JPH026448Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH026448Y2 JPH026448Y2 JP1983008756U JP875683U JPH026448Y2 JP H026448 Y2 JPH026448 Y2 JP H026448Y2 JP 1983008756 U JP1983008756 U JP 1983008756U JP 875683 U JP875683 U JP 875683U JP H026448 Y2 JPH026448 Y2 JP H026448Y2
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- Japan
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- photosensitive material
- processing
- stop
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- processing section
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- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 38
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 12
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
Landscapes
- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は感光材料処理装置に関し、特に停止処
理部を改良した感光材料処理装置に関する。
理部を改良した感光材料処理装置に関する。
感光材料を、現像、停止、定着、水洗等の処理
部内を順次移送して処理する感光材料処理装置に
おいては、通常、前記各処理部は略同様な形に構
成されている。第1図はその一例を示すもので、
感光材料Fを、現像処理槽1、停止処理槽2、定
着処理槽3および水洗処理槽4内を順次移送ロー
ラRによつて移送しつつ処理する装置を示してい
る。
部内を順次移送して処理する感光材料処理装置に
おいては、通常、前記各処理部は略同様な形に構
成されている。第1図はその一例を示すもので、
感光材料Fを、現像処理槽1、停止処理槽2、定
着処理槽3および水洗処理槽4内を順次移送ロー
ラRによつて移送しつつ処理する装置を示してい
る。
しかしながら、このような装置においては、各
処理槽間の渡り(クロスオーバー)時間が長くか
かるため、感光材料の種類によつては、各種の処
理ムラが発生するという問題があり、特に、現像
処理槽1から停止処理槽2に移送される過程での
処理ムラの発生が著しかつた。
処理槽間の渡り(クロスオーバー)時間が長くか
かるため、感光材料の種類によつては、各種の処
理ムラが発生するという問題があり、特に、現像
処理槽1から停止処理槽2に移送される過程での
処理ムラの発生が著しかつた。
上述の問題を解決したものとして、第2図に示
す如き装置も知られている。この装置は、現像処
理槽1、定着処理槽3および水洗処理槽4は第1
図に示した装置と同様に構成されているが、停止
処理槽2′は浅く、かつ、パスも短く構成され、
ここに塗布ローラ対5A,5Bが浸漬された構造
を有している。
す如き装置も知られている。この装置は、現像処
理槽1、定着処理槽3および水洗処理槽4は第1
図に示した装置と同様に構成されているが、停止
処理槽2′は浅く、かつ、パスも短く構成され、
ここに塗布ローラ対5A,5Bが浸漬された構造
を有している。
この装置においては、現像処理槽1から定着処
理槽3に至るクロスオーバー時間が短縮されるほ
か、停止処理も現像処理後比較的短時間内に行わ
れるので、処理ムラの発生に関しても改良されて
いるが、感光材料に供給される停止液が前記塗布
ローラ5Bの表面に付着した量だけであるため、
感光材料の種類、サイズによつては十分な停止処
理が行われず、処理ムラが発生する場合があると
いう問題が残つていた。
理槽3に至るクロスオーバー時間が短縮されるほ
か、停止処理も現像処理後比較的短時間内に行わ
れるので、処理ムラの発生に関しても改良されて
いるが、感光材料に供給される停止液が前記塗布
ローラ5Bの表面に付着した量だけであるため、
感光材料の種類、サイズによつては十分な停止処
理が行われず、処理ムラが発生する場合があると
いう問題が残つていた。
本考案は上記事情に鑑みてなされたもので、そ
の目的とするところは、従来の感光材料処理装置
における上述の如き問題を解消し、処理ムラの発
生を防止可能とした感光材料処理装置を提供する
ことにある。
の目的とするところは、従来の感光材料処理装置
における上述の如き問題を解消し、処理ムラの発
生を防止可能とした感光材料処理装置を提供する
ことにある。
本考案の上述の目的は、感光材料を、現像、停
止、定着、水洗等の処理部内を感光材料移送ロー
ラ対により順次移送して処理する感光材料処理装
置において、前記現像処理部と定着処理部との間
のクロスオーバー部に、少なくとも2対の感光材
料移送ローラと、該2対の感光材料移送ローラの
間に位置する停止液供給手段とを有する停止処理
部を設けたことを特徴とする感光材料処理装置に
よつて達成される。
止、定着、水洗等の処理部内を感光材料移送ロー
ラ対により順次移送して処理する感光材料処理装
置において、前記現像処理部と定着処理部との間
のクロスオーバー部に、少なくとも2対の感光材
料移送ローラと、該2対の感光材料移送ローラの
間に位置する停止液供給手段とを有する停止処理
部を設けたことを特徴とする感光材料処理装置に
よつて達成される。
以下、本考案の実施例を図面に基づいて詳細に
説明する。
説明する。
第3図は本考案の一実施例である感光材料処理
装置を示すものである。第3図において、記号
1,3,4,RおよびFは第1図、第2図に示し
たと同じ構成要素を示し、2Aは現像処理槽1と
定着処理槽3との間のクロスオーバー部に設けら
れた停止処理部である。
装置を示すものである。第3図において、記号
1,3,4,RおよびFは第1図、第2図に示し
たと同じ構成要素を示し、2Aは現像処理槽1と
定着処理槽3との間のクロスオーバー部に設けら
れた停止処理部である。
第4図は停止処理部2Aの詳細を示すものであ
る。停止処理部2Aは、他の処理部内に用いられ
ているより小径の、2対の感光材料移送ローラ2
1A,21B,22A,22Bと、該2対のロー
ラの間にあり、感光材料Fの下面(感光膜面)に
向けられた噴出孔23Aを有するノズル23と、
該ノズル23に対向して設けられた遮蔽部材24
および排液管25Aを備えた槽25から構成され
ている。前記ノズル23は図示されていないポン
プから供給される停止液を、前記噴出孔23Aか
ら矢印で示される如く、感光材料F(または遮蔽
部材24)方向に噴出するものである。
る。停止処理部2Aは、他の処理部内に用いられ
ているより小径の、2対の感光材料移送ローラ2
1A,21B,22A,22Bと、該2対のロー
ラの間にあり、感光材料Fの下面(感光膜面)に
向けられた噴出孔23Aを有するノズル23と、
該ノズル23に対向して設けられた遮蔽部材24
および排液管25Aを備えた槽25から構成され
ている。前記ノズル23は図示されていないポン
プから供給される停止液を、前記噴出孔23Aか
ら矢印で示される如く、感光材料F(または遮蔽
部材24)方向に噴出するものである。
上述の如く構成された本実施例装置の動作につ
いて以下説明する。
いて以下説明する。
前記ポンプを作動させると、停止液がノズル2
3の噴出孔23Aから噴出され、該ノズル23、
遮蔽部材24および2対のローラ21A,21
B,22A,22Bで囲まれた停止液貯留部を形
成する。この状態で感光材料Fが停止処理部2A
内に送り込まれると、直ちに現像処理の停止が行
われる。特に、感光材料Fの感光膜面側(図の下
側)には、停止液が連続的に供給されるので、停
止処理が迅速・均一に行われる。
3の噴出孔23Aから噴出され、該ノズル23、
遮蔽部材24および2対のローラ21A,21
B,22A,22Bで囲まれた停止液貯留部を形
成する。この状態で感光材料Fが停止処理部2A
内に送り込まれると、直ちに現像処理の停止が行
われる。特に、感光材料Fの感光膜面側(図の下
側)には、停止液が連続的に供給されるので、停
止処理が迅速・均一に行われる。
前記停止液貯留部から落下した停止液は槽25
に備えられた排液管25Aを通つて図示されてい
ない貯蔵槽等を介して前記ポンプに送られ、循環
使用される。
に備えられた排液管25Aを通つて図示されてい
ない貯蔵槽等を介して前記ポンプに送られ、循環
使用される。
槽25の周縁部は、槽外への停止液の飛散を防
止するため、ローラ21B,22Bとの間隙をで
きるだけ狭くしておくことが望ましい。ノズル2
3に設けた噴出孔23Aは装置の幅方向に多数設
けられているものであり、その形状は任意に選択
できる。また、噴出孔とする代りに、スリツト状
としても良いことは言うまでもない。
止するため、ローラ21B,22Bとの間隙をで
きるだけ狭くしておくことが望ましい。ノズル2
3に設けた噴出孔23Aは装置の幅方向に多数設
けられているものであり、その形状は任意に選択
できる。また、噴出孔とする代りに、スリツト状
としても良いことは言うまでもない。
以上述べた如く、本考案によれば、感光材料
を、現像、停止、定着、水洗等の処理部内を感光
材料移送ローラ対により順次移送して処理する感
光材料処理装置において、前記現像処理部と定着
処理部との間のクロスオーバー部に、少なくとも
2対の感光材料移送ローラと、該2対の感光材料
移送ローラの間に位置する停止液供給手段とを有
する停止処理部を設けたので、処理ムラの発生が
防止可能な感光材料処理装置を実現できるという
すぐれた実用的効果を奏するものである。
を、現像、停止、定着、水洗等の処理部内を感光
材料移送ローラ対により順次移送して処理する感
光材料処理装置において、前記現像処理部と定着
処理部との間のクロスオーバー部に、少なくとも
2対の感光材料移送ローラと、該2対の感光材料
移送ローラの間に位置する停止液供給手段とを有
する停止処理部を設けたので、処理ムラの発生が
防止可能な感光材料処理装置を実現できるという
すぐれた実用的効果を奏するものである。
第1図、第2図は従来の感光材料処理装置の側
面図、第3図は本考案の一実施例である感光材料
処理装置の側面図、第4図は停止処理部の詳細を
示す側面図である。 1:現像処理槽、2:停止処理槽、2A:停止
処理部、3:定着処理槽、4:水洗処理槽、21
A,21B,22A,22B,R:ローラ、2
3:ノズル、23A:噴出孔、24:遮蔽部材、
25:槽、25A:排液管、F:感光材料。
面図、第3図は本考案の一実施例である感光材料
処理装置の側面図、第4図は停止処理部の詳細を
示す側面図である。 1:現像処理槽、2:停止処理槽、2A:停止
処理部、3:定着処理槽、4:水洗処理槽、21
A,21B,22A,22B,R:ローラ、2
3:ノズル、23A:噴出孔、24:遮蔽部材、
25:槽、25A:排液管、F:感光材料。
Claims (1)
- 感光材料を、現像、停止、定着、水洗等の処理
部内を感光材料移送ローラ対により順次移送して
処理する感光材料処理装置において、前記現像処
理部と定着処理部との間のクロスオーバー部に、
少なくとも2対の感光材料移送ローラと、該2対
の感光材料移送ローラの間に位置する停止液供給
手段とを有する停止処理部を設けたことを特徴と
する感光材料処理装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP875683U JPS59114559U (ja) | 1983-01-25 | 1983-01-25 | 感光材料処理装置 |
DE19843402506 DE3402506A1 (de) | 1983-01-25 | 1984-01-25 | Verfahren und vorrichtung zur behandlung von strahlenempfindlichem material |
US06/573,756 US4533225A (en) | 1983-01-25 | 1984-01-25 | Sensitive material processing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP875683U JPS59114559U (ja) | 1983-01-25 | 1983-01-25 | 感光材料処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59114559U JPS59114559U (ja) | 1984-08-02 |
JPH026448Y2 true JPH026448Y2 (ja) | 1990-02-16 |
Family
ID=30140237
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP875683U Granted JPS59114559U (ja) | 1983-01-25 | 1983-01-25 | 感光材料処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59114559U (ja) |
-
1983
- 1983-01-25 JP JP875683U patent/JPS59114559U/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS59114559U (ja) | 1984-08-02 |
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