JPS62153958A - 印刷配線板の自動露光機 - Google Patents

印刷配線板の自動露光機

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Publication number
JPS62153958A
JPS62153958A JP60296373A JP29637385A JPS62153958A JP S62153958 A JPS62153958 A JP S62153958A JP 60296373 A JP60296373 A JP 60296373A JP 29637385 A JP29637385 A JP 29637385A JP S62153958 A JPS62153958 A JP S62153958A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
exposure
carrier
carry
exposes
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP60296373A
Other languages
English (en)
Inventor
Masahiro Hoshino
星野 昌弘
Yoshitoshi Ishizaki
石崎 義俊
Osamu Hattori
修 服部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP60296373A priority Critical patent/JPS62153958A/ja
Publication of JPS62153958A publication Critical patent/JPS62153958A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70425Imaging strategies, e.g. for increasing throughput or resolution, printing product fields larger than the image field or compensating lithography- or non-lithography errors, e.g. proximity correction, mix-and-match, stitching or double patterning

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、基板の両面を印刷配線する自動露光機に関
するものである。
〔従来の技術〕
第2図は従来の印刷配線板の自動露光機を示すもので、
図において、1 a r 1 bは上下に対向配置され
た露光ランプ、2は両うンプla、lbO間に配設され
たガラス板、3はこのガラス板2上に配したパターン形
成用ワークフィルムをセットした下アクリル板、4は同
じくパターン形成用ワークフィルムをセットした上下動
可能の上アクリル板、5は上記下アクリル板3上にセッ
トした印刷配線板となる基板である。6は搬入コンベア
7に乗せて基板5をアクリル板3上にセットする搬入キ
ャリア、8は搬出コンベア9に乗せて基板5を搬出する
搬出キャリアである。
上記のように構成した自動露光機は、搬入キャリア6に
よって下アクリル板3上にセットされた基板5が露光ラ
ンプ1aslbの発光を上下アクリル板3,4を通して
上下両面が同時KM光される。露光後は上アクリル板4
が上昇し、基板5は搬出キャリア8によって搬出される
〔発明が解決しようとする問題点〕
従来の自動露光機は以上のように構成されているため、
上アクリル板4のワークフィルムと、下アクリル板3の
ワークフィルムとの位置合わせは狭い上下の露光ランプ
1 a * l bの空間で行なわれるのでワークフィ
ルムのセットに手数を要していた。また、露光ランプ1
 a + 1 b+露光テーブルとなるガラス板2が固
定され、かつその空間内で搬出、入キャリアが移動する
スペースを必要とするため露光ランプの配置間隔が広く
なり、したがって出力の大きなランプが必要となる。さ
らに、ワークフィルムと基板に介在する空気溜りを真空
で排除することが困難であった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、露光機の小型化が図れると共に、露光ランプ
が低出力ですむ上、取扱いの容易な印刷配線板の自動露
光機を得ることを目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
この発明に係る自動露光機は、基板の下面を露光する下
面露光部と、基板の上面を露光する別のステージに配置
した上面露光部とよりなる。
〔作 用〕
この発明における自動露光機は、基板の下面を下面露光
部によりパターンを露光印刷17にのち、基板の上面を
別のステージの上面露光部でパターンを露光印刷できる
ようにしたので、露光ランプの対向側が空間となり、パ
ターン形成用のワークフィルムのセットが容易に行なう
ことができる。
〔実施例〕
以下この発明の一実施例を図について説明する。
第1図において、10は基板の搬入キャリア、11は昇
降手段12により上下動可能の搬入側テーブル、13は
下面露光部の露光ランプで、14は露光ランプ13の上
方に配置した露光テーブル、15はこのテーブル14上
にセットされた基板16をテーブル14に真空密着する
バックアップシート、17は基板16を別のステージへ
搬送する移動キャリア、18は上面露光部の露光ランプ
で、19は昇降手段20により上下動可能にした露光テ
ーブルである。21は搬出キャリア、22は昇降手段2
3を有する上下動可能の搬出側テーブルである。
次に動作について説明する。搬入側テーブル11上に置
かれた基板は搬入キャリア10により露光テーブル14
上にセットされ、搬入キャリア10は後退する。その後
、基板16はバックアップシート15によって露光テー
ブル14に真空密着され、露光ランプ13の発光を図示
しないパターン形成用のワークフィルムを通して基板1
6の下面に露光し、パターン印刷する。露光の終了後、
基板16は移動キャリア17により別の露光テーブル1
9上にセットされ、その後テーブル19は上昇して図示
しないパターン形成用のワークフィルムに基板を接触さ
せ、かつテーブル19に真空密着させて露光ランプ18
によって基板の上面をパターン印刷する。かくして露光
後にテーブル19を下降させ、テーブル上の基板は搬出
キャリア21によって搬出される。
〔発明の効果〕
以上説明したようにこの発明によれば、基板の上下両面
を片面毎に別の露光ステージによって連続的に露光しパ
ターン印刷するようにしたので、各々の露光ランプの対
向側が空間となってパターン形成用のワークフィルムの
セットが容易に行なえる。また、基板の片面ずつの露光
であるが連続露光であるから従来の両面同時の露光と殆
んど変わることはない。さらに、露光テーブルと露光ラ
ンプとの距離を狭くできるので、ランプ出力は小さくて
よい上、全体が小型化できる等の効果がある0
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例による自動露光機の正面図
、#j2fI!Jは従来の自動露光機の正面図である。 10・・・搬入キャリア、13.18・・−露光ランプ
、14.19・・・露光テーブル、16・・・基板、1
7・・・移動キャリア、20・・・昇降手段、21・・
・搬出キャリア。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基板の両面を印刷配線する自動露光機において、
    搬入キャリアによって搬送されセットされた基板の下面
    を露光する下面露光部と、露光された上記基板を移動キ
    ャリアによって搬送されセットされた基板の上面を露光
    する上面露光部とからなることを特徴とする印刷配線板
    の自動露光機。
  2. (2)上面露光部は露光テーブルが露光ランプに対して
    上下動可能にしたことを特徴とする特許請求の範囲第1
    項記載の印刷配線板の自動露光機。
JP60296373A 1985-12-27 1985-12-27 印刷配線板の自動露光機 Pending JPS62153958A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60296373A JPS62153958A (ja) 1985-12-27 1985-12-27 印刷配線板の自動露光機

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60296373A JPS62153958A (ja) 1985-12-27 1985-12-27 印刷配線板の自動露光機

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS62153958A true JPS62153958A (ja) 1987-07-08

Family

ID=17832710

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60296373A Pending JPS62153958A (ja) 1985-12-27 1985-12-27 印刷配線板の自動露光機

Country Status (1)

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JP (1) JPS62153958A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0443106A2 (en) * 1990-02-21 1991-08-28 Ushio Denki Exposure apparatus

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0443106A2 (en) * 1990-02-21 1991-08-28 Ushio Denki Exposure apparatus

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