JPH0273818A - ポリフエノールの製造法 - Google Patents
ポリフエノールの製造法Info
- Publication number
- JPH0273818A JPH0273818A JP22579388A JP22579388A JPH0273818A JP H0273818 A JPH0273818 A JP H0273818A JP 22579388 A JP22579388 A JP 22579388A JP 22579388 A JP22579388 A JP 22579388A JP H0273818 A JPH0273818 A JP H0273818A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polyphenol
- acid
- phenols
- containing aromatic
- aromatic aldehyde
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 150000008442 polyphenolic compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 17
- 235000013824 polyphenols Nutrition 0.000 title claims abstract description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 4
- 150000003934 aromatic aldehydes Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 claims abstract description 9
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 8
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- SMQUZDBALVYZAC-UHFFFAOYSA-N salicylaldehyde Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=O SMQUZDBALVYZAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 abstract description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 abstract description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 abstract 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract 1
- 239000000565 sealant Substances 0.000 abstract 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 4
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IBGBGRVKPALMCQ-UHFFFAOYSA-N 3,4-dihydroxybenzaldehyde Chemical compound OC1=CC=C(C=O)C=C1O IBGBGRVKPALMCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAVREABSGIHHMO-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxybenzaldehyde Chemical compound OC1=CC=CC(C=O)=C1 IAVREABSGIHHMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 2
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 2
- IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N p-cresol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1 IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- -1 0-cresol Chemical compound 0.000 description 1
- VGVRPFIJEJYOFN-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6-tetrachlorophenol Chemical class OC1=C(Cl)C=C(Cl)C(Cl)=C1Cl VGVRPFIJEJYOFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUNJCFABHJZSKB-UHFFFAOYSA-N 2,4-dihydroxybenzaldehyde Chemical compound OC1=CC=C(C=O)C(O)=C1 IUNJCFABHJZSKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VADKRMSMGWJZCF-UHFFFAOYSA-N 2-bromophenol Chemical class OC1=CC=CC=C1Br VADKRMSMGWJZCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 239000002648 laminated material Substances 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 239000010680 novolac-type phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 229960003371 protocatechualdehyde Drugs 0.000 description 1
- 238000001256 steam distillation Methods 0.000 description 1
- AKEJUJNQAAGONA-UHFFFAOYSA-N sulfur trioxide Inorganic materials O=S(=O)=O AKEJUJNQAAGONA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCDXJAYRVLXPFO-UHFFFAOYSA-N syringaldehyde Chemical compound COC1=CC(C=O)=CC(OC)=C1O KCDXJAYRVLXPFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COBXDAOIDYGHGK-UHFFFAOYSA-N syringaldehyde Natural products COC1=CC=C(C=O)C(OC)=C1O COBXDAOIDYGHGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWOOGOJBHIARFG-UHFFFAOYSA-N vanillin Chemical compound COC1=CC(C=O)=CC=C1O MWOOGOJBHIARFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGQOOHJZONJGDT-UHFFFAOYSA-N vanillin Natural products COC1=CC(O)=CC(C=O)=C1 FGQOOHJZONJGDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012141 vanillin Nutrition 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Epoxy Resins (AREA)
- Sealing Material Composition (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Phenolic Resins Or Amino Resins (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分〕
本発明は、封止材料及び積層材料として有用なエポキシ
樹脂原料用フェノール樹脂及びエポキシ樹脂硬化剤用フ
ェノール樹脂の製造方法に関する。
樹脂原料用フェノール樹脂及びエポキシ樹脂硬化剤用フ
ェノール樹脂の製造方法に関する。
従来、ノボラック型フェノール樹脂の製造方法は、フェ
ノール１モルに対してホルムアルデヒドを０．５〜０．
９モルの範囲で、塩酸、シュウ酸等の酸性触媒で反応を
行い、その後脱水濃縮することにより得られている。近
年、電子部品の発展はめざましく、ＬＳＩ等の高密度、
高集積は著しいものがあり、封止材料に対してもより高
い耐熱性が求められるようになってきた。そこで、ホル
ムアルデヒドの代わりに、水酸基含有族アルデヒドを使
用したノボラック型フェノール樹脂（特開昭５７３４１
２２号公＠）が提案されている。
ノール１モルに対してホルムアルデヒドを０．５〜０．
９モルの範囲で、塩酸、シュウ酸等の酸性触媒で反応を
行い、その後脱水濃縮することにより得られている。近
年、電子部品の発展はめざましく、ＬＳＩ等の高密度、
高集積は著しいものがあり、封止材料に対してもより高
い耐熱性が求められるようになってきた。そこで、ホル
ムアルデヒドの代わりに、水酸基含有族アルデヒドを使
用したノボラック型フェノール樹脂（特開昭５７３４１
２２号公＠）が提案されている。
しかし、上記ポリフェノールは、従来のノボラック型ポ
リフェノールと同様の条件で製造しており、高分子量体
が多すぎるため、軟化温度および粘度が高くなり過ぎ、
封止材料用等には実用的でない。
リフェノールと同様の条件で製造しており、高分子量体
が多すぎるため、軟化温度および粘度が高くなり過ぎ、
封止材料用等には実用的でない。
本発明は、実用的な軟化温度を有するボリフェノールを
得るためになされたものである。
得るためになされたものである。
本発明は、下記一般式（［）で示される水酸基含有芳香
族アルデヒド１モルに対し、 〔式中、Ｙは、水素原子、ハロゲン原子、または、炭素
数１〜４のアルキル基もしくはアルコキシ基を表わし、
ｍは、１または２の整数を示す〕フェノール類を３〜１
２モルの範囲内で、酸触媒の存在下、反応させ上記課題
を解決したポリフェノールを得る方法を提供するもので
ある。
族アルデヒド１モルに対し、 〔式中、Ｙは、水素原子、ハロゲン原子、または、炭素
数１〜４のアルキル基もしくはアルコキシ基を表わし、
ｍは、１または２の整数を示す〕フェノール類を３〜１
２モルの範囲内で、酸触媒の存在下、反応させ上記課題
を解決したポリフェノールを得る方法を提供するもので
ある。
（水酸基含有芳香族アルデヒド）
本発明の式（１）で示される水＃基含有芳香族アルデヒ
ドとしては、サリチルアルデヒド、ｍヒドロキシベンズ
アルデヒド、ｐ−ヒドロキシヘンズアルデヒド、バニリ
ン、シリンガアルデヒ）、β−レゾルシルアルデヒド、
プロトカテキュアルデヒド等が挙げられる。
ドとしては、サリチルアルデヒド、ｍヒドロキシベンズ
アルデヒド、ｐ−ヒドロキシヘンズアルデヒド、バニリ
ン、シリンガアルデヒ）、β−レゾルシルアルデヒド、
プロトカテキュアルデヒド等が挙げられる。
（フェノール類）
本発明で使用されるフェノール類としては、フェノール
、０−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、
ｐ ５ｅｃ−ブチルフェノール、ｐ−１ｅｒｔ−ブチ
ルフェノール、クロルフェノール類、ブロムフェノール
類等が挙げられる。
、０−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、
ｐ ５ｅｃ−ブチルフェノール、ｐ−１ｅｒｔ−ブチ
ルフェノール、クロルフェノール類、ブロムフェノール
類等が挙げられる。
（酸触媒）
本発明に於いて使用される酸触媒は、塩酸、硫酸、無水
硫酸、ｐ−トルエンスルボン酸、シュウ酸、リン酸、ｌ
・リクロル酢酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタ
ンスルホン酸等が挙げられる。
硫酸、ｐ−トルエンスルボン酸、シュウ酸、リン酸、ｌ
・リクロル酢酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタ
ンスルホン酸等が挙げられる。
（反応方法）
ポリフェノールの製造は、前記水酸基含有芳香族アルデ
ヒド１モルに対し、フェノール類を３〜１２モルの範囲
で、酸触媒を水ｆ１１．基含有芳香族アルデヒド１００
重量部に対し、０．０１〜１０重量部、好ましくは０．
２〜５重量部添加し、８０〜１６０℃の温度範囲で１〜
１０時間脱水縮合を行い、過剰のフェノール類を留去す
ることによりポリフェノールを得る。
ヒド１モルに対し、フェノール類を３〜１２モルの範囲
で、酸触媒を水ｆ１１．基含有芳香族アルデヒド１００
重量部に対し、０．０１〜１０重量部、好ましくは０．
２〜５重量部添加し、８０〜１６０℃の温度範囲で１〜
１０時間脱水縮合を行い、過剰のフェノール類を留去す
ることによりポリフェノールを得る。
水酸基含有芳香族アルデヒド１モルに対しフェノール類
が３モル未満であると、後代（ＩＩＩ）においてｎ＝Ｑ
である３核体が２０％未満になり、得られるポリフェノ
ールの軟化温度が１８０°Ｃを超える。また１２モルを
超えると、ｎ＝Ｑのものが８０％を超え、ポリフェノー
ルの軟化温度が８０゛Ｃ以下となるため好ましくない。
が３モル未満であると、後代（ＩＩＩ）においてｎ＝Ｑ
である３核体が２０％未満になり、得られるポリフェノ
ールの軟化温度が１８０°Ｃを超える。また１２モルを
超えると、ｎ＝Ｑのものが８０％を超え、ポリフェノー
ルの軟化温度が８０゛Ｃ以下となるため好ましくない。
又、反応温度が低すぎると反応が進みにくく、高すぎる
と高分子量体が増加し軟化温度が高くなるため好ましく
ない。
と高分子量体が増加し軟化温度が高くなるため好ましく
ない。
（ポリフェノール）
本発明により得られるポリフェノールは下記一般式（Ｉ
ＩＩ）で示され、 （ＩＩＩ） 〔式中、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、または炭素数１
〜４のアルキル基を表わし、Ｙ及びｍは式日）に同義で
あり、ｎはＯ又は１以上の整数であり、ｎ＝０が全組成
の２０〜８０％の範囲である。〕 その軟化温度は８０〜１８０℃の範囲である。軟化温度
が８０℃未満であると室温でブロッキング現象を起こし
取り扱いにくい。また１８０℃を超えると封止材料用等
には実用的でない。
ＩＩ）で示され、 （ＩＩＩ） 〔式中、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、または炭素数１
〜４のアルキル基を表わし、Ｙ及びｍは式日）に同義で
あり、ｎはＯ又は１以上の整数であり、ｎ＝０が全組成
の２０〜８０％の範囲である。〕 その軟化温度は８０〜１８０℃の範囲である。軟化温度
が８０℃未満であると室温でブロッキング現象を起こし
取り扱いにくい。また１８０℃を超えると封止材料用等
には実用的でない。
（実施例〕
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。
実施例１
温度計、冷却器および撹拌機を備えた１ｊ２の四ロフラ
スコ内にフェノール３３８．８ ｇ、サリチルアルデヒ
ド９７．７ｇ（フェノール／サリチルアルデヒド−４，
５／ １モル比）およびｐ−トルエンスルホン酸２．０
ｇを仕込み１１０℃で４時間反応を行った。反応終了後
、純水３００ｇで３回洗浄を行い酸触媒を除去し、フェ
ノールを減圧下、温度１６０℃で留去した。フェノール
の留去が少なくなった時点で、水蒸気蒸留を行い、完全
にフェノールを留去し、赤褐色のポリフェノール１９８
．４ ｇを得た。
スコ内にフェノール３３８．８ ｇ、サリチルアルデヒ
ド９７．７ｇ（フェノール／サリチルアルデヒド−４，
５／ １モル比）およびｐ−トルエンスルホン酸２．０
ｇを仕込み１１０℃で４時間反応を行った。反応終了後
、純水３００ｇで３回洗浄を行い酸触媒を除去し、フェ
ノールを減圧下、温度１６０℃で留去した。フェノール
の留去が少なくなった時点で、水蒸気蒸留を行い、完全
にフェノールを留去し、赤褐色のポリフェノール１９８
．４ ｇを得た。
このポリフェノールの軟化温度は、１２１℃であり、ｎ
＝Ｑは４８％であった。
＝Ｑは４８％であった。
実施例２〜５、比較例１〜２
フェノール類、芳香族アルデヒドおよび酸触媒を表Ｉの
ように変えてポリフェノールを得た。それらの結果を表
１に示す。
ように変えてポリフェノールを得た。それらの結果を表
１に示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）下記一般式で示される水酸基含有芳香族アルデヒド
１モルに対し、 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｙは、水素原子、ハロゲン原子、または、炭素
数１〜４のアルキル基もしくはアルコキシ基を表わし、
ｍは、１または２の整数を示す〕フェノール類を３〜１
２モルの範囲内で、酸触媒の存在下、反応させることを
特徴とするポリフェノールの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22579388A JPH0273818A (ja) | 1988-09-09 | 1988-09-09 | ポリフエノールの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22579388A JPH0273818A (ja) | 1988-09-09 | 1988-09-09 | ポリフエノールの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0273818A true JPH0273818A (ja) | 1990-03-13 |
Family
ID=16834869
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22579388A Pending JPH0273818A (ja) | 1988-09-09 | 1988-09-09 | ポリフエノールの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0273818A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6329474B1 (en) | 1995-06-27 | 2001-12-11 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Epoxidized phenol-hydroxybenzaldehyde condensate, bisphenol-formaldehyde condensate and masked imidazole |
| JP2017149889A (ja) * | 2016-02-26 | 2017-08-31 | デンカ株式会社 | エポキシ樹脂組成物、それを用いた金属ベース板回路基板 |
-
1988
- 1988-09-09 JP JP22579388A patent/JPH0273818A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6329474B1 (en) | 1995-06-27 | 2001-12-11 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Epoxidized phenol-hydroxybenzaldehyde condensate, bisphenol-formaldehyde condensate and masked imidazole |
| JP2017149889A (ja) * | 2016-02-26 | 2017-08-31 | デンカ株式会社 | エポキシ樹脂組成物、それを用いた金属ベース板回路基板 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4998271B2 (ja) | フェノール樹脂及び樹脂組成物 | |
| JPH03139519A (ja) | エポキシ樹脂用硬化剤 | |
| JPH03717A (ja) | 新規エポキシ樹脂及びその製造法 | |
| JPH0273818A (ja) | ポリフエノールの製造法 | |
| GB2061299A (en) | Process for preparing phenol-formaldehyde furfuryl alcohol terpolymers | |
| JPH02173023A (ja) | エポキシ樹脂用硬化剤 | |
| JP4487625B2 (ja) | フェノールノボラック樹脂の製造方法 | |
| JPH0681775B2 (ja) | ポリヒドロキシ化合物の製造法 | |
| JPS62119220A (ja) | ポリヒドロキシ化合物の製造法 | |
| JP2868854B2 (ja) | 新規多価ヒドロキシ化合物及びその製造方法 | |
| JP2000212259A (ja) | 液状フェノ―ル系樹脂及びその製造方法 | |
| JP3604866B2 (ja) | フェノ−ルノボラック縮合体の製造方法 | |
| JPH0273819A (ja) | ポリフェノールの製造方法 | |
| JPH09176263A (ja) | フェノール樹脂組成物 | |
| JP3845198B2 (ja) | フェノール系樹脂の製造方法 | |
| JPH04225012A (ja) | ４核体フェノール類ノボラック及びその製造法 | |
| JPH0219131B2 (ja) | ||
| JPS6377915A (ja) | フェノール類ノボラック組成物の製造法 | |
| JP2812796B2 (ja) | ナフタレン系エポキシ樹脂及びその中間体並びにその製造方法 | |
| JP2884099B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
| JPH04316528A (ja) | 新規化合物、樹脂、樹脂組成物及び硬化物 | |
| JPH05320290A (ja) | ポリヒドロキシ化合物の製造法 | |
| JPH051127A (ja) | ノボラツク型フエノール樹脂の製造方法 | |
| JPH07268049A (ja) | 新規フェノール樹脂 | |
| JPH03275707A (ja) | ヒドロキシカルボン酸誘導体の製造法 |