62℃、軟化点Tspは130℃である。
(2)無定形ビニル重合体2
容11j!のセパラブルフラスコにトルエン100重量
部を入れ、その中に、スチレン85重量部と、n−ブチ
ルアクリレート10重量部と、アクリロイルオキシエチ
ルモノサクシネート5重1部と、過酸化ベンゾイル1重
量部とを加えて懸濁分散し、フラスコ内の気相を窒素ガ
スによって置換した後、温度80℃に昇温しで当該温度
に5時間保って重合を行なった。
部を入れ、その中に、スチレン85重量部と、n−ブチ
ルアクリレート10重量部と、アクリロイルオキシエチ
ルモノサクシネート5重1部と、過酸化ベンゾイル1重
量部とを加えて懸濁分散し、フラスコ内の気相を窒素ガ
スによって置換した後、温度80℃に昇温しで当該温度
に5時間保って重合を行なった。
その後、さら1て過酸化ベンゾイル4重量部を添加して
温度80℃で10時間にわたり重合を継続して行なった
。
温度80℃で10時間にわたり重合を継続して行なった
。
次に、フラスコ内に、多価金属化合物である酸化亜鉛0
.5gを添加し、還流温度に保持して撹拌しながら2時
間にわたり反応を行なった。
.5gを添加し、還流温度に保持して撹拌しながら2時
間にわたり反応を行なった。
その後、トルエンをアスピレータおよび真空ポンプによ
り留去して、ビニル重合体のカルボキシル基に酸化亜鉛
が反応してイオン架橋結合が形成されてなる無定形ビニ
ル重合体2を製造した。なお、この無定形ビニル重合体
2は結晶性ポリエステルとの結合用の官能基としてカル
ボキシル基を有するものである。
り留去して、ビニル重合体のカルボキシル基に酸化亜鉛
が反応してイオン架橋結合が形成されてなる無定形ビニ
ル重合体2を製造した。なお、この無定形ビニル重合体
2は結晶性ポリエステルとの結合用の官能基としてカル
ボキシル基を有するものである。
この無定形ビニル重合体2は、GPCによる分子量分布
においてピークが1つであり、重量平均分子量Mwは8
3.000、比Mw/Mnの値は7.5、ガラス転移点
Tgは67℃、軟化点Tspは127℃である。
においてピークが1つであり、重量平均分子量Mwは8
3.000、比Mw/Mnの値は7.5、ガラス転移点
Tgは67℃、軟化点Tspは127℃である。
(3)無定形ビニル重合体3
無定形ビニル重合体1の製造において、高分子量成分用
単量体として、スチレン75重量部と、n−ブチルアク
リレート20重量部と、グリシジルメタフリレート5重
量部と、過酸化ベンゾイル0.2重量部との混合物30
gを用い、低分子量成分用単量体として、スチレン75
重量部と、n−ブチルアクリレート10重量部と、メチ
ルメタクリレ−1重量部と、グリシジルメタクリレート
2.5重量部と、アクリロイルオキシエチルモノサクシ
ネート2.5重量部と、過酸化ベンゾイル4重量部との
混合物100gを用いたほかは同様に処理して、ビニル
重合体のカルボキシル基に酸化亜鉛が反応してイオン架
橋結合が形成されてなる無定形ビニル重合体を製造した
。なお、この無定形ビニル重合体3は結晶性ポリエステ
ルとの結合用の官能基としてエポキシ基を有するもので
ある。
単量体として、スチレン75重量部と、n−ブチルアク
リレート20重量部と、グリシジルメタフリレート5重
量部と、過酸化ベンゾイル0.2重量部との混合物30
gを用い、低分子量成分用単量体として、スチレン75
重量部と、n−ブチルアクリレート10重量部と、メチ
ルメタクリレ−1重量部と、グリシジルメタクリレート
2.5重量部と、アクリロイルオキシエチルモノサクシ
ネート2.5重量部と、過酸化ベンゾイル4重量部との
混合物100gを用いたほかは同様に処理して、ビニル
重合体のカルボキシル基に酸化亜鉛が反応してイオン架
橋結合が形成されてなる無定形ビニル重合体を製造した
。なお、この無定形ビニル重合体3は結晶性ポリエステ
ルとの結合用の官能基としてエポキシ基を有するもので
ある。
この無定形ビニル重合体3は、GPCによる分子量分布
においてピークが2つ存在し、高分子量側のピーク分子
量は473.000、低分子量側のピーク分子量は7.
940である。また、重量平均分子量MWは186.0
00、比My / Mnの値は33.1、ガラス転移点
Tgは62℃、軟化点Tspは136℃である。
においてピークが2つ存在し、高分子量側のピーク分子
量は473.000、低分子量側のピーク分子量は7.
940である。また、重量平均分子量MWは186.0
00、比My / Mnの値は33.1、ガラス転移点
Tgは62℃、軟化点Tspは136℃である。
なあ、上記高分子量成分用単量体の単独重合体における
重量平均分子量Mwは925.000、ガラス転移点T
gは62℃であり、上記低分子量成分用単量体の単独重
合体における重量平均分子量Mwは9.610、ガラス
転移点Tgは63℃である。
重量平均分子量Mwは925.000、ガラス転移点T
gは62℃であり、上記低分子量成分用単量体の単独重
合体における重量平均分子量Mwは9.610、ガラス
転移点Tgは63℃である。
(4)無定形ビニル重合体4 (比較用)上記無定形ビ
ニル重合体1の製造において、酸化亜鉛を添加しないほ
かは同様に処理して、比較用のビニル重合体4を製造し
た。この比較用の無定形ビニル重合体4は、結晶性ポリ
エステルとの結合用の官能基としてカルボキシル基を有
するものである。
ニル重合体1の製造において、酸化亜鉛を添加しないほ
かは同様に処理して、比較用のビニル重合体4を製造し
た。この比較用の無定形ビニル重合体4は、結晶性ポリ
エステルとの結合用の官能基としてカルボキシル基を有
するものである。
この比較用の無定形ビニル重合体4は、GPCによる分
子量分布においてピークが2つ存在し、高分子量側のピ
ーク分子量は355.000、低分子量側のピーク分子
量は6.840である。また、重量平均分子量Mwは1
42.000、比Mw / Mnの値は24.5、ガラ
ス転移点Tgは60℃、軟化点Tspは128.5℃で
ある。
子量分布においてピークが2つ存在し、高分子量側のピ
ーク分子量は355.000、低分子量側のピーク分子
量は6.840である。また、重量平均分子量Mwは1
42.000、比Mw / Mnの値は24.5、ガラ
ス転移点Tgは60℃、軟化点Tspは128.5℃で
ある。
くトナー用樹脂の製造〉
(1)トナー用樹脂A
結晶性ポリエステルIの15重M部と、ビニル重合体1
085重量部と、p−トルエンスルホン酸0.05重量
部と、キシレン100重量部とを、容量3pのセパラブ
ルフラスコ内に入れ、温度150℃で1時間にわたり還
流させ、その後キシレンをアスピレータ−および真空ポ
ンプにより留去して、結晶性ポリエステルとイオン架橋
無定形ビニル重合体とのグラフト共重合体よりなるトナ
ー用樹脂Aを製造した。
085重量部と、p−トルエンスルホン酸0.05重量
部と、キシレン100重量部とを、容量3pのセパラブ
ルフラスコ内に入れ、温度150℃で1時間にわたり還
流させ、その後キシレンをアスピレータ−および真空ポ
ンプにより留去して、結晶性ポリエステルとイオン架橋
無定形ビニル重合体とのグラフト共重合体よりなるトナ
ー用樹脂Aを製造した。
(2)トナー用樹脂B−D
上記トナー用樹脂への製造において、結晶性ポリエステ
ルおよび無定形ビニル重合体を後記第1表に示す組合せ
に変更したほかは同様にして結晶性ポリエステルとイオ
ン架橋無定形ビニル重合体とのグラフト共重合体よりな
る各トナー用樹脂B〜Dを製造した。
ルおよび無定形ビニル重合体を後記第1表に示す組合せ
に変更したほかは同様にして結晶性ポリエステルとイオ
ン架橋無定形ビニル重合体とのグラフト共重合体よりな
る各トナー用樹脂B〜Dを製造した。
(3)トナー用樹脂E(比較用)
上記トナー用樹脂Aの製造において、無定形ビニル重合
体1の代わりに比較用の無定形ビニル重合体4を用いた
ほかは同様にしてグラフト共重合体よりなるトナー用樹
脂Eを製造した。
体1の代わりに比較用の無定形ビニル重合体4を用いた
ほかは同様にしてグラフト共重合体よりなるトナー用樹
脂Eを製造した。
〈トナーの製造〉
(1)トナー1〜4
トナー用樹脂として上記共重合体A−Dのそれぞれ10
0重量部と、カーボンブラック「モーガルLJ (キ
ャボット社製)10重量部と、定着性向上剤「ワックス
EJ (ヘキスト社製)3重量部とを混合し、加熱ロ
ールにより溶融混練し、冷却した後、粗粉砕しさらに超
音速ジェットミルにより微粉砕し、風力分級機により分
級して、粉末を得た。
0重量部と、カーボンブラック「モーガルLJ (キ
ャボット社製)10重量部と、定着性向上剤「ワックス
EJ (ヘキスト社製)3重量部とを混合し、加熱ロ
ールにより溶融混練し、冷却した後、粗粉砕しさらに超
音速ジェットミルにより微粉砕し、風力分級機により分
級して、粉末を得た。
この粉末100重量部に、疎水性シリカ微粉末「アエロ
ジルR−972J (日本アエロジル社製)0.8重
量部をV型混合器により混合して平均粒径11.07z
mの本発明に係るトナー1〜4を製造した。
ジルR−972J (日本アエロジル社製)0.8重
量部をV型混合器により混合して平均粒径11.07z
mの本発明に係るトナー1〜4を製造した。
(2)比較トナー1
トナーlの製造において、トナー用樹脂Aをトナー用樹
脂已に変更したほかは同様にして、平均粒径11.0μ
贋の比較トナー1を製造した。
脂已に変更したほかは同様にして、平均粒径11.0μ
贋の比較トナー1を製造した。
(3)比較トナー2
トナーIの製造において、トナー用樹脂Aを、結晶性ポ
リエステル1015重量部と、ビニル重合体1の85重
量部との単なる混合物に変更したほかは同様にして、平
均粒径11.0μ層の比較トナー2を製造した。
リエステル1015重量部と、ビニル重合体1の85重
量部との単なる混合物に変更したほかは同様にして、平
均粒径11.0μ層の比較トナー2を製造した。
(4)比較トナー3
トナー1の製造において、トナー用樹脂Aを、無定形ビ
ニル重合体1のみに変更したほかは同様にして、平均粒
径11.0μ肩の比較トナー3を製造した。
ニル重合体1のみに変更したほかは同様にして、平均粒
径11.0μ肩の比較トナー3を製造した。
く潜像担持体の製造〉
(1)有機潜像担持体
キャリア発生物質として2,7−ジブロムアンスアンス
ロンを用い、キャリア輸送物質としてスチリルトリフェ
ニルアミノ系化合物を用いて形成された負帯電性2層構
造の感光層を、回転ドラム状のアルミニウム製導電性支
持体上に積層して有機潜像担持体を製造した。
ロンを用い、キャリア輸送物質としてスチリルトリフェ
ニルアミノ系化合物を用いて形成された負帯電性2層構
造の感光層を、回転ドラム状のアルミニウム製導電性支
持体上に積層して有機潜像担持体を製造した。
(2)セレン潜像担持体
セレンよりなる感光層を、回転ドラム状のアルミニウム
製導電性支持体上に積層してセレン潜像担持体を製造し
た。
製導電性支持体上に積層してセレン潜像担持体を製造し
た。
〈実施例1〜4〉
上記有機潜像担持体、二成分現像剤用の現像器、加熱ロ
ーラ定着器を備えた電子写真複写機rU−Bix 15
50J (コニカ@1)改造機により、常温常温環境
条件下(温度20℃、相対湿度60%)において、トナ
ー1〜4の各々と電子写真複写機「U−Bix 155
0J (コニカ側製)用のキャリアとを混合して調製
したトナー濃度が4重量%の各二成分現像剤をそれぞれ
用いて静電潜像の現像を行ない、現像により得られたト
ナー像を64g/ω2の紙よりなる記録材上に転写して
未定着トナー画像を形成した。
ーラ定着器を備えた電子写真複写機rU−Bix 15
50J (コニカ@1)改造機により、常温常温環境
条件下(温度20℃、相対湿度60%)において、トナ
ー1〜4の各々と電子写真複写機「U−Bix 155
0J (コニカ側製)用のキャリアとを混合して調製
したトナー濃度が4重量%の各二成分現像剤をそれぞれ
用いて静電潜像の現像を行ない、現像により得られたト
ナー像を64g/ω2の紙よりなる記録材上に転写して
未定着トナー画像を形成した。
(1)低温定着性の評価テスト
表層がテフロン(ポリテトラフルオロエチレン)よりな
る直径30nonの加熱ローラと、表層がシリコーンゴ
ムrKE−1300RTVJ (信越化学工業社製)
よりなる圧着ローラとを有してなる加熱ローラ定着器に
より、上記未定着トナー画像を、線速度70+nm/秒
、線圧Q、3 kg/c+n、 ニップ幅4.9mmの
条件で定着する操作を、加熱ローラの設定温度を5℃ず
つステップ的に変化させた各温度において繰り返し、得
られた定着トナー画像に対してキムワイブ摺擦を施し、
十分な耐摺擦性を示す定着トナー画像に係る最低の設定
温度(最低定着温度)を測定した。なお、上記加熱ロー
ラ定着器は、シリコーンオイル等の離型剤の塗布機構を
備えていないものである。
る直径30nonの加熱ローラと、表層がシリコーンゴ
ムrKE−1300RTVJ (信越化学工業社製)
よりなる圧着ローラとを有してなる加熱ローラ定着器に
より、上記未定着トナー画像を、線速度70+nm/秒
、線圧Q、3 kg/c+n、 ニップ幅4.9mmの
条件で定着する操作を、加熱ローラの設定温度を5℃ず
つステップ的に変化させた各温度において繰り返し、得
られた定着トナー画像に対してキムワイブ摺擦を施し、
十分な耐摺擦性を示す定着トナー画像に係る最低の設定
温度(最低定着温度)を測定した。なお、上記加熱ロー
ラ定着器は、シリコーンオイル等の離型剤の塗布機構を
備えていないものである。
(2)耐オフセット性の評価テスト
上記低温定着性の評価テストと同様にして定着トナー画
像を形成した直後、白紙の記録材を同様の条件下で加熱
ローラ定着器に送ってこれにトナー汚れが生ずるか否か
を目視により観察する操作を、加熱ローラの各設定温度
において行ない、トナー汚れが生じたときの最低の設定
温度(オフセット発生温度)を測定した。
像を形成した直後、白紙の記録材を同様の条件下で加熱
ローラ定着器に送ってこれにトナー汚れが生ずるか否か
を目視により観察する操作を、加熱ローラの各設定温度
において行ない、トナー汚れが生じたときの最低の設定
温度(オフセット発生温度)を測定した。
(3)保存性の評価テスト
上記トナー1〜4の各2gをサンプル管に採り、タップ
デンサーにより500回タッピングした後、温度55℃
、相対湿度26%の雰囲気下に2時間にわたり放置し、
その後48メツシユの篩により分別し、篩に残留した凝
集物の割合を測定した。
デンサーにより500回タッピングした後、温度55℃
、相対湿度26%の雰囲気下に2時間にわたり放置し、
その後48メツシユの篩により分別し、篩に残留した凝
集物の割合を測定した。
(4)高温高湿環境条件下(温度33℃、相対湿度80
%)のトナー帯電量 上記低温定着性の評価後の各現像剤を、高温高湿環境条
件下(温度33℃、相対湿度80%)に−昼夜放置し、
その直後のトナー帯電量を公知のブローオフ法により測
定した。
%)のトナー帯電量 上記低温定着性の評価後の各現像剤を、高温高湿環境条
件下(温度33℃、相対湿度80%)に−昼夜放置し、
その直後のトナー帯電量を公知のブローオフ法により測
定した。
(5)高温高湿環境条件下(温度33℃、相対湿度80
%)の画質 上記有機潜像担持体、二成分現像剤用の現像器、加熱ロ
ーラ定着器を備えた電子写真複写機rU−8ix 15
50J (コニカ側部)改造機により、高温高温環境
条件下(温度33℃、相対湿度80%)において、上記
各現像剤をそれぞれ用いて複写画像を形成する実写テス
トを行ない、得られた画像の画質を目視で評価した。
%)の画質 上記有機潜像担持体、二成分現像剤用の現像器、加熱ロ
ーラ定着器を備えた電子写真複写機rU−8ix 15
50J (コニカ側部)改造機により、高温高温環境
条件下(温度33℃、相対湿度80%)において、上記
各現像剤をそれぞれ用いて複写画像を形成する実写テス
トを行ない、得られた画像の画質を目視で評価した。
く比較例1〉
トナー1と、電子写真複写機rU −8ix 1600
J(コニカ側部)用のキャリアとを混合して、トナ−濃
度が4重量%の二成分現像剤を調製し、この現像剤を用
い、上記セレン潜像担持体、二成分現像剤用の現像器お
よび加熱ローラ定着器を備えた電子写真複写機rU −
Bix 1600J (コニカ■製)改造機を用いた
ほかは上記実施例と同様にして評価した。
J(コニカ側部)用のキャリアとを混合して、トナ−濃
度が4重量%の二成分現像剤を調製し、この現像剤を用
い、上記セレン潜像担持体、二成分現像剤用の現像器お
よび加熱ローラ定着器を備えた電子写真複写機rU −
Bix 1600J (コニカ■製)改造機を用いた
ほかは上記実施例と同様にして評価した。
く比較例2〜4〉
比較トナー1〜3の各々と電子写真複写機「U−BiX
1550」(コニカ■製)用のキャリアとを混合して
調製したトナー濃度が4重量%の各二成分現像剤をそれ
ぞれ用いたほかは上記実施例と同様にして評価した。
1550」(コニカ■製)用のキャリアとを混合して
調製したトナー濃度が4重量%の各二成分現像剤をそれ
ぞれ用いたほかは上記実施例と同様にして評価した。
以上の結果を第1表に示す。
第1表の結果からも理解されるように、本発明の画像形
成方法によれば、(1)低温定着性、(2)耐オフセッ
ト性、(3)保存性、(4)現像性のすべての点におい
て優れた性能が発揮される。
成方法によれば、(1)低温定着性、(2)耐オフセッ
ト性、(3)保存性、(4)現像性のすべての点におい
て優れた性能が発揮される。
これに対して、比較例1は、潜像担持体がセレン潜像担
持体であるため、画像にハキ目が生じ画質が劣る。
持体であるため、画像にハキ目が生じ画質が劣る。
比較例2は、トナー用樹脂Eを構成する無定形ビニル重
合体がイオン架橋無定形ビニル重合体でないため、保存
性が著しく悪く、そのため耐久性も著しく劣る。
合体がイオン架橋無定形ビニル重合体でないため、保存
性が著しく悪く、そのため耐久性も著しく劣る。
比較例3は、トナー用樹脂が、結晶性ポリニス゛チルと
イオン架橋無定形ビニル重合体との単なる混合物である
ため、低温定着性、耐オフセット性、保存性のいずれの
点においても劣る。
イオン架橋無定形ビニル重合体との単なる混合物である
ため、低温定着性、耐オフセット性、保存性のいずれの
点においても劣る。
比較例4は、トナー用樹脂が、イオン架橋無定形ビニル
重合体のみよりなるため、低温定着性が劣る。
重合体のみよりなるため、低温定着性が劣る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)結晶性ポリエステルとイオン架橋された無定形ビニ
ル重合体とが化学的に結合してなるブロック共重合体ま
たはグラフト共重合体を含有してなるトナーを用い、有
機光導電性半導体よりなる潜像担持体上に形成された静
電潜像を現像することを特徴とする画像形成方法。 2)イオン架橋された無定形ビニル重合体が、カルボキ
シル基を有するビニル重合体の当該カルボキシル基に多
価金属化合物が反応してイオン架橋結合が形成されてな
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の画像
形成方法。 3)イオン架橋された無定形ビニル重合体の数平均分子
量Mnに対する重量平均分子量Mwの比Mw/Mnの値
が3.5以上であることを特徴とする特許請求の範囲第
1項または第2項に記載の画像形成方法。 4)イオン架橋された無定形ビニル重合体における結晶
性ポリエステルと化学的に結合する官能基が、カルボキ
シル基、水酸基、アミノ基またはエポキシ基であること
を特徴とする特許請求の範囲第1項から第3項までのい
ずれか一に記載の画像形成方法。 5)イオン架橋された無定形ビニル重合体は、分子量分
布において少なくとも2つ以上の極大値を有することを
特徴とする特許請求の範囲第1項から第4項までのいず
れか一に記載の画像形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62320156A JPH01163756A (ja) | 1987-12-19 | 1987-12-19 | 画像形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62320156A JPH01163756A (ja) | 1987-12-19 | 1987-12-19 | 画像形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01163756A true JPH01163756A (ja) | 1989-06-28 |
Family
ID=18118331
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62320156A Pending JPH01163756A (ja) | 1987-12-19 | 1987-12-19 | 画像形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01163756A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5017450A (en) * | 1988-06-03 | 1991-05-21 | Dainippon Ink & Chemicals, Inc. | Color toner composition for electrostatic developer |
US6203956B1 (en) | 1999-04-07 | 2001-03-20 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic toner and image-forming method |
US6413691B2 (en) | 2000-04-20 | 2002-07-02 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic toner, process for producing the same, electrophotographic developer, and process for forming image |
US6569592B2 (en) | 2001-07-18 | 2003-05-27 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Image forming method |
JP2007127376A (ja) * | 2005-11-07 | 2007-05-24 | Kurogane Kosakusho Ltd | 風量調節ユニット |
US7455944B2 (en) | 2005-03-25 | 2008-11-25 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Toner for developing electrostatic latent images and manufacturing method thereof, developer for developing electrostatic latent images, image forming method, and method for manufacturing dispersion of resin particles |
US7498113B2 (en) | 2005-04-22 | 2009-03-03 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Toner for developing electrostatic image, production method thereof, resin particle dispersion, and electrostatic image developer |
-
1987
- 1987-12-19 JP JP62320156A patent/JPH01163756A/ja active Pending
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