JPH0284326A - フレキシブル銅張り積層板 - Google Patents
フレキシブル銅張り積層板Info
- Publication number
- JPH0284326A JPH0284326A JP23484588A JP23484588A JPH0284326A JP H0284326 A JPH0284326 A JP H0284326A JP 23484588 A JP23484588 A JP 23484588A JP 23484588 A JP23484588 A JP 23484588A JP H0284326 A JPH0284326 A JP H0284326A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heat
- resistant polymer
- layer
- copper foil
- polymer film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 34
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 title abstract description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 title abstract description 5
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 claims abstract description 29
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 claims abstract description 27
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- YOCUPQPZWBBYIX-UHFFFAOYSA-N copper nickel Chemical compound [Ni].[Cu] YOCUPQPZWBBYIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 29
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 abstract description 15
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract description 12
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 abstract description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 10
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 abstract description 7
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 abstract description 5
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 5
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 abstract description 5
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 abstract description 3
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 abstract 3
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 abstract 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 17
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 17
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 16
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 14
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 8
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 6
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 3
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 3
- NDKWCCLKSWNDBG-UHFFFAOYSA-N zinc;dioxido(dioxo)chromium Chemical compound [Zn+2].[O-][Cr]([O-])(=O)=O NDKWCCLKSWNDBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 2
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004693 Polybenzimidazole Substances 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- FDQSRULYDNDXQB-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3-dicarbonyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC(C(Cl)=O)=C1 FDQSRULYDNDXQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000006159 dianhydride group Chemical group 0.000 description 1
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical compound NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920002480 polybenzimidazole Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000009824 pressure lamination Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000002335 surface treatment layer Substances 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- LXEJRKJRKIFVNY-UHFFFAOYSA-N terephthaloyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=C(C(Cl)=O)C=C1 LXEJRKJRKIFVNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、電子工業分野において普及しつつあるフレキ
シブル銅張り積層板(Flexible Copper
Clad Lam1nate 、以下FCLと略す)に
関するものであり、特に耐熱、耐湿劣化等の耐久性に優
れたFCLに関するものである。
シブル銅張り積層板(Flexible Copper
Clad Lam1nate 、以下FCLと略す)に
関するものであり、特に耐熱、耐湿劣化等の耐久性に優
れたFCLに関するものである。
[従来の技術]
FCLは、主として可撓性を有するプリント配線板用の
基材として使用されるが、その他面発熱体、電磁波シー
ルド用材料、フラットケーブル、包装材料等に使用され
る。
基材として使用されるが、その他面発熱体、電磁波シー
ルド用材料、フラットケーブル、包装材料等に使用され
る。
近年においては、プリント配線板が収容されるケース類
がコンパクトになるなどのために、FCLのプリント配
線板用の基材としての利用が増大している。
がコンパクトになるなどのために、FCLのプリント配
線板用の基材としての利用が増大している。
このようなFCLは従来、通常は厚さ5μm以上の有機
重合体からなる接着剤を用いて銅箔に耐熱性重合体フィ
ルムを張り合わせることにより製造されている。しかし
ながら、この接着剤を使用したFCLは、その接着剤の
特性が不十分であるため耐熱性重合体フィルムの優れた
特性を十分に生かされず、特に耐熱性の点で問題があっ
た。
重合体からなる接着剤を用いて銅箔に耐熱性重合体フィ
ルムを張り合わせることにより製造されている。しかし
ながら、この接着剤を使用したFCLは、その接着剤の
特性が不十分であるため耐熱性重合体フィルムの優れた
特性を十分に生かされず、特に耐熱性の点で問題があっ
た。
そのために、耐熱性重合体フィルムと銅箔が接着剤を介
することな々直接的に固着させられているFCLとする
方法が従来から検討されている。
することな々直接的に固着させられているFCLとする
方法が従来から検討されている。
たとえば、米国特許3.179,634号、同3,73
6.170号、特開昭49−129.862号、同58
−190,091号、同59−162,044号などが
ある。
6.170号、特開昭49−129.862号、同58
−190,091号、同59−162,044号などが
ある。
しかしながら、これらの方法による接着剤不使用のFC
Lは耐熱性重合体フィルムと銅箔との接着力が不十分で
あること、あるいは接着力が十分であってもその強度が
安定せず、特に高温雰囲気での接着力の劣化が大きいな
どの欠点があった。
Lは耐熱性重合体フィルムと銅箔との接着力が不十分で
あること、あるいは接着力が十分であってもその強度が
安定せず、特に高温雰囲気での接着力の劣化が大きいな
どの欠点があった。
特に、耐熱性重合体の中でもポリイミドとポリアミドイ
ミドの場合は、種々の原因により安定して大きい接着力
を得ることは難しい。
ミドの場合は、種々の原因により安定して大きい接着力
を得ることは難しい。
さらに、米国特許3,736.170号、特開昭59−
162044号の実施例に記述されているように、FC
L用の耐熱性重合体として好適なフェノール性溶媒に不
溶のポリイミドの場合には、耐熱性重合体フィルムと銅
箔との間の引き剥がし強度が、実施例で見られるように
0.30〜0.60kg/cm程度であり、折り曲げ応
力が大きい場合、あるいは回路幅が狭い場合には、回路
の信頼性から考えて接着力が十分であるとは言えない。
162044号の実施例に記述されているように、FC
L用の耐熱性重合体として好適なフェノール性溶媒に不
溶のポリイミドの場合には、耐熱性重合体フィルムと銅
箔との間の引き剥がし強度が、実施例で見られるように
0.30〜0.60kg/cm程度であり、折り曲げ応
力が大きい場合、あるいは回路幅が狭い場合には、回路
の信頼性から考えて接着力が十分であるとは言えない。
[発明が解決しようとする課題]
ポリイミドフィルムが厚さ5μm程度以上のエボキン樹
脂、アクリル樹脂等の有機重合体からなる接着剤層を介
して銅箔に張り合わせられたFCLはすでに提案されて
いるが、そのような有機重合体からなる接着剤を使用す
る既存のFCLは、その特性が多くの点において要求水
準に達していない。また、接着剤層の存在しないFCL
は耐熱性の点では接着剤層の存在するFCLに比べて優
れているが、接着力や耐熱性重合体フィルムの強度等の
点では要求水準に達していない。
脂、アクリル樹脂等の有機重合体からなる接着剤層を介
して銅箔に張り合わせられたFCLはすでに提案されて
いるが、そのような有機重合体からなる接着剤を使用す
る既存のFCLは、その特性が多くの点において要求水
準に達していない。また、接着剤層の存在しないFCL
は耐熱性の点では接着剤層の存在するFCLに比べて優
れているが、接着力や耐熱性重合体フィルムの強度等の
点では要求水準に達していない。
本発明は、かかる状況に鑑みなされたもので、耐熱性重
合体フィルムの優れた特性が活用される状況を維持しな
がら、耐熱性重合体フィルムが銅箔に強固に安定に接着
されられ、かつ接着力の耐久性に優れたFCLを提供す
るものであり、このようなFCLは産業上、特に電子工
業上極めてを用なものである。
合体フィルムの優れた特性が活用される状況を維持しな
がら、耐熱性重合体フィルムが銅箔に強固に安定に接着
されられ、かつ接着力の耐久性に優れたFCLを提供す
るものであり、このようなFCLは産業上、特に電子工
業上極めてを用なものである。
[課題を解決するための手段]
上記の目的は、以下の手段によって達成することができ
る。すなわち、 耐熱性重合体フィルム層と銅箔層とからなり、該耐熱性
重合体フィルム層の少なくとも一方の面に該銅gf3肩
を有するフレキシブル銅張り禎層仮において、少なくと
も該一方の銅箔層と、該耐熱性重合体フィルム層との間
にニッケル−銅合金層が形成されていることを特徴とす
るフレキシブル銅張り積層板、である。
る。すなわち、 耐熱性重合体フィルム層と銅箔層とからなり、該耐熱性
重合体フィルム層の少なくとも一方の面に該銅gf3肩
を有するフレキシブル銅張り禎層仮において、少なくと
も該一方の銅箔層と、該耐熱性重合体フィルム層との間
にニッケル−銅合金層が形成されていることを特徴とす
るフレキシブル銅張り積層板、である。
かかるフレキシブル鋼張り積層板は、irI箔の少なく
とも一方の表面上にニッケル−銅合金からなる層を設け
た後に、その層上に耐熱性重合体、あるいはその前駆体
の溶液が塗布され、加熱乾燥させられて耐熱性重合体フ
ィルムが形成されることによって、得られる。
とも一方の表面上にニッケル−銅合金からなる層を設け
た後に、その層上に耐熱性重合体、あるいはその前駆体
の溶液が塗布され、加熱乾燥させられて耐熱性重合体フ
ィルムが形成されることによって、得られる。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明においては、銅箔上にニッケル−銅合金を形成さ
せるが、この表面処理の上に耐熱性重合体を形成した場
合には、樹脂の加熱乾燥、半田浸漬、高温連続処理、高
温高温処理等の過酷な条件下でも酸化される等の劣化は
ほとんどなく、大きな引き剥がし強度を保ち続けること
を本発明らは見出したのである。
せるが、この表面処理の上に耐熱性重合体を形成した場
合には、樹脂の加熱乾燥、半田浸漬、高温連続処理、高
温高温処理等の過酷な条件下でも酸化される等の劣化は
ほとんどなく、大きな引き剥がし強度を保ち続けること
を本発明らは見出したのである。
本発明において、銅箔の厚さは任意に選択可能であるが
、通常0.05〜100μmの範囲内であり、好ましく
は10〜50zmの範囲内のものである。
、通常0.05〜100μmの範囲内であり、好ましく
は10〜50zmの範囲内のものである。
銅箔唐土にニッケル−銅合金を形成させる方法には特に
限定はないが、特公昭56−9,028号に示されてい
るように銅箔の表面を陰極とし、ポリアクリルアミド、
ニンケルおよび銅を含む硫酸酸性水溶液中で陰極処理す
る方法が好ましい。この際生成したニッケル−銅合金の
厚みは0.1〜2μm程度であることが好ましい、0.
1μm未満の場合は耐熱性重合体フィルムとの接着力お
よび耐熱性が不十分となり、2μmを越えると表面処理
層の脱落、電気特性の低下、ニッケル−銅合金の洞工。
限定はないが、特公昭56−9,028号に示されてい
るように銅箔の表面を陰極とし、ポリアクリルアミド、
ニンケルおよび銅を含む硫酸酸性水溶液中で陰極処理す
る方法が好ましい。この際生成したニッケル−銅合金の
厚みは0.1〜2μm程度であることが好ましい、0.
1μm未満の場合は耐熱性重合体フィルムとの接着力お
よび耐熱性が不十分となり、2μmを越えると表面処理
層の脱落、電気特性の低下、ニッケル−銅合金の洞工。
チング後の残留等の問題が生し、好ましくない。
さらにこの合金処理の後、酸化亜鉛処理、酸化クロム処
理、亜鉛−クロメート処理等各種公知の防錆処理を行な
うことも好ましい。例えば、ニッケル−銅合金処理の後
、亜鉛−クロメート処理を行ない防錆層を設けるとニッ
ケル−銅合金処理層の耐久性をより一層良くすることが
できる。
理、亜鉛−クロメート処理等各種公知の防錆処理を行な
うことも好ましい。例えば、ニッケル−銅合金処理の後
、亜鉛−クロメート処理を行ない防錆層を設けるとニッ
ケル−銅合金処理層の耐久性をより一層良くすることが
できる。
また、ニッケル−銅合金処理をしないで亜鉛−クロメー
ト処理をしただけの洞7u上に重合体フィルムを形成さ
せたものの引き剥がし強度は、実質上FCLとしては十
分なものではなく、特に高温下、高温高湿下での劣化が
大きく、耐久性に劣ることを本発明者らは見出したので
ある。
ト処理をしただけの洞7u上に重合体フィルムを形成さ
せたものの引き剥がし強度は、実質上FCLとしては十
分なものではなく、特に高温下、高温高湿下での劣化が
大きく、耐久性に劣ることを本発明者らは見出したので
ある。
本発明において使用される耐熱性重合体フィルム層は、
イミド結合を有する耐熱ポリマー、および/またはイミ
ド結合以外の複素環を存する耐熱ポリマーからなるもの
であり、イミド結合を有するポリマーとしては、ポリイ
ミド、ポリアミドイミド、ポリヒダントイン、ポリパラ
バン酸、ポリオキサジンジオンなどであり、またイミド
結合以外の複素環保有耐熱ポリマーとしてはポリベンゾ
イミダゾール、ポリイミダゾピロロン、トリアジン誘導
体等が挙げられる。
イミド結合を有する耐熱ポリマー、および/またはイミ
ド結合以外の複素環を存する耐熱ポリマーからなるもの
であり、イミド結合を有するポリマーとしては、ポリイ
ミド、ポリアミドイミド、ポリヒダントイン、ポリパラ
バン酸、ポリオキサジンジオンなどであり、またイミド
結合以外の複素環保有耐熱ポリマーとしてはポリベンゾ
イミダゾール、ポリイミダゾピロロン、トリアジン誘導
体等が挙げられる。
この発明においては、イミド結合を有する耐熱゛ポリマ
ーのフィルムが好ましく、さらに好ましくはポリイミド
、ポリアミドイミドと称されるもののフィルムであり、
これらは複合フィルムとされてもよい。
ーのフィルムが好ましく、さらに好ましくはポリイミド
、ポリアミドイミドと称されるもののフィルムであり、
これらは複合フィルムとされてもよい。
ポリイミドの代表的なものは、その構造式(反復単位)
が次に示されるものである。
が次に示されるものである。
また、
ポリアミドイミドとしては、
その構造式
%式%
また、構造式(1)あるいは(2)にて表される反復単
位を有する3、3’ 、4.4“−ベンゾフェノンテト
ラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンとから得られる
重合体、構造式(3)あるいは(4)にて表される反復
単位を有する3、3’、4.4’−とスフェニルテトラ
カルボン酸二無水物も適している。
位を有する3、3’ 、4.4“−ベンゾフェノンテト
ラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンとから得られる
重合体、構造式(3)あるいは(4)にて表される反復
単位を有する3、3’、4.4’−とスフェニルテトラ
カルボン酸二無水物も適している。
上記の構造式において、Xは○、SO□、S、Go、、
CH,、C(CHs)z 、C(CFi)zまたは直接
結合である。
CH,、C(CHs)z 、C(CFi)zまたは直接
結合である。
上記の構造式にて表される芳香族ジアミンの例としては
、4.4”−ジアミノジフェニルメタン、44′−ジア
ミノジフェニル−チル、4.4’−ジアミノジフェニル
スルホン、3.3’−ジアミノジフエニルメタン、3,
3°−ジアミノジフェニルエーテル、3゜3゛−ジアミ
ノジフェニルスルホンなどを挙げることができる。
、4.4”−ジアミノジフェニルメタン、44′−ジア
ミノジフェニル−チル、4.4’−ジアミノジフェニル
スルホン、3.3’−ジアミノジフエニルメタン、3,
3°−ジアミノジフェニルエーテル、3゜3゛−ジアミ
ノジフェニルスルホンなどを挙げることができる。
芳香族ポリイミド、および/またはボリア・ミドイミド
は、単一のものである必要はなく、二種以上の混合物で
あってもよい。
は、単一のものである必要はなく、二種以上の混合物で
あってもよい。
次に実施例を示してさらに本発明を説明する。
実施例1
攪拌機、還流冷却器および窒素導入管を備えた容器中に
おいて4.4′−ジアミノジフェニルエーテル421g
(2,1モル)を、N−メチルピロリドン4000成に
溶解した。この溶液に窒素雰囲気下においてピロメリッ
ト酸二無水物458g(2,1モル)を加えて、室温に
て24時間反応させた。
おいて4.4′−ジアミノジフェニルエーテル421g
(2,1モル)を、N−メチルピロリドン4000成に
溶解した。この溶液に窒素雰囲気下においてピロメリッ
ト酸二無水物458g(2,1モル)を加えて、室温に
て24時間反応させた。
こうして得られたポリアミド酸溶液の対数粘度は1 、
8 a / gであった。
8 a / gであった。
このポリアミド酸溶液を、N−メチルピロリドンで16
%まで希釈し、回転粘度を100.0OOcpsに調節
ケル−銅合金処理の施しである圧延fI箔(日本鉱業(
株)製、BHN−02、厚さ35μm)上に均一に流延
塗布し、135°Cで5分間、さらに180°Cで4分
間加熱乾燥した後、250’Cの窒素雰囲気中で3分間
、さらに350’Cの窒素雰囲気中で5分間加熱して銅
箔層と耐熱性重合体フィルム層との間にニッケル−銅合
金を有するフレキシブル基板を得た。
%まで希釈し、回転粘度を100.0OOcpsに調節
ケル−銅合金処理の施しである圧延fI箔(日本鉱業(
株)製、BHN−02、厚さ35μm)上に均一に流延
塗布し、135°Cで5分間、さらに180°Cで4分
間加熱乾燥した後、250’Cの窒素雰囲気中で3分間
、さらに350’Cの窒素雰囲気中で5分間加熱して銅
箔層と耐熱性重合体フィルム層との間にニッケル−銅合
金を有するフレキシブル基板を得た。
こうして得られたフレキシブル基板のポリイミド層の膜
厚は35μmであワた。
厚は35μmであワた。
このフレキシブル基板の特性は表1に示される通りであ
った。
った。
比較例1
実施例1において銅箔としてニッケル−洞合金処理の施
していない圧延銅箔(ケーデーヶ−(株)製、KDK−
FLEX、厚さ35μm)を用いたことを除いて実施例
1と同様の操作を行ない、フレキシブル基板を得た。
していない圧延銅箔(ケーデーヶ−(株)製、KDK−
FLEX、厚さ35μm)を用いたことを除いて実施例
1と同様の操作を行ない、フレキシブル基板を得た。
こうして得られたフレキシブル基板のポリイミド層の膜
厚は30μmであった。
厚は30μmであった。
このフレキシブル基板の特性は表1に示される通りであ
った。
った。
実施例2
以下のA、B、Cによってポリアミド−ポリアミド酸ブ
ロック共重合体を得た。
ロック共重合体を得た。
A、アミノ末端基を有するポリアミドの製造:4.4゛
−ジアミノジフェニルエーテル6.848 (0゜03
42モル)を攪拌機、内部温度計、均圧管を有する滴下
漏斗、および流入管を取り付けた11の反応器中で、無
水のN、N−ジメチルアセトアミド40gに完全に溶解
させた。
−ジアミノジフェニルエーテル6.848 (0゜03
42モル)を攪拌機、内部温度計、均圧管を有する滴下
漏斗、および流入管を取り付けた11の反応器中で、無
水のN、N−ジメチルアセトアミド40gに完全に溶解
させた。
溶媒ジャケットにて反応器内温度を一5〜0°Cに冷却
しつつ窒素雰囲気下、固体状のイソフタル酸ジクロリド
2.46g (0,0121モル)と、テレフタル酸ジ
クロリド2.46g (0,0121モル)の混合物を
、上記の溶液に少量づつ添加した。
しつつ窒素雰囲気下、固体状のイソフタル酸ジクロリド
2.46g (0,0121モル)と、テレフタル酸ジ
クロリド2.46g (0,0121モル)の混合物を
、上記の溶液に少量づつ添加した。
添加終了後、粘稠な反応液を10’Cに昇温させ、1時
間撹拌した。
間撹拌した。
次に、この反応混合物にプロピレンオキシド3゜09
(0,0532モル)を無水N、N−ジメチルアセトア
ミド6gを以て希釈したものを、反応液の温度を5〜l
O°Cに保持しつつ滴下した0滴下終了後反応液を5〜
10’Cにて1時間攪拌し、末端アミノ基を有する理論
計算値による平均分子量が1 、000のポリアミドを
得た。
(0,0532モル)を無水N、N−ジメチルアセトア
ミド6gを以て希釈したものを、反応液の温度を5〜l
O°Cに保持しつつ滴下した0滴下終了後反応液を5〜
10’Cにて1時間攪拌し、末端アミノ基を有する理論
計算値による平均分子量が1 、000のポリアミドを
得た。
B、酸無水物末端を有するポリアミド酸の製造:Aと同
様の反応装置によって、ピロメリット酸二無水物の27
.1g (0,124モル)を、無水N、Nジメチルア
セトアミド41gに懸濁させた。
様の反応装置によって、ピロメリット酸二無水物の27
.1g (0,124モル)を、無水N、Nジメチルア
セトアミド41gに懸濁させた。
4.4°−ジアミノジフェニルエーテル22.9g (
0゜124モル)を無水のN、N−ジメチルアセトアミ
ド92gに溶解した溶液を、窒素雰囲気下において5〜
20°Cにて滴下した。
0゜124モル)を無水のN、N−ジメチルアセトアミ
ド92gに溶解した溶液を、窒素雰囲気下において5〜
20°Cにて滴下した。
滴下に伴い粘度が上昇し、アミン溶液の75%を滴下し
た時点で、粘度調節のために無水のN、N−ジメチルア
セトアミド67gを添加した。
た時点で、粘度調節のために無水のN、N−ジメチルア
セトアミド67gを添加した。
滴下終了後、反応混合物を20〜25°Cにて1時間撹
拌し、末端酸無水物を有する理論計算による平均分子量
がs、 oooのポリアミド酸を得た。
拌し、末端酸無水物を有する理論計算による平均分子量
がs、 oooのポリアミド酸を得た。
C,ポリアミド−ポリアミド酸ブロック共重合体の製造
: Aによって得られたアミノ末端基を有するポリアミド溶
液を、Bにより得られた酸無水物末端を有するポリアミ
ド酸の溶液に15〜20’Cにて窒素雰囲気下に約30
分間を要して添加した。
: Aによって得られたアミノ末端基を有するポリアミド溶
液を、Bにより得られた酸無水物末端を有するポリアミ
ド酸の溶液に15〜20’Cにて窒素雰囲気下に約30
分間を要して添加した。
さらに、N、N−ジメチルアセトアミド89gを添加し
、20〜25゛Cにて2時間攪拌した。
、20〜25゛Cにて2時間攪拌した。
固有粘度(35°C,0,5g/ 100mff1 N
、N−ジメチルアセトアミド溶液で測定) 1.62の
ポリアミド−ポリアミド酸ブロック共重合体を15.0
重量%含む粘稠溶液が得られた。
、N−ジメチルアセトアミド溶液で測定) 1.62の
ポリアミド−ポリアミド酸ブロック共重合体を15.0
重量%含む粘稠溶液が得られた。
金処理の施しである圧延銅箔(日本鉱業(株)製、BI
IN〜02、厚さ35μm)上に均一に流延塗布し、1
50°Cで20分間加熱乾燥した後、200°Cの窒素
雰囲気中で10分間加熱して銅7IA層と耐熱性重合体
フィルム層との間にニッケル−銅合金を有するフレキシ
ブル基板を得た。
IN〜02、厚さ35μm)上に均一に流延塗布し、1
50°Cで20分間加熱乾燥した後、200°Cの窒素
雰囲気中で10分間加熱して銅7IA層と耐熱性重合体
フィルム層との間にニッケル−銅合金を有するフレキシ
ブル基板を得た。
こうして得られたフレキシブル基板のポリアミド−ポリ
イミド共重合体層の119厚は30Iimであっこのフ
レキシブル基板の特性は表1に示される通りであった。
イミド共重合体層の119厚は30Iimであっこのフ
レキシブル基板の特性は表1に示される通りであった。
比較例2
実施例1において銅箔としてニッケル−洞合金処理の施
していない圧延銅箔(ケーデーヶ−(株)製、KDK−
FLEX、厚さ35μm)を用いたことを除いて実施例
2と同様の操作を行ない、フレキシブル基板を得た。
していない圧延銅箔(ケーデーヶ−(株)製、KDK−
FLEX、厚さ35μm)を用いたことを除いて実施例
2と同様の操作を行ない、フレキシブル基板を得た。
こうして得られたフレキシブル基板のポリイミド層の膜
厚は30μmであった。
厚は30μmであった。
このフレキシブル基板の特性は表1に示される通りであ
った。
った。
比較例3
ポリイミドフィルムと銅箔との接着剤を、次のように作
成した。
成した。
エポキシ樹脂として、油化シェルエポキシ(株)製エピ
コート100IFR50重量部、ジシアンジアミド2重
量部、及びアクリロニトリルブタジェン共重合体として
、日本合成ゴム工業製の二ポール1432J 100
重量部からなる組成物をメチルエチルケトンに溶解して
濃度20%の接着剤溶液とした。
コート100IFR50重量部、ジシアンジアミド2重
量部、及びアクリロニトリルブタジェン共重合体として
、日本合成ゴム工業製の二ポール1432J 100
重量部からなる組成物をメチルエチルケトンに溶解して
濃度20%の接着剤溶液とした。
次に、25μmのポリイミドフィルム(東し・デュポン
(株)製カプトンH)に前記接着剤を乾燥後で約25μ
mの厚さになるように塗布し、予備乾燥炉を経て加熱ロ
ールに走行させた。予備乾燥炉内での加熱条件は80°
Cで3分間、123°Cで5分間であった。
(株)製カプトンH)に前記接着剤を乾燥後で約25μ
mの厚さになるように塗布し、予備乾燥炉を経て加熱ロ
ールに走行させた。予備乾燥炉内での加熱条件は80°
Cで3分間、123°Cで5分間であった。
一方、ラミネーターの他方から圧延1mFfi(ケーデ
ーケー(株)製、KDK−FLEX、厚さ35μm)を
、加熱ロールに走行させ、接着剤組成物を介してポリイ
ミドフィルムと密着するように連続的に圧着ラミネート
し、連続的に巻き取った。
ーケー(株)製、KDK−FLEX、厚さ35μm)を
、加熱ロールに走行させ、接着剤組成物を介してポリイ
ミドフィルムと密着するように連続的に圧着ラミネート
し、連続的に巻き取った。
加熱ロールのロール表面温度は、150±2°Cに1周
整した。
整した。
ロール間での圧着時間は0.5秒程度である。
次いで、巻き取られたラミネートは、そのまま155°
Cにて2時間のアフターキュアーを受けた。
Cにて2時間のアフターキュアーを受けた。
このフレキシブル基板の特性は表1の通りであった。
[発明の効果]
本発明により提案された耐熱性重合体フィルムと銅箔層
との間にニッケル−銅合金を有するFCLは、耐熱性重
合体フィルムと銅箔との間の接着力が増大し、引き剥が
し強度は0.9kg/cm以上が確保される。
との間にニッケル−銅合金を有するFCLは、耐熱性重
合体フィルムと銅箔との間の接着力が増大し、引き剥が
し強度は0.9kg/cm以上が確保される。
このようなFCLは、接着剤層を有さないために耐熱性
は良好であり、ニッケル−銅合金層の効果により接着性
、またその熱劣化性においても良好である。
は良好であり、ニッケル−銅合金層の効果により接着性
、またその熱劣化性においても良好である。
このように本発明に従えば、優れた特性のフレキシブル
基板を提供することができる。
基板を提供することができる。
Claims (1)
- 1.耐熱性重合体フィルム層と銅箔層とからなり、該耐
熱性重合体フィルム層の少なくとも一方の面に該銅箔層
を有するフレキシブル銅張り積層板において、少なくと
も該一方の銅箔層と、該耐熱性重合体フィルム層との間
にニッケル−銅合金層が形成されていることを特徴とす
るフレキシブル銅張り積層板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23484588A JPH0284326A (ja) | 1988-09-21 | 1988-09-21 | フレキシブル銅張り積層板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23484588A JPH0284326A (ja) | 1988-09-21 | 1988-09-21 | フレキシブル銅張り積層板 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0284326A true JPH0284326A (ja) | 1990-03-26 |
Family
ID=16977264
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23484588A Pending JPH0284326A (ja) | 1988-09-21 | 1988-09-21 | フレキシブル銅張り積層板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0284326A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0537104A (ja) * | 1991-07-31 | 1993-02-12 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 金属被覆ポリイミド基板 |
US5800930A (en) * | 1994-01-21 | 1998-09-01 | Olin Corporation | Nodular copper/nickel alloy treatment for copper foil |
JP2002307609A (ja) * | 2001-04-13 | 2002-10-23 | Mitsui Chemicals Inc | ポリイミド金属箔積層板及びその製造方法 |
WO2005051058A1 (ja) * | 2003-11-21 | 2005-06-02 | Dept Corporation | 回路基板及びその製造方法 |
CN107620051A (zh) * | 2017-09-04 | 2018-01-23 | 武汉光谷创元电子有限公司 | 覆铜板及其制造方法 |
-
1988
- 1988-09-21 JP JP23484588A patent/JPH0284326A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0537104A (ja) * | 1991-07-31 | 1993-02-12 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 金属被覆ポリイミド基板 |
US5800930A (en) * | 1994-01-21 | 1998-09-01 | Olin Corporation | Nodular copper/nickel alloy treatment for copper foil |
JP2002307609A (ja) * | 2001-04-13 | 2002-10-23 | Mitsui Chemicals Inc | ポリイミド金属箔積層板及びその製造方法 |
JP4554839B2 (ja) * | 2001-04-13 | 2010-09-29 | 三井化学株式会社 | ポリイミド金属箔積層板及びその製造方法 |
WO2005051058A1 (ja) * | 2003-11-21 | 2005-06-02 | Dept Corporation | 回路基板及びその製造方法 |
CN107620051A (zh) * | 2017-09-04 | 2018-01-23 | 武汉光谷创元电子有限公司 | 覆铜板及其制造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7285321B2 (en) | Multilayer substrates having at least two dissimilar polyimide layers, useful for electronics-type applications, and compositions relating thereto | |
JP4540964B2 (ja) | 低温ポリイミド接着剤組成物 | |
EP1266926B1 (en) | Adhesive polyimide resin and adhesive laminate | |
JP4957059B2 (ja) | ポリイミドフィルム積層体 | |
JP2000103010A (ja) | フレキシブル金属箔積層体 | |
WO2006112523A1 (ja) | ポリイミドフィルム積層体 | |
JPS61111359A (ja) | ポリイミド膜 | |
US8518550B2 (en) | Polyimide, polyimide film and laminated body | |
EP0553612B1 (en) | Polyimides, thermosetting resin compositions containing the polyimides, formed articles of the resin compositions, and production process of the polyimides | |
JP2783389B2 (ja) | フレキシブル金属箔積層板の製造方法 | |
JPH0284326A (ja) | フレキシブル銅張り積層板 | |
JP3590902B2 (ja) | 接着性が改善されたポリイミドフィルム及びその製造方法 | |
JPH04239637A (ja) | 可撓性両面金属張基板及びその製造方法 | |
JP4108808B2 (ja) | ポリイミド組成物 | |
JP2729063B2 (ja) | フレキシブル金属箔積層板の製造方法 | |
JP4174676B2 (ja) | フレキシブル銅張積層板の製造方法 | |
JP4332739B2 (ja) | フレキシブル銅張積層板の製造方法 | |
JP4360025B2 (ja) | 補強材を有するポリイミド片面積層体およびその製造法 | |
JPH02131936A (ja) | フレキシブル銅張積層板 | |
JP3805546B2 (ja) | 耐熱性ボンディングシートの製造方法 | |
JPH01174439A (ja) | フレキシブル金属箔積層材 | |
JP3295952B2 (ja) | フレキシブル配線基板の製造方法 | |
EP0270672A1 (en) | Flexible copper-clad circuit board | |
JPH02131935A (ja) | フレキシブル銅張り基板 | |
KR102630417B1 (ko) | 전자 회로 용품을 위한 다층 필름 |