JPH026088A - 半導体ウェーハの刻印方法 - Google Patents

半導体ウェーハの刻印方法

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Publication number
JPH026088A
JPH026088A JP63159654A JP15965488A JPH026088A JP H026088 A JPH026088 A JP H026088A JP 63159654 A JP63159654 A JP 63159654A JP 15965488 A JP15965488 A JP 15965488A JP H026088 A JPH026088 A JP H026088A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafers
marking
stage
semiconductor wafers
laser beam
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63159654A
Other languages
English (en)
Inventor
Takeshi Hirata
剛 平田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
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Publication of JPH026088A publication Critical patent/JPH026088A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
  • Laser Beam Printer (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体ウェーハの刻印ブラ゛法に関する。
〔従来の技術〕
従来の半導体ウェーハの刻印方法は、半導体つ工−ハを
キャリアから一枚ずつ搬送して一枚ずつステージに搭載
し、レーザビームにより前記半導体ウェーハの表面に製
造番号等を刻印していた。
〔発明が解決しようとする課題〕
上述した従来の半導体ウェーハの刻印方法は、−枚ずつ
ステージに搭載してレーザビームにより刻印を行ってい
るので、複数枚刻印するのに長時間を要し、作業能率が
悪いという欠点がある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の半導体ウェーハの刻印方法は、複数の半導体ウ
ェーハを重ねてステージに搭載し、前記半導体ウェーハ
を順次水平方向にずらして前記半導体ウェーハのそれぞ
れの刻印形成領域か一方向より見通せるように配置し、
レーザビームにより前記それぞれの刻印形成領域に刻印
する手段を有する。
〔実施例〕
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
第1図は本発明の一実施例を説明するための模式図であ
る。
図に示すように、ステージ1に設けた溝(図示ぜず)に
挿入して半導体ウェーハ2を互に非接触状態で重ねて搭
載し、治具3により半導体ウェーハ2を順次水平方向に
ずらして半導体ウェーハ2のそれぞれの刻印形成領域が
一方向に見通せるように配置する。次に、レーザビーム
4を走査しながら前記刻印形成領域に製造番号等の記号
や文字を刻印する。ここで、レーザビーム4はステージ
コに搭載した半導体ウェーハ2のすべての前記刻印形成
領域の全域を走査できるレーザビーム走査範囲5を有し
ており、1回の工程で多数の半導体ウェーハ2の処理が
可能となる効果がある。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、ステージ上に搭載した複
数の半導体ウェーハをレーザビームにより1回の工程で
刻印することができ、従来の半導体ウェーハを1枚ずつ
搬送してステージ上に搭載して刻印するよりも、格段に
作業能率が向上するという効果を有する7まな、半導体
ウェーハの搬送時に付着する異物、キズなどが低減して
製造歩留も向上するという効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を説明するための模式図であ
る。 1・・・ステージ、2・・・半導体ウェーハ、3・・・
治具、4・・・レーザビーム、5・・・レーザビーム走
査範囲。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 複数の半導体ウェーハを重ねてステージに搭載し、前記
    半導体ウェーハを順次水平方向にずらして前記半導体ウ
    ェーハのそれぞれの刻印形成領域が一方向より見通せる
    ように配置し、レーザビームにより前記それぞれの刻印
    形成領域に刻印することを特徴とする半導体ウェーハの
    刻印方法。
JP63159654A 1988-06-27 1988-06-27 半導体ウェーハの刻印方法 Pending JPH026088A (ja)

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JPH026088A true JPH026088A (ja) 1990-01-10

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100506410B1 (ko) * 2000-09-29 2005-08-05 주식회사 포스코 박판 코일의 인출 가이드장치

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